JPS5888742A - 活版及び凸版の製造に適する感光性材料及びこれを使用して活版及び凸版を製造する方法 - Google Patents
活版及び凸版の製造に適する感光性材料及びこれを使用して活版及び凸版を製造する方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、寸法安定性のある担体層Ｔ上に強固に接着さ
れた光重合可能、水性現像可能の凸版形成層Ｒを有し、
この凸版形成層Ｒが光重合可能のエチレン系不飽和低分
子量化合物、光重合開始剤並びに場合により添加される
他の慣用の添加剤のほかに、更に結合剤どしてラジカル
重合可能基を有する変性ポリビニルアルコールを含有す
る感光性記録材料に係る。本発明は、またこの感光性記
録材料により活版及び凸版を製造する方法に係る。
れた光重合可能、水性現像可能の凸版形成層Ｒを有し、
この凸版形成層Ｒが光重合可能のエチレン系不飽和低分
子量化合物、光重合開始剤並びに場合により添加される
他の慣用の添加剤のほかに、更に結合剤どしてラジカル
重合可能基を有する変性ポリビニルアルコールを含有す
る感光性記録材料に係る。本発明は、またこの感光性記
録材料により活版及び凸版を製造する方法に係る。
活版及び凸版を製造するための水洗除去可能のポリマー
及びモノマーより成る感光性記録材料そのものは既に公
知である（例えば英国特許８３４３３７号、１２３３８
８３号及び１３５１４７５号明細書並びに米国特許４０
４２３８６号及び４２７２６１１号参照）。これ等刊行
物によれば、光重合性凸版形成層においてポリマー結合
剤としてポリビニルアルコールを使用スべきものとぎれ
ている。然しなからこれ等公知の感光性記録材料から製
造される活版、凸版は、その製造、貯蔵性、反剪使用性
及び耐水性において未だ満足なものではない。
及びモノマーより成る感光性記録材料そのものは既に公
知である（例えば英国特許８３４３３７号、１２３３８
８３号及び１３５１４７５号明細書並びに米国特許４０
４２３８６号及び４２７２６１１号参照）。これ等刊行
物によれば、光重合性凸版形成層においてポリマー結合
剤としてポリビニルアルコールを使用スべきものとぎれ
ている。然しなからこれ等公知の感光性記録材料から製
造される活版、凸版は、その製造、貯蔵性、反剪使用性
及び耐水性において未だ満足なものではない。
更に例えば米国特許２９２９７１０号、英国特許８３４
３３７号或は***特許出願公開１５２２３５９号公報か
ら、感光性記録材料の凸版形成層のための光重合性混合
物中にポリマー結合剤として側鎖に光重合性二重結合を
有するポリビニルアルコール誘導体を使用することが公
知になっている。この光重合可能基ヲ有するポリビニル
アルコール誘導体とは、ポリビニルアルコールの不飽和
ポリエステル或は不飽和ポリアセタールである。これ等
ポリビニルアルコール誘導体の製造方法については、上
記刊行物において、溶媒中でポリビニルアルコールをア
セタール化し或はアシル化する公知慣用の方法が指示さ
れている。然しなからこのようにして製造されるポリビ
ニルアルコール誘導体は、比較的多量の含有不純物のた
め、光重合性記録材料の凸版形成層のために使用するこ
とは極めてまれであった。質的に高価値のものとするた
めには、このようにして製造されたポリビニルアルコー
ル誘導体を、煩雑でコストの高い方法により精製しなけ
ればならない。
３３７号或は***特許出願公開１５２２３５９号公報か
ら、感光性記録材料の凸版形成層のための光重合性混合
物中にポリマー結合剤として側鎖に光重合性二重結合を
有するポリビニルアルコール誘導体を使用することが公
知になっている。この光重合可能基ヲ有するポリビニル
アルコール誘導体とは、ポリビニルアルコールの不飽和
ポリエステル或は不飽和ポリアセタールである。これ等
ポリビニルアルコール誘導体の製造方法については、上
記刊行物において、溶媒中でポリビニルアルコールをア
セタール化し或はアシル化する公知慣用の方法が指示さ
れている。然しなからこのようにして製造されるポリビ
ニルアルコール誘導体は、比較的多量の含有不純物のた
め、光重合性記録材料の凸版形成層のために使用するこ
とは極めてまれであった。質的に高価値のものとするた
めには、このようにして製造されたポリビニルアルコー
ル誘導体を、煩雑でコストの高い方法により精製しなけ
ればならない。
本発明の目的は、簡単且つ再現可能の態様で製造するこ
とができ、水性現像可能であり、し力）も ５− 露光後水乃至湿気に対して強い耐性を有する、活版及び
凸版製造用の感光性記録材料を提供することである。
とができ、水性現像可能であり、し力）も ５− 露光後水乃至湿気に対して強い耐性を有する、活版及び
凸版製造用の感光性記録材料を提供することである。
この目的は、それ自体公知の水性現像可能感光性記録材
料における光重合可能凸版形成層において、ポリマー結
合剤として、ラジカル重合可能基を有するポリビニルア
ルコール誘導体を使用し、重合可能基を有するアシル化
剤を所望アシル化度の少くとも２モル倍に相当する過剰
量使用して、このアシル化剤とポリビニルアルコールと
全中性分散媒中で不均一相において反応させることによ
り上記ポリビニルアルコール誘導体を形成含有させて達
成され得ることが見出された。
料における光重合可能凸版形成層において、ポリマー結
合剤として、ラジカル重合可能基を有するポリビニルア
ルコール誘導体を使用し、重合可能基を有するアシル化
剤を所望アシル化度の少くとも２モル倍に相当する過剰
量使用して、このアシル化剤とポリビニルアルコールと
全中性分散媒中で不均一相において反応させることによ
り上記ポリビニルアルコール誘導体を形成含有させて達
成され得ることが見出された。
本発明の対象は、従って、（ａ）寸法安定性のある担体
層Ｔと、（ｂｌ）重合可能のポリビニルアルコール誘導
体を含有するポリマー結合剤、（ｂ２）このポリマー結
合剤に対し親和性を有し光重合可能の少くとも１種類の
エチレン系不飽和低分子量化合物、（ｂ３）少くとも１
種類の光重合開始剤並びに場合により更に（ｂ４）他の
慣用の添加剤及び ６ − （或は）助剤の混合物から成り、上記担体層と直接的或
は間接的に強固に接着されている（ｂ）光重合可能、水
性現像可能の凸版形成層Ｒとを有する、活版及び凸版の
製造に適する感光性記録材料であって、上記の光重合可
能凸版形成層Ｒが（ｂｌ）ポリマー結合剤として、この
ポリマー結合剤の全量に対し少くとも１重量％のポリビ
ニルアルコール誘導体を含有しており、ラジカル重合可
能基を有するアシル化剤を所望アシル化度の少くとも２
モル倍に相当する過剰量使用して、このアシル化剤とポ
リビニルアルコールとを中性分散媒中で不均一相におい
て反応ぎせることにより上記ポリビニルアルコール誘導
体を形成含有させることを特徴とする感光性記録材料で
ある。
層Ｔと、（ｂｌ）重合可能のポリビニルアルコール誘導
体を含有するポリマー結合剤、（ｂ２）このポリマー結
合剤に対し親和性を有し光重合可能の少くとも１種類の
エチレン系不飽和低分子量化合物、（ｂ３）少くとも１
種類の光重合開始剤並びに場合により更に（ｂ４）他の
慣用の添加剤及び ６ − （或は）助剤の混合物から成り、上記担体層と直接的或
は間接的に強固に接着されている（ｂ）光重合可能、水
性現像可能の凸版形成層Ｒとを有する、活版及び凸版の
製造に適する感光性記録材料であって、上記の光重合可
能凸版形成層Ｒが（ｂｌ）ポリマー結合剤として、この
ポリマー結合剤の全量に対し少くとも１重量％のポリビ
ニルアルコール誘導体を含有しており、ラジカル重合可
能基を有するアシル化剤を所望アシル化度の少くとも２
モル倍に相当する過剰量使用して、このアシル化剤とポ
リビニルアルコールとを中性分散媒中で不均一相におい
て反応ぎせることにより上記ポリビニルアルコール誘導
体を形成含有させることを特徴とする感光性記録材料で
ある。
本発明の対象は、また後に詳述するこの感光性記録材料
の特殊な形成形態である。本発明の対象は、更にこの感
光性記録材料により活版及び凸版を製造する方法である
。
の特殊な形成形態である。本発明の対象は、更にこの感
光性記録材料により活版及び凸版を製造する方法である
。
***特許出願公開３０１５４１９号公報から、感光性多
層体の接着層のために類似したポリビニルアルコール誘
導体を硬化可能の混合物の形で使用することが公知では
あるが、感光性記録材料の凸版形成層Ｒに不均一相にお
いて製造された上述のポリビニルアルコール誘導体を使
用する本発明は予想されなかった多くの利点をもたらす
のである。即ち、本発明によれば、ポリビニルアルコー
ル結合剤の製造は不均一相においてバッチ式に行われる
にも拘らず、良好、容易且つ正確に再現可能の緒特性を
有する、活版及び凸版製造に適した水性現像可能の感光
性記録材料を簡単に提供できる。露光された感光性記録
材料の現像、即ち凸版形成層非露光部分の水による洗除
は、ポリビニルアルコールを使用するこれまで慣用の記
録材料と同様に問題がなく、同時に良好な表面特性を有
する活版及び凸版をもたらすことができる。その極めて
良好な耐水性のため、本発明の記録材料により製造され
た活版及び凸版は、多湿雰囲気中においても極めて貯蔵
性にすぐれており、常に反覆使用可能の状態にある。
層体の接着層のために類似したポリビニルアルコール誘
導体を硬化可能の混合物の形で使用することが公知では
あるが、感光性記録材料の凸版形成層Ｒに不均一相にお
いて製造された上述のポリビニルアルコール誘導体を使
用する本発明は予想されなかった多くの利点をもたらす
のである。即ち、本発明によれば、ポリビニルアルコー
ル結合剤の製造は不均一相においてバッチ式に行われる
にも拘らず、良好、容易且つ正確に再現可能の緒特性を
有する、活版及び凸版製造に適した水性現像可能の感光
