JPS5853356A - 溶湯撹拌用誘導子の制御方法 - Google Patents
溶湯撹拌用誘導子の制御方法Info
- Publication number
- JPS5853356A JPS5853356A JP56151750A JP15175081A JPS5853356A JP S5853356 A JPS5853356 A JP S5853356A JP 56151750 A JP56151750 A JP 56151750A JP 15175081 A JP15175081 A JP 15175081A JP S5853356 A JPS5853356 A JP S5853356A
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- JP
- Japan
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- molten metal
- inductor
- level
- agitation
- frequencies
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- Granted
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/02—Refining by liquating, filtering, centrifuging, distilling, or supersonic wave action including acoustic waves
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は部分約６こ温度差の生じ得る浴場の攪拌装置
の制御方法に関するものである。
の制御方法に関するものである。
例えば、第１Ｎ６こ示すよう番二反射炉１中にて溶湯２
が蓄積されている状態においては、この溶湯２の温度は
バーナー３から放炎によって加熱作用を受ける加熱部ｌ
ａ内では、扁温で、被溶解金属が２頁 周囲の溶湯の温度を奪って溶解するウェル部１ｂでは加
熱部１ａにおけるよりも低い。そこで、上記反射炉ｌの
加熱部１ｂ、及びウェル部各部に存する一連の溶湯２は
互に交流させて攪拌を行うことが要求される。このため
の手段として炉底部に誘導子４を配置し、これが発する
移動磁界の磁束と浴場とがいわば趙４電動機の１次側、
２次側に該当し、浴場２は推力を受けて加熱部１ａ、ウ
ェル部ｌｂ間において浴湯の交流が促がされる。５は被
溶解金属である。
が蓄積されている状態においては、この溶湯２の温度は
バーナー３から放炎によって加熱作用を受ける加熱部ｌ
ａ内では、扁温で、被溶解金属が２頁 周囲の溶湯の温度を奪って溶解するウェル部１ｂでは加
熱部１ａにおけるよりも低い。そこで、上記反射炉ｌの
加熱部１ｂ、及びウェル部各部に存する一連の溶湯２は
互に交流させて攪拌を行うことが要求される。このため
の手段として炉底部に誘導子４を配置し、これが発する
移動磁界の磁束と浴場とがいわば趙４電動機の１次側、
２次側に該当し、浴場２は推力を受けて加熱部１ａ、ウ
ェル部ｌｂ間において浴湯の交流が促がされる。５は被
溶解金属である。
ところで、かかる溶湯の撹拌作用を及ぼす誘導子のＨｉ
制御は、従来、周波数が一定に規制されている。この一
定周波数によって定まる誘導子磁束の浸透深さに対し、
保有浴湯し・＼ルが小である場合、撹拌効率が低下する
。−力、反豹炉内の浴場は溶湯レベルが小の溶解初期工
程においては俗解効率促進のために攪拌スピードが速い
こと、及び浴場レベルが大のときは酸化促進防止のため
撹拌スピードが遅いことが要求されるが、−１−記周波
一疋制御ではこの要求を満す余地がない。
制御は、従来、周波数が一定に規制されている。この一
定周波数によって定まる誘導子磁束の浸透深さに対し、
保有浴湯し・＼ルが小である場合、撹拌効率が低下する
。−力、反豹炉内の浴場は溶湯レベルが小の溶解初期工
程においては俗解効率促進のために攪拌スピードが速い
こと、及び浴場レベルが大のときは酸化促進防止のため
撹拌スピードが遅いことが要求されるが、−１−記周波
一疋制御ではこの要求を満す余地がない。
