JPS59178367U - スパツタリング装置 - Google Patents
スパツタリング装置Info
- Publication number
- JPS59178367U JPS59178367U JP6973183U JP6973183U JPS59178367U JP S59178367 U JPS59178367 U JP S59178367U JP 6973183 U JP6973183 U JP 6973183U JP 6973183 U JP6973183 U JP 6973183U JP S59178367 U JPS59178367 U JP S59178367U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate holder
- anode
- cathode
- sputtered particles
- utility
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図は従来のスパッタリング装置の構成図、第2図は
第1図のチェンバ内部を示すもので一部を切欠いた斜視
図、第3図は本考案によるスパッタリング装置の一実施
例を示す構成図、第4図は第3図のチェンバ内部を示す
もので一部を切欠いた斜視図、第5図は第4図のアノー
ドの他の実施例を示す斜視図、第6図は第4図のアノー
ドのさらに他の実施例を示す斜視図である。 1.11・・・チェンバ(減圧容器)、2. 20゜2
0a、20b・・・シャッタ、3・・・窓、4□、16
・・・ターゲットホルダ(、カソード)、5a、〜5a
4゜5b1〜5b4. 15at〜15a4. 151
)1〜15k)4””基板、6.12・・・基板ホルダ
、7.27・・・高圧直流電源(スパッタ電源)、13
・・・回転軸、4゜。 17・・・ターゲット、18・・・網目、19・・・ア
ノード、21・・・中心穴、22・・・管軸、23・・
・円板、241〜24n・・・格子、251〜25.、
士、)・・・隙間、26・・・円孔、2B・・・直流電
源(バイアス電源)。
第1図のチェンバ内部を示すもので一部を切欠いた斜視
図、第3図は本考案によるスパッタリング装置の一実施
例を示す構成図、第4図は第3図のチェンバ内部を示す
もので一部を切欠いた斜視図、第5図は第4図のアノー
ドの他の実施例を示す斜視図、第6図は第4図のアノー
ドのさらに他の実施例を示す斜視図である。 1.11・・・チェンバ(減圧容器)、2. 20゜2
0a、20b・・・シャッタ、3・・・窓、4□、16
・・・ターゲットホルダ(、カソード)、5a、〜5a
4゜5b1〜5b4. 15at〜15a4. 151
)1〜15k)4””基板、6.12・・・基板ホルダ
、7.27・・・高圧直流電源(スパッタ電源)、13
・・・回転軸、4゜。 17・・・ターゲット、18・・・網目、19・・・ア
ノード、21・・・中心穴、22・・・管軸、23・・
・円板、241〜24n・・・格子、251〜25.、
士、)・・・隙間、26・・・円孔、2B・・・直流電
源(バイアス電源)。
Claims (4)
- (1)減圧容器内でカソードからスパッタされたスパッ
タ粒子を基板ホルダ上の基板の表面に付着せしめるスパ
ッタリング装置において、該基板ホルダを回転可能な柱
状体で形成し、該基板ホルダの外周面に該基板を取り付
け、該基板ホルダの外周面と該カソードとの間に、該基
板ホルダと回転中心軸を同一とする回転可能な筒状ジャ
・シタを設−け、該筒状シャッタの周面の該カソードと
対面する部分にスパッタ粒子を通過せしめるための通過
孔を多数形成したアノードを設け、該アノードと該カソ
ードとの間にスパッタ電源を接続し1、該アノ、−ドと
該基板ホルダとの間に該基板ホルダを負バイアスとする
ためのバイアス電源を接続してなることを特徴とするス
パッタリング装置。 - (2)実用新案登録請求の範囲第1項記載において、ア
ノードは網体で形成し、この網体の網目をスパッタ粒子
の通過孔としてなるスパッタリング装置。 - (3)実用新案登録請求の範囲第1項記載において、ア
ノードは多数の格子で形成し、これらの格子相互間の隙
間をスパッタ粒子の通過孔としてなるスパッタリング装
置。 - (4) 実用新案登録請求の範囲第1項記載において
、アノードは筒状シャッタの周面のカソードと対面する
部分に多数の円孔を穿設し、これらの穿設円孔をスパッ
タ粒子の通過孔としてなるスパッタリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6973183U JPS59178367U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | スパツタリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6973183U JPS59178367U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | スパツタリング装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59178367U true JPS59178367U (ja) | 1984-11-29 |
JPS629320Y2 JPS629320Y2 (ja) | 1987-03-04 |
Family
ID=30199883
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6973183U Granted JPS59178367U (ja) | 1983-05-10 | 1983-05-10 | スパツタリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59178367U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531544A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム | スパッタリング装置 |
JP2009531545A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム | コーティング装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5582778A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-21 | Nippon Denso Co Ltd | Sputtering apparatus |
JPS55100979A (en) * | 1979-01-23 | 1980-08-01 | Fujitsu General Ltd | Sputtering apparatus |
JPS55180761U (ja) * | 1979-06-12 | 1980-12-25 |
-
1983
- 1983-05-10 JP JP6973183U patent/JPS59178367U/ja active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5582778A (en) * | 1978-12-19 | 1980-06-21 | Nippon Denso Co Ltd | Sputtering apparatus |
JPS55100979A (en) * | 1979-01-23 | 1980-08-01 | Fujitsu General Ltd | Sputtering apparatus |
JPS55180761U (ja) * | 1979-06-12 | 1980-12-25 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531544A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム | スパッタリング装置 |
JP2009531545A (ja) * | 2006-03-28 | 2009-09-03 | ナムローゼ・フェンノートシャップ・ベーカート・ソシエテ・アノニム | コーティング装置 |
US9082595B2 (en) | 2006-03-28 | 2015-07-14 | Sulzer Metaplas Gmbh | Sputtering apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS629320Y2 (ja) | 1987-03-04 |
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