性記録材料を簡単に提供できる。露光された感光性記録
材料の現像、即ち凸版形成層非露光部分の水による洗除
は、ポリビニルアルコールを使用するこれまで慣用の記
録材料と同様に問題がなく、同時に良好な表面特性を有
する活版及び凸版をもたらすことができる。その極めて
良好な耐水性のため、本発明の記録材料により製造され
た活版及び凸版は、多湿雰囲気中においても極めて貯蔵
性にすぐれており、常に反覆使用可能の状態にある。
本発明による記録材料の光重合性凸版形成層Ｒのための
担体層Ｔ（恒久的担体〕としては、活版、凸版製造用に
使用される公知の担体でよい。特に寸法安定性のよい合
成樹脂箔、例えばポリエステル箔或は金属製担体、例え
ばスチール薄片、鉄薄片、アルミニウム薄片が好ましい
。この寸法安定性担体層Ｔは、光重合性凸版形成層Ｒと
の接着力を改良するため、それ自体公知の方法で機械的
に、化学的に且つ（或は）下塗剤塗布により予備処理さ
れる。
担体層Ｔ（恒久的担体〕としては、活版、凸版製造用に
使用される公知の担体でよい。特に寸法安定性のよい合
成樹脂箔、例えばポリエステル箔或は金属製担体、例え
ばスチール薄片、鉄薄片、アルミニウム薄片が好ましい
。この寸法安定性担体層Ｔは、光重合性凸版形成層Ｒと
の接着力を改良するため、それ自体公知の方法で機械的
に、化学的に且つ（或は）下塗剤塗布により予備処理さ
れる。
感光性記録材料の光重合性凸版形成層Ｒは、本発明によ
れば上述のように不均一相で製造されたポリビニルアル
コール誘導体を、光重合可能凸版形成層Ｒの全結合剤量
に対し、少くとも１重量％含有するべきである。
れば上述のように不均一相で製造されたポリビニルアル
コール誘導体を、光重合可能凸版形成層Ｒの全結合剤量
に対し、少くとも１重量％含有するべきである。
本発明においてポリビニルアルコールといつ語は、重合
体主鎖中に反覆鎖０Ｈ２０Ｈ（ＯＨ）−構造単位を有し
、水溶性或は少くとも水分散性である限りすべての重合
体を意味するものと理解されるべきである。これについ
ても公知技術に関し引用した諸文献を参照されたい。ポ
リビニルアルコールと ９− して特に挙げるとすれば、公知の部分的に鹸化されたポ
リビニルエステル、例えばポリビニルアセタート或はポ
リビニルプロピオナート 本発明において使用されるべきポリビニルアルコール誘
導体を製造するため、一般的に３５０乃至２５００の中
程度の重合度を有するポリビニルアルコールから出発す
る。反応のために使用されるべきポリビニルアルコール
の鹸化度は、一方においては水溶性乃至水分散性の条件
から、他方においては所望の反応性乃至官応度により決
定される。
体主鎖中に反覆鎖０Ｈ２０Ｈ（ＯＨ）−構造単位を有し
、水溶性或は少くとも水分散性である限りすべての重合
体を意味するものと理解されるべきである。これについ
ても公知技術に関し引用した諸文献を参照されたい。ポ
リビニルアルコールと ９− して特に挙げるとすれば、公知の部分的に鹸化されたポ
リビニルエステル、例えばポリビニルアセタート或はポ
リビニルプロピオナート 本発明において使用されるべきポリビニルアルコール誘
導体を製造するため、一般的に３５０乃至２５００の中
程度の重合度を有するポリビニルアルコールから出発す
る。反応のために使用されるべきポリビニルアルコール
の鹸化度は、一方においては水溶性乃至水分散性の条件
から、他方においては所望の反応性乃至官応度により決
定される。
アシル化剤との反応性が高ければ高い程、一般に反応に
使用されるべきポリビニルアルコールの鹸化度は高くな
る。本発明により使用されるべきポリビニルアルコール
誘導体製造のためのポリビニルアセタートハ、８０乃至
９８モル％、ことに８０乃至８８モル％の鹸化度を有す
る。種々の重合度及び（或は）鹸化度のポリビニルアル
コールの混合物を使用することもできる。
使用されるべきポリビニルアルコールの鹸化度は高くな
る。本発明により使用されるべきポリビニルアルコール
誘導体製造のためのポリビニルアセタートハ、８０乃至
９８モル％、ことに８０乃至８８モル％の鹸化度を有す
る。種々の重合度及び（或は）鹸化度のポリビニルアル
コールの混合物を使用することもできる。
本発明により使用されるべきポリビニルアルコール誘導
体を製造するため、ポリビニルアルコ−ルと、ラジカル
重合可能基を有するアシル化剤と全反応きセる。アシル
化剤としては、アシル化反応のために慣用されている一
群の化合物を挙げることができる。アシル化剤に包含さ
れるべきラジカル重合可能基としては、一般に、重合可
能のエチレン二重結合、特に好ましいのは活性化されて
いる、即ち他の二重結合と共役的なもの或は酸素原子或
は窒素原子と隣接しているものである。従って、例えば
アクリル酸乃至メタクリル酸から派生するアシル化剤が
好ましく、ことに無水アクリル酸及び無水メタクリル酸
がアシル化剤として推奨される。
体を製造するため、ポリビニルアルコ−ルと、ラジカル
重合可能基を有するアシル化剤と全反応きセる。アシル
化剤としては、アシル化反応のために慣用されている一
群の化合物を挙げることができる。アシル化剤に包含さ
れるべきラジカル重合可能基としては、一般に、重合可
能のエチレン二重結合、特に好ましいのは活性化されて
いる、即ち他の二重結合と共役的なもの或は酸素原子或
は窒素原子と隣接しているものである。従って、例えば
アクリル酸乃至メタクリル酸から派生するアシル化剤が
好ましく、ことに無水アクリル酸及び無水メタクリル酸
がアシル化剤として推奨される。
ポリビニルアルコールとアシル化剤との本発明による反
応は不均一相で行われ、ポリビニルアルコールは中性分
散媒中に堆積し、このスラリー状態において同時に強力
に攪拌しつつアシル化剤と反応させる。中性分散媒とし
ては、ことに低級ハロゲン化炭化水素、低級脂肪族ケト
ン、芳香族及び（或は〕脂肪族炭化水素の溶媒が考えら
れる。
応は不均一相で行われ、ポリビニルアルコールは中性分
散媒中に堆積し、このスラリー状態において同時に強力
に攪拌しつつアシル化剤と反応させる。中性分散媒とし
ては、ことに低級ハロゲン化炭化水素、低級脂肪族ケト
ン、芳香族及び（或は〕脂肪族炭化水素の溶媒が考えら
れる。
この分散媒としてアセトン乃至メチレンクロリドを使用
することが反応のためには好ましい。中性分散媒の使用
量は、ポリビニルアルコールド分散媒とから成るスラリ
ー中において、両者の総量に対し分散媒が３０乃至７５
重量％、ことに４０乃至６５重量％を占めるようにする
。本発明により感光性記録材料に使用されるべきポリビ
ニルアルコール誘導体を調製するためには、ポリビニル
アルコールと反応させるアシル化剤を過剰量において、
即ち所望のアシル化度の少くとも２モル倍に相当する量
だけ使用する必要があることが見出された。
することが反応のためには好ましい。中性分散媒の使用
量は、ポリビニルアルコールド分散媒とから成るスラリ
ー中において、両者の総量に対し分散媒が３０乃至７５
重量％、ことに４０乃至６５重量％を占めるようにする
。本発明により感光性記録材料に使用されるべきポリビ
ニルアルコール誘導体を調製するためには、ポリビニル
アルコールと反応させるアシル化剤を過剰量において、
即ち所望のアシル化度の少くとも２モル倍に相当する量
だけ使用する必要があることが見出された。
反応生成物の特性は、アシル化剤を過剰に使用すればす
る程ますます好ましいものとなる。使用されるべきアシ
ル化剤の量の上限は、もっばら経済的観点のみから決定
されるべきものであって、アシル化剤を約５モル倍程度
の過剰量使用するのが一般的に有意の上限である。
る程ますます好ましいものとなる。使用されるべきアシ
ル化剤の量の上限は、もっばら経済的観点のみから決定
されるべきものであって、アシル化剤を約５モル倍程度
の過剰量使用するのが一般的に有意の上限である。
ポリビニルアルコールの反応度乃至アシル化度は、アシ
ル化剤の濃度のほかに、ことに使用されるポリビニルア
ルコールの粒度、反応温度並びに反応時間により決定さ
れる。粒径範囲１乃至５０００μｍのポリビニルアルコ
ールが、不均一相におけるアシル化剤との反応にとって
適当であり、ことに約５０乃至５００μｍ粒径のポリビ
ニルアルコールが好ましい。アシル化のための反応湿度
は、例えば中性分散媒の沸点以上に設定されることがで
き、一般的にはＯ乃至１００°Ｃ１特に好ましいのは４
０乃至６０°Ｃに保持することである。反応時間は、所
望のアシル化度により調整されるが、通常は１乃至８０
時間、ことに２０乃至４０時間である。
ル化剤の濃度のほかに、ことに使用されるポリビニルア
ルコールの粒度、反応温度並びに反応時間により決定さ
れる。粒径範囲１乃至５０００μｍのポリビニルアルコ
ールが、不均一相におけるアシル化剤との反応にとって
適当であり、ことに約５０乃至５００μｍ粒径のポリビ
ニルアルコールが好ましい。アシル化のための反応湿度
は、例えば中性分散媒の沸点以上に設定されることがで
き、一般的にはＯ乃至１００°Ｃ１特に好ましいのは４
０乃至６０°Ｃに保持することである。反応時間は、所
望のアシル化度により調整されるが、通常は１乃至８０
時間、ことに２０乃至４０時間である。
本発明による感光性記録材料の凸版形成層Ｒの調製のた
めには、ポリビニルアルコールドアシル化剤との不均一
相反応は、生成ポリビニルアルコール誘導体中にその全
量に対し１乃至３０重量％、好ましくは２乃至２５重量
％のラジカル重合可能アシル基が形成され含有されるに
至るまで行われる。
めには、ポリビニルアルコールドアシル化剤との不均一
相反応は、生成ポリビニルアルコール誘導体中にその全
量に対し１乃至３０重量％、好ましくは２乃至２５重量
％のラジカル重合可能アシル基が形成され含有されるに
至るまで行われる。
感光性記録材料における光重合可能凸版形成層Ｒのポリ
