JPS5912641B2 - 1,2−ジクロロエタンの回収方法 - Google Patents
1,2−ジクロロエタンの回収方法Info
- Publication number
- JPS5912641B2 JPS5912641B2 JP52119499A JP11949977A JPS5912641B2 JP S5912641 B2 JPS5912641 B2 JP S5912641B2 JP 52119499 A JP52119499 A JP 52119499A JP 11949977 A JP11949977 A JP 11949977A JP S5912641 B2 JPS5912641 B2 JP S5912641B2
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- Japan
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- dichloroethane
- gas
- ethylene
- edc
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は塩化水素及び分子状酸素を用い触媒に10より
エチレンをオキシクロル化してEDCを製造する方法に
おいて、反応系外へ放出されている未反応エチレンを含
む廃ガス中からエチレンを1・2−ジクロロエタン(以
下EDCと略記)として回収する方法に関するものであ
る。
エチレンをオキシクロル化してEDCを製造する方法に
おいて、反応系外へ放出されている未反応エチレンを含
む廃ガス中からエチレンを1・2−ジクロロエタン(以
下EDCと略記)として回収する方法に関するものであ
る。
15エチレンのオキシクロル化反応によるEDCの生成
は銅触媒の存在下次の式にしたがつて進行する。
は銅触媒の存在下次の式にしたがつて進行する。
C2H4+ 2HCl+H02=C2H4C12+H2
O一般に複数個の反応種を含む化学反応においてそのう
ち一個の反応率を高める為にその他の反応種を化学量論
比より可及的過剰に用いる事は公知である。
O一般に複数個の反応種を含む化学反応においてそのう
ち一個の反応率を高める為にその他の反応種を化学量論
比より可及的過剰に用いる事は公知である。
25又日本特許公告昭46−33010号には、オキシ
クロル化反応用触媒によりエチレンが酸化されて一酸化
炭素が副生すること、及び副生一酸化炭素の一部も同時
に二酸化炭素に変化し、系内の一酸化炭素濃度が極めて
好ましい水準内に維持さ30れるとしている。
クロル化反応用触媒によりエチレンが酸化されて一酸化
炭素が副生すること、及び副生一酸化炭素の一部も同時
に二酸化炭素に変化し、系内の一酸化炭素濃度が極めて
好ましい水準内に維持さ30れるとしている。
しかし実質的には一酸化炭素の蓄積が見い出され、該系
内の一酸化炭素濃度をある一定水準内に保つためにはオ
キシクロル化反応で副生する一酸化炭素見合量の一酸化
炭素を循環ガス中から除く35必要があり、循環ガスの
一部を反応系外に抜き出し−酸化炭素量をある範囲内に
維持しているのが現状である。
内の一酸化炭素濃度をある一定水準内に保つためにはオ
キシクロル化反応で副生する一酸化炭素見合量の一酸化
炭素を循環ガス中から除く35必要があり、循環ガスの
一部を反応系外に抜き出し−酸化炭素量をある範囲内に
維持しているのが現状である。
循環ガスの一部を放出することは当然これに随伴するエ
チレンの損失は免れない。
チレンの損失は免れない。
オキシクロル化反応の反応生成物中から未反応エチlノ
ンを回収する方法は、日本特許公告昭49一43921
号及びドイツ特許2251696号などに開示されてい
る。いずれも空気法オキシクロル化反応と付加的塩素化
の組み合せ技術であつて、付加的塩素化の方法として気
相中で反応させる気相法、EDCを反応媒体とする液相
法の二つがある事は周知である。又液相法においては、
更に反応温度をEDCの沸点以下に維持する低温法、沸
点以上で操作する高温法が知られている(日本特許公告
昭46−3363号)。日本特許公告昭49−4392
1号は空気法オキシクロル化反応で未反応であつたエチ
レンを触媒存在下気相にて塩素と付加反応させEDCを
製造する方法であるが、高温高圧下で反応させる方法で
あるが、EDCの選択率が液相法に較べ非常に悪い。
ンを回収する方法は、日本特許公告昭49一43921
号及びドイツ特許2251696号などに開示されてい
る。いずれも空気法オキシクロル化反応と付加的塩素化
の組み合せ技術であつて、付加的塩素化の方法として気
相中で反応させる気相法、EDCを反応媒体とする液相
法の二つがある事は周知である。又液相法においては、
更に反応温度をEDCの沸点以下に維持する低温法、沸
点以上で操作する高温法が知られている(日本特許公告
昭46−3363号)。日本特許公告昭49−4392
1号は空気法オキシクロル化反応で未反応であつたエチ
