JPS5885246A - ビ−ムインデツクス方式カラ−陰極線管の螢光面形成法 - Google Patents
ビ−ムインデツクス方式カラ−陰極線管の螢光面形成法Info
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- JPS5885246A JPS5885246A JP18111281A JP18111281A JPS5885246A JP S5885246 A JPS5885246 A JP S5885246A JP 18111281 A JP18111281 A JP 18111281A JP 18111281 A JP18111281 A JP 18111281A JP S5885246 A JPS5885246 A JP S5885246A
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- phosphor
- panel
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- exposure
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
- H01J9/2272—Devices for carrying out the processes, e.g. light houses
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光インデックス信号を放射するインデックス螢
光体ストライプ（以後インデックスストライプとよぶ）
を色螢光体ストライプと同一面に配列したビームインデ
ックス方式カラー陰極線管（以後インデックス管とよぶ
）の螢光面を、パネルへのパルプ外前方からの露光によ
って、容易に、かつ高精ｆＫ形成する方法に関する。
光体ストライプ（以後インデックスストライプとよぶ）
を色螢光体ストライプと同一面に配列したビームインデ
ックス方式カラー陰極線管（以後インデックス管とよぶ
）の螢光面を、パネルへのパルプ外前方からの露光によ
って、容易に、かつ高精ｆＫ形成する方法に関する。
第１図は従来公知の通常のインデックス管の平面要部断
面とその付属回路を示し、１１はパルプのパネル、１ｂ
はパルプのファンネル、１Ｃはパネルとファンネルな溶
着するフリットガラス、２Ｒ，２Ｇ、２Ｂはそれぞれ赤
、緑、青の色螢光体ストライプ、３は黒鉛等の非発光愉
質からなるガートバンド、４は各色螢光体ストライプ群
の配列に対し所定の関係位置に配置されたインデックス
ストライプ、５はアルイニクムよりなるメタルバック展
、６は電子ビームな射出する電子銃、７は電子ビームを
偏向させ螢光面を走査させる偏向ヨーク、８はファンネ
ルの一部に設けられた採光窓を通してインデックススト
ライプが電子ビームに照射された時に放射する近紫外光
等よりなる光インデックス信号を受光して電気信号に変
換する受光器、９はインデックス信号処理回路、１０は
インデックス信号処１回路からのビーム位置信号に応じ
て電子銃に入力する色信号を切換え螢光面上の該当色螢
光体ストライプを照射する電子ビーム強度を正しく制御
する色同期回路である。しかし受光器８に感度の良い電
子増倍管を用いようとすると、小形陰極線管の場合には
受光器の大きさが過大となり受儂系全体の配置が困難と
なる。
面とその付属回路を示し、１１はパルプのパネル、１ｂ
はパルプのファンネル、１Ｃはパネルとファンネルな溶
着するフリットガラス、２Ｒ，２Ｇ、２Ｂはそれぞれ赤
、緑、青の色螢光体ストライプ、３は黒鉛等の非発光愉
質からなるガートバンド、４は各色螢光体ストライプ群
の配列に対し所定の関係位置に配置されたインデックス
ストライプ、５はアルイニクムよりなるメタルバック展
、６は電子ビームな射出する電子銃、７は電子ビームを
偏向させ螢光面を走査させる偏向ヨーク、８はファンネ
ルの一部に設けられた採光窓を通してインデックススト
ライプが電子ビームに照射された時に放射する近紫外光
等よりなる光インデックス信号を受光して電気信号に変
換する受光器、９はインデックス信号処理回路、１０は
インデックス信号処１回路からのビーム位置信号に応じ
