JPS584789A - Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism - Google Patents

Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism

Info

Publication number
JPS584789A
JPS584789A JP5526382A JP5526382A JPS584789A JP S584789 A JPS584789 A JP S584789A JP 5526382 A JP5526382 A JP 5526382A JP 5526382 A JP5526382 A JP 5526382A JP S584789 A JPS584789 A JP S584789A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
amino
cephem
group
substituted
carboxylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP5526382A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0261479B2 (en
Inventor
Tsutomu Terachi
寺地 務
Kazuo Sakane
坂根 和夫
Jiro Goto
後藤 二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Fujisawa Pharmaceutical Co Ltd
Publication of JPS584789A publication Critical patent/JPS584789A/en
Publication of JPH0261479B2 publication Critical patent/JPH0261479B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cephalosporin Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Abstract

NEW MATERIAL:A compound shown by the formulaI(R<1> is amino or protected amino; R<2> is lower aliphatic hydrocarbon or cyclo lower alkenyl; a group shown by the formula II is a heterocyclic cation containing two or more N) and its salt. EXAMPLE:7-[2-Ethoxyimino-2-( 5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-yl )acetamido]-3-(3- methyl-1-imidazolyomethyl)-3-cephem-4-carboxylate(syn-isomer). USE:A preventive and remedy for microbism. A daily does is 1mg-about 1,000mg. PROCESS:A compound shown by the formula III(R<3> is a group which can be replaced with a group shown by the formula II) is reacted with a comound shown by the formula IV (a hetrocyclic compound containing two or more N, which may be replaced with a proper substituent group) in an organic solvent preferably in the presence of an alkali metal hydride, to give a compound shown by the formulaI.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、抗菌性物質として有用な一般式(式中、R
1はアミノまたは保護さねたアミノ基、Rは適当なW換
基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水素基、捷だ
はシクロ低級アルケニル基i式−+4■;で示される基
は適当な置換基で置換されていてもよい、窒素原子2個
以上含有袴素環カチオン基をそれぞれ意味する)で示さ
れる新規セフェム化合物、その塩類、それらの製造法、
並びにそれらを有効成分とする細菌感染症予防・治療剤
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION This invention describes the general formula (wherein R
1 is an amino or unprotected amino group, R is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate W substituent, and 1 is a cyclo-lower alkenyl group. Novel cephem compounds represented by (respectively meaning a hakama ring cationic group containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with an appropriate substituent), salts thereof, and methods for producing them;
The present invention also relates to agents for preventing and treating bacterial infections containing these as active ingredients.

この発明に係る−に記新規セフェム化名物(1)け下記
に示す方法により製造できる。
The novel cephemized product (1) according to this invention can be produced by the method shown below.

(1)                 (III)
壕だはその塩類 (1) またはその塩類 (1) 寸たけその塩類 (上記式中、R1、R2および式−イ壺)で示される基
はそれぞれ前と同じ意味でああ′″、R3の化合物は適
当な置換基により置換されていてもよい、窒素原子2個
以」二含有複素環化合物;R4け保護されたカルボキシ
基:Xけ酸残基をそれぞれ意味する) この発明の出発物質のうち、化合物(lv)は新規であ
り、下記の方法により製造できる。
(1) (III)
Its salts (1) or its salts (1) Its salts (In the above formula, R1, R2 and formula-A) have the same meanings as before, and the compounds represented by A''' and R3. is a heterocyclic compound containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with a suitable substituent; R4 means a protected carboxy group: X means a silicate residue, respectively) Among the starting materials of this invention , Compound (lv) is novel and can be produced by the method described below.

■ 捷たけその塩類 =15− (IV) (上記式中、R1、R2、R4、X、式i−゛:の化合
物および式−14i’jの基はそれぞれ前と同じ意味で
ある) 目的化合物(1)ならびに出発化合物(Il)、(IV
)、(V)、圃、(Vllll、および(IXIに関し
ては、これらの目的化合物および出発化合物のシン異性
体、アンチ異性体およびその混合物を包含する。たとえ
ば、目的化合物(1)を例にとると、シン異性体とは次
の式 (式中、R1とR2はそわそれ前と同じ意味)で示され
る部分(構造を有する幾何異性体を意16− 味し、アンチ異性体とは次の式 (式中、RとRはそわそれ前と同じ意味)で示される部
分構造を有するもう一方の幾何異性体を意味する。
■ Salts of shredded mushrooms = 15- (IV) (In the above formula, R1, R2, R4, (1) as well as starting compounds (Il), (IV
), (V), field, (Vllll, and (IXI) include syn isomers, anti-isomers, and mixtures thereof of these target compounds and starting compounds. For example, taking target compound (1) as an example The syn isomer refers to a geometric isomer having the moiety (structure) represented by the following formula (in which R1 and R2 have the same meanings as before), and the anti isomer refers to the It means the other geometric isomer having a partial structure represented by the formula (wherein R and R have the same meanings as before).