レンを触媒存在下気相にて塩素と付加反応させEDCを
製造する方法であるが、高温高圧下で反応させる方法で
あるが、EDCの選択率が液相法に較べ非常に悪い。
又ドイツ特許225169612は、空気法オキシクロ
ル化反応よりの未反応エチレンを液相低温にて反応させ
る方法であるが低温法である為、付加反応器の冷却を充
分に行なわなければならない。かつ付加反応器に水の蓄
積を防ぐ為には付加反応器の前段に脱水装置が必要であ
る。又触媒が生成物と共に抜き出されるので、生成した
EDC中から触媒を分離する必要があるという欠点を有
している。本発明者らは、気相法及び液相法並びに低温
法及び高温法の短所を除き長所を選択した結果、酸素法
オキシクロル化反応装置より放出されるガスを液相かつ
高温法を用いて処理する方法が経済的に又機器保守に最
適との結論を得て、以下に述べるエチレンの回収方法を
確立した。
ル化反応よりの未反応エチレンを液相低温にて反応させ
る方法であるが低温法である為、付加反応器の冷却を充
分に行なわなければならない。かつ付加反応器に水の蓄
積を防ぐ為には付加反応器の前段に脱水装置が必要であ
る。又触媒が生成物と共に抜き出されるので、生成した
EDC中から触媒を分離する必要があるという欠点を有
している。本発明者らは、気相法及び液相法並びに低温
法及び高温法の短所を除き長所を選択した結果、酸素法
オキシクロル化反応装置より放出されるガスを液相かつ
高温法を用いて処理する方法が経済的に又機器保守に最
適との結論を得て、以下に述べるエチレンの回収方法を
確立した。
本発明は、触媒の存在下に於いて液相EDCを反応媒体
とし、循環型酸素法オキシクロル化反応装置より放出さ
れる不活性ガスを多量に含む廃ガス中の稀薄エチレンと
、新らたに供給される塩素とを該反応媒体中で反応させ
、生成するEDCをその反応熱によつて連続的に気化し
てガス状で取得する方法である。
とし、循環型酸素法オキシクロル化反応装置より放出さ
れる不活性ガスを多量に含む廃ガス中の稀薄エチレンと
、新らたに供給される塩素とを該反応媒体中で反応させ
、生成するEDCをその反応熱によつて連続的に気化し
てガス状で取得する方法である。
必要ならば稀薄エチレン及び塩素ガスを反応媒体中で緊
密に接触せしめる為に上記の2つの原料が接触する部分
に充填物を装入し主としてEDCよりなる生成物及び不
活性ガスをガス状で反応器より取り出し、生成物を冷却
し、液化したEDCを取得する。
密に接触せしめる為に上記の2つの原料が接触する部分
に充填物を装入し主としてEDCよりなる生成物及び不
活性ガスをガス状で反応器より取り出し、生成物を冷却
し、液化したEDCを取得する。
また必要ならば取得したEDCの一部を反応器に戻して
もよい。以下図面について本発明の方法の一態様を説明
する。
もよい。以下図面について本発明の方法の一態様を説明
する。
酸素法オキシクロル化反応装置より放出されたガスは第
1図の導管11より、塩素は導管17より、ガスの接触
を高める為の充填物を内蔵している付加反応塔18へ装
入される。
1図の導管11より、塩素は導管17より、ガスの接触
を高める為の充填物を内蔵している付加反応塔18へ装
入される。
ここで反応し生成したEDCは反応熱によつて蒸発し、
不活性ガスと共にライン19より流出し、フレオンを冷
媒とする凝縮器25によつて冷却されたガスと熱交換器
20に於いて熱交換した後、気液向流式ガス冷却塔21
の底部へ混入される。ここでEDCを主成分とする潅液
と向流接触して、反応により生成した大部分のEDCが
凝縮する。
不活性ガスと共にライン19より流出し、フレオンを冷
媒とする凝縮器25によつて冷却されたガスと熱交換器
20に於いて熱交換した後、気液向流式ガス冷却塔21
の底部へ混入される。ここでEDCを主成分とする潅液
と向流接触して、反応により生成した大部分のEDCが
凝縮する。
凝縮液は導管28より連続的に抜き出され分離器30へ
送られる。潅液の残部は冷却器24より顕熱を除去後、
ガス冷却器21の頂部へ循環使用される。ガス冷却器2
1からの流出ガスは導管22をへてフレオンコンデンサ
一25に入る。
送られる。潅液の残部は冷却器24より顕熱を除去後、
ガス冷却器21の頂部へ循環使用される。ガス冷却器2
1からの流出ガスは導管22をへてフレオンコンデンサ
一25に入る。
ここでガス冷却器21で凝縮出来なかつたEDCの大部
分は凝縮し導管27をへて分離器30へ入る。ここで分
離された水は導管32を通つて排出され、EDCの一部
は連続的に導管34より抜き出され、残部は導管33を
へて付加反応塔へ循環される。
分は凝縮し導管27をへて分離器30へ入る。ここで分
離された水は導管32を通つて排出され、EDCの一部
は連続的に導管34より抜き出され、残部は導管33を
へて付加反応塔へ循環される。
フレオンコンデンサ一25にて凝縮されなかつた不活性
ガスは熱交換器20にて付加反応塔18からのガスと熱
交換した後大気放出される。
ガスは熱交換器20にて付加反応塔18からのガスと熱
