JPS59167056A - シリコン半導体電極 - Google Patents
シリコン半導体電極Info
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- JPS59167056A JPS59167056A JP58040040A JP4004083A JPS59167056A JP S59167056 A JPS59167056 A JP S59167056A JP 58040040 A JP58040040 A JP 58040040A JP 4004083 A JP4004083 A JP 4004083A JP S59167056 A JPS59167056 A JP S59167056A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/40—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/43—Electrodes ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/45—Ohmic electrodes
- H01L29/456—Ohmic electrodes on silicon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
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- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は導電゛ペーストを用いた低価格のシリコン半導
体電極に関する。
体電極に関する。
半導体としてのシリコンに接触する電極としては、従来
真空蒸着、スパッタリングなどによシ被着された金属層
が用いられた。しかし、これらは真空ふん囲気を必要と
するため高額の設備費および維持費を必要とする。近年
、とシわけ低価格化が要望されている太陽電池の分野に
おいて、シリコン半導体電極を真空蒸着等の手段を用い
ず、大量生産、低価格化に適した導電ペーストを用いて
研究が進められている。しかしながら、厚膜集積回路な
どに用いられる導電材料として銀を含む導1ペーストを
塗布、硬化した場合、シリコンと導1@体との間にバリ
アが生じて接触抵抗が高く、そ4結果電極としての必要
条件−d4る良好なオームi触が得られない。
真空蒸着、スパッタリングなどによシ被着された金属層
が用いられた。しかし、これらは真空ふん囲気を必要と
するため高額の設備費および維持費を必要とする。近年
、とシわけ低価格化が要望されている太陽電池の分野に
おいて、シリコン半導体電極を真空蒸着等の手段を用い
ず、大量生産、低価格化に適した導電ペーストを用いて
研究が進められている。しかしながら、厚膜集積回路な
どに用いられる導電材料として銀を含む導1ペーストを
塗布、硬化した場合、シリコンと導1@体との間にバリ
アが生じて接触抵抗が高く、そ4結果電極としての必要
条件−d4る良好なオームi触が得られない。
−,、F発明はこれに対し導電ペーストを用いてシリし
:しに対して良好なオーム接触を呈するシリコンこの目
的は、シリコン半導体電極が炭素を含む導電ペーストを
塗布硬化させてなシ、半導体装置して設けられる第一層
と、その上に金属のみを含む導電ペーストを塗布、硬化
させてなる第二層との積層体であることによって達成さ
れる。半導体に接する第一層のための導電ペーストには
炭素のほかに金属を添加してもよい。
:しに対して良好なオーム接触を呈するシリコンこの目
的は、シリコン半導体電極が炭素を含む導電ペーストを
塗布硬化させてなシ、半導体装置して設けられる第一層
と、その上に金属のみを含む導電ペーストを塗布、硬化
させてなる第二層との積層体であることによって達成さ
れる。半導体に接する第一層のための導電ペーストには
炭素のほかに金属を添加してもよい。
本発明は半導体に接触する層としてシリコンと低接触抵
抗を示す炭素を含む導電ペーストによシ形成される層を
用い、その上には通電にのみに役立つ層として従来の導
電ペーストと同様に金属のみを含む導電ペーストにより
形成される層を用いたものである。すなわち、電極を複
層構造とし集電機能と通電機能とを分離したものである
。
抗を示す炭素を含む導電ペーストによシ形成される層を
用い、その上には通電にのみに役立つ層として従来の導
電ペーストと同様に金属のみを含む導電ペーストにより
形成される層を用いたものである。すなわち、電極を複
層構造とし集電機能と通電機能とを分離したものである
。
ペーストに含まれる金属としては銀、銅、金。
アルミニウム、ニッケルが用いられ、半導体との接触す
る第一層のシート抵抗が101Ω/口以下であ以下図を
引用して本発明の実施例について説明する。第1図に示
