JPS59154925A - 植物育成プラントの最適制御システム - Google Patents

植物育成プラントの最適制御システム

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JPS59154925A
JPS59154925A JP58029536A JP2953683A JPS59154925A JP S59154925 A JPS59154925 A JP S59154925A JP 58029536 A JP58029536 A JP 58029536A JP 2953683 A JP2953683 A JP 2953683A JP S59154925 A JPS59154925 A JP S59154925A
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JP
Japan
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control
plant
temperature
concentration
plants
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JP58029536A
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JPH0329364B2 (ja
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中沢弘
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Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
Original Assignee
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02ATECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
    • Y02A40/00Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production
    • Y02A40/10Adaptation technologies in agriculture, forestry, livestock or agroalimentary production in agriculture
    • Y02A40/25Greenhouse technology, e.g. cooling systems therefor

Landscapes

  • Greenhouses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は植物育収プラントの環境制御に鍜適制−を導
入することによシ、最適生育榮件が不明な場合にも常に
最大の生長速度を得られる制御システムに関する。
近年、6室等による植物の人工育成を更に進め賜度、種
変の春ならず、C02#度、照度、水耕液の濃1jj、
pH等、41!物生長に影響を及ぼすあらゆる条件を人
工的に管理し、生産性を飛躍的に高めようとするU+が
行なわれている。
このための植物生育プラントの環境制御は、一般に、経
験的或いは実鉄的にあらかじめ制御波V最適1直を設定
し、7ラント申の制−欺を谷側にIli走して設定値に
保つというフィードフォワードコントロールを行なうも
のであった。
しかし、このシステムは各側tauitごとにそれぞれ
V)敞Lil1値を求め、心安に応じては谷成梃段階に
応じて岐適呟を変えて行く制御プログラムを組まなけれ
ばならないため、新しい品種Qfcめのプラント設計に
は長時間を必妾とし、制却量の増加と共にこの欠点はま
すます大きなものとなる。さらに、最適環境は植物Q成
長時期、各制御il:の相互関係、植物の前歴、栽培扶
助によりても変契1する。例えば、一般に植物の光合成
通観は照度の増加に従って上昇し、陰生植物では約10
 klX、陽生植物では約50にノ×で飽和することが
知られている。ところが実際の栽培状態では50ktx
を越えても光合成速度の上昇がりら−れる口これは通常
の栽培伏郭では植物体には必ず陰になぶ部分が存在し、
直射光の当たる部分がすでに飽和していても、陰になっ
ておシ、rh)接的に受光する部分はまだ飽和に迫して
いないためであると考えられる。こOような条件は植物
の生長と共に変化し、そのときそのときの峡母条件を央
験的に予め設定することは不可能である。
この発明ね、植物の成長速度すなわち重に冷加の速度は
光@−成速度によって左右されるものであシ、光合成り
 C020消費を伴う点に着目し、411Ii物による
CO2の消費速度を常に最大にするように各制御1餘を
制御する。この制御に@通制御の手法を導入することに
よシ栽培植物にとっての最適値を予め知ることなく、自
動的に常に最適値を医りた育成条件の設定が可能となっ
たものである。
以下、図面を診照して具体的に説明する○この発明の植
物育成プラント全体の概念図を第1図に、その制御シス
テムの概念図を第2図に示す。
プラントの栽培室1は太陽光或いはラング2によって昼
夜の別なくllt@明下に置かれる。自然状態の生育で
は昼間の光合成期間と夜間の呼吸期間V)父代があるが
、夾験によって、昼夜の別たく光合成を行なわせても植
物の成長へO憇影響はないことが知られている。
栽培室中には透明なビニルシート等で作られた同化箱3
が置かれ、その中に仁栽培室中の部分と同様の状態で数
珠の植物が植えられ、扉4がソレノイド5で開閉自在に
取付けられる。6はファンであ如、開扉時には同化箱3
■換気を行ない、その雰囲気を栽培室内と同じに保つと
共に、閉扉時には同化箱3内の状態を均一に′するよう
に働らく。
この実施例においては、栽培室内の光合成速度を同化箱
3内のco、1Ikiの変化速度として測定するように
なっておシ、そのための同化箱3内のCO麺変度検出用
センサー7が設けら−れる。