て電子銃に入力する色信号を切換え螢光面上の該当色螢
光体ストライプを照射する電子ビーム強度を正しく制御
する色同期回路である。しかし受光器８に感度の良い電
子増倍管を用いようとすると、小形陰極線管の場合には
受光器の大きさが過大となり受儂系全体の配置が困難と
なる。
メタルバック膜５形成後にインデックスストライプ４を
形成しなければならないか、メタルバック膜は機械的強
度や化学的耐蝕性が小さいので、まずメタルバック膜に
保膜用アクリル樹脂薄膜な被着させてからインデックス
ストライプを形成しなければならず、プロセスが複雑と
なる。またメタルバック膜はほとんど透光性がないので
、インデックスストライプを奥光法によって形成するた
めＫは電子銃側に光源を配置した正面露光法を用いなけ
ればならない。これはパネル１ａがファンネル１ｂと分
離している状態で螢光面を形成させ、その後７リツ上ガ
ラス１ｃで両者を溶着しなければならないことを意味し
、やはりプロセスが複雑となり、高原価の原因となる。
形成しなければならないか、メタルバック膜は機械的強
度や化学的耐蝕性が小さいので、まずメタルバック膜に
保膜用アクリル樹脂薄膜な被着させてからインデックス
ストライプを形成しなければならず、プロセスが複雑と
なる。またメタルバック膜はほとんど透光性がないので
、インデックスストライプを奥光法によって形成するた
めＫは電子銃側に光源を配置した正面露光法を用いなけ
ればならない。これはパネル１ａがファンネル１ｂと分
離している状態で螢光面を形成させ、その後７リツ上ガ
ラス１ｃで両者を溶着しなければならないことを意味し
、やはりプロセスが複雑となり、高原価の原因となる。
−１小形インデックス管たとえばカラービデオカメラの
ビ＝−−ファインダ管などでは、既述の如く第１図に示
す様な７アンネル外側位置に受光器８として比較的大形
な電子増倍管などを配置しようとすると受儂系全体の配
置が非常に困難となる。ビューファインダ管の場合には
、画像拡大用のレンズをパネル前面に配置するので１パ
ネルとレンズ関に受光器を配置すれば一種のデッドスペ
ースの有効活用法にもなり、また、光インデックス信号
をパネルのパルプ外前号に送出するためにインデックス
ストライプな色螢光体ストライプと共にパネル内表面に
同一面に形成することは、ガートバンドの特定のものを
インデックスストライプに置換するとか、特定色螢光体
にインデックス螢光体を混合するなどすれば容易に実現
できる。しかもインデックスストライプも色螢光体スト
ライプもパネル内面に直接形成させることになれば一パ
ネルカラスは光を透過するから、感光性バインダと螢光
体とを混和してパネル内面に塗布しておいてパネルのパ
ルプ外前号に配置した光源から所望部分を無光して感光
固化させる背面露光法も採用できることとなる。元来イ
ンデックス管では螢光面と固定対をなすシャドウマスク
は存在しないのであるから、背面奥光法が利用できるこ
とになれば、あらかじめパネルと７アンネルとをパルプ
製造工程で一体に溶着した安価な白黒管用パルプ利用の
可能性が生じてくる。
ビ＝−−ファインダ管などでは、既述の如く第１図に示
す様な７アンネル外側位置に受光器８として比較的大形
な電子増倍管などを配置しようとすると受儂系全体の配
置が非常に困難となる。ビューファインダ管の場合には
、画像拡大用のレンズをパネル前面に配置するので１パ
ネルとレンズ関に受光器を配置すれば一種のデッドスペ
ースの有効活用法にもなり、また、光インデックス信号
をパネルのパルプ外前号に送出するためにインデックス
ストライプな色螢光体ストライプと共にパネル内表面に
同一面に形成することは、ガートバンドの特定のものを
インデックスストライプに置換するとか、特定色螢光体
にインデックス螢光体を混合するなどすれば容易に実現
できる。しかもインデックスストライプも色螢光体スト
ライプもパネル内面に直接形成させることになれば一パ
ネルカラスは光を透過するから、感光性バインダと螢光
体とを混和してパネル内面に塗布しておいてパネルのパ
ルプ外前号に配置した光源から所望部分を無光して感光
固化させる背面露光法も採用できることとなる。元来イ
ンデックス管では螢光面と固定対をなすシャドウマスク
