JPS59104145U - photo mask - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第１図は従来のフォトマスクの構造を示す断面図、第２
図は第１図のフォトマスクを珀いた露光工程を示す断面
図、第３図はこの考案の一実施例に係るフォトマスクの
構造を示す断面図、第４図は第３図のフォトマスクを用
いた露光工程を示す断面図である。 １１・・・フォトマスク、１２・・・透明ガラス基板、
１３・・・クロムｉ膜、１４・・・透明ガラス膜、１５
・・・シリコンウェハ、１６・・・レジス）、１７．１
８・・・埃。Figure 1 is a sectional view showing the structure of a conventional photomask, Figure 2 is a cross-sectional view showing the structure of a conventional photomask.
The figure is a sectional view showing the exposure process using the photomask shown in Fig. 1, Fig. 3 is a sectional view showing the structure of a photomask according to an embodiment of this invention, and Fig. 4 is a sectional view showing the photomask shown in Fig. 3. FIG. 3 is a cross-sectional view showing the exposure process used. 11... Photomask, 12... Transparent glass substrate,
13...Chromium i film, 14...Transparent glass film, 15
...Silicon wafer, 16...Regis), 17.1
8...Dust.

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 透明基板と、この透明基板上に形成された金属薄膜のパ
ターンと、この金属薄膜上に形成された透明性膜とを具
備したことを特徴とするフォトマスク。A photomask comprising a transparent substrate, a pattern of a thin metal film formed on the transparent substrate, and a transparent film formed on the thin metal film.