交換した後大気放出される。
実施例 1100.41<9の塩化第2銅(2水塩)を
35%(実量)塩酸740kgに溶解し全体を水で26
801に稀釈した液と、45重量%水酸化ナトリウム水
溶液711.2kgに水酸化アルミニウム318.4k
gを溶解して水で12501に稀釈した液とを混合して
ゲル状沈澱を発生せしめた。
35%(実量)塩酸740kgに溶解し全体を水で26
801に稀釈した液と、45重量%水酸化ナトリウム水
溶液711.2kgに水酸化アルミニウム318.4k
gを溶解して水で12501に稀釈した液とを混合して
ゲル状沈澱を発生せしめた。
沈澱を室温で熟成した後濾過して得たケーキに水を加え
てスラリーとし、噴霧乾燥し更に水洗した後500℃で
3時間焼成してオキシクロル化用銅アルミナ流動触媒を
得た。触媒の銅含有量は13.35重量%、見かけカサ
密度0.83f/d1平均粒径60μ(微小球状)であ
つた。この触媒120kgを内径4001!l高さ30
011の反応室を有する反応器1に装填した。反応が定
常状態に達した時の各流量、温度その他の反応条件なら
びに結果は次の通りであつた。
てスラリーとし、噴霧乾燥し更に水洗した後500℃で
3時間焼成してオキシクロル化用銅アルミナ流動触媒を
得た。触媒の銅含有量は13.35重量%、見かけカサ
密度0.83f/d1平均粒径60μ(微小球状)であ
つた。この触媒120kgを内径4001!l高さ30
011の反応室を有する反応器1に装填した。反応が定
常状態に達した時の各流量、温度その他の反応条件なら
びに結果は次の通りであつた。
反応器に入る供給ガスの各成分モル比は、エチレン1.
86塩化水素2.00酸素0.84−酸化炭素0.90
反応温度240℃でプロセスに対する原料装入量はエチ
レン35.80m’/時(流量はいづれも標準状態換算
)塩化水素71.68w1/時、酸素18.45771
’/時であつた。循環ガス中の成分濃度(いづれも容量
%)はエチレン366% 酸素13.8% 一酸化炭素
38.4% その他11.2%であつたが、運転を定常
に保つ為には−酸化炭素0.69w1’/時を反応系外
に放出する必要があつた。除去ガスの成分流量は次の通
りであつた。この除去ガスを導管11を通して稀薄エチ
レン回収装置へ導き未反応エチレンを塩素と付加反応さ
せEDCとして回収した。
86塩化水素2.00酸素0.84−酸化炭素0.90
反応温度240℃でプロセスに対する原料装入量はエチ
レン35.80m’/時(流量はいづれも標準状態換算
)塩化水素71.68w1/時、酸素18.45771
’/時であつた。循環ガス中の成分濃度(いづれも容量
%)はエチレン366% 酸素13.8% 一酸化炭素
38.4% その他11.2%であつたが、運転を定常
に保つ為には−酸化炭素0.69w1’/時を反応系外
に放出する必要があつた。除去ガスの成分流量は次の通
りであつた。この除去ガスを導管11を通して稀薄エチ
レン回収装置へ導き未反応エチレンを塩素と付加反応さ
せEDCとして回収した。
稀薄エチレン回収装置は磁製ラシヒリングを充填した付
加反応塔に塩化第二鉄触媒を約0.3〜1.0重量%溶
解せしめた反応媒体としてのEDCを装入し、導管11
よりの0C反応器からの除去ガス1.8m’/時、導管
ILより塩素ガス0.6m’/時を、それぞれの吹き込
み管より吹き込み反応させた。
加反応塔に塩化第二鉄触媒を約0.3〜1.0重量%溶
解せしめた反応媒体としてのEDCを装入し、導管11
よりの0C反応器からの除去ガス1.8m’/時、導管
ILより塩素ガス0.6m’/時を、それぞれの吹き込
み管より吹き込み反応させた。
又反応媒体は付加反応器に導管33よりEDCを循環す
る事により80℃に保つた。
る事により80℃に保つた。
不活性ガスと反応熱によつて蒸発したEDCは導管1』
−より流出し熱交換器λ1で冷却された後気液向流式ガ
ス冷却器へ装入される。
−より流出し熱交換器λ1で冷却された後気液向流式ガ
ス冷却器へ装入される。
ここで循環EDCと気液接触しEDCガスの I8O%
が凝縮し、循環量の10%を導管λ1より分離器へ抜き
出す。
が凝縮し、循環量の10%を導管λ1より分離器へ抜き
出す。
未凝縮EDC及び不活性ガスはフレオンを冷媒とした凝
縮器へ送られ、不活性ガスとEDCが分離する。少量の
EDCと不活性ガスは導管11を通つて大気へ放出され
る。
縮器へ送られ、不活性ガスとEDCが分離する。少量の
EDCと不活性ガスは導管11を通つて大気へ放出され
る。
放出ガスの成分流量を次に示す。又凝縮したEDCは導
管2?を通り気液向流式ガス冷却器よりのEDCと合一
し、水を分離した後75%は付加反応塔へ循環し、ED
C2.48kg/時を製品として得た。
管2?を通り気液向流式ガス冷却器よりのEDCと合一
し、水を分離した後75%は付加反応塔へ循環し、ED
C2.48kg/時を製品として得た。
製品EDCの組成を次に示す。
比較例 1
稀薄エチレン回収装置へ導管11より装入しないほかは
実施例1と同様に行つた。
