JPS586230A - 高温ガスの脱臭方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は焼却炉、乾燥機等から出る高温ガスの綴奥方法
にかかる。

これらのカスは６０℃、８０″Ｃ等と高温であり、かつ
、水洗浄、薬品洗浄で奏全処理出来ない有機化合物を衾
有する場合が多く、従って活性炭吸着により脱臭する場
合が多い。

活性炭は高温、高温状体では有効吸着が得られないので
、これらの脱臭には温度を約８６°Ｃ１温度を約７５９
６等にする前処理を行った後活性炭吸着させるのが通常
である。

５０℃、８０℃の高温ガスを冷却するには水洗浄による
方法が経費が最も安いので水冷法が広く採用されている
が、工業化されている水冷ではガスの冷却温度が８５℃
前後になるのが通常である。

この８６℃の飽和温度状体では活性炭吸着の好條件でな
いので、さらに水洗浄でな（冷凍機等を使用して約８０
℃に深冷した後８６℃に再加熱して関係温度を低減して
吸着する方式を採っている。

飽和温度４１８６℃テ０．０８６４５　”　／幻乾空気
、８０℃では０．０２７１８”／　　　　であるからｓ
Ｏ℃に冷〜乾空気 却した後８６℃に加熱すると関係温度は０、２７１８７
．、　、　、　、中７４．６９６になり活性炭吸着の好
適條件が得られる。

しかし、この従来方法は （１）深冷に冷凍機が必要である （２）深冷した後加熱するのに加熱機が必要である体）
水冷却機で熱交換により加温された水を冷却して再使用
するのに、開放型クーリングタワーでは吸収悪臭成分が
再飛散するので密閉型冷却法を採らねばならない 等設備費と運転経費が高くなる数々の欠点がある。

本発明は以上の数々の欠点を無（した脱臭方法にかかる
。

本発明方法を第１図、第２図により説明する。

送風機（１）配管（２）を通じて悪臭成分を含む高温ガ
スを矢印に示す如く高温乾燥剤（４ａ）を内臓する吸着
機（８ａ）、薬液散布管（６）のある薬液洗浄塔（Ｓ）
、高温乾燥剤（４ｂ）を内臓する吸着機（８ｂ）、活性
炭（８）を内臓する活性炭吸着４ｍ（９）を通じて処理
ガス管［相］より処理ガスを排出する。

吸着脱諷剤としてはシリカゲルが公知である。

その他にアルミノシリケートを主成分とする合成でオラ
イドがある。

従来カス中の微量の水分を除去するのにシリカゲル吸着
法が広く採用されているが、これに使用されるシリカゲ
ルはＡ型であり、吸着水分を脱着するのに１６０°Ｃ前
後で加熱しなければならない。

また合成ゼオライトもガス中の微量水分を徹底的に除去
する性能を有するが吸着水分の脱着には２６０℃前後に
加熱しなければならない。いずれを使用しても脱温する
ことは出来るが、これらは微量の水分を含むガスから水
分を完全除去するのに適しているが、本例の如く極めて
多量の水分を含むガスの場合は極めて多量の吸着剤を必
要とするだけでなく、再生には１６０℃、２５０°Ｃに
加熱しなければならないから設備費と運転経費が高い欠
点がある。

従来広く使用されているシリカゲルは細孔が（資）人と
細いＡ型であり、第１図に示す如く関係温度が低い場合
に脱湿能力が大であるが関係温度が高い場合は吸着能が
低く、吸着水分を脱着するには約１５０°Ｃ以上に加熱
しなければならない。

細孔を７０Å以上盛こしたシリカゲルＢ型の吸着能は関
係温度が低い場合はＡｌｌより遥かに劣り逆に関係温度
が°高い場合は遥かに優れてＬＮる。

さらにシリカゲルＢ型は、雰囲気が高温度の場合は水分
を多量に吸着するが、雰囲気の温度力１低下したら吸着
している水分を除々に放出する性能がある。その放出速
度は温度上昇に伴も′％速（なり、約７０°Ｃになれば
吸着している水分を完全放出する性能がある。