３Ｎ
この発明の目的は一容器内の溶湯撹拌のための誘導子制
御を溶湯レベルに応じて周波数を変化させることにより
、浴湯撹拌速度及び浴場内の磁束の浸透深さを浴場レベ
ル擾こ応じた所定の値に変化させることにある。
御を溶湯レベルに応じて周波数を変化させることにより
、浴湯撹拌速度及び浴場内の磁束の浸透深さを浴場レベ
ル擾こ応じた所定の値に変化させることにある。
以下、この発明に係る方法を具体的蚤こ説明する。
まず、１つの容器（例えば反射炉）内において、一定レ
ベルに蓄積されている溶湯の撹拌作用は周波数の変化に
よって変化する。即ち、沼湯内曇こ磁束が透過する深さ
は、浸透深さと称さｎｌ この浸透深さδＣｍは で与えられる。ここ壷こ、ρ−浴勘の比抵抗、ｆ＝鶴導
子への人力周波数である。
ベルに蓄積されている溶湯の撹拌作用は周波数の変化に
よって変化する。即ち、沼湯内曇こ磁束が透過する深さ
は、浸透深さと称さｎｌ この浸透深さδＣｍは で与えられる。ここ壷こ、ρ−浴勘の比抵抗、ｆ＝鶴導
子への人力周波数である。
一方、浴場の移動４度ｖ（ｍ／ｓ）は
ｖ＝２τｆ噛・・・・（２）
で与えられる。
ここに、７士誘導子のポールピッチ〔ｍ〕である。
但し、この移動速度■は歓撹拌ｍ湯の物性により影響を
受ける。
受ける。
５頁
特開昭５８−５３３５６（２，）
さて、例えば」−記第１図に示すようなオープンウェル
形反射炉のようにウェル部に被溶解月利としてのアルミ
屑を投入し、浴場の加熱伝導によって被浴解拐料を溶解
していく場合、全ｔ６ｍｂｔが比較的少ない場合は、力
１１熱部ｌａ内のｆ６湯の湿度とウェル部ｌｂ内の溶湯
の湿度は熱容量の関連のもとに差が大となる傾向が生じ
（全浴湯ｉｉｔが多い場合との比較において）、この場
合は撹拌スピードが品速であることが望ましい。又、炉
内の缶４１″１総浴湯量か増した場合は、撹拌スピード
は低連であることが望まわる。Ｍｌｌも、炉内のａ ４
ｉ′Ｉ＃ ｉｕ ｈｔが多くなれば全溶湯をこ対するウ
ェル部に投入される被溶解金属の量の割合は小で、加熱
線１ａ及びウェル部ｌｂ内の溶湯の温度差は小となる。
形反射炉のようにウェル部に被溶解月利としてのアルミ
屑を投入し、浴場の加熱伝導によって被浴解拐料を溶解
していく場合、全ｔ６ｍｂｔが比較的少ない場合は、力
１１熱部ｌａ内のｆ６湯の湿度とウェル部ｌｂ内の溶湯
の湿度は熱容量の関連のもとに差が大となる傾向が生じ
（全浴湯ｉｉｔが多い場合との比較において）、この場
合は撹拌スピードが品速であることが望ましい。又、炉
内の缶４１″１総浴湯量か増した場合は、撹拌スピード
は低連であることが望まわる。Ｍｌｌも、炉内のａ ４
ｉ′Ｉ＃ ｉｕ ｈｔが多くなれば全溶湯をこ対するウ
ェル部に投入される被溶解金属の量の割合は小で、加熱
線１ａ及びウェル部ｌｂ内の溶湯の温度差は小となる。
よって浴湯温度の均一性を得る溶湯撹拌速度を１１石ぬ
る必要がない。
る必要がない。
ちなみに溶湯撹拌スピードを増せば溶湯の外気への接触
機会の増大に伴い浴湯の酸化を促進させてしまうおそ１
’Ｌがある。この点炉内の％ ？Ａｌｔ ｋが少ないと
きは温度差の低臥のため酸比の促進があってもやむをえ
ないが、浴湯■が増していくにつれて６頁 その酸化の影響は無視できるよう蚤こなる。
機会の増大に伴い浴湯の酸化を促進させてしまうおそ１
’Ｌがある。この点炉内の％ ？Ａｌｔ ｋが少ないと
きは温度差の低臥のため酸比の促進があってもやむをえ
ないが、浴湯■が増していくにつれて６頁 その酸化の影響は無視できるよう蚤こなる。
上記のような浴湯レベルの変化に伴う誘導子磁束の浸透
深さの適合を得るための具体的回路構成は第２図に示す
通りである。坤ち、第２図普こおいて、 １１はレベル
センサーで容器内の溶湯のレベルに応じた信号を供給す
る。１２は設定器で、上記レベル七ン−＋ｊ−１１より
の信号レベル暑こ応じて周波数規制用信号を発生する。
深さの適合を得るための具体的回路構成は第２図に示す
通りである。坤ち、第２図普こおいて、 １１はレベル
センサーで容器内の溶湯のレベルに応じた信号を供給す
る。１２は設定器で、上記レベル七ン−＋ｊ−１１より
の信号レベル暑こ応じて周波数規制用信号を発生する。
１３は商用電源である。１４は電力制御回路で、コンバ