8は温度拳湿度V)検出センサー、9は制御用コンピュ
ータ、10は空調装置、11はCO2O2濃度用節用0
2ボンベ、12はインターフェース、13は調光装置で
ある。
この制御システムは次のように作動する。
圀えはco2aiの制−は以下のように行なわれる。
C02I!llI度は増加すると共に光合成速度は上昇
し、ある程度以上では飽和することが知られている0制
御の誤動作をさけるため、通常の飽和瞳より大きい上限
籠を予めセットする。また、濃度を変える揚台の濃度間
隔をセットする0まず、−同化箱30加4を開き、77
ン6によシ強制換気して栽培室内と同化箱内の雰囲気を
同じにし、センサー7によ9602111度を測定する
。次いでソレノイド5によシ扉4を閉じ、一定時間、飼
えば3分後のCO2濃度を測定し、その間の濃度減少値
を記憶する。次に、C02ボンベ11を開き、先にセッ
トしたe畝間隔、飼えばs o o ppmたけ栽培室
内のC02I!li度が増加するようC02ガスを数円
する。上記と同様に新しい濃度での濃度減少値を測定し
、先に記憶した濃度減少値と比較する。新しい濃度の方
が減少値が大であれば、COa度の増加によって光合成
速度が増加したことを意味するので、更に1段階C02
訣Uを増して上記と同様の測定を行う。
実際には測定のバラツキが生ずるため、同一濃度で■測
定は成る設定回数(Nえは6回)行い、その測定@Q和
・平均・2乗和を計算し、2回の光合成速度を分散分析
し、その差の有意性を検定する0測定結果■1的を第3
図に示す。
CO退度が飽和点付近になると、2−)のIII度間の
光合成速度はa o o o ppmと3 s o o
 ppmでの測定のように接近し、その差は「有更でな
い」と判断されるので、そのときを最適点として濃度制
御を一時停正し、その#度を一定に保って池の制御量を
最適化するように制御を続ける。
池の総ての制御11量を最適化した後、再び池の条件が
変化した下での濃度の最適化を行い、このような最適化
の繰返しによって各制#址の総合的な最適値へと収斂す
る。
最適値に到達すれば暫くそ■状態を保持し、植物がある
程度生長したらまた同様の最適化を行う〇 検ωされた光合成速度Q差が「有意」と判断される間は
上記の牛脂を練り返すが、久回の濃度のai算を行い、
それが上限をこえた場合は、条件が不適当とし、この場
合も劃−を停止する。
上記の制御手順を第4図来示す。
他V)的として、気温Q制(財)は以下のように行なわ
れる。
気温については照度やCO#1度と異なシ、飽和現象は
見られず、最適曲線を描くことが知られでいる。飽和現
象を示す制御量については、飽和状態を維持すれば多少
Q制御ll量の変動があっても光合成速度の目立った低
下は生じないが、最適曲線を描く制御量は常にそのピー
クを維持するように佃」呻することが必要となる。
気温制御11Qプログラムも制御1141要因が気温に
なるだけで002濃変制御グ電ダラムとほぼ同じである
。ただし、甑大直が存在するので、分散分析が有意でな
くても制御を続ける点で相違する。
そして2つの温度における光合成速度の干均埴を比較し
た場合、前回の光合成速度よシも今回の光合成速度が低
くなっていれば、温度間隔を一〇、5培し、それを次I
Z)−に間隔として採用して制tri1を続行する。こ
のように′して温度間隔があらかじめ設定した最小温度
間隔以下となった場合、そ’7[[を最適温度としてC
O□濃に制−の場合と同様、一時、制御を停止する。向
えば第5図に示す飼(測定の乎均直の与を示す)にオイ
て、6℃間隔の測定によって、20℃よシ26℃の方が
モ均値が小さくなった場合、温度間隔を−0,5@ 、
すなわち3℃下げて23℃で測定する。その結果、26
℃よシ23℃υ方が大きければ、更に3℃づつ下げて光
合成速度を比較してゆく。17℃で20℃のときよシ光
合成速度が低下するので、ここでまた温度間隔を−0,
5@ L、1.5℃上げて18.5℃で測定する。
このような制御測定を繰返して−0.5@の温[間隔が
設定された般小泥度間隔例えば1℃以下となればその@
度はほぼ最a @にあるものとして温度制御を停止し、
次の制御量の制御に移る。プログラムの70−テヤート
を第6図に示すO 誤動作防止として、レリえは温1138℃以上、10℃
以下に設定された場合1条件が不遇自として制御を終了
することは前と同じである0必袈に応じ、制御量を個別
にではなく、複数の制御量を組合ぜて制御することも出
来る。第7図1、温度とCO2#度の複合最適制御を行
なった場合の例を示す0 こ0例では、温度14℃、CO2@度1800ppm 
 から探索を開始し、第7図のプロットの添字の順に制
御ll量を変化させている。図から明らかなように、1
から2へは温度の会の変化、2から3へはCO2濃度i
iり会の変化であシ、3から4へは温1とco−yの両
方を変化させている。図示の例では13回目で最適点2
0℃、2600 ppmに到達している。
このように、CO2濃度の減少速度最大力なわち光合成
速度峡大となるように、ステップ・バイ−ステップに各
制御量を順に制御して行けば、育成する植物Q特性、栽
培条件等に無関係に各制御量を、その相互関係をも考慮
した上での最allに常に保持することが出来るという
極めて顕著な効果を奏するもめである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の植物育成プラント全体の執念図、第
2図はそ・の制御システムの執念図、第3図はCOA度
と光合成速度の関係図、第4図はCOP度制御プ彎グラ
ムの70−チャート、第5図は気温と光合成速度の関係
図、第6図は気温制御プログラムの70−チ、ヤード、
第7図は温度と005度の複合制御の温度−濃度図1:
栽培室 2:ランプ 3:同化箱 4:#′ 5:ソレ
ノイド 6:7アン 7 : C02センサ 8:温度
・湿度計 9:制御用コンピータ 10:空調装置 1
1:C02ボンベ特許出願人 新技術開発事業団 出願人代理人 弁理士 佐  藤  文  男第   
6   図 臼 α    Q 26        3238 温度℃ 図 郵 o1!f  郵