マー結合剤（ｂｌ）Ｌｔ、全体的に（１００％ン或は部
分的に重合可能のアシル基を含有するポリビニルアルコ
ール誘導体力）ら構成され、ポリマー結合剤組成分（ｂ
ｌ）中におけるこのポリビニルアー１３＝ ルフール誘導体部分は少くとも１重量％存在するべきで
ある。活版、凸版製造のため、光重合性凸版形成層Ｒの
ポリマー結合剤（ｂｌ）は、その全量に対し１０乃至４
０重量％の重合可能アシル基含有ポリビニルアルコール
誘導体と、９０乃至６０重量％の他のポリマー結合剤と
から構成されるのが特に好ましい。この他のポリマー結
合剤は、同様に水洗除去可能であること、即ち水溶性或
は少くとも水分散性であることが必要であり、また更に
上述のポリビニルアルコール誘導体に対し極めて親和性
の高いものでなければならない。ここで極めて高い親和
性というのは、これ等が感光性記録材料に使用するに適
する均一な混合物を調製し得ることを意味する。このよ
うないわゆる他のポリマー結合剤としては、変性されて
いないポリビニルアルコール、光重合性混合物調製のた
め米国特許４２７２６１１号明細書に記載されている如
きポリビニルアルコール誘導体、Ｎ−ビニルピロリドン
／ビニルアセタート共重合体の如きポリビニルピロリド
ンとＮ−ビニルピロリドンとの共重合体、セルローズ誘
導体、澱粉及び（或は）澱粉誘導体、アクリル酸共重合
体乃至ポリビニルシナマート（ｃｉｎｎａｍａｔｅ ）
を例示することができる。
マー結合剤（ｂｌ）Ｌｔ、全体的に（１００％ン或は部
分的に重合可能のアシル基を含有するポリビニルアルコ
ール誘導体力）ら構成され、ポリマー結合剤組成分（ｂ
ｌ）中におけるこのポリビニルアー１３＝ ルフール誘導体部分は少くとも１重量％存在するべきで
ある。活版、凸版製造のため、光重合性凸版形成層Ｒの
ポリマー結合剤（ｂｌ）は、その全量に対し１０乃至４
０重量％の重合可能アシル基含有ポリビニルアルコール
誘導体と、９０乃至６０重量％の他のポリマー結合剤と
から構成されるのが特に好ましい。この他のポリマー結
合剤は、同様に水洗除去可能であること、即ち水溶性或
は少くとも水分散性であることが必要であり、また更に
上述のポリビニルアルコール誘導体に対し極めて親和性
の高いものでなければならない。ここで極めて高い親和
性というのは、これ等が感光性記録材料に使用するに適
する均一な混合物を調製し得ることを意味する。このよ
うないわゆる他のポリマー結合剤としては、変性されて
いないポリビニルアルコール、光重合性混合物調製のた
め米国特許４２７２６１１号明細書に記載されている如
きポリビニルアルコール誘導体、Ｎ−ビニルピロリドン
／ビニルアセタート共重合体の如きポリビニルピロリド
ンとＮ−ビニルピロリドンとの共重合体、セルローズ誘
導体、澱粉及び（或は）澱粉誘導体、アクリル酸共重合
体乃至ポリビニルシナマート（ｃｉｎｎａｍａｔｅ ）
を例示することができる。
光重合性のエチレン系不飽和低分子量化合物（ｂ２）と
しては、それ自体公知のモノマー及び（或は）オリゴツ
マ−（分子量５０００まで、ことに好ましくは３０００
までの）が挙げられるが、これ等は当該技術分野におい
て感光性記録材料用に慣用されて来たものであって、本
明細書冒頭に引用された諸文献に例示されている。この
光重合性低分子量化合物は、１個或は複数個のエチレン
系不飽和二重結合を有することができ、少くとも部分的
に、光重合性低分子量化合物の約１乃至４０重量％が２
個以上のエチレン系不飽和二重結合を有することが好ま
しい。本発明による感光性記録材料においては、凸版形
成層Ｒのポリマー結合剤は同様に光重合可能基を有する
から、結合剤組成分（ｂｌ）における重合可能アシル基
を有するポリビニルアルコール誘導体の一部分及び（或
は）このポリビニルアルコール誘導体のアシル化度が相
当して調整されるときは、光重合性凸版形成層Ｒにおい
てはただ１個のエチレン系二重結合を有する光重合性低
分子量化合物のみがもっばら使用される。光重合性のエ
チレン系不飽和低分子量化合物の種類及び量の選択は、
一方においては感光性記録材料を使用する意図、目的、
例えばこれにより形成される凸版の所望硬度により決定
され、他方においては光重合性凸版形成層Ｒに使用ぎれ
るポリマー結合剤とモノマーとの親和性並びに光重合性
凸版形成層Ｒが水で洗除可能、即ち水溶性であるか水分
散性でなければならないという要件により決定される。
しては、それ自体公知のモノマー及び（或は）オリゴツ
マ−（分子量５０００まで、ことに好ましくは３０００
までの）が挙げられるが、これ等は当該技術分野におい
て感光性記録材料用に慣用されて来たものであって、本
明細書冒頭に引用された諸文献に例示されている。この
光重合性低分子量化合物は、１個或は複数個のエチレン
系不飽和二重結合を有することができ、少くとも部分的
に、光重合性低分子量化合物の約１乃至４０重量％が２
個以上のエチレン系不飽和二重結合を有することが好ま
しい。本発明による感光性記録材料においては、凸版形
成層Ｒのポリマー結合剤は同様に光重合可能基を有する
から、結合剤組成分（ｂｌ）における重合可能アシル基
を有するポリビニルアルコール誘導体の一部分及び（或
は）このポリビニルアルコール誘導体のアシル化度が相
当して調整されるときは、光重合性凸版形成層Ｒにおい
てはただ１個のエチレン系二重結合を有する光重合性低
分子量化合物のみがもっばら使用される。光重合性のエ
チレン系不飽和低分子量化合物の種類及び量の選択は、
一方においては感光性記録材料を使用する意図、目的、
例えばこれにより形成される凸版の所望硬度により決定
され、他方においては光重合性凸版形成層Ｒに使用ぎれ
るポリマー結合剤とモノマーとの親和性並びに光重合性
凸版形成層Ｒが水で洗除可能、即ち水溶性であるか水分
散性でなければならないという要件により決定される。
これ等の光重合性エチレン系不飽和低分子量化合物は、
常圧において一般に１００°Ｃ以上の沸点を有する。
常圧において一般に１００°Ｃ以上の沸点を有する。
好ましい光重合性エチレン系不飽和低級分子量化合物と
しては、ヒドロキシル基、アミド基及びポリエチレング
リコール構造単位を有するものが挙げられる。極めて好
ましいのは一価及び多価の低分子量アルコールのモノ及
びポリアクリラート並びにモノ及びポリメタクリラート
であって、例えばβ−ヒドロキシエチルアクリラート、
β−ヒドロキシプロピルアクリラート、β−ヒドロキシ
エチルメチルアクリラートの如くアルキル基に１乃至８
個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル（メタンアク
リラート、エチレングリコールージ（メタ）アクリラー
ト、分子量５００程度までノホリエチレングリコール乃
至ポリプロピレングリコールのモノ及びジ（メタンアク
リラート、ブタンジオール−１，４−ジ（メタンアクリ
ラート、ｌ、１゜１−トリメチロールプロパン−トリ（
メタンアクリラート、グリセリン−ジー或は−トリー（
メタ）アクリラートを挙げることができる。更に低分子
量のウレタンアクリラートプレポリマー、例えばヒドロ
キシアルキル（メタンアクリラート（即ちβ−ヒドロキ
シエチル（メタンアクリラート、β−ヒドロキシプロピ
ル−（メタ）アクリラートの如き】、有機ジイソシアナ
ート（即ちヘキサメチレンジイソシアナート、トルイレ
ンジイソシアナート、イソフオロンジイソシアナートの
如き）並びに場合により連鎖成長剤として低分子量の脂
肪１７− 族ジオールを反応させて得られるプレポリマーも適当で
ある。
しては、ヒドロキシル基、アミド基及びポリエチレング
リコール構造単位を有するものが挙げられる。極めて好
ましいのは一価及び多価の低分子量アルコールのモノ及
びポリアクリラート並びにモノ及びポリメタクリラート
であって、例えばβ−ヒドロキシエチルアクリラート、
β−ヒドロキシプロピルアクリラート、β−ヒドロキシ
エチルメチルアクリラートの如くアルキル基に１乃至８
個の炭素原子を有するヒドロキシアルキル（メタンアク
リラート、エチレングリコールージ（メタ）アクリラー
ト、分子量５００程度までノホリエチレングリコール乃
至ポリプロピレングリコールのモノ及びジ（メタンアク
リラート、ブタンジオール−１，４−ジ（メタンアクリ
ラート、ｌ、１゜１−トリメチロールプロパン−トリ（
メタンアクリラート、グリセリン−ジー或は−トリー（
メタ）アクリラートを挙げることができる。更に低分子
量のウレタンアクリラートプレポリマー、例えばヒドロ
キシアルキル（メタンアクリラート（即ちβ−ヒドロキ
シエチル（メタンアクリラート、β−ヒドロキシプロピ
ル−（メタ）アクリラートの如き】、有機ジイソシアナ
ート（即ちヘキサメチレンジイソシアナート、トルイレ
ンジイソシアナート、イソフオロンジイソシアナートの
如き）並びに場合により連鎖成長剤として低分子量の脂
肪１７− 族ジオールを反応させて得られるプレポリマーも適当で
ある。
光重合性凸版形成層Ｒにおけるポリマー結合剤（ｂｌ）
と光重合性エチレン系不飽和低分子量化合物（ｂ２）と
の量割合は、広い範囲において変更し得るが、一般的に
は（ｂｌ）が１０乃至９０重量％（ｂ２）が９０乃至１
０重量％である。光重合性凸版形成層ＲＬｔ 、ポリマ
ー結合剤（ｂｌ）と光重合性エチレン系不飽和低分子量
化合物（ｂ２）との合計量に対しくｂｌ）を４０乃至７
０重量％、（ｂ２）を３０乃至６０重量％含有するのが
好ましい。
と光重合性エチレン系不飽和低分子量化合物（ｂ２）と
の量割合は、広い範囲において変更し得るが、一般的に
は（ｂｌ）が１０乃至９０重量％（ｂ２）が９０乃至１
０重量％である。光重合性凸版形成層ＲＬｔ 、ポリマ
ー結合剤（ｂｌ）と光重合性エチレン系不飽和低分子量
化合物（ｂ２）との合計量に対しくｂｌ）を４０乃至７
０重量％、（ｂ２）を３０乃至６０重量％含有するのが
好ましい。