ータ及びインバータを主たる構成要素となし、曲用電踪
１３からの入力をコンバータにより電圧制御をなすとと
もにインバータによって設定器１２の出力に基づ曵周波
数制御が得られる。そして、この電力制御回路１４より
誘導子４に反射炉等の浴場容器内の浴１１こ対に６ Ｌ
／た適正可斐周波数の又査電力を供給する。
ータ及びインバータを主たる構成要素となし、曲用電踪
１３からの入力をコンバータにより電圧制御をなすとと
もにインバータによって設定器１２の出力に基づ曵周波
数制御が得られる。そして、この電力制御回路１４より
誘導子４に反射炉等の浴場容器内の浴１１こ対に６ Ｌ
／た適正可斐周波数の又査電力を供給する。
」−記第２図に示す構成をこおいて、炉内の溶湯量Ｉｌ
ｌ チ溶湯レベルが低いときはレベルセンサー１１の、
出力が誘導子４への出力周波数を高（、浴場レベルの上
昇に伴って誘導子４への出力周波数を低くなるように制
御される。これ昏こよって、炉内の浴湯レベルが低いと
きには訪４（４に与えられる周波数が高められ、誘導子
４より出される移動磁界の進行速度は速い。一方、この
移動磁界の浴場２への浸透深さは（１）式から明らかの
ようＧこ浅くなる。
ｌ チ溶湯レベルが低いときはレベルセンサー１１の、
出力が誘導子４への出力周波数を高（、浴場レベルの上
昇に伴って誘導子４への出力周波数を低くなるように制
御される。これ昏こよって、炉内の浴湯レベルが低いと
きには訪４（４に与えられる周波数が高められ、誘導子
４より出される移動磁界の進行速度は速い。一方、この
移動磁界の浴場２への浸透深さは（１）式から明らかの
ようＧこ浅くなる。
次に、反射炉等において被溶解金属の浴解工捏が進行す
る中で、炉内の浴湯し／＼ルが上昇するにつれて周波数
は減少すべく １ｌｉｌｌ ｏｌｌがなさｒＬる。この
除、上記誘導子４よりの移動磁界の進行速度はしだいに
減ぜられ、かつ（１）式の関連のもとに溶湯２への移動
磁界の浸透深さはしだい（こ増していく。
る中で、炉内の浴湯し／＼ルが上昇するにつれて周波数
は減少すべく １ｌｉｌｌ ｏｌｌがなさｒＬる。この
除、上記誘導子４よりの移動磁界の進行速度はしだいに
減ぜられ、かつ（１）式の関連のもとに溶湯２への移動
磁界の浸透深さはしだい（こ増していく。
以上述べたようをこ、この発明に保る溶湯の攪拌装置の
制御方法は反射炉等の駅体内に蓄慎される浴湯の量即ち
浴場レベルの増減に応して溶湯攪拌用誘導子（こ与える
電力の周波数を変化させ、浴湯レベルにＪ心じた゛電磁
攪拌用誘導子の移ＢＶＪ磁界の発生を得るようをこした
ものである。即ち、上バ己４多動磁界の浴湯への浸透深
さがほぼｒ６湯表間になるように溶湯レベルに応じて周
波数を制御すｉｔば自動的に靜湯レベルが人になるにつ
れて、周波数が減少して移動磁界の速度が低下していく
ことになる。
制御方法は反射炉等の駅体内に蓄慎される浴湯の量即ち
浴場レベルの増減に応して溶湯攪拌用誘導子（こ与える
電力の周波数を変化させ、浴湯レベルにＪ心じた゛電磁
攪拌用誘導子の移ＢＶＪ磁界の発生を得るようをこした
ものである。即ち、上バ己４多動磁界の浴湯への浸透深
さがほぼｒ６湯表間になるように溶湯レベルに応じて周
波数を制御すｉｔば自動的に靜湯レベルが人になるにつ
れて、周波数が減少して移動磁界の速度が低下していく
ことになる。
７頁
よって、とりわけ反射炉Ｇこおいて溶湯レベルの変化を
基をこ誘導子をこ与える′紙力周波数を制御することに
よって、溶湯を得る初期の工程をこおいては撹拌スピー
ドを上げて溶解効率をあげるとともに、溶湯レベルが商
まった状態では撹拌スピードは自動的に下げられ、酸化
防止にも寄与できる。しかも、溶湯レベルに応じた移動
磁界の浸透深さが得られること憂こ伴って撹拌効率の増
大が期待できる等の特長を有する。
基をこ誘導子をこ与える′紙力周波数を制御することに
よって、溶湯を得る初期の工程をこおいては撹拌スピー
ドを上げて溶解効率をあげるとともに、溶湯レベルが商
まった状態では撹拌スピードは自動的に下げられ、酸化
防止にも寄与できる。しかも、溶湯レベルに応じた移動
磁界の浸透深さが得られること憂こ伴って撹拌効率の増
大が期待できる等の特長を有する。
第１図はこのうし明の方法を実施する工具体向装置の断
