JPS59193516U - 低温精製器 - Google Patents
低温精製器Info
- Publication number
- JPS59193516U JPS59193516U JP8632283U JP8632283U JPS59193516U JP S59193516 U JPS59193516 U JP S59193516U JP 8632283 U JP8632283 U JP 8632283U JP 8632283 U JP8632283 U JP 8632283U JP S59193516 U JPS59193516 U JP S59193516U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature purifier
- low temperature
- low
- purifier
- liquid nitrogen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Separation By Low-Temperature Treatments (AREA)
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来の低温精製器の縦断面図、第2図は本考案
による低温精製器の一実施例を示す縦断面図である。 1、 3. 5. 7. 8. 14. 16・・・・
・・配管、2・・・・・・熱交換器、4・・・・・・液
空容器、6・・・・・・吸着容器、9・・・・・・内容
器、10・・・・・・外容器、11・・・・・・真空層
、12・・・・・・液体窒素入口ノズル、13・・・・
・・液体窒素出口ノズル、15・・・・・・遮蔽板。
による低温精製器の一実施例を示す縦断面図である。 1、 3. 5. 7. 8. 14. 16・・・・
・・配管、2・・・・・・熱交換器、4・・・・・・液
空容器、6・・・・・・吸着容器、9・・・・・・内容
器、10・・・・・・外容器、11・・・・・・真空層
、12・・・・・・液体窒素入口ノズル、13・・・・
・・液体窒素出口ノズル、15・・・・・・遮蔽板。
Claims (1)
- ヘリウムガスまたは水素ガス中の不純物を低温度で活性
炭等により吸着除去する低温精製器において、吸着剤を
充填した吸着容器を液体窒素冷却管を設けた遮蔽板で囲
み、真空容器中に収容してなることを特徴とする低温精
製器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8632283U JPS59193516U (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 低温精製器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8632283U JPS59193516U (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 低温精製器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59193516U true JPS59193516U (ja) | 1984-12-22 |
JPH0127865Y2 JPH0127865Y2 (ja) | 1989-08-24 |
Family
ID=30216260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8632283U Granted JPS59193516U (ja) | 1983-06-08 | 1983-06-08 | 低温精製器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59193516U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0256213A (ja) * | 1988-04-15 | 1990-02-26 | Teisan Kk | 低沸点物質精製方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5379198A (en) * | 1976-12-22 | 1978-07-13 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | Process for storing radioactive waste gas |
JPS557565A (en) * | 1978-07-01 | 1980-01-19 | Osaka Oxgen Ind Ltd | Helium or hydrogen gas purification apparatus |
JPS5539208A (en) * | 1978-09-11 | 1980-03-19 | Taiyo Sanso Kk | Gas purifying cylinder |
-
1983
- 1983-06-08 JP JP8632283U patent/JPS59193516U/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5379198A (en) * | 1976-12-22 | 1978-07-13 | Nippon Atom Ind Group Co Ltd | Process for storing radioactive waste gas |
JPS557565A (en) * | 1978-07-01 | 1980-01-19 | Osaka Oxgen Ind Ltd | Helium or hydrogen gas purification apparatus |
JPS5539208A (en) * | 1978-09-11 | 1980-03-19 | Taiyo Sanso Kk | Gas purifying cylinder |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0256213A (ja) * | 1988-04-15 | 1990-02-26 | Teisan Kk | 低沸点物質精製方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0127865Y2 (ja) | 1989-08-24 |
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