JPS59172262A - 半導体モジユ−ルの製造方法 - Google Patents
半導体モジユ−ルの製造方法Info
- Publication number
- JPS59172262A JPS59172262A JP4615183A JP4615183A JPS59172262A JP S59172262 A JPS59172262 A JP S59172262A JP 4615183 A JP4615183 A JP 4615183A JP 4615183 A JP4615183 A JP 4615183A JP S59172262 A JPS59172262 A JP S59172262A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrodes
- frame
- gto
- soldered
- electrode
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- Pending
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5385—Assembly of a plurality of insulating substrates
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は半導体モジュールの製造方法に関し1特にゲ
ートターンオフサイリスタモジュールの製造方法に関す
るものである。
ートターンオフサイリスタモジュールの製造方法に関す
るものである。
一般にゲートターンオフサイリスタ(以下GTOと称す
る)はゲート信号に正及び負のパルスを印加することに
よりターンオン及びターンオフを可能にするため、転流
回路が不要である。またスイッチング時間が短かいので
高周波で動作できる等の利点がある。これらの理由で最
近特に脚光をあび、開発が急速にすすめられている。
る)はゲート信号に正及び負のパルスを印加することに
よりターンオン及びターンオフを可能にするため、転流
回路が不要である。またスイッチング時間が短かいので
高周波で動作できる等の利点がある。これらの理由で最
近特に脚光をあび、開発が急速にすすめられている。
従来のGTQモジュールの構成全第1図に示す。
第1図はGToモジュールの平面図で各部品は各々単体
で構成されている。(1)はCuベース板であり、(2
)はベース板(1]上に半田付さfした2枚のセラミッ
ク板である。+3)、 (4L (51はGTO−1側
ノセラミツク基板(2)上に半田付さf′1.たアノー
ド電極、カソード電極、ゲート電極である。(61、+
71 * (8)はGT O−2(tllのセラミック
基板(2)上に半田付されたアノード電極、カソード電
極、ゲート電極である。(9)はアノード電1i +3
) +61上に半田付された二つのGTQチップである
。(IIはGTQチップ(9)上のカソード部とセラミ
ック基板(2)上に半田付さnたカソード電極(4)
(71を電気的に接続するアルミワイヤである。(10
b)は前記GTOチップ(9)上のゲート部とセラミッ
ク基板+2)上に半田付さルたゲート電極f5) (8
)を電気的に接続するアルミワイヤである。
で構成されている。(1)はCuベース板であり、(2
)はベース板(1]上に半田付さfした2枚のセラミッ
ク板である。+3)、 (4L (51はGTO−1側
ノセラミツク基板(2)上に半田付さf′1.たアノー
ド電極、カソード電極、ゲート電極である。(61、+
71 * (8)はGT O−2(tllのセラミック
基板(2)上に半田付されたアノード電極、カソード電
極、ゲート電極である。(9)はアノード電1i +3
) +61上に半田付された二つのGTQチップである
。(IIはGTQチップ(9)上のカソード部とセラミ
ック基板(2)上に半田付さnたカソード電極(4)
(71を電気的に接続するアルミワイヤである。(10
b)は前記GTOチップ(9)上のゲート部とセラミッ
ク基板+2)上に半田付さルたゲート電極f5) (8
)を電気的に接続するアルミワイヤである。
(11)はトリガ用カソード端子で、 (+2]はトリ
ガ用ゲート端子である。(18a)はカソード電極(4
)(7)とトリガ用カソード端子(II) ’i電気的
に接続する銅線である。(18b)はゲート電極+5+
(8)とトリガ用ゲート端子(121を電気的に接続
する銅線である。(I4)は内部を保護するためのケー
スである。第2図はGTOモジュールの電極配置平面図
であり、Cuベース板(1)上にセラミック基板(2)
全半田付し、前記セラミック基板(2)上にアノード電
極13) +61 、カソード電極で4)(7)、ゲー
ト電極(51(8) ’i半田付した後の平面図である
。第8図は第1図の結線図である。
ガ用ゲート端子である。(18a)はカソード電極(4
)(7)とトリガ用カソード端子(II) ’i電気的
に接続する銅線である。(18b)はゲート電極+5+
(8)とトリガ用ゲート端子(121を電気的に接続
する銅線である。(I4)は内部を保護するためのケー
スである。第2図はGTOモジュールの電極配置平面図
であり、Cuベース板(1)上にセラミック基板(2)