光重合性凸版形成層Ｒは、更に化学作用性光線の照射下
に所望の重合乃至架橋を行わせるに必要な光重合開始剤
であって、当該層Ｒの組成分と親和性であり、この層中
に均斉に分散し得るものを□少くとも１種類、慣用の量
で、即ち当該層Ｒの組成分総量に対’ｔ、０．００１乃
至１０重量％、ことに０．１乃至５重量％含有する。こ
の光重合開始剤は、単体で或は混合物として使用するこ
とができ、その例トして、アシ白イン及びその誘導体、
即ちペン−１只〜 ジイン、例工はヘンジインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテルの如きベンゾインアルキルエーテ
ル、α−メチロールベンゾイン、例えばα−メチロール
ベンゾインエチルエーテルの如きそのエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−メチルベンゾインエチルエーテル
、及びビシナルジケトン及びその誘導体、即ちベンジル
、例えばペンシルジメチルケタール、ベンジルメチルエ
チルケタール、ベンジルメチルベンジルケタール、ベン
ジルエチルグリコールケタールの如きペンシルケタール
、及ヒ９，１０−アンスラキノン、ペンツアンスラキノ
ンの如き置換或は非置換多環キノン、並びに例えば***
特許出願公開２９０９９９２号及び同３１１４３４１号
各公報において光重合性混合物の添加物として記載され
ているタイプのアシルフォスフインオキシド化合物を挙
げることができる。アシルフォスフインオキシドの類に
属する好ましい開始剤として＋！、２．６−シメトキシ
ーベンゾイルージフエニルーフオスフインオキシド、２
，４．６− ）リメチルベンゾイルーフェニルフオスフ
ィン酸のエチルエステル、２，４．６− ）リメチルベ
ンゾイルーフェニルフオスフイン酸のナトリウム塩があ
る。
に所望の重合乃至架橋を行わせるに必要な光重合開始剤
であって、当該層Ｒの組成分と親和性であり、この層中
に均斉に分散し得るものを□少くとも１種類、慣用の量
で、即ち当該層Ｒの組成分総量に対’ｔ、０．００１乃
至１０重量％、ことに０．１乃至５重量％含有する。こ
の光重合開始剤は、単体で或は混合物として使用するこ
とができ、その例トして、アシ白イン及びその誘導体、
即ちペン−１只〜 ジイン、例工はヘンジインメチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテルの如きベンゾインアルキルエーテ
ル、α−メチロールベンゾイン、例えばα−メチロール
ベンゾインエチルエーテルの如きそのエーテル、α−メ
チルベンゾイン、α−メチルベンゾインエチルエーテル
、及びビシナルジケトン及びその誘導体、即ちベンジル
、例えばペンシルジメチルケタール、ベンジルメチルエ
チルケタール、ベンジルメチルベンジルケタール、ベン
ジルエチルグリコールケタールの如きペンシルケタール
、及ヒ９，１０−アンスラキノン、ペンツアンスラキノ
ンの如き置換或は非置換多環キノン、並びに例えば***
特許出願公開２９０９９９２号及び同３１１４３４１号
各公報において光重合性混合物の添加物として記載され
ているタイプのアシルフォスフインオキシド化合物を挙
げることができる。アシルフォスフインオキシドの類に
属する好ましい開始剤として＋！、２．６−シメトキシ
ーベンゾイルージフエニルーフオスフインオキシド、２
，４．６− ）リメチルベンゾイルーフェニルフオスフ
ィン酸のエチルエステル、２，４．６− ）リメチルベ
ンゾイルーフェニルフオスフイン酸のナトリウム塩があ
る。
光重合開始剤は、他の開始剤、賦活剤即ち本明細書の冒
頭に引用した諸文献に記載されている剤と合併して使用
することもできる。
頭に引用した諸文献に記載されている剤と合併して使用
することもできる。
光重合性凸版形成層Ｒは、上述した組成分のほかに他の
慣用の添加剤、助剤を慣用量含有するのがしばしば有利
である。例えば熱重合禁止剤（例エバヒドロキノン、ヒ
ドロキノン誘導体、ニトロフェノール、Ｎ−ニトロソシ
クロへキシルヒドロキシルアミンの塩ン、染料、顔料、
エキステンダー、可塑剤、希釈剤等である。これ等添加
剤、助剤の種類及び用量の選択により、光重合性凸版形
成層Ｒ乃至これから製造される活版、凸版の性質をそれ
ぞれの場合の使用目的及び条件に適応させることができ
る。上記添加剤、助剤それ自体は公知であり、慣用の量
において使用される。ただし、この用量は光重合性凸版
形成層Ｒの組成分全量に対し５０重量％、ことに３０重
量％を超えないのが適当である。
慣用の添加剤、助剤を慣用量含有するのがしばしば有利
である。例えば熱重合禁止剤（例エバヒドロキノン、ヒ
ドロキノン誘導体、ニトロフェノール、Ｎ−ニトロソシ
クロへキシルヒドロキシルアミンの塩ン、染料、顔料、
エキステンダー、可塑剤、希釈剤等である。これ等添加
剤、助剤の種類及び用量の選択により、光重合性凸版形
成層Ｒ乃至これから製造される活版、凸版の性質をそれ
ぞれの場合の使用目的及び条件に適応させることができ
る。上記添加剤、助剤それ自体は公知であり、慣用の量
において使用される。ただし、この用量は光重合性凸版
形成層Ｒの組成分全量に対し５０重量％、ことに３０重
量％を超えないのが適当である。
光重合性凸版形成層Ｒは担体層Ｔ上に直接当接ぎれ得る
が、使用される材料によってはこの光重合性凸版形成層
Ｒは一般的に約０．５乃至４０μｍ厚ぎの接着層により
担体層Ｔ上に強固に接着するのが適当であり或は必要で
ある。接着層として、市販の一成分系或は二成分系の接
着剤を使用することができる。その種類は担体層形成材
料と凸版形成層に使用される材料とにより決定される。
が、使用される材料によってはこの光重合性凸版形成層
Ｒは一般的に約０．５乃至４０μｍ厚ぎの接着層により
担体層Ｔ上に強固に接着するのが適当であり或は必要で
ある。接着層として、市販の一成分系或は二成分系の接
着剤を使用することができる。その種類は担体層形成材
料と凸版形成層に使用される材料とにより決定される。
特に好ましいものとして、***特許出願公開３０１５４
１９号公報において本願発明と同様の種類の感光性記録
材料用のものとして記載されているような接着層が推奨
される。
１９号公報において本願発明と同様の種類の感光性記録
材料用のものとして記載されているような接着層が推奨
される。
なお光重合成凸版形成層Ｒ上には約０．１乃至１０μｍ
の厚ぎの被覆層りを当接するのが好ましい。
の厚ぎの被覆層りを当接するのが好ましい。
露光された感光性記録材料を現像する際に洗除ぎれ、従
って水溶性であるべきこのような被覆層りは、少くとも
９５モル％程度の鹸化度と２乃至８ｍＰａ５ （２０°
Ｃにおける４重量％水溶液として測定〕の粘度とを有す
るポリビニルアルコールよす構成されていることが好ま
しい。このような種類のポ２１− リビニルアルコール被覆層を有する感光性記録材料の製
造方法は、例えば***特許出願公開３１２８９５０号公
報に記載されている。
って水溶性であるべきこのような被覆層りは、少くとも
９５モル％程度の鹸化度と２乃至８ｍＰａ５ （２０°
Ｃにおける４重量％水溶液として測定〕の粘度とを有す
るポリビニルアルコールよす構成されていることが好ま
しい。このような種類のポ２１− リビニルアルコール被覆層を有する感光性記録材料の製
造方法は、例えば***特許出願公開３１２８９５０号公
報に記載されている。
本発明による感光性記録材料の製造は、それ自体公知の
方法で各層を調製しこれ等を合体することにより行われ
る。例えば光重合性凸版形成層Ｒは、この層な形成する
組成分混合物溶液を担体層Ｔ上に注湯して形成する。ま
たこの層をプレス成形、押出し酸形成はカレンダーロー
ル圧延により形成し、適当な方法で担体層Ｔに接合する
こともできる。本発明による感光性記録材料の光重合性
凸版形成層Ｒは、一般に１０μｍ乃至７闘、ことに３０
０μ乃至１ ｖｔｍの厚さを有する。感光性記録材料製
造方法の更に詳細な点は、当該分野の技術者に公知であ
り、本明細書冒頭に引用した諸文献にも開示されている
。
方法で各層を調製しこれ等を合体することにより行われ
る。例えば光重合性凸版形成層Ｒは、この層な形成する
組成分混合物溶液を担体層Ｔ上に注湯して形成する。ま
たこの層をプレス成形、押出し酸形成はカレンダーロー
ル圧延により形成し、適当な方法で担体層Ｔに接合する
こともできる。本発明による感光性記録材料の光重合性
凸版形成層Ｒは、一般に１０μｍ乃至７闘、ことに３０
０μ乃至１ ｖｔｍの厚さを有する。感光性記録材料製
造方法の更に詳細な点は、当該分野の技術者に公知であ
り、本明細書冒頭に引用した諸文献にも開示されている
。
本発明による感光性記録材料は、それ自体公知の方法で
光重合性凸版形成層Ｒを画像形成のため露光し、これに
引続き非露光非架橋部分を除去し、殊に水により洗除す
ることにより、活版、凸版を製造するのに特に適してい
る。露光方法がどのようであっても、本発明による記録
材料露光のため慣用の種々の化学線光源、例えばＵＶ螢
光灯、超化学線性の高圧、中圧、低圧水鎖帯光灯、キセ
ノンインパルス灯、金属ハロゲニド灯、炭素アーク灯等
を使用することができる。放射される光の波長は、一般
的に２３０乃至４５０ｎｍ、好ましいのは３００乃至４
２０ ｎｍの範囲にあり、感光性凸版形成層Ｒに含有さ
れる光重合開始剤の自己吸収に対して補正同調される。
光重合性凸版形成層Ｒを画像形成のため露光し、これに
引続き非露光非架橋部分を除去し、殊に水により洗除す
ることにより、活版、凸版を製造するのに特に適してい
る。露光方法がどのようであっても、本発明による記録
材料露光のため慣用の種々の化学線光源、例えばＵＶ螢
光灯、超化学線性の高圧、中圧、低圧水鎖帯光灯、キセ
ノンインパルス灯、金属ハロゲニド灯、炭素アーク灯等
を使用することができる。放射される光の波長は、一般