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)7植物の栽培室、CO2の濃度測定装置、C02の
    濃度、気温、熱賦等の制御t1mを一定のステップ毎に
    変化させる装置、および各側ahの変化ごとにC02濃
    度を測定し、級測定値からCO2消費速度を算出する装
    置を有し、CO2消費速度が最大となった時点で当核制
    御量Q制両を一時停止し、次いで池の制御1を最適化し
    、このようにして栽培室0条H〕を植物の成長速度が最
    大となるように維持することを特徴とする植物育成プラ
    ントの岐適制(財)システム 2)植物の栽培室と同粂汗で栽培された植物体を有し、
    上記栽培室との間に開閉自任の扉を設けた同化箱中υC
    02消費速敦を検出するこぶを特徴とする特許鯖氷の範
    囲第1項の最適制御システム
JP58029536A 1983-02-25 1983-02-25 植物育成プラントの最適制御システム Granted JPS59154925A (ja)

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JP58029536A JPS59154925A (ja) 1983-02-25 1983-02-25 植物育成プラントの最適制御システム

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JPS59154925A true JPS59154925A (ja) 1984-09-04
JPH0329364B2 JPH0329364B2 (ja) 1991-04-24

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170012448A (ko) 2014-06-30 2017-02-02 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 수경 재배 방법 및 수경 재배 장치
JP2018068205A (ja) * 2016-10-28 2018-05-10 井関農機株式会社 植物栽培設備

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4941127A (ja) * 1972-09-07 1974-04-17

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JP2018068205A (ja) * 2016-10-28 2018-05-10 井関農機株式会社 植物栽培設備

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