全半田付し、前記セラミック基板(2)上にアノード電
極13) +61 、カソード電極で4)(7)、ゲー
ト電極(51(8) ’i半田付した後の平面図である
。第8図は第1図の結線図である。
従来の装置では、第2図に示したように、面別の電極を
複数、互に位置合せしながらセラミック基板C2)に取
り付けなければならず、作業性が悪く位置合せが難しい
等の欠点があった。
複数、互に位置合せしながらセラミック基板C2)に取
り付けなければならず、作業性が悪く位置合せが難しい
等の欠点があった。
この発明は上記従来の製造方法の欠点全数り除くために
なされたものであり、半導体モジュールを製造するに際
し、複数の電極間を連結したフレームを使用し、作業性
の艮好な半導体装置の製造方法を提供するものである。
なされたものであり、半導体モジュールを製造するに際
し、複数の電極間を連結したフレームを使用し、作業性
の艮好な半導体装置の製造方法を提供するものである。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。
第4図はこの発明の一実施例の電極配置平面図である。
第4図における(1)〜(8)、+Ill Q21は従
来の装置第2図に対応する部分であり、説明は省略する
。
来の装置第2図に対応する部分であり、説明は省略する
。
(151はタイバであり、GTOモジュールの電極、端
子全タイバ++5)で連結して、フレームQB+とじ・
フレームa■とすることにより、位置決めを正確にでき
る。電極の取付はCuベース板(1)上にセラミック基
板(2)全半田付し、前記セラミック基板(2)上にフ
レーム(16) f半田付し・フレーム(16)からタ
イパ(1リヲ取9除き、フレーム(国の電極上に少なく
とも二つのGToチップ金半田付し、さらに前記GTO
チップと他の電極や端子とをアルミワイヤ等で接続し、
さらに、電極や端子をCuベース板(1)に垂直になる
ように折り曲げることにより行なう。
子全タイバ++5)で連結して、フレームQB+とじ・
フレームa■とすることにより、位置決めを正確にでき
る。電極の取付はCuベース板(1)上にセラミック基
板(2)全半田付し、前記セラミック基板(2)上にフ
レーム(16) f半田付し・フレーム(16)からタ
イパ(1リヲ取9除き、フレーム(国の電極上に少なく
とも二つのGToチップ金半田付し、さらに前記GTO
チップと他の電極や端子とをアルミワイヤ等で接続し、
さらに、電極や端子をCuベース板(1)に垂直になる
ように折り曲げることにより行なう。
第5図は上記一実施例の結線図である。
上記;実施例ではタイパ051で連結したフレー五?用
いているので、電極取付作業が非常に簡単であり、第4
図に示したタイバ(151をニッパ等で簡単に切断でき
、大幅に作業能率が上がるとともに半田付工程が少いた
め、品質の高い装置が得ることができる。
いているので、電極取付作業が非常に簡単であり、第4
図に示したタイバ(151をニッパ等で簡単に切断でき
、大幅に作業能率が上がるとともに半田付工程が少いた
め、品質の高い装置が得ることができる。
またこの発明は、一実施例のみならず第6図、第7図に
示した)1/−ムであっても同様の効果を奏する。また
このフレームはトランジスタモジュール、サイリスタモ
ジュール、ダイオードモジュールや他のモジュールに適
用しても同様な効果を奏する。
示した)1/−ムであっても同様の効果を奏する。また
このフレームはトランジスタモジュール、サイリスタモ
ジュール、ダイオードモジュールや他のモジュールに適
用しても同様な効果を奏する。
以上説明のように、この発明は半導体モジュールの製造
に際して、複数の電極間を連結したフレームを使用する
ので、電極の取付が容易に行なうことができるという優
扛た効果を有する。
に際して、複数の電極間を連結したフレームを使用する
ので、電極の取付が容易に行なうことができるという優
扛た効果を有する。
第1図は従来のGTOモジュールの平面(2)、第2図
は従来のGToモジュールの電極配置図、第8図は従来
のGTQモジューμの結線図、第4圀はこの発明の一実
施例の電極配置図、第5図は一実施例の結線図、第6図
、第7図はこの発明の他の実施例を示すフレームの平面
図である。 (1)はCuベース板、(2)はセラミック基板、(3
)はGTO−1のアノード電極、(4)けGTQ−1の
カソード電極、(5)はGTO−1のゲート電極、(6
)はG’r□−2のアノード電極、(7)はGTO−2
のカソード電極、(8)はGTQ−2のゲート電極、(
9)はGTQチップ、00はA1ワイヤ、(llはトリ
ガ用カソード端子、(I21はトリガ用ゲート端子、(
1〜はタイパ、帥はフレームである。 代理人 葛野信− 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図
は従来のGToモジュールの電極配置図、第8図は従来
のGTQモジューμの結線図、第4圀はこの発明の一実
施例の電極配置図、第5図は一実施例の結線図、第6図
、第7図はこの発明の他の実施例を示すフレームの平面
図である。 (1)はCuベース板、(2)はセラミック基板、(3
)はGTO−1のアノード電極、(4)けGTQ−1の
カソード電極、(5)はGTO−1のゲート電極、(6