的に２３０乃至４５０ｎｍ、好ましいのは３００乃至４
２０ ｎｍの範囲にあり、感光性凸版形成層Ｒに含有さ
れる光重合開始剤の自己吸収に対して補正同調される。
露光され光重合架橋された凸版層の改善された良好な耐
水性のため、本発明による記録材料は、水で洗除し現像
する場合の許容範囲が従来のこの種の版体にくらべて大
きく、従って活版、凸版を欠損することなく洗除時間を
延長し洗除条件を苛酷にすることができる。しっ）も従
来よりも鮮鋭な凸版構造をもたらす。洗除処理により形
成された活版、凸版は、慣用の方法で、場合により１２
０°Ｃまでの温度で乾燥される。多くの場合、活版、凸
版の強度を高めるため、引続き化学線性光線で後処理露
光することが好ましい。
水性のため、本発明による記録材料は、水で洗除し現像
する場合の許容範囲が従来のこの種の版体にくらべて大
きく、従って活版、凸版を欠損することなく洗除時間を
延長し洗除条件を苛酷にすることができる。しっ）も従
来よりも鮮鋭な凸版構造をもたらす。洗除処理により形
成された活版、凸版は、慣用の方法で、場合により１２
０°Ｃまでの温度で乾燥される。多くの場合、活版、凸
版の強度を高めるため、引続き化学線性光線で後処理露
光することが好ましい。
本発明による感光性記録材料で製造された活版、凸版は
、極めて高い耐水性を有し、従ってあらゆる使用目的に
対し格別の利点を有するのであって、このことは極めて
重要な意義を有する。即ち、この感光性記録材料により
、すぐれた利点を有するマ） ＩＪラックス体及び印刷
版体が製造される。このような凸版は、高温多湿の雰囲
気中においても高い貯蔵性と反覆使用性とを示す。
、極めて高い耐水性を有し、従ってあらゆる使用目的に
対し格別の利点を有するのであって、このことは極めて
重要な意義を有する。即ち、この感光性記録材料により
、すぐれた利点を有するマ） ＩＪラックス体及び印刷
版体が製造される。このような凸版は、高温多湿の雰囲
気中においても高い貯蔵性と反覆使用性とを示す。
以下の実施例により本発明２更に詳細に説明する。実施
例中に示される部及びパーセントは特別の注意書きがな
い限り重量に関するものである。
例中に示される部及びパーセントは特別の注意書きがな
い限り重量に関するものである。
容量部と重量部の関係はリットルとキログラムの対比で
ある。ポリビニルアルコールの分子量Ｇｌ、４重世％水
溶液として２０°Ｃにおいてへツブシー（Ｈ６ｐｐｌｅ
ｒ ）粘度計により測定された粘度から決定された。
ある。ポリビニルアルコールの分子量Ｇｌ、４重世％水
溶液として２０°Ｃにおいてへツブシー（Ｈ６ｐｐｌｅ
ｒ ）粘度計により測定された粘度から決定された。
実施例 １
（１，１）４０部の部分鹸化されたポリビニルアセター
ト（鹸化度８０モル％、平均分子量６００００ ） ｉ
６０部のアセトン中に入れ、これに１０部の無水メタク
リル酸を添加する。この不均一混合物を６０°Ｃで４０
時間攪拌した。これを濾過した所、得られたポリビニル
アルコール誘導体は２．５％の結合メタクリロイル基を
含有していた。
ト（鹸化度８０モル％、平均分子量６００００ ） ｉ
６０部のアセトン中に入れ、これに１０部の無水メタク
リル酸を添加する。この不均一混合物を６０°Ｃで４０
時間攪拌した。これを濾過した所、得られたポリビニル
アルコール誘導体は２．５％の結合メタクリロイル基を
含有していた。
（１，２］ ５０部の水と、（１，、１，）により製造
されたポリビニルアルコールと無水メタクリル酸との反
応生成物１０部と、部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸
化度８０モル％、平均分子量３００００ ） ４０部と
、β−ヒドロキシエチルメタクリラート４０部と、テト
ラエチレングリコールジメタクジラ−１６部と、ベンジ
ルジメチルケタール１．５部と、２．６−シーｔｅｒｔ
＊ブチルーｐ−クレゾール０．２部とから成る溶液を
調製した。これをポリウレタン接着剤を塗布したスチー
ル薄片（担体層Ｔ）上に注湯して約０．２酩厚さの層Ｒ
を形成し、乾燥した。
されたポリビニルアルコールと無水メタクリル酸との反
応生成物１０部と、部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸
化度８０モル％、平均分子量３００００ ） ４０部と
、β−ヒドロキシエチルメタクリラート４０部と、テト
ラエチレングリコールジメタクジラ−１６部と、ベンジ
ルジメチルケタール１．５部と、２．６−シーｔｅｒｔ
＊ブチルーｐ−クレゾール０．２部とから成る溶液を
調製した。これをポリウレタン接着剤を塗布したスチー
ル薄片（担体層Ｔ）上に注湯して約０．２酩厚さの層Ｒ
を形成し、乾燥した。
（１，３）上記（１，２）により製造された記録材料を
それ自体公知の方法で処理して凸版とした。即ち化学線
性光線の照射で層Ｒに画像を形成し、該層の非露光部分
を水で洗除し、得られた凸版を乾燥し、次いで再処理露
光した。得られた凸版は、２５２５− °Ｃにおいて８０％の相対湿度で数週間貯蔵した後にも
、なお正確な再現画像及び印刷能力を示した。
それ自体公知の方法で処理して凸版とした。即ち化学線
性光線の照射で層Ｒに画像を形成し、該層の非露光部分
を水で洗除し、得られた凸版を乾燥し、次いで再処理露
光した。得られた凸版は、２５２５− °Ｃにおいて８０％の相対湿度で数週間貯蔵した後にも
、なお正確な再現画像及び印刷能力を示した。
比較実験例 Ａ
実施例１の（１，１）により不均一相で製造されたポリ
ビニルアルコール誘導体の代りに、以下のようにして製
造されたポリビニルアルコール誘導体１０部を使用する
ほかは、実施例１と同様にして記録材料を調製した。
ビニルアルコール誘導体の代りに、以下のようにして製
造されたポリビニルアルコール誘導体１０部を使用する
ほかは、実施例１と同様にして記録材料を調製した。
即ち、２０部の部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸化度
８０モル％、平均分子量３００００ ）を８０部のジメ
チルスルフオキシドに溶解させ、これに５部の無水メタ
クリル酸を添加した。６０℃において１０時間反応ぎせ
た後、反応溶液をメチレンクロリド中に注入して反応生
成物を析出させ濾別した。
８０モル％、平均分子量３００００ ）を８０部のジメ
チルスルフオキシドに溶解させ、これに５部の無水メタ
クリル酸を添加した。６０℃において１０時間反応ぎせ
た後、反応溶液をメチレンクロリド中に注入して反応生
成物を析出させ濾別した。
このようにして得られたポリビニルアルコール誘導体を
もってしては、満足な露出性能を有する記録材料は得ら
れなかった。ことにこまかい或は細い線の凸版は形成困
難であり、ネガチブ画像の再現は極めて困難であった。
もってしては、満足な露出性能を有する記録材料は得ら
れなかった。ことにこまかい或は細い線の凸版は形成困
難であり、ネガチブ画像の再現は極めて困難であった。
実施例 ２
２６−
（２，１）５０部の部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸
化度８８モル％、平均分子量３００００ ）を４０部の
メチレンクロリド中に入れ、これに６０部の無水メタク
リルｒ１１を添加する。不均一な反応混合物を６０°Ｃ
において２０時間攪拌し、反応生成物を分離し乾燥した
。得られたポリビニルアルコール誘導体は１５％の結合
メタクリロイル基を含有していた。
化度８８モル％、平均分子量３００００ ）を４０部の
メチレンクロリド中に入れ、これに６０部の無水メタク
リルｒ１１を添加する。不均一な反応混合物を６０°Ｃ
において２０時間攪拌し、反応生成物を分離し乾燥した
。得られたポリビニルアルコール誘導体は１５％の結合
メタクリロイル基を含有していた。
（２，２） ５０部の水と、（２，１）により製造され
たポリビニルアルコール誘導体２０部と、部分鹸化ポリ
ビニルアセタート（鹸化度８０モル％、平均分子量３０
０００ ） １５部と、更に他の部分鹸化されたポリビ
ニルアセタート（鹸化度８８モル％、平均分子Ｎ ２５
０００ ） １５部と、β−ヒドロキシエチルメタクリ
ラート３５部と、ブタンジオール−１，４−ジメタクリ
ラード８部と、ペンシルジメチルケタール１．５部と、
２，６−シーｔｅｒｔ、ブチル−ｐ−クレゾール０．１
５部と、Ｎ−ニトロソ−シクロへキシルヒドロキシルア
ミン０．０５部とから成る溶液を調製し、これにより実
施例（１，２）に従って感光性記録材料を形成した。
たポリビニルアルコール誘導体２０部と、部分鹸化ポリ
ビニルアセタート（鹸化度８０モル％、平均分子量３０
０００ ） １５部と、更に他の部分鹸化されたポリビ
ニルアセタート（鹸化度８８モル％、平均分子Ｎ ２５
０００ ） １５部と、β−ヒドロキシエチルメタクリ
ラート３５部と、ブタンジオール−１，４−ジメタクリ
ラード８部と、ペンシルジメチルケタール１．５部と、
２，６−シーｔｅｒｔ、ブチル−ｐ−クレゾール０．１
５部と、Ｎ−ニトロソ−シクロへキシルヒドロキシルア
ミン０．０５部とから成る溶液を調製し、これにより実
施例（１，２）に従って感光性記録材料を形成した。
（２，３）この記録材料から、化学線性光線で画像露光
し、層Ｒの非露光部分を水で洗除し、乾燥して非常に高
い耐水性を有する凸版を形成した。このものはマトリッ
クス版体として極めて有利に使用される。
し、層Ｒの非露光部分を水で洗除し、乾燥して非常に高
い耐水性を有する凸版を形成した。このものはマトリッ
クス版体として極めて有利に使用される。
比較実験例 Ｂ
実施例２の（２，１）により製造されたポリビニルアル
コール誘導体の代りに、別の部分鹸化ポリビニルアセタ
ート（鹸化度８０モル％、平均分子量３００００ ）を