す太陽電池は、ガラス板などを用(^る共通透明基板1
の上に複数の太陽電池素子を形成したものであり、各素
子はITOなどからなる透明電極2.アモルファスシリ
コン(以下a−8i と記す)の2層3、a−8in層
4、a−8in層5および電極6が積層されてなる。電
極6は本発明によシ炭素あるいは炭素と銀などの金属を
含む導電ペーストの塗布、硬化によシ形成された第一層
7と銀などの金属のみを含む導電ペーストの塗布、硬化
により形成された第二層8からなる。
る第一層のシート抵抗が101Ω/口以下であ以下図を
引用して本発明の実施例について説明する。第1図に示
す太陽電池は、ガラス板などを用(^る共通透明基板1
の上に複数の太陽電池素子を形成したものであり、各素
子はITOなどからなる透明電極2.アモルファスシリ
コン(以下a−8i と記す)の2層3、a−8in層
4、a−8in層5および電極6が積層されてなる。電
極6は本発明によシ炭素あるいは炭素と銀などの金属を
含む導電ペーストの塗布、硬化によシ形成された第一層
7と銀などの金属のみを含む導電ペーストの塗布、硬化
により形成された第二層8からなる。
第二層8は延長されて隣接素子の透明電極2と接続され
ておシ、これによって光9によシ光起電力を生ずる各太
陽電池素子が直列接続される。
ておシ、これによって光9によシ光起電力を生ずる各太
陽電池素子が直列接続される。
実施例1
黒鉛20wt%、アセチレンブラック10wt%、およ
びフェノール樹脂70wt%からなる導電ペーストを調
製し、第1図に示したa−8i半導体のn層面にスクリ
ーン印刷し、100℃で10分間の予備乾燥後150℃
の空気中で2時間硬化させ、厚さ−′″0の出力特性を
ソーラーシュミレータ−AM 1(100mw/dりの
光照射下で測定したところ第2図の曲線21に示す工う
に形状因子(FF)o、z8゜効率2%であった。これ
は、第2図の曲線22に示す第一層に用いるペーストの
みで電極を形成した太陽電池、あるいは曲線23で示す
銀を主成分としたペーストのみで電極を形成した場合に
較べ著しく優れている。なお第一層のシート抵抗を変え
た場合、105n/口よシ小さくなるに伴い形状因子が
向上する結果が得られた。
びフェノール樹脂70wt%からなる導電ペーストを調
製し、第1図に示したa−8i半導体のn層面にスクリ
ーン印刷し、100℃で10分間の予備乾燥後150℃
の空気中で2時間硬化させ、厚さ−′″0の出力特性を
ソーラーシュミレータ−AM 1(100mw/dりの
光照射下で測定したところ第2図の曲線21に示す工う
に形状因子(FF)o、z8゜効率2%であった。これ
は、第2図の曲線22に示す第一層に用いるペーストの
みで電極を形成した太陽電池、あるいは曲線23で示す
銀を主成分としたペーストのみで電極を形成した場合に
較べ著しく優れている。なお第一層のシート抵抗を変え
た場合、105n/口よシ小さくなるに伴い形状因子が
向上する結果が得られた。
実施例2
アセチレンブラック25wt%、平均粒径10μm以下
の銀粉末35wt%、およびフェノール樹脂40wtチ
からなる導電ペーストを調製し、実施例1と同様の方法
で厚さ10μmの第一層を形成した。
の銀粉末35wt%、およびフェノール樹脂40wtチ
からなる導電ペーストを調製し、実施例1と同様の方法
で厚さ10μmの第一層を形成した。
ついで5銀80wt%、フェノール樹脂20wt%から
なる導電ペーストを調製し、厚さ20μmの第ニー8i
層3,4.5の側面に接する部分では通電径路が抵
抗の高い第一層7となるが、図では拡大されているけれ
どもこの径路は短くむしろ隣接素子の透明電極2との接
触抵抗の方が問題となるので、この接触抵抗に応じて第
1図と第4図の構造の何れかが選ばれる。
なる導電ペーストを調製し、厚さ20μmの第ニー8i
層3,4.5の側面に接する部分では通電径路が抵
抗の高い第一層7となるが、図では拡大されているけれ
どもこの径路は短くむしろ隣接素子の透明電極2との接
触抵抗の方が問題となるので、この接触抵抗に応じて第
1図と第4図の構造の何れかが選ばれる。
実施例3
アセチレンブラック30wt%、フェノール樹脂70w
t%からなる導電ペーストを調製し、第4図に示し7’
ca−8i半導体のn層面にスクリーン印刷し、100
℃で10分間の予備乾燥後150℃の空気中で2時間硬
化させ、厚さ10μm の第一層7を形成した。ついで
、銀80wt%、フェノール樹脂20wt%からなる導
電ペーストを調製し、第一層7の上にスクリーン印刷し
、100℃で10分間の予備乾燥後150℃の空気中で
1時間硬化させ、厚さ20μmの第二層8を形成した。
t%からなる導電ペーストを調製し、第4図に示し7’
ca−8i半導体のn層面にスクリーン印刷し、100
℃で10分間の予備乾燥後150℃の空気中で2時間硬
化させ、厚さ10μm の第一層7を形成した。ついで