は存在しないのであるから、背面奥光法が利用できるこ
とになれば、あらかじめパネルと７アンネルとをパルプ
製造工程で一体に溶着した安価な白黒管用パルプ利用の
可能性が生じてくる。
第２図１、上記の様なパネルのパルプ外前方に光インデ
ックス信号受光器８を配置したインデックス管の平面要
部断面とその付属回路な示し、図中４０は色螢光体スト
ライプと同一面に配列されたインデックスストライプで
、その他の符号は第１［Ｆ］の場合と同様である。この
様なインデックス管は上述の如くパネルとファンネルと
をあらかじめ溶着したパルプ（一体化パルプと以後路°
称）で製゛作できることは明らかである。
ックス信号受光器８を配置したインデックス管の平面要
部断面とその付属回路な示し、図中４０は色螢光体スト
ライプと同一面に配列されたインデックスストライプで
、その他の符号は第１［Ｆ］の場合と同様である。この
様なインデックス管は上述の如くパネルとファンネルと
をあらかじめ溶着したパルプ（一体化パルプと以後路°
称）で製゛作できることは明らかである。
第５５１＋は一体化バルブに背面蕗光法により螢光面を
形成する従来の方法を説明する図である。
形成する従来の方法を説明する図である。
第３図１ｍｌ Ｋ示す如くパネル１ａの外面近くに露光
パターン１１を配置し、あらかじめパネル１鳳内面に例
えば赤色螢光体と感光性バインダとの混合物を含むスラ
リーを塗布乾燥しておいて、露光パターン１１とパネル
１ａを透過して１背面露光したのち水洗現像すれば、赤
色螢光体ストライプ２Ｒが得られる。パネルガラスを透
過した光で感光性バインダを固化させること以外は、現
在シャドウマスク方式管製造に広く用いられている正面
露光法同様である。つぎＫｍ光パターン１１を第ｓＦＩ
！Ｊ中で左方へ水平に所定距離だけ移動させた位置で露
光してガードパント３を形成させる。同様和して、緑お
よび青の色螢光体ストライプ２Ｇ、２Ｂを形成させたの
ち青色螢光体ストライプ２Ｂと赤色螢光体スト２イア’
２Ｒの中間にガートバンドの（ＩＩｃインチツク“スス
ドライブ４ｏを形成させた状態を第３■Ｔｂｌに示す。
パターン１１を配置し、あらかじめパネル１鳳内面に例
えば赤色螢光体と感光性バインダとの混合物を含むスラ
リーを塗布乾燥しておいて、露光パターン１１とパネル
１ａを透過して１背面露光したのち水洗現像すれば、赤
色螢光体ストライプ２Ｒが得られる。パネルガラスを透
過した光で感光性バインダを固化させること以外は、現
在シャドウマスク方式管製造に広く用いられている正面
露光法同様である。つぎＫｍ光パターン１１を第ｓＦＩ
！Ｊ中で左方へ水平に所定距離だけ移動させた位置で露
光してガードパント３を形成させる。同様和して、緑お
よび青の色螢光体ストライプ２Ｇ、２Ｂを形成させたの
ち青色螢光体ストライプ２Ｂと赤色螢光体スト２イア’
２Ｒの中間にガートバンドの（ＩＩｃインチツク“スス
ドライブ４ｏを形成させた状態を第３■Ｔｂｌに示す。
しかし上記従来の背面露光による螢光面形成法には下記
の様な問題がある。すなわち最初の露光作業後パルプを
無光装置から取外し水洗現像したのちガートバンド用ス
ラリーを塗布、乾燥して露光装置に再装着して第２回露
光を行うというような工程を繰返して行うことＫなるが
無光装置からパルプをいったん取外してから、次の露光
作業のためパルプを再装着する際、露光装置とパルプの
相対位置に微小な位置ずれが生じてしまう。この位置ず
れがストライプの方向に平行な場合には問題ないが、ス
トライプに直角な方向にも位置ずれ（の成分）が生ずる
のは当然でアシ、ストライプの位置がストライプに直角
な方向に狂いを生じていれば、螢光体ストライプ幅が所
期値と異なったものとなったりして直ち忙画質に影響す
る。特に小形管で螢光体ストライプ幅を小さく例えば３
０Ｉ１ｍとした場合、露光パターン１１の移動はマイク
ロメータ等によｐｓＯ＊２ｓｒｎ程度に制御できても１
前記バルブの取外し、再装置の際の位置ずれは、ガラス
パルプの外形精度などの関係上、１０ｎｍ程度に抑える
のが精々であり、１０μｍの位置ずれＫより螢光体スト
ライプ幅には所期値の１１５もの狂いが生じてしまうこ
とになる。このため前記従来法で高品位な螢光面を作ろ