面図、第２図はこの発明の方法に係る回路図である。 ■・・・反射炉（炉体） ２・・・浴湯４１・誘導
子 １１−−−レベルセン→ナー１２・・・設定器
１４・・・電力制御回路出願人 神鋼電機株式会社 代理人 弁理士斎藤春弥 特開昭５８二 ５３３５６（３Ｊ 第 １ １ｆｆｌ
面図、第２図はこの発明の方法に係る回路図である。 ■・・・反射炉（炉体） ２・・・浴湯４１・誘導
子 １１−−−レベルセン→ナー１２・・・設定器
１４・・・電力制御回路出願人 神鋼電機株式会社 代理人 弁理士斎藤春弥 特開昭５８二 ５３３５６（３Ｊ 第 １ １ｆｆｌ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ 溶湯な保有する炉体の゛底面部に溶湯攪拌用誘導子
を配置した構成において、上記誘導子からの移動磁界の
浴湯への浸透深さがほぼ溶湯の表向に至るように誘導子
に与える電力周波数を定めるようにしたことを特徴とす
る溶湯攪拌用誘導子の制御方法。 ２、 炉体な加熱部と被溶解金属投入用ウェル部を備え
た反射炉とした特許請求の範囲第１項記載の溶湯攪拌用
誘導子の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151750A JPS5853356A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 溶湯撹拌用誘導子の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56151750A JPS5853356A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 溶湯撹拌用誘導子の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5853356A true JPS5853356A (ja) | 1983-03-29 |
| JPS6116325B2 JPS6116325B2 (ja) | 1986-04-30 |
Family
ID=15525463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56151750A Granted JPS5853356A (ja) | 1981-09-24 | 1981-09-24 | 溶湯撹拌用誘導子の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5853356A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02219978A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-09-03 | Shinko Electric Co Ltd | アルミニウム系金属切削屑溶解炉の溶湯に与える電磁▲攪▼拌力を制御する方法と装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT201900016790A1 (it) * | 2019-09-19 | 2021-03-19 | Danieli Off Mecc | Metodo di agitazione di metallo liquido in un forno elettrico ad arco |
-
1981
- 1981-09-24 JP JP56151750A patent/JPS5853356A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02219978A (ja) * | 1989-02-20 | 1990-09-03 | Shinko Electric Co Ltd | アルミニウム系金属切削屑溶解炉の溶湯に与える電磁▲攪▼拌力を制御する方法と装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6116325B2 (ja) | 1986-04-30 |
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