」−述した出発化合物(1)、(IV)、(V)、(V
L (VII!lオヨび(l′X)についても、シン異
性体とアンチ異性体口それぞれ化合物(1)に対して例
示したのと同様の幾何異性体をいう。
” - starting compounds (1), (IV), (V), (V
L (VII!lOyobi (l'X) also refers to the same geometric isomers as exemplified for compound (1), including syn isomer and anti isomer, respectively.

目的化合物(1)の塩類としては慣用の無毒な塩が好適
であり、その具体例としては、アルカリ金属塩(例、ナ
トリウム塩、カリウム塩など)およびアルカリ土類金1
iii:”K (例、カルシウム塩、マクネシウム塩な
ど)のような金属塩、アンモニウム塩、有機塩基塩(例
、トリメチルアミン塩、トリエチルアミン塩、ピリジン
塩、ピコリン塩、シシラロヘギシルアミン塩、N 、 
N’ −ジベンジルエチレンシアミンWri ど) 、
[b7酸塩(例、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メ
タンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸L ギ酸塩、ト
ルエンスルホン酸塩など)、無機酸塩(例、塩酸塩、臭
化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩など)
、またはアミノ酸(例、アルギニン、アスパラギン酸、
クルタミン酸など)との塩などが挙げられる。
Conventional non-toxic salts are suitable as the salts of the target compound (1), and specific examples include alkali metal salts (e.g., sodium salts, potassium salts, etc.) and alkaline earth metal salts.
iii: Metal salts such as K (e.g., calcium salts, magnesium salts, etc.), ammonium salts, organic base salts (e.g., trimethylamine salts, triethylamine salts, pyridine salts, picoline salts, cicilalohegicylamine salts, N,
N'-dibenzylethylenecyamine (Wri etc.),
[b7-acid salts (e.g., acetate, maleate, tartrate, methanesulfonate, benzenesulfonic acid L formate, toluenesulfonate, etc.), inorganic acid salts (e.g., hydrochloride, hydrobromide, etc.) , hydroiodide, sulfate, phosphate, etc.)
, or amino acids (e.g., arginine, aspartic acid,
Examples include salts with curtamic acid (such as curtamic acid).

この明細書で用いた各種の定義について、その説明と好
適具体例について次に詳述する。
Explanations and preferred specific examples of the various definitions used in this specification will be described in detail below.

[低級]とは、特に指摘のかい限り炭素数1〜6を意味
するものである。
[Lower] means a carbon number of 1 to 6 unless otherwise specified.

R1で示される「保護されたアミノ」の好適な例として
はアシルアミノならびに少なくとも1アミノ基が挙げら
れる。
Suitable examples of the "protected amino" represented by R1 include acylamino and at least one amino group.

[アシルアミノ]およヒ「アシルオキシ」におけるアシ
ル部分の好適例としては、カルバモイル、脂肪族アシル
基ならびに芳香環もしくは複素環を有するアシ/I/基
が挙けられ、かかるアシルの好適な具体例としては低級
アルカノイル19− チリル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、オキ
サリル、サクシニル、ピバロイルなト)、低級アルコキ
シカルボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、1−シクロブロピルエ
トキシカルポニル、インプロポキシカルボニル、ブトキ
シ力ルポニ#、tert−ブトキシカルボニル、ペンチ
ルオキシカルボニル、ヘギシルオキシ力ルボニルなど)
、低級アルカンスルホニル(例、メシル、エタンヌルホ
ニル、プロパンヌルホニル、イソプロパンスルホニル、
ブタンヌルホニルなど)、アレーンスルホニル(例、ベ
ンゼンスルホン酸、I−シルナと)、アロイル(II、
ベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフトイル、フ
タロイル、インダンカルボニル力と)、アリール低級ア
ルカノイル(例、フェニルアセチル、フェニルプロピオ
ニルなト)、アリール低級アルコキシ力ルボニ/1/(
例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカル
ボニルなど)な一2〇− どが挙げられる。上記のアシル部分は少なくとも1個の
適当な置換基(低級アルカノイルなどのアシル、臭素、
フッ素およびヨウ素などのハロゲンなど)を有していて
もよい。
Preferred examples of the acyl moiety in [acylamino] and "acyloxy" include carbamoyl, an aliphatic acyl group, and an acyl/I/ group having an aromatic or heterocyclic ring, and preferred specific examples of such acyl include is lower alkanoyl (19-tyryl, isobutyryl, valeryl, invaleryl, oxalyl, succinyl, pivaloyl), lower alkoxycarbonyl (e.g., methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, 1-cyclobropylethoxycarbonyl, impropoxycarbonyl, butoxy) tert-butoxycarbonyl, pentyloxycarbonyl, hegylicyloxycarbonyl, etc.)
, lower alkanesulfonyl (e.g., mesyl, ethannulfonyl, propanesulfonyl, isopropanesulfonyl,
butanesulfonyl, etc.), arenesulfonyl (e.g., benzenesulfonic acid, I-silna), aroyl (II,
benzoyl, toluoyl, xyloyl, naphthoyl, phthaloyl, indancarbonyl), aryl lower alkanoyl (e.g. phenylacetyl, phenylpropionyl), aryl lower alkoxy carbonyl/1/(
Examples include benzyloxycarbonyl, phenethyloxycarbonyl, etc.). The above acyl moieties include at least one suitable substituent (acyl such as lower alkanoyl, bromine,
halogens such as fluorine and iodine).