うとすると、パルプを露光装置に再装着する都度、パル
プ（の既設ストライプ）と無光パターン１１とを極めて
高精度に位置合せするための煩雑な調整作業が必要とな
るという問題があった。
の様な問題がある。すなわち最初の露光作業後パルプを
無光装置から取外し水洗現像したのちガートバンド用ス
ラリーを塗布、乾燥して露光装置に再装着して第２回露
光を行うというような工程を繰返して行うことＫなるが
無光装置からパルプをいったん取外してから、次の露光
作業のためパルプを再装着する際、露光装置とパルプの
相対位置に微小な位置ずれが生じてしまう。この位置ず
れがストライプの方向に平行な場合には問題ないが、ス
トライプに直角な方向にも位置ずれ（の成分）が生ずる
のは当然でアシ、ストライプの位置がストライプに直角
な方向に狂いを生じていれば、螢光体ストライプ幅が所
期値と異なったものとなったりして直ち忙画質に影響す
る。特に小形管で螢光体ストライプ幅を小さく例えば３
０Ｉ１ｍとした場合、露光パターン１１の移動はマイク
ロメータ等によｐｓＯ＊２ｓｒｎ程度に制御できても１
前記バルブの取外し、再装置の際の位置ずれは、ガラス
パルプの外形精度などの関係上、１０ｎｍ程度に抑える
のが精々であり、１０μｍの位置ずれＫより螢光体スト
ライプ幅には所期値の１１５もの狂いが生じてしまうこ
とになる。このため前記従来法で高品位な螢光面を作ろ
うとすると、パルプを露光装置に再装着する都度、パル
プ（の既設ストライプ）と無光パターン１１とを極めて
高精度に位置合せするための煩雑な調整作業が必要とな
るという問題があった。
本発明の目的扛上記問題がなく、一体化パルプに背面露
光法により容易に高品位螢光面を形成できる方法を提供
することにある。
光法により容易に高品位螢光面を形成できる方法を提供
することにある。
上記目的を達成するために本発明においてはまず一体化
バルブのパネルの外表面に不透光膜たとえばアルミニウ
ム蒸着膜を付着させ、つぎにホトリングラフ法によシ、
マスタ・マスクのストライプ・パターン対応個所の不透
光膜を除去して、パネルガラス外表面に固着した、螢光
面形成作業用の露光マスクを作畿し、上記従来法で無光
パターン１１を移動させていた代りＫ。
バルブのパネルの外表面に不透光膜たとえばアルミニウ
ム蒸着膜を付着させ、つぎにホトリングラフ法によシ、
マスタ・マスクのストライプ・パターン対応個所の不透
光膜を除去して、パネルガラス外表面に固着した、螢光
面形成作業用の露光マスクを作畿し、上記従来法で無光
パターン１１を移動させていた代りＫ。
螢光体ストライプを感光固化して形成させるための露光
用光源を、螢光体の種類に応じたそれぞれ別の位置に移
動させ、すなわちパネル外表面に固着した露光マスクの
透光パターンを通過した光線がパネルガラス内を螢光体
の種類に応じてそれぞれ異なる角度で傾斜した別経路を
通って、パネル内表面の、それぞれの螢光体種類に適応
した所望位置に到達するよう圧して１露光作業を行うこ
ととした・ 第４図は一体化パルプのパネル１１の外表面に１本発明
に係る螢光面形成作業用の露光マスク１２ ａ ヲ、マ
スタ・マスク１２を用いてホトリックラフ法により固着
作成する作業の説明図である。パネル１ａの外表面に金
属たとえばアルミニウムを蒸着させて不透光膜を作り、
この上にポジ形ホトレジストを塗布し、マスタ・マスク
１２を介して露光し現像して露光個所のホトレジスト膜
を除去したのち前記金属蒸着膜をエツチングすると、マ
スク・マスク１２の光透過部分すなわちストライプ・パ
ターン対応個所の金属蒸着膜のみが除去されて、パネル
１ａの外表面に固着した露光マスク１２１が作成される
。
用光源を、螢光体の種類に応じたそれぞれ別の位置に移
動させ、すなわちパネル外表面に固着した露光マスクの
透光パターンを通過した光線がパネルガラス内を螢光体
の種類に応じてそれぞれ異なる角度で傾斜した別経路を
通って、パネル内表面の、それぞれの螢光体種類に適応
した所望位置に到達するよう圧して１露光作業を行うこ
ととした・ 第４図は一体化パルプのパネル１１の外表面に１本発明
に係る螢光面形成作業用の露光マスク１２ ａ ヲ、マ
スタ・マスク１２を用いてホトリックラフ法により固着