使用し、（２，２）におけるように処理した。（２，３
）と同様にして調製された凸版は、容易に変形する構造
のものであった。高湿雰囲気中の貯蔵により、マトリッ
クス版体として使用するためには、その不良の機械強度
は一層劣ったものとなる。
コール誘導体の代りに、別の部分鹸化ポリビニルアセタ
ート（鹸化度８０モル％、平均分子量３００００ ）を
使用し、（２，２）におけるように処理した。（２，３
）と同様にして調製された凸版は、容易に変形する構造
のものであった。高湿雰囲気中の貯蔵により、マトリッ
クス版体として使用するためには、その不良の機械強度
は一層劣ったものとなる。
実施例 ３
（３、１）部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸化度８８
モル％、平均分子量６００００ ） ２０部を、３０部
のアセトン中に入れ、これに１０部の無水メタクリル酸
を添加する。不均一反応混合物を６０°Ｃにおいて約４
０時間攪拌し、然る後ポリビニルアルコール誘導体を分
離した。このものは１０％の結合メタクリロイル基を含
有する。
モル％、平均分子量６００００ ） ２０部を、３０部
のアセトン中に入れ、これに１０部の無水メタクリル酸
を添加する。不均一反応混合物を６０°Ｃにおいて約４
０時間攪拌し、然る後ポリビニルアルコール誘導体を分
離した。このものは１０％の結合メタクリロイル基を含
有する。
（３，２） ５０部の水と、（３，１）により製造され
たポリビニルアルコール誘導体５０部と、β−ヒドロキ
シエチルメタクリラート４０部と、トリメチロールプロ
パントリアクリレート４部と、ペンシルジメチルケター
ル１．５部と、２，６−シーｔｅｒｔ、ブチル−ｐ−ク
レゾール０．５部とから成る溶液を調製した。この溶液
を接着剤をコーティングしたポリエステル箔上に注湯し
、これを乾燥した。
たポリビニルアルコール誘導体５０部と、β−ヒドロキ
シエチルメタクリラート４０部と、トリメチロールプロ
パントリアクリレート４部と、ペンシルジメチルケター
ル１．５部と、２，６−シーｔｅｒｔ、ブチル−ｐ−ク
レゾール０．５部とから成る溶液を調製した。この溶液
を接着剤をコーティングしたポリエステル箔上に注湯し
、これを乾燥した。
（３，３）このようにして得られた感光性記録材料を化
学線性光線により露光し、然る後２ ｃｍ Ｘ ２ ｃ
ｍの小片に切断した。この小片を９０°Ｃにおいて約２
時間水で抽出処理に附した。処理後の重量損失は８％で
あって、露光されたこの試料は完全に欠損かなく使用可
能であった。
学線性光線により露光し、然る後２ ｃｍ Ｘ ２ ｃ
ｍの小片に切断した。この小片を９０°Ｃにおいて約２
時間水で抽出処理に附した。処理後の重量損失は８％で
あって、露光されたこの試料は完全に欠損かなく使用可
能であった。
（３，４）上掲の（３，２）により製造された感光性記
録材料を化学線性光線で露光して画像形成を行い、水で
現像し、乾燥した。細い線にあってぎえも鮮２９− 鋭な輪郭の凸版が得られ、これは高度の貯蔵性及び反覆
使用性を示した。
録材料を化学線性光線で露光して画像形成を行い、水で
現像し、乾燥した。細い線にあってぎえも鮮２９− 鋭な輪郭の凸版が得られ、これは高度の貯蔵性及び反覆
使用性を示した。
比較実験例
実施例３におけると同様の操作を行ったが、ポリビニル
アルコールと無水メタクリル酸との反応を行わず、その
代りに部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸化度８８％、
平均分子量６００００ ）を使用した。実施例３と同様
に製造された露光処理済試料の水による抽出の結果５０
％の重量損失を示した。
アルコールと無水メタクリル酸との反応を行わず、その
代りに部分鹸化ポリビニルアセタート（鹸化度８８％、
平均分子量６００００ ）を使用した。実施例３と同様
に製造された露光処理済試料の水による抽出の結果５０
％の重量損失を示した。
この試料片は著しい欠損を示しもはや使用不可能であっ
た。画像形成露光により得られた凸版は、明らかに劣悪
な使用技術的特性を示した。
た。画像形成露光により得られた凸版は、明らかに劣悪
な使用技術的特性を示した。
特許出願人 パスフ ァクチェンゲゼルシャフト
代理人弁理士 １） 代 盗 治３０−
第１頁の続き
０発 明 者 ギュンター・ヴアルビリヒドイツ連邦共
和国６７０７シフアー シユタツト・アイヒエンドルフ ァレ−１５ （ｌ 明 者 マンフレート・シュルガードイツ連邦
共和国６９２０ズインス ハイム・ホルダーラントシュト ラーセ２ ３３５−
和国６７０７シフアー シユタツト・アイヒエンドルフ ァレ−１５ （ｌ 明 者 マンフレート・シュルガードイツ連邦
共和国６９２０ズインス ハイム・ホルダーラントシュト ラーセ２ ３３５−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （］）（ａ）寸法安定性のある担体層Ｔと、（ｂｌ）重
合可能のポリビニルアルコール誘導体を含有するポリマ
ー結合剤、（ｂ２）このポリマー結合剤に対し親和性を
有し光重合可能の少くとも１種類のエチレン系不飽和低
分子量化合物、（ｂ３）少くとも１種類の光重合開始剤
並びに場合により更に（ｂ４）他の慣用の添加剤及び（
或は）助剤の混合物から成り、上記担体層と直接的或は
間接的に強固に接着されている（ｂ）光重合可能、水性
現像可能の凸版形成層Ｒとを有する、活版及び凸版の製
造に適する感光性記録材料であって、上記の光重合可能
凸版形成層Ｒが（ｂ１］ポリマー結合剤として、このポ
リマー結合剤の全量に対し少くとも１重量％のポリビニ
ルアルコール誘導体を含有しており、ラジカル重合可能
基を有するアシル化剤を所望ア １− シル化度の少くとも２モル倍に相当する過剰量使用して
、このアシル化剤とポリビニルアルコールとを中性分散
媒中で不均一相において反応させることにより上記ポリ
ビニルアルコール誘導体を形成含有させることを特徴と
する感光性記録材料。 （２、特許請求の範囲（１）に記載された感光性記録材
料において、光重合可能凸版形成層Ｒにポリマー結合剤
として含有されるポリビニルアルコール誘導体が、ラジ
カル重合可能基を有するアシル残基をこの誘導体全量に
対し１乃至３０重量％含有することを特徴とする感光性
記録材料。 （３）特許請求の範囲（１）乃至（２）に記載された感
光性記録材料において、光重合可能凸版形成層Ｒにポリ
マー結合剤として含有されるポリビニルアルコール誘導
体を、ポリビニルアルコールとアシル化剤としての無水
アクリル酸及び（或は）無水メタクリル酸との反応によ
り形成含有させることを特徴とする感光性記録材料。 （４）特許請求の範囲（１）乃至（３）の何れ力）に記
載された感光性記録材料において、光重合可能凸版形成
−９＝ 層Ｒカ（ｂｌ）ポリマー結合剤として、ラジカル重合可
能基を有するアシル残基を含有するポリビニルアルコー
ル誘導体をポリマー結合剤全量に対し１０乃至４０重量
％含有し、更に上記ポリビニルアルコール誘導体に対し
親和性を有する水溶性或は水分散性の他のポリマー結合
剤をポリマー結合剤全量に対し９０乃至６０重量％含有
することを特徴とする感光性記録材料。 （５）担体層Ｔと、これに強固に接着された水性現像可
能、光重合可能の凸版形成層Ｒと力）ら成る感光性記録
材料を使用し、この光重合可能凸版形成層Ｒを化学作用
性光線で露光し、光重合可能凸版形成層Ｒの非露光非架
橋部分を水で洗除し、引続いて乾燥し、場合により得ら
れた凸版を再露光して活版及び凸版を製造する方法にお
いて、特許請求の範囲（１）乃至（４）の何れかによる
感光性記録材料を使用することを特徴とする製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE31449050 | 1981-11-12 | ||
| DE19813144905 DE3144905A1 (de) | 1981-11-12 | 1981-11-12 | Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignetes lichtempfindliches auszeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von druck- und reliefformen mittels dieses aufzeichnungsmaterials |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5888742A true JPS5888742A (ja) | 1983-05-26 |
| JPH0419540B2 JPH0419540B2 (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=6146198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57197871A Granted JPS5888742A (ja) | 1981-11-12 | 1982-11-12 | 活版及び凸版の製造に適する感光性材料及びこれを使用して活版及び凸版を製造する方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4517277A (ja) |
| EP (1) | EP0079514B1 (ja) |
| JP (1) | JPS5888742A (ja) |
| DE (2) | DE3144905A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6429836A (en) * | 1987-06-13 | 1989-01-31 | Basf Ag | Heating type keep plate cross linkable by photopolymerization |