好適な低級脂肪族炭化水素基としては、低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルキニルなどが挙げられる。
Suitable lower aliphatic hydrocarbon groups include lower alkyl,
Examples include lower alkenyl and lower alkynyl.

好適な「低級アルキル」は炭素数1〜6のものであり、
具体例としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ノペプチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチル
、tert−ペンチル、ヘキシルなどが挙げられ、炭素
数1〜4のものが好ましい。
Suitable "lower alkyl" has 1 to 6 carbon atoms,
Specific examples include methyl, ethyl, propyl, isopropinopeptyl, isobutyl, tert-butyl, pentyl, tert-pentyl, hexyl and the like, with those having 1 to 4 carbon atoms being preferred.

好適な「低級アルケニル」は炭素数2〜6のものであり
、具体例としてはビニル、アリル、インプロペニル、1
−プロペニル、2−ブテニル、6−ペンテニルなどが挙
げられ、炭素数2〜4のものが好ましい。
Suitable "lower alkenyl" is one having 2 to 6 carbon atoms, and specific examples include vinyl, allyl, impropenyl, 1
-propenyl, 2-butenyl, 6-pentenyl, etc., and those having 2 to 4 carbon atoms are preferred.

好適な「低級アルキニル」は炭素数2〜6のものであり
、具体例としてはエチニル、2−プロピニル、2−ブテ
ニル、3−ペンチニル、5−ヘキシニル々とが挙げられ
、炭素数2〜4のものが好ましい。
Suitable "lower alkynyl" has 2 to 6 carbon atoms, specific examples include ethynyl, 2-propynyl, 2-butenyl, 3-pentynyl, 5-hexynyl, etc. Preferably.

上記の低級脂肪族炭化水素基は1〜6個の過当な置換基
、たとえばカルボキシ、後述するような保護されたカル
ボキシ、ハロゲン(例、塩素、臭素など)、低級アルキ
ルチオ(例、メチルチオ、エチ/I/−fオ、プロピル
チオ、イソプロヒルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、
ヘキシルチオなど)などで置換されていてもよい。
The above lower aliphatic hydrocarbon groups contain 1 to 6 permissible substituents, such as carboxy, protected carboxy as described below, halogen (e.g., chlorine, bromine, etc.), lower alkylthio (e.g., methylthio, ethylthio, etc.). I/-f-o, propylthio, isoproylthio, butylthio, pentylthio,
hexylthio, etc.).

好適な[シクロ低級アルケニル」としては、タトtld
ニジクロペンテニル、シクロヘキセニルなどの炭素数6
〜6のものが挙げられ、炭素数5〜6のものが好ましい
Suitable [cyclo-lower alkenyl] includes Tatotld
Carbon number 6 such as dichlorpentenyl, cyclohexenyl, etc.
-6 carbon atoms are mentioned, and those having 5 to 6 carbon atoms are preferred.

好適なRとしては、アシルオキシ、ハロゲン(例、塩素
、臭素、ヨウ素もしくはフッ素)、アジドなとの酸残基
が挙げられ、ここで1アシルオキシ」におけるアシル部
分としては前に例示したものが言及できる。
Suitable R include acid residues such as acyloxy, halogen (e.g., chlorine, bromine, iodine or fluorine), and azide, where the acyl moiety in "1 acyloxy" may include those exemplified above. .

好適な窒素原子2個以上含有複素環カチオン基としては
、窒素原子2個以上含有、飽和または不飽和の、単環ま
たは多環の複素環カチオン基が挙げられる。
Suitable heterocyclic cationic groups containing two or more nitrogen atoms include saturated or unsaturated, monocyclic or polycyclic heterocyclic cationic groups containing two or more nitrogen atoms.