作成する作業の説明図である。パネル１ａの外表面に金
属たとえばアルミニウムを蒸着させて不透光膜を作り、
この上にポジ形ホトレジストを塗布し、マスタ・マスク
１２を介して露光し現像して露光個所のホトレジスト膜
を除去したのち前記金属蒸着膜をエツチングすると、マ
スク・マスク１２の光透過部分すなわちストライプ・パ
ターン対応個所の金属蒸着膜のみが除去されて、パネル
１ａの外表面に固着した露光マスク１２１が作成される
。
第５図は本発明−実施例図である。祢色螢光体ストライ
プ２Ｒの形成工程を説明すれば、無光装置の光源を位置
１３ＲＫ置いて露光すると、光線は図中細い実線で示し
た光路を通ってパネル１ｍ内表面の所望位置九遅し、パ
ネル丙辰単に塗布されている赤色螢光体と感光性バイン
ダとの混和物の露光部位だけを固化させるから、ここで
パルプを露光装置から取外して水洗現像によｐ未露光部
分を除去すれに、パネル内表面の所望位置に赤色螢光体
ストライプ２Ｒが残留形成されることＫなる。同様にし
て、緑色螢光体ストライプ２Ｇ、青色螢光体ストライプ
２Ｂ赤緑間ガートバンド、緑青間ガートバンド、インデ
ックスストライプ４ｏも、露光装置光源をそれぞれ位９
１５Ｇ、１５Ｂ、１ｉＳＲＧ、１＄ＧＢ、１５Ｉに置い
て露光し、光線がそれぞれ細い破線、細い鎖線、太い鎖
線、太い破線、太い実線で示す光路を通って、上記色螢
光体ストライプ、ガートバンド、インデックスストライ
プ等を配置すべき所望位置に達することによシ形成され
る。
プ２Ｒの形成工程を説明すれば、無光装置の光源を位置
１３ＲＫ置いて露光すると、光線は図中細い実線で示し
た光路を通ってパネル１ｍ内表面の所望位置九遅し、パ
ネル丙辰単に塗布されている赤色螢光体と感光性バイン
ダとの混和物の露光部位だけを固化させるから、ここで
パルプを露光装置から取外して水洗現像によｐ未露光部
分を除去すれに、パネル内表面の所望位置に赤色螢光体
ストライプ２Ｒが残留形成されることＫなる。同様にし
て、緑色螢光体ストライプ２Ｇ、青色螢光体ストライプ
２Ｂ赤緑間ガートバンド、緑青間ガートバンド、インデ
ックスストライプ４ｏも、露光装置光源をそれぞれ位９
１５Ｇ、１５Ｂ、１ｉＳＲＧ、１＄ＧＢ、１５Ｉに置い
て露光し、光線がそれぞれ細い破線、細い鎖線、太い鎖
線、太い破線、太い実線で示す光路を通って、上記色螢
光体ストライプ、ガートバンド、インデックスストライ
プ等を配置すべき所望位置に達することによシ形成され
る。
上記本発明方法によれば、ある螢光体ストライプ又はガ
ートバンド形成のため露光装置上で露光作業を行なった
のち、パルプを露光装置からいったん取外して、水洗現
俸を行ない、りぎの螢光体ストライプまたはガートバン
ド形成のための感光性スラリーを塗・布輸燥して露光装
置に再装着すると、前述の如く□、パルプの露光装置に
対する相対位置か以前の位置に対し１０ｉｍ程匿ずれる
ことはめるが、パルプのパネル外表面上の露光マスク１
２ａは勿論全くそのままで変位はない。螢光体ストライ
プ幅を例えば５０１１１ｎ、パネルガラスの厚さを３ｆ
ｆ１ｍｓ Ｎ光用光源をパネルのパルプ外前方５０ｃｍ
に置くとすると、雑光用光源の移動量性的５ｍｍとなる
。これに対し、パルプを露光装置から取外して再装着し
た際のパルプの位置ずれは約１０５ｍで、再装着パルプ
に対して光源位置を移動すべき量的５ｍｍの０．２％に
すぎない。仁れは８３図（１１％ （ｂｌで説明した露
光パターン１１を移動させる従来の方法の場合に、同じ
螢光体ストライプ幅、同じパルプ位置ずれで、螢光体ス
トライプ幅の狂いが５Ｃ１程［Ｋも達することがあるの
に比較すると全く問題にならない、したかって本発明に
よれば従来の場合に高品位螢光面を得るために必要とし
たパルプと露光パターン１１との高精度な位置合せ調整
作業が不要となり、容易に高品位螢光面か形成できるこ
とになる。
ートバンド形成のため露光装置上で露光作業を行なった
のち、パルプを露光装置からいったん取外して、水洗現
俸を行ない、りぎの螢光体ストライプまたはガートバン
ド形成のための感光性スラリーを塗・布輸燥して露光装
置に再装着すると、前述の如く□、パルプの露光装置に
対する相対位置か以前の位置に対し１０ｉｍ程匿ずれる