、銀80wt%、フェノール樹脂20wt%からなる導
電ペーストを調製し、第一層7の上にスクリーン印刷し
、100℃で10分間の予備乾燥後150℃の空気中で
1時間硬化させ、厚さ20μmの第二層8を形成した。
第一層7のシーに示すように形状因子が0.493であ
った。これは、第5図の曲線52に示す第一層に用いた
ペーストのみで電極を形成した太陽電池に較べはるかに
すぐれている。一方AMI下では隣接する素子との接合
部での抵抗損失が大きく、充分な特性は得られなかった
。しかしシート抵抗が10”Ω/口から小さくなるに伴
ない、出力特性は大幅に向上することが見られた。
った。これは、第5図の曲線52に示す第一層に用いた
ペーストのみで電極を形成した太陽電池に較べはるかに
すぐれている。一方AMI下では隣接する素子との接合
部での抵抗損失が大きく、充分な特性は得られなかった
。しかしシート抵抗が10”Ω/口から小さくなるに伴
ない、出力特性は大幅に向上することが見られた。
実施例4
アセチレンブラックaowts、平均粒径10μm以下
の銀粉末25wtチ、フェノール樹脂45wt%からな
る導電ペーストを調製し、実施例3と同様の方法で第4
図の構造で厚さ10μmの第一層7を形成した。ついで
、銀80wt%、フェノール樹脂−ターAM1の光照射
下で測定したところ、第6図の曲線61に示すように変
換効率2.6%、形状フェノール樹脂からなる導電ペー
ストのみを電極として用いた場合に較べ、特性の改善が
大きく行われたことを示している。
の銀粉末25wtチ、フェノール樹脂45wt%からな
る導電ペーストを調製し、実施例3と同様の方法で第4
図の構造で厚さ10μmの第一層7を形成した。ついで
、銀80wt%、フェノール樹脂−ターAM1の光照射
下で測定したところ、第6図の曲線61に示すように変
換効率2.6%、形状フェノール樹脂からなる導電ペー
ストのみを電極として用いた場合に較べ、特性の改善が
大きく行われたことを示している。
このように、複層構造の導電ペースト電極を用いること
Kよシ太陽電池の出力特性が向上したのは、炭素を主成
分とする第一層がシリコンとの接触抵抗が低く、銀を主
成分となる第二層がシート抵抗が低いことによる電極の
直列抵抗損失の減少に起因するものである。
Kよシ太陽電池の出力特性が向上したのは、炭素を主成
分とする第一層がシリコンとの接触抵抗が低く、銀を主
成分となる第二層がシート抵抗が低いことによる電極の
直列抵抗損失の減少に起因するものである。
本発明によシ導電ペーストを用い複層構造の電極を形成
した太陽′電池の高い変換効率を得るための条件は、第
一層として用いる導電ペーストの配合組成は炭素:銀の
比率が100:Oから5:95の範囲であシ、第二層と
して用いる導電ペーストの銀粉末成分が40〜95wt
%の範囲でおった。
した太陽′電池の高い変換効率を得るための条件は、第
一層として用いる導電ペーストの配合組成は炭素:銀の
比率が100:Oから5:95の範囲であシ、第二層と
して用いる導電ペーストの銀粉末成分が40〜95wt
%の範囲でおった。
また、上記実施例においては金属は銀のみについて示し
たが、実際には銅、金、アルミニウム。
たが、実際には銅、金、アルミニウム。
ニッケルでも同様な結果が得られている。
なお、本発明が適用しうるシリコン半導体は、a−8i
半導体に限らず、多結晶シリコン半導体、他電極に導電
ペーストを用いる場合の直列抵抗増大が防止され、安価
で変換効率の高い太陽電池を得るのに極めて有効である
。
半導体に限らず、多結晶シリコン半導体、他電極に導電
ペーストを用いる場合の直列抵抗増大が防止され、安価
で変換効率の高い太陽電池を得るのに極めて有効である
。
第1図は本発明に基づく電極を用いた太陽電池の一実施
例の断面図、第2図は本発明に基づく電極を用いた太陽
電池の実施例と比較例の太陽電池の出力特性図、第3図
は別の実施例の出力特性図、第4図は本発明に基づく電
極を用いた太陽電池の別の実施例の断面図、第5図、第
6図はそれぞれ第4図の構造を有する太陽電池の異なる
実施例と比較例の太陽電池の出力特性図である。 2・・・透明電極、3−・−a−8i p層、4−・−
’a−8i i層、5・・・a−8in層、6・・・電
極、7・・・第一層、8・・・第二層。 特許出願人 石 坂 誠 −
例の断面図、第2図は本発明に基づく電極を用いた太陽
電池の実施例と比較例の太陽電池の出力特性図、第3図
は別の実施例の出力特性図、第4図は本発明に基づく電
極を用いた太陽電池の別の実施例の断面図、第5図、第
6図はそれぞれ第4図の構造を有する太陽電池の異なる
実施例と比較例の太陽電池の出力特性図である。 2・・・透明電極、3−・−a−8i p層、4−・−
’a−8i i層、5・・・a−8in層、6・・・電
極、7・・・第一層、8・・・第二層。 特許出願人 石 坂 誠 −