窒素原子2個以上含有複素環カチオン基として好ましい
のは、窒素原子を2個以上含有する不飽和5〜6員複素
単環カチオン基、たとえばイミタゾリオ、ピラゾリオ、
トリアゾリオ(例、1.2.3−トリアゾリオ、1,5
.4−トリアゾリオもしくは1,2.4−トリアゾリオ
)、テトラゾリオ、ピリダシニオ、ピリミジニオ、ピラ
ジニオ、トリアジニオ(例、1,2.3−トリアジニオ
、1゜2.4−トリアジニオもしくは1,3.5−トリ
アジニオ)、テトラジニ、dなど;窒素原子を2個以上
含有する不飽和縮合複素環カチオン基、たとニオ、プテ
リシニオなど;などてあり、これらの窒素原子2個以上
含有複素環カチオン基は、ヒドロキシ、低級アルキル(
例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブー23− チル、ペンチル、ヘキシルなど)、アミン、ハロゲン(
例、塩素、臭素、ヨウ素もしくけフッ素)、低級アJ’
Vコキシ(例、メトキシ、エトキシ、プロポキシなど)
、低級アルキルチオ(例、メチルチオ、エチルチオ、プ
ロピルチオ、イソプロピルチオなと)、カルボキシ、保
護されたカルボキシ、上述したような低級アルケニル、
ヒドロキシ低級アルギ/1/(例、ヒドロキシメチル、
ヒドロキシエチルなど)などの適当な置換基1〜6個で
置換されていてもよい。
Preferred heterocyclic cation groups containing two or more nitrogen atoms are unsaturated 5- to 6-membered heteromonocyclic cation groups containing two or more nitrogen atoms, such as imitazolio, pyrazolio,
triazolio (e.g., 1.2.3-triazolio, 1,5
.. 4-triazinio or 1,2,4-triazinio), tetrazolio, pyridacinio, pyrimidinio, pyrazinio, triazinio (e.g. 1,2,3-triazinio, 1°2,4-triazinio or 1,3,5-triazinio), Tetrazini, d, etc.; Unsaturated fused heterocyclic cationic groups containing two or more nitrogen atoms, such as tano, ptericinio, etc.; these heterocyclic cationic groups containing two or more nitrogen atoms include hydroxy, lower alkyl (
examples, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, pentyl, hexyl, etc.), amines, halogens (
For example, chlorine, bromine, iodine or fluorine), lower aJ'
V-coxy (e.g., methoxy, ethoxy, propoxy, etc.)
, lower alkylthio (e.g., methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio, etc.), carboxy, protected carboxy, lower alkenyl as described above,
Hydroxy lower algi/1/ (e.g. hydroxymethyl,
It may be substituted with 1 to 6 suitable substituents such as hydroxyethyl, etc.).