第１図に戻り、悪臭成分を含む高温ガスは吸着機（ｌａ
）に入り、前面に吸着した高温乾燥剤（４ａ）の水分を
放出して薬液洗浄塔に入る。

薬品洗浄は悪臭成分の種類により、ＮａＯＨ。

ＨｚＳＣＬ　、ＮａＣｌ０の単体もしくはそれらの組合
せを使用し、組合せる場合は洗浄塔を複数制にする。さ
らに高温ガスの温度が高く或は循環洗浄液の温度が高く
て洗浄後のガス温度が高く硯ｉｌｌ追 てｌ條件に不適な場合は、薬品洗浄後に冷却水により水
洗した後に脱湿用吸着塔（８ｂ）に送る。この場合前後
の薬品洗浄にて殆んどの悪臭成分を除去しであるから、
洗浄した水は悪臭成分の含有が極めて少な（、この洗浄
した水をクーリシグタワーで冷却しても悪臭の発生が殆
んど無い。

薬品洗浄塔で予備脱臭かつ冷却されたガスは、その温度
における飽和温度を含有しており、これを高温乾燥剤（
４ｂ）を内臓する吸着機（８ｂ）に送り関係温度を低下
させた後活性炭（８）を内臓する活性炭吸着機（＋１）
に送って薬品洗浄で除去し得なかった悪臭成分を完全除
去して排出管叫より無臭カスを放出する。

この操作は時間の経過とともに、吸着機（８ａ）内の高
温乾燥剤（４ａ）は漸次乾燥され逆に吸着ａ（８ｂ）内
の高温乾燥剤（４ｂ）は水分を吸着して脱温能力が漸次
低下する。

この時第２図に示す２０−シートに切換えて、前回に吸
温した高温乾燥剤（４ｂ）中の水分を蒸発させ、薬品洗
浄で予備脱臭と冷却を行ない、前回に乾燥された高温乾
燥剤（４ａ）で脱湿した後活性炭で仕上脱臭する工程を
反覆する。

間層は前回に水分を吸着したシリカゲルＢ型の脱着に何
度の高温ガスが必要であるかである。

実験によると７０°Ｃ以上の高温排ガスの場合は、層高
１＋ｗのシリカゲル層に０．８ｍ／５ｆｌＣの速度で１
時間通風したら吸着水分を完全脱着し得た。

徘刀ス温度が６０℃、５０℃と低下するにつれ脱着速度
が遅くなり、脱着したシリカゲルＢｌｌに自重の約２０
％等と残留吸着水分が残る場合がある。

この程度の残留吸着水分を有するシリカゲルＢ型も、冷
却と予備脱臭を行なった飽和温度を含有する処理ガスを
７５５４以下の関係温度に脱偏することが出来るので、
活性炭吸着に適した條件が得られる。この場合、第１図
から第２図への切替周期を短か（して操作を行えばよい
。

上述の如く本発明は、悪臭成分を含有する高温排ガスの
有する熱量で前−に吸温した高温乾燥剤中の水分を蒸発
させた後、薬品或は薬品と水で洗浄してカスの冷却兼予
備脱臭をし、次いでガス中の水分を高温乾燥剤で脱諷し
た後活性炭吸着で仕上脱臭するので悪臭を完全脱臭し得
られ、従来法と比較して設備費と運転経費を安くし、か
つ加温された水を再使用のためクーリシジタワーで冷却
する時悪臭トラブルが無い等数々の優れた特長がある。

【図面の簡単な説明】

第１図、第２図は本発明方法の２０−シートを示し、第
８図はシリカゲルの吸着等混線を示す。 （１）・・・・・・送　風　機　　（６）・・・・・・
薬液散布管（２）・・・・・・配　　　管　　　（７）
・・・・・・配　　　　管（３）・・・・・・吸　着　
機　　　（８）・・・・・・活　性　炭（４）・・・・
・・高温乾燥剤　　　（９）・・・・・・活性炭吸着機
（５）・・・・・・薬品洗浄塔　　　員・・・・・・処
理ガス管出願人　　　三つラエシジニヤリシグイシター
１ショナル株式金社取締役社長　　　三　　　浦　　　
　貢１　　　　　　ｉＬｔ ′　　　　　　　　−ねＪ− 吸着側１ｍ（ｄ　２ダＣ〕 ｍ偏湿／１（％） ’３＠−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 悪臭を含む高温排ガスを高温乾燥剤を内臓する吸着機に
   送り前−に吸着した水分を乾燥させ、その排ガスを洗浄
   塔に送り冷却と予備脱臭を行ない、その排ガスを前回に
   再生された高温乾燥剤を内臓する吸着機暑こて脱湿した
   後活性炭にて仕上げ脱臭することを特長とする高温カス
   の脱臭方法。