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)炭素を含む導電ペーストを塗布、硬化させてなシ、
半導体に接して設けられる第一層と、その上に金属のみ
を含む導電ペーストを塗布、硬化させてなる第二層との
積層体であることを特徴とすり、永含むことを特徴とす
るシリコン半導体電極。 :3″:、)特許請求の範囲第1項または第2項記載の
電極:$おいて、第一層のシート抵抗が10”Ω/7ロ
以下ソあることを特徴とするシリコン半導体電極。 i“′)特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか
に記載の電極において第二層のシート抵抗が100/口
以下であることを特徴とするシリコン半導体電極。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58040040A JPS59167056A (ja) | 1983-03-12 | 1983-03-12 | シリコン半導体電極 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58040040A JPS59167056A (ja) | 1983-03-12 | 1983-03-12 | シリコン半導体電極 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59167056A true JPS59167056A (ja) | 1984-09-20 |
JPS646534B2 JPS646534B2 (ja) | 1989-02-03 |
Family
ID=12569794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58040040A Granted JPS59167056A (ja) | 1983-03-12 | 1983-03-12 | シリコン半導体電極 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59167056A (ja) |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS63194372A (ja) * | 1987-02-09 | 1988-08-11 | Fuji Electric Co Ltd | 非晶質光電変換装置 |
JPS6457762A (en) * | 1987-08-28 | 1989-03-06 | Kyocera Corp | Photoelectric converting device |
JPH01124270A (ja) * | 1987-11-09 | 1989-05-17 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造方法 |
JPH01166574A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-06-30 | Fuji Electric Co Ltd | 薄膜太陽電池の製造方法 |
JPH01116465U (ja) * | 1988-01-30 | 1989-08-07 | ||
JPH0254972A (ja) * | 1988-08-19 | 1990-02-23 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
US4968354A (en) * | 1987-11-09 | 1990-11-06 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film solar cell array |
EP0537730A2 (en) * | 1991-10-18 | 1993-04-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Solar cell |
US6051778A (en) * | 1996-12-13 | 2000-04-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrode structure, process production thereof and photo-electricity generating device including the electrode |
JP2006319170A (ja) * | 2005-05-13 | 2006-11-24 | Mitsubishi Electric Corp | 太陽電池及びその製造方法 |
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