好適な[保護されたカルボキシ」としては「エステル化
されたカルボキシ」が挙げられ、「エステル化されたカ
ルボキシ」における好適ナエヌテル部分ハ、低級アルキ
ルエステ)v (例、メチルエステル、エチルエステル
、プロピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエ
ステル、イソブチルエステル、t−ブチルエステル、ペ
ンチルエステル、t−ペンチルエステル、ヘキシルエス
テル、1−シクロプロピルエチルエステル彦ど)、低級
アルケニルエステル(例、24− ビニルエステル、アリルエステルな、!:”LMアルキ
ニルエステル(例、エチルエステル、プロピニルエステ
ルなト)、モノ(モジくハシモシラハトリ)へ口低級ア
ルキルエヌテ/I/(例、2−ヨードエチルエステル、
2,2.2−1−リクロロエチルエヌテルなど)低級ア
ルカノイルオキシ低級アルキルエステ)V(例、アセト
キシメチルエステル、プロピオニルオキシメチルエステ
ル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリルオキシメ
チルエヌテル、ピバロイ)’V;4キシメチルエステル
、ヘキサノイルオキシメチルエステル、2−アセトキシ
エチルエステル、2−プロビオニルオキシエチルエステ
/L/々ど)、低級アルカンスルホニル低級アルキルエ
ステル(例、メシルメチルエステル、2−メシルエチル
エステルなど)、アリール低級アルキルエステル、たと
えば1もしぐけ2以上の適当な置換基装置シルエステル
、フェネチルエステル、トリチルエステル、ジフェニル
メチルエステル、ビス(メトキシフェニル)メチルエス
テル、3.4−ジメトキシベンジルエステル、4−ヒド
ロキシ−5,5−シーtert−プチルベンジルエヌテ
ルなど)、1または2以」二の適当な置換基を有してい
てもよいアリールエステル(例、フェニルエステル、鮭
すルエステル、t−ブチルフェニルエステル、キシリル
エステル、メチルエステル、クメニルエヌテ/vftど
)などが挙げられる。
Suitable [protected carboxy] includes "esterified carboxy", and preferred examples of "esterified carboxy" include lower alkyl esters (e.g., methyl ester, ethyl ester, propyl ester). , isopropyl ester, butyl ester, isobutyl ester, t-butyl ester, pentyl ester, t-pentyl ester, hexyl ester, 1-cyclopropylethyl ester, etc.), lower alkenyl esters (e.g., 24-vinyl ester, allyl ester, etc.) ,!:"LM alkynyl ester (e.g., ethyl ester, propynyl ester), mono (lower alkyl ester/I/) (e.g., 2-iodoethyl ester,
2,2.2-1-lichloroethyl ether, etc.) lower alkanoyloxy lower alkyl ester) V (e.g., acetoxymethyl ester, propionyloxymethyl ester, butyryloxymethyl ester, valeryloxymethyl ether, pivaloy) 'V; 4-oxymethyl ester, hexanoyloxymethyl ester, 2-acetoxyethyl ester, 2-probionyloxyethyl ester/L/etc.), lower alkanesulfonyl lower alkyl ester (e.g., mesylmethyl ester, 2-mesyl ethyl ester, etc.), aryl lower alkyl ester, such as syl ester with one or more suitable substituents, phenethyl ester, trityl ester, diphenylmethyl ester, bis(methoxyphenyl)methyl ester, 3,4-dimethoxybenzyl ester , 4-hydroxy-5,5-tert-butylbenzyl ester, etc.), aryl esters which may have one or more suitable substituents (e.g., phenyl ester, salmon ester, tert-butyl benzyl ester, etc.) -butylphenyl ester, xylyl ester, methyl ester, cumenyl ente/vft, etc.).

窒素原子2個以」二含有複素環化合物は」二連したよう
な窒素原子2個以上含有複素環カチオン基に対応する複
素環化合物を意味する。
A "di-containing heterocyclic compound having two or more nitrogen atoms" means a heterocyclic compound corresponding to a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms, such as a di-concatenation.

Xで示される好適な酸残基としては上述したものが言及
されうる。
As suitable acid residues for X, mention may be made of those mentioned above.

目的化合物(1)の好ましい態様は次の通りである: R1の好ましい態様はアミノであり、 R2は低級アルキル、加レボキシ低級アルキル、低級ア
ルキルチオ低級アルキル、低級アルケニル、低級アルギ
ニ/1/またはシクロ低級アルケニルであり、 ・′−゛\ 式−N、蔓、、で示される基はトリアルキル、イミタゾ
リオ、ピリミジニオ、ピラゾリオ、ピリダシニオまだは
ピラシニオであり、これらの基は1個の低級アルキル、
アミノ、低級アルケニル、ハロゲン、ヒドロキシtol
dヒドロキシ低級アルキルで置換されていてもよい。
Preferred embodiments of the target compound (1) are as follows: A preferred embodiment of R1 is amino, and R2 is lower alkyl, levoxy-lower alkyl, lower alkylthio-lower alkyl, lower alkenyl, lower argini/1/ or cyclo-lower. It is alkenyl, ・'-゛\ The group represented by the formula -N, , is trialkyl, imitazolio, pyrimidinio, pyrazolio, pyridacinio or piracinio, and these groups include one lower alkyl,
Amino, lower alkenyl, halogen, hydroxy tol
d-Hydroxy may be substituted with lower alkyl.

この発明の目的化合物の製造法について次に詳述する。The method for producing the object compound of the present invention will be described in detail below.

方舊」 目的化合物(1)またはその塩類は、化合物(It)ま
たはその塩類に化合物(l[l)を作用させることによ
り製造できる。
The target compound (1) or a salt thereof can be produced by reacting a compound (l[l) with a compound (It) or a salt thereof.

化合物(1)の好適7塩としては、化合物(月に対して
例示したものが挙けられる。
Preferred 7-salts of compound (1) include those exemplified for compound (moon).