ことはめるが、パルプのパネル外表面上の露光マスク１
２ａは勿論全くそのままで変位はない。螢光体ストライ
プ幅を例えば５０１１１ｎ、パネルガラスの厚さを３ｆ
ｆ１ｍｓ Ｎ光用光源をパネルのパルプ外前方５０ｃｍ
に置くとすると、雑光用光源の移動量性的５ｍｍとなる
。これに対し、パルプを露光装置から取外して再装着し
た際のパルプの位置ずれは約１０５ｍで、再装着パルプ
に対して光源位置を移動すべき量的５ｍｍの０．２％に
すぎない。仁れは８３図（１１％ （ｂｌで説明した露
光パターン１１を移動させる従来の方法の場合に、同じ
螢光体ストライプ幅、同じパルプ位置ずれで、螢光体ス
トライプ幅の狂いが５Ｃ１程［Ｋも達することがあるの
に比較すると全く問題にならない、したかって本発明に
よれば従来の場合に高品位螢光面を得るために必要とし
たパルプと露光パターン１１との高精度な位置合せ調整
作業が不要となり、容易に高品位螢光面か形成できるこ
とになる。
また露光装置から取外したパルプの再装着の際、パルプ
かわずかに傾斜することがあるが、傾斜による螢光体ス
トライプ位置ずれも、本発明によれば、同様にして、従
来の場合に比しはるかに小さくなる。
かわずかに傾斜することがあるが、傾斜による螢光体ス
トライプ位置ずれも、本発明によれば、同様にして、従
来の場合に比しはるかに小さくなる。
パネル１ａ外表面の露光マスク１２ａは、螢光面の露光
による形成作業終了後忙化学的に除去すればよい。
による形成作業終了後忙化学的に除去すればよい。
なおマスタ・マスク１２は、パネル１ａ外１１面に露光
マスク１２ａを付着形成させる時の÷必要であり、螢光
面自体の無光形成時には使用しないので、マスターマス
クはインデックス管の大量生産に対しても比較的小数個
あればすむ以上説明したように本発明によれば、光イン
デックス信号をパネルのパルプ外前方へ放射するインデ
ックス管の螢光面を、安価な一体化バルブのパネル忙、
背面露光法により１高精度にかつ容易Ｋ、したかって低
原価で１効率良く大量に形成できる。
マスク１２ａを付着形成させる時の÷必要であり、螢光
面自体の無光形成時には使用しないので、マスターマス
クはインデックス管の大量生産に対しても比較的小数個
あればすむ以上説明したように本発明によれば、光イン
デックス信号をパネルのパルプ外前方へ放射するインデ
ックス管の螢光面を、安価な一体化バルブのパネル忙、
背面露光法により１高精度にかつ容易Ｋ、したかって低
原価で１効率良く大量に形成できる。
第１図は従来の通常のインデックス管の平面要部断面と
付属回路を示す図、第２図はパネルのパルプ外前方へイ
ンデックス信号を放射するインデックス管の平面要部断
面と付属回路を示す図、第３図（ｍｌは一体化パルプに
背面露光法によ〕螢光面を形成する従来の方法の説明図
、第３図（−はこの従来法で完成した螢光面の断面図、
第４図はパネルの外表面に本発明和係る露光マスクをホ
トリソグラフ法によｐ作成する作業の説明図、第５図は
本発明の一実施例図である。 １−８−パルプのバネ＃ ２Ｒ，２Ｇ、２Ｂ−それぞ
れ赤、緑、青色螢光体ストライプ ３・・・ガ−トバン
ド ５・−メタルバック膜 １２−マスタ・マスク １
２ｉ一本発明に係るパネル外表面に付着した露光マスク
１ ！ＳＲ，１５Ｇ。 １！＄Ｂ−・それぞれ本発明によシ赤、緑、青色螢光体
ストライプを形成するときの露光光源位置Ｉ Ｓ Ｉ−
・本発明によりインデックスストライプを形成するとき
の露光光源位置 １５ＲＧ、１３ＧＢ−それぞれ本発明
により赤緑ストライプ間ガートバンド、緑青ストライプ
間ガートバンドを形成する時の露光光源位置 ４〇−色
螢光体ストライプと同一面に形成されたインデックスス
トライプ。 第１囚 第２力 第３図 （α） ｔｂ） 第４口
付属回路を示す図、第２図はパネルのパルプ外前方へイ
ンデックス信号を放射するインデックス管の平面要部断
面と付属回路を示す図、第３図（ｍｌは一体化パルプに
背面露光法によ〕螢光面を形成する従来の方法の説明図
、第３図（−はこの従来法で完成した螢光面の断面図、
第４図はパネルの外表面に本発明和係る露光マスクをホ
トリソグラフ法によｐ作成する作業の説明図、第５図は