| JPS6428630A (en) * | 1987-06-13 | 1989-01-31 | Basf Ag | Resin composition cross linkable by photopolymerization |
| JP2009262526A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Fujifilm Corp | レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法 |
| JP2020507809A (ja) * | 2017-01-31 | 2020-03-12 | フリント グループ ジャーマニー ゲーエムベーハー | 低官能化され部分ケン化されたポリ酢酸ビニルを含む放射線硬化性混合物 |
Families Citing this family (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3322994A1 (de) * | 1983-06-25 | 1985-01-10 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches, wasserentwickelbares aufzeichnungsmaterial fuer die herstellung von druck-, reliefformen oder resistmustern |
| DE3322993A1 (de) * | 1983-06-25 | 1985-01-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur acylierung von polyvinylalkoholen und so acylierte produkte enthaltende photopolymerisierbare und/oder photovernetzbare mischungen |
| US4564580A (en) * | 1983-06-30 | 1986-01-14 | Kogyo Gijutsuin | Photosensitive resin composition |
| US4634655A (en) * | 1984-06-04 | 1987-01-06 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Method of forming corrosion resistant film on the surface of substrate composed of copper or copper alloy |
| DE3534476A1 (de) * | 1985-09-27 | 1987-04-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von carbonsaeureestern hydroxygruppenhaltiger polymerisate |
| DE3541162A1 (de) * | 1985-11-21 | 1987-05-27 | Basf Ag | Photoempfindliche aufzeichnungsmaterialien mit elastomeren pfropfcopolymerisat-bindemitteln sowie reliefformen daraus |
| DE3542368A1 (de) * | 1985-11-30 | 1987-06-04 | Basf Ag | Polyvinylalkohole mit olefinisch ungesaettigten seitengruppen sowie deren herstellung und verwendung, insbesondere in offsetdruckplatten |
| DE3843505A1 (de) * | 1988-12-23 | 1990-07-05 | Hoechst Ag | Carbonsaeureester von hydroxylgruppenhaltigen pfropfpolymerisaten und verfahren zu ihrer herstellung |
| DE3924811A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| DE3928825A1 (de) * | 1989-08-31 | 1991-03-07 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
| US5013632A (en) * | 1989-09-29 | 1991-05-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photopolymer film for holography |
| DE4004054C2 (de) * | 1990-02-10 | 1994-08-18 | Kissel & Wolf Gmbh | Lagerstabile, UV-strahlungsempfindliche wasserentwickelbare Emulsion zur Herstellung von Siebdruckplatten |
| EP0670521A1 (en) * | 1994-02-28 | 1995-09-06 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive resin composition and process for producing the same |
| US5683837A (en) * | 1994-11-18 | 1997-11-04 | Napp Systems, Inc. | Water-soluble compositions for preparation of durable, high-resolution printing plates |
| WO1996018133A1 (en) * | 1994-12-06 | 1996-06-13 | Napp Systems, Inc. | High-resolution letterpress printing plates and water-soluble photopolymerizable compositions comprising a polyvinylalcohol derivative useful therefor |
| DE19536806A1 (de) * | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Tiefdruckplatten |
| EP0778292A3 (en) * | 1995-12-04 | 1998-11-04 | Bayer Corporation | Method for the production of anhydride modified polyvinyl acetals useful for photosensitive compositions |
| DE19824546A1 (de) * | 1998-06-03 | 1999-12-09 | Basf Drucksysteme Gmbh | Herstellung vernetzbarer wasserlöslicher oder wasserdispergierbarer Zusammensetzungen und daraus erhältlicher strahlungsempfindlicher Gemische |
| DE19838315A1 (de) * | 1998-08-24 | 2000-03-02 | Basf Drucksysteme Gmbh | Material für die Gravur-Aufzeichnung mittels kohärenter elektromagnetischer Strahlung und Druckplatte damit |
| JP4248137B2 (ja) * | 2000-11-22 | 2009-04-02 | 富士フイルム株式会社 | ネガ型感光性平版印刷版 |
| EP1783552B1 (de) | 2005-11-03 | 2015-10-07 | Kissel & Wolf GmbH | Photopolymerisierbare Zusammensetzung zur Herstellung von Druckformen |
| US7910768B2 (en) * | 2006-05-17 | 2011-03-22 | American Dye Source, Inc. | Materials for lithographic plates coatings, lithographic plates and coatings containing same, methods of preparation and use |
| EP2154186B1 (en) * | 2007-05-21 | 2019-09-18 | Kuraray Co., Ltd. | Crosslinkable polyvinyl acetal porous powder, method for producing the same, and use of the same |