この反応は、水、リン酸緩*]Lアセトン、クロロホル
ム、アセトコ1゛リル、二l゛ロベンセン、塩化メチレ
ン、塩化エチレン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミ
ド、メタノール、エタノール、エーテル、テトラヒドロ
フラン、シメ27− チルスルホキンド、またはその他の反応に悪影響を及ぼ
さない有機溶媒のような溶媒中で、好1しくけ極性の強
いI@媒中で実施できる。これらの溶媒のうち、親水性
溶媒は水との混合物として使用してもよい。反応は中性
伺近の媒質中で行表うのが好ましい。化合物(It)を
遊離形態で使用する場合、反応は塩基の存在下に実施す
るのが好捷しい。塩基の例としては、アルカリ金属水酸
化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩など
の無機塩基、トリアルキルアミンなどの有機塩基が使用
できる。反応温度に特に制限はないが、通常は室l晶、
加温まだは加熱下に反応を行なう。この反応はアルカリ
金属ハロゲン化物(例、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリ
ウムなど)、アルカリ金属チオシアン酸塩(例、チオシ
アン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウムなど)などの
存在下に行なうのが好ましい。
This reaction consists of water, phosphoric acid, diluted L-acetone, chloroform, acetocolyl, dichlorobenzene, methylene chloride, ethylene chloride, formamide, dimethylformamide, methanol, ethanol, ether, tetrahydrofuran, sulfoquinide, Alternatively, the reaction can be carried out in a solvent such as an organic solvent that does not adversely affect other reactions, preferably in a highly polar I@ medium. Among these solvents, hydrophilic solvents may be used as a mixture with water. Preferably, the reaction is carried out in a neutral medium. When compound (It) is used in free form, the reaction is preferably carried out in the presence of a base. Examples of bases that can be used include inorganic bases such as alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal bicarbonates, and organic bases such as trialkylamines. There is no particular restriction on the reaction temperature, but usually the reaction temperature is
The reaction is carried out under heating. This reaction is preferably carried out in the presence of an alkali metal halide (eg, sodium iodide, potassium iodide, etc.), an alkali metal thiocyanate (eg, sodium thiocyanate, potassium thiocyanate, etc.).

方法2 化合物(1)またはその塩類は、化合物借)をカルボキ
シ保護基の脱離反応に付すことにより製造=28− できる。
Method 2 Compound (1) or a salt thereof can be produced by subjecting compound (1) to an elimination reaction of the carboxy protecting group.

この脱離反応には、カルボキシ保護基の脱離に使用され
る情用の方法、たとえば、加水分解、還元、ルイス酸を
利用した脱離などのいずれもが適用できる。カルボキシ
保護基がエステルである場合、加水分解またはルイス酸
を用いた脱離が採用できる。加水分解は塩基または酸の
存在下に行なうのが好ましい。好適な塩基としては無機
塩基と有機塩基の両方が挙げられる。
For this elimination reaction, any of the conventional methods used for eliminating carboxy protecting groups, such as hydrolysis, reduction, elimination using a Lewis acid, etc., can be applied. When the carboxy protecting group is an ester, hydrolysis or elimination using a Lewis acid can be employed. Hydrolysis is preferably carried out in the presence of a base or an acid. Suitable bases include both inorganic and organic bases.

鼾声な酸としては、有機酸(例、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸など)および無機酸(例、塩酸、臭化水素酸、硫酸
など)が挙げらねる。
Harsh acids include organic acids (eg, formic acid, acetic acid, propionic acid, etc.) and inorganic acids (eg, hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, etc.).

この加水分解は、有機溶媒、水まだはこれらの混合溶媒
中で通常行なわれる。
This hydrolysis is usually carried out in an organic solvent, water or a mixed solvent thereof.

反応温度に特に制限はなく、カルボキシ保護基の種類お
よび脱離法により適宜選択しうる。
The reaction temperature is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the type of carboxy protecting group and the elimination method.

ルイス酸を用いた脱A「は、化合物借)にルイス酸を作
用させることにより行なわれる。ルイス酸としては、三
ハロゲン化ホウ素(例、三塩化ホウ素、三フッ化ホウ素
など)、四ハロゲン化チタン(例、四塩化チタン、四臭
化チタンなど)、四ハロゲン化ヌズ(例、四塩化スズ、
四臭化スズなど)、ハロゲン化アルミニウム(例、塩化
アルミニウム、臭化アルミニウムなト)、トリへ口酢酸
(例、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸など)などが
使用できる。この脱離反応はカチオン捕捉剤(例、アニ
ソール、フェノールなど)の存在下に行なうのが好まし
く、寸だ通常はニトロアルカン(例、ニトロメタン、ニ
トロエタン々と)、ハロゲン化アルキレン(例、塩化メ
チレン、塩化エチレンなど)、ジエチルエーテル、二硫
化炭素その他の反応に悪影響を及はさない溶媒中で行な
われる。これらの溶媒は混合溶媒として使用してもよい
。反応温度に特に制限はないが、通常は冷却下、室温ま
たは加温下に反応を行なう。
De-A using a Lewis acid is carried out by reacting a compound with a Lewis acid.Lewis acids include boron trihalides (e.g., boron trichloride, boron trifluoride, etc.), tetrahalides, etc. Titanium (e.g., titanium tetrachloride, titanium tetrabromide, etc.), tetrahalide (e.g., tin tetrachloride,
(e.g., tin tetrabromide, etc.), aluminum halides (e.g., aluminum chloride, aluminum bromide, etc.), trihexacetic acid (e.g., trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, etc.), and the like can be used. This elimination reaction is preferably carried out in the presence of a cation scavenger (e.g., anisole, phenol, etc.), and is usually carried out in the presence of nitroalkanes (e.g., nitromethane, nitroethane, etc.), alkylene halides (e.g., methylene chloride, (e.g., ethylene chloride), diethyl ether, carbon disulfide, and other solvents that do not adversely affect the reaction. These solvents may be used as a mixed solvent. Although there is no particular restriction on the reaction temperature, the reaction is usually carried out under cooling, at room temperature, or under heating.