実施例1と同様に行つた。
運転を定常に保つには導管11より直接大気へ循環ガス
1.8Tn:/時を放出する事が必要であつた。これに
よる未反応エチレンの損失は0.66m゜/時であつた
。実施例 2、3、4、5次にエチレン濃度を変化させ
てオキシクロル化反応を行い、そのガスを実施例1と同
様、稀薄エチレン回収装置へ導いた。
1.8Tn:/時を放出する事が必要であつた。これに
よる未反応エチレンの損失は0.66m゜/時であつた
。実施例 2、3、4、5次にエチレン濃度を変化させ
てオキシクロル化反応を行い、そのガスを実施例1と同
様、稀薄エチレン回収装置へ導いた。
その結果を次に示す。上表より廃ガス中のエチレン濃度
を変化させ′(もエチレン反応率は89%以上、EDC
の純度99.4%以上のものが得られた。
を変化させ′(もエチレン反応率は89%以上、EDC
の純度99.4%以上のものが得られた。
第1図は、本発明の方法による稀薄ガス中のエチレンの
回収方法の一態様を示す工程系統図である。
回収方法の一態様を示す工程系統図である。
Claims (1)
- 1 塩化水素及び酸素によつてエチレンをオキシクロル
化し、生成した1・2−ジクロロエタンを分離した後、
残存する未反応エチレンを含むガスを反応器へ循環供給
し、かつ循環ガスの一部を廃ガスとして反応系外に排出
させている酸素法オキシクロル化反応循環式製造装置に
おいて、未反応エチレンおよびオキシクロル化反応によ
り生成した水を含む該廃ガスと塩素とを触媒存在下の1
・2−ジクロロエタン液相中に導びき、該液相中で塩素
とエチレンを付加反応させ、生成する1・2−ジクロロ
エタンをその反応熱による反応液相の温度上昇によつて
上記水と共に連続的に蒸発させた後、凝縮せしめて水層
と1・2−ジクロロエタン層からなる二層に分離し、該
分離層から1・2−ジクロロエタンを回収することを特
徴とする、1・2−ジクロロエタンの回収方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52119499A JPS5912641B2 (ja) | 1977-10-06 | 1977-10-06 | 1,2−ジクロロエタンの回収方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP52119499A JPS5912641B2 (ja) | 1977-10-06 | 1977-10-06 | 1,2−ジクロロエタンの回収方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5455502A JPS5455502A (en) | 1979-05-02 |
JPS5912641B2 true JPS5912641B2 (ja) | 1984-03-24 |
Family
ID=14762768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP52119499A Expired JPS5912641B2 (ja) | 1977-10-06 | 1977-10-06 | 1,2−ジクロロエタンの回収方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5912641B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0578974U (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-26 | 三輪精機株式会社 | 液圧回転機械 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4849706A (ja) * | 1971-10-26 | 1973-07-13 | ||
JPS5014609A (ja) * | 1973-06-11 | 1975-02-15 |
-
1977
- 1977-10-06 JP JP52119499A patent/JPS5912641B2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4849706A (ja) * | 1971-10-26 | 1973-07-13 | ||
JPS5014609A (ja) * | 1973-06-11 | 1975-02-15 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0578974U (ja) * | 1992-04-02 | 1993-10-26 | 三輪精機株式会社 | 液圧回転機械 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5455502A (en) | 1979-05-02 |
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