)はG’r□−2のアノード電極、(7)はGTO−2
のカソード電極、(8)はGTQ−2のゲート電極、(
9)はGTQチップ、00はA1ワイヤ、(llはトリ
ガ用カソード端子、(I21はトリガ用ゲート端子、(
1〜はタイパ、帥はフレームである。 代理人 葛野信− 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図
Claims (1)
- 放熱板上に絶縁基板を接着し、前記絶縁基板上に複数個
の電極を接着し、前記複数個の電極の少なくとも二つの
電極に各々、半導体素子を接着する半導体モジュールの
製造に際して、前記複数の電極間を連結したフレームを
使用することを特徴とする半導体モジュールの製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4615183A JPS59172262A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 半導体モジユ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4615183A JPS59172262A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 半導体モジユ−ルの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59172262A true JPS59172262A (ja) | 1984-09-28 |
Family
ID=12738975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4615183A Pending JPS59172262A (ja) | 1983-03-18 | 1983-03-18 | 半導体モジユ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59172262A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5014112A (en) * | 1985-11-12 | 1991-05-07 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor integrated circuit device having mirror image circuit bars bonded on opposite sides of a lead frame |
US5082802A (en) * | 1985-11-12 | 1992-01-21 | Texas Instruments Incorporated | Method of making a memory device by packaging two integrated circuit dies in one package |
US5155575A (en) * | 1990-01-31 | 1992-10-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Chip carrier for a microwave semiconductor component |
CN102931175A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-02-13 | 江苏爱普特半导体有限公司 | 一种晶闸管模块 |
-
1983
- 1983-03-18 JP JP4615183A patent/JPS59172262A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5014112A (en) * | 1985-11-12 | 1991-05-07 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor integrated circuit device having mirror image circuit bars bonded on opposite sides of a lead frame |
US5082802A (en) * | 1985-11-12 | 1992-01-21 | Texas Instruments Incorporated | Method of making a memory device by packaging two integrated circuit dies in one package |
US5155575A (en) * | 1990-01-31 | 1992-10-13 | Siemens Aktiengesellschaft | Chip carrier for a microwave semiconductor component |
CN102931175A (zh) * | 2012-11-14 | 2013-02-13 | 江苏爱普特半导体有限公司 | 一种晶闸管模块 |
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