本発明の一実施例図である。 １−８−パルプのバネ＃ ２Ｒ，２Ｇ、２Ｂ−それぞ
れ赤、緑、青色螢光体ストライプ ３・・・ガ−トバン
ド ５・−メタルバック膜 １２−マスタ・マスク １
２ｉ一本発明に係るパネル外表面に付着した露光マスク
１ ！ＳＲ，１５Ｇ。 １！＄Ｂ−・それぞれ本発明によシ赤、緑、青色螢光体
ストライプを形成するときの露光光源位置Ｉ Ｓ Ｉ−
・本発明によりインデックスストライプを形成するとき
の露光光源位置 １５ＲＧ、１３ＧＢ−それぞれ本発明
により赤緑ストライプ間ガートバンド、緑青ストライプ
間ガートバンドを形成する時の露光光源位置 ４〇−色
螢光体ストライプと同一面に形成されたインデックスス
トライプ。 第１囚 第２力 第３図 （α） ｔｂ） 第４口
Claims (1)
- 光インデックス信号を放射するインデックス螢光体スト
ライプを１色螢光体ストライプと同一面に配列し、パネ
ルのパルプ外前方にインデックス信号受光器を設置して
用いるビームインデックス方式カラー陰極線管の螢光面
形成工程において、まずパネルガラスの外表面に不透光
膜を付着させ、つぎにホトリソグラフ法によシマスタ・
マスクのストライプ・パターン対応個所の不透光膜を除
去して、パネルガラス外表面に螢光面形成用の露光マス
クを作成したのち、感光性バインダと混和してパネルガ
ラス内表面に付着させた螢光体膜Ｋ、螢光体の種類に応
じて順次それぞれ異なる光源位置から一前記露光マスク
とパネルガラスを介して露光現像処理を繰返えして、複
数種類の螢光体ストライプを同化形成することを特徴と
するビームインデックス方式カラー陰極線管の螢光面形
成法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18111281A JPS5885246A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ビ−ムインデツクス方式カラ−陰極線管の螢光面形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18111281A JPS5885246A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ビ−ムインデツクス方式カラ−陰極線管の螢光面形成法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5885246A true JPS5885246A (ja) | 1983-05-21 |
Family
ID=16095051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18111281A Pending JPS5885246A (ja) | 1981-11-13 | 1981-11-13 | ビ−ムインデツクス方式カラ−陰極線管の螢光面形成法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5885246A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2647234A1 (fr) * | 1989-05-19 | 1990-11-23 | Thomson Tubes Electroniques | Procede de photolithographie de motifs repetitifs sur une grande surface |
-
1981
- 1981-11-13 JP JP18111281A patent/JPS5885246A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2647234A1 (fr) * | 1989-05-19 | 1990-11-23 | Thomson Tubes Electroniques | Procede de photolithographie de motifs repetitifs sur une grande surface |
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