還元による脱離は、ハロ低級アルキル(例、2−ヨード
エチル、2.2.2−トリクロロエチルなど)エステル
、アリール低級アルキ/l’ (例、ベンジル、ニトロ
ペンシルなト)エステ)V々どの保護基の脱離に適用す
るのが好捷しい。この脱離反応に適用できる還元法とし
ては、たとえば、金属(例、亜鉛、亜鉛アマルガムなど
)もしくけクロム化合物塩(例、塩化第一クロム、酢酸
第一クロムなど)と有機もしくは無機酸(例、酢酸、プ
ロピオン酸、塩酸など)どの混合物を使用した還元、な
らびに慣用の金1触媒(例、パラジウム/炭素、ラネー
ニッケルなど)の存在下での慣用の接解還元が挙けられ
る。
Elimination by reduction protects halo-lower alkyl (e.g., 2-iodoethyl, 2.2.2-trichloroethyl, etc.) ester, aryl-lower alkyl/l' (e.g., benzyl, nitropencyl, ester), etc. It is preferable to apply this method to the elimination of groups. Reduction methods that can be applied to this elimination reaction include, for example, metals (e.g., zinc, zinc amalgam, etc.) or chromium compound salts (e.g., chromous chloride, chromous acetate, etc.) and organic or inorganic acids (e.g., , acetic acid, propionic acid, hydrochloric acid, etc.), as well as conventional catalytic reductions in the presence of conventional gold-1 catalysts (eg, palladium/carbon, Raney nickel, etc.).

この還元は水、アルコ−/I/(例、メタノール、エタ
ノールなど)、テトラヒドロフランその他の反応に豊影
響を及ぼさない溶媒中で通常行なわれる。これらの溶媒
は混合溶媒として使用してもよい。反応温度に特に制限
はないが、通常は冷却、室温または加温下に反応を行表
う。
This reduction is usually carried out in water, alcohol/I/ (eg, methanol, ethanol, etc.), tetrahydrofuran, or other solvents that do not affect the reaction favorably. These solvents may be used as a mixed solvent. Although there is no particular restriction on the reaction temperature, the reaction is usually carried out under cooling, room temperature, or heating.

出発化合物(IV)の製造について次に詳述する。The production of starting compound (IV) will be detailed below.

製造法1 化合物(IX)は化合物(2)しまたはその塩類に武将
 )−一ノ で示される化合物を作用させることにより製造できる。
Production method 1 Compound (IX) can be produced by reacting compound (2) or a salt thereof with a compound represented by the following formula.

31− この反応は方法1と同様の方法により実施できる。31- This reaction can be carried out in a manner similar to Method 1.

製造法2 イし合物借)は化合物(IXIを還元することによりy
す造できる。
Production method 2 By reducing the compound (IXI), y
Can be built.

この還元は、セファロスポリン化合物中の一乙一基を−
S−基に還元できる慣用の還元剤、たとえば、三ハロゲ
ン化リン(例、三塩化リン)のようなハロゲン化リン、
の存在下に実施できる。
This reduction converts each group in the cephalosporin compound to -
A conventional reducing agent capable of reducing the S-group, e.g. a phosphorus halide such as phosphorus trihalide (e.g. phosphorus trichloride);
can be carried out in the presence of

この発明の目的化合物(1)は高い抗菌活性を示し、ク
ラム陽性およびダラム陰性病原菌を含む多数の轍生物の
増殖を抑制する。
The object compound (1) of the present invention exhibits high antibacterial activity and inhibits the growth of a large number of rut organisms, including Crumb-positive and Durham-negative pathogens.