| WO2019072701A1 (de) | 2017-10-10 | 2019-04-18 | Flint Group Germany Gmbh | Reliefvorläufer mit geringem cupping und fluting |
| TWI806932B (zh) | 2017-11-29 | 2023-07-01 | 德商可樂麗歐洲有限公司 | 用於製造官能化聚乙酸乙烯酯之方法 |
| EP4027200A1 (de) | 2017-12-08 | 2022-07-13 | Flint Group Germany GmbH | Verfahren zur kennzeichnung eines reliefvorläufers zur herstellung einer reliefstruktur |
| NL2020109B1 (en) | 2017-12-18 | 2019-06-25 | Xeikon Prepress Nv | Method for fixing and treating a flexible plate on a drum, and flexible plate for use therein |
| US11953834B2 (en) | 2018-04-26 | 2024-04-09 | Xsys Prepress N.V. | Apparatus and method for treating and transporting a relief printing plate precursor |
| EP3629089A1 (en) | 2018-09-26 | 2020-04-01 | Flint Group Germany GmbH | Method for thermally developing relief precursors |
| EP3941951A1 (en) * | 2019-03-18 | 2022-01-26 | UPM-Kymmene Corporation | A method for manufacturing thermoplastic poly(vinyl alcohol) derivative in a melt state reaction and products thereof |
| EP3835869A1 (de) | 2019-12-12 | 2021-06-16 | Flint Group Germany GmbH | Fotopolymerisierbarer reliefvorläufer mit einstellbaren oberflächeneigenschaften |
| NL2027002B1 (en) | 2020-11-27 | 2022-07-04 | Flint Group Germany Gmbh | Photosensitive composition |
| NL2027003B1 (en) | 2020-11-27 | 2022-07-04 | Flint Group Germany Gmbh | Photosensitive composition |
| NL2028207B1 (en) | 2021-05-12 | 2022-11-30 | Flint Group Germany Gmbh | A relief precursor with vegetable oils as plasticizers suitable for printing plates |
| NL2028208B1 (en) | 2021-05-12 | 2022-11-30 | Flint Group Germany Gmbh | Flexographic printing element precursor with high melt flow index |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495923A (ja) * | 1972-05-11 | 1974-01-19 | ||
| JPS5045087A (ja) * | 1973-08-28 | 1975-04-22 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2929710A (en) * | 1954-10-08 | 1960-03-22 | Du Pont | Polyvinyl acetal with terminal vinylidene groups |
| NL220139A (ja) * | 1956-08-27 | |||
| GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
| GB1152097A (en) * | 1966-09-01 | 1969-05-14 | Wolfen Filmfab Veb | Photopolymerisable Lacquer |
| GB1233883A (ja) * | 1968-01-22 | 1971-06-03 | ||
| JPS503041B1 (ja) * | 1970-03-27 | 1975-01-31 | ||
| US4042386A (en) * | 1976-06-07 | 1977-08-16 | Napp Systems | Photosensitive compositions |
| DE2846647A1 (de) * | 1978-10-26 | 1980-05-08 | Basf Ag | Photopolymerisierbare mischung fuer die herstellung von druck- und reliefformen |
| DE3015419A1 (de) * | 1980-04-22 | 1981-10-29 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Zur herstellung von druck- und reliefformen geeignete mehrschichtelemente |
-
1981
- 1981-11-12 DE DE19813144905 patent/DE3144905A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-10-29 US US06/437,699 patent/US4517277A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-11-02 DE DE8282110074T patent/DE3270790D1/de not_active Expired
- 1982-11-02 EP EP82110074A patent/EP0079514B1/de not_active Expired
- 1982-11-12 JP JP57197871A patent/JPS5888742A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS495923A (ja) * | 1972-05-11 | 1974-01-19 | ||
| JPS5045087A (ja) * | 1973-08-28 | 1975-04-22 |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6429836A (en) * | 1987-06-13 | 1989-01-31 | Basf Ag | Heating type keep plate cross linkable by photopolymerization |
| JPS6428630A (en) * | 1987-06-13 | 1989-01-31 | Basf Ag | Resin composition cross linkable by photopolymerization |
| JP2009262526A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-11-12 | Fujifilm Corp | レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版及びレリーフ印刷版の製造方法 |
| JP2020507809A (ja) * | 2017-01-31 | 2020-03-12 | フリント グループ ジャーマニー ゲーエムベーハー | 低官能化され部分ケン化されたポリ酢酸ビニルを含む放射線硬化性混合物 |
| US11914293B2 (en) | 2017-01-31 | 2024-02-27 | Flint Group Germany Gmbh | Radiatioin-curable mixture containing low-functionalised, partially saponified polyvinyl acetate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0079514A2 (de) | 1983-05-25 |
| JPH0419540B2 (ja) | 1992-03-30 |
| US4517277A (en) | 1985-05-14 |
| EP0079514B1 (de) | 1986-04-23 |
| EP0079514A3 (en) | 1983-06-22 |
| DE3270790D1 (en) | 1986-05-28 |
| DE3144905A1 (de) | 1983-05-19 |
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