目的化合物(1)を医薬として用いる場合は、医薬上許
容される塩の形で用いてもよい。
When the target compound (1) is used as a medicine, it may be used in the form of a pharmaceutically acceptable salt.

この発明のセフェム化合物(1)またはその塩類は、治
療を目的として投与されるに際し、この化合物に医薬と
して許容しうる媒体、例えは経口、非経口もしくは外用
投午に適した有機もしくは無機、固体または液体の賦形
剤を?14和した製剤の形で使用される。このような製
剤としては、62− カプセル、錠剤、顆粒剤、軟膏、坐剤等の固体状製剤、
まだは溶液剤、懸濁剤もしくは乳剤等の液剤がある。さ
らに所望により前記製剤中に補助剤、安定剤、湿潤剤も
しくは乳化剤、緩衝剤、その他の悄用添加剤等を含有さ
せることもできる。
When the cephem compound (1) of this invention or its salts are administered for therapeutic purposes, the compound can be administered in a pharmaceutically acceptable medium, such as an organic or inorganic solid suitable for oral, parenteral or topical administration. Or liquid excipients? It is used in the form of a 14-hydrated preparation. Such preparations include 62- solid preparations such as capsules, tablets, granules, ointments, and suppositories;
There are still liquid formulations such as solutions, suspensions, and emulsions. Furthermore, if desired, the preparation may contain adjuvants, stabilizers, wetting agents or emulsifiers, buffers, other additives for palatability, and the like.

有効化合物の投与量は患者の年令および症状に応じても
変動するが、この発明の化合物の平均的な1回の投与量
としては、約50yly、100弘250#I&および
500 Qの開が多くの病原菌により誘起される感染症
の治療に有効である。一般に、日用量としては1〜ない
し約1000#Iy或はそれU上の量が投与されうる。
Although the dosage of the active compound will vary depending on the age and condition of the patient, an average single dose of the compounds of this invention is approximately 50 yly, 100 h 250 #I & 500 Q open. It is effective in treating infections caused by many pathogenic bacteria. Generally, a daily dose of 1 to about 1000 #Iy or more may be administered.

次に、目的化合物(1)の有用性を示すためにこの発明
に係る代表的化合物の抗菌活性に関する試験データを示
す。
Next, in order to demonstrate the usefulness of the target compound (1), test data regarding the antibacterial activity of representative compounds according to the present invention will be shown.

って求めた。I asked.

トリプチケース・ソーイープロヌ(菌数10個/mZ)
中で一夜培養した各試験菌株の一白金耳ヲハート・イン
フュージョン・アガー(EH−寒天)に接種した。この
培地には抗菌剤が各濃度で含まれており、67℃で20
時間培養した後最低発育明止濃度(MIC)を測定した
。(単位:μf/ /Mt ) 試1−的什合物 (1)7−(2−工トキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド
〕−ろ−(2−メチル−1−ピラゾリオメチル)−5−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体) (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミF
)−3−(1−ピリダシニオメチル)−6−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体) (3)7−(2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアシアシーzLz−3−イル)アセトア
ミド〕−ろ−(1−ピリダシニオメチル)−6−セフニ
ムー4−カルボキシレート(シン異性体) / \ 以下に、この発明を製造例と実施例により説明する。
Trypticase soy pronu (bacterial count 10/mZ)
One platinum loop of each test strain was inoculated onto heart infusion agar (EH-agar), which had been cultured overnight in the culture medium. This medium contains antibacterial agents at various concentrations and is heated to 20°C at 67°C.
After incubation for an hour, the minimum growth concentration (MIC) was measured. (Unit: μf/ /Mt) Test 1 - Compound (1) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamido]-ro-(2-methyl-1-pyrazoliomethyl)-5-
Cephem-4-carboxylate (syn isomer) (2) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide F
)-3-(1-pyridaciniomethyl)-6-cephem-
4-carboxylate (syn isomer) (3) 7-(2-methoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiasiacyzLz-3-yl)acetamido]-ro-(1-pyridaciniomethyl)-6-cefnimu 4-carboxylate (syn isomer) / \ Below, this invention will be described as a production example. This will be explained using an example.

製造例1 五塩化リン(16,6F)の塩化メチレン(150譚l
 )***液に一18°Cで2−工トキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イ/I
/)酢酸(シン異性体)(17,3F)を加え、この混
合物を−13〜−10°Cで15分間攪拌した。一方、
塩化メチレン(400譚l)中の7−アミノ−6−アセ
トアセトキシメチル−6−セフェム−4−カルボン酸(
25,1y)とトリメチルシリルアセトアミド(80F
)との混合物を加温して透明溶液とし、−10°Cに冷
却した。この***液を」二記の活性化混合物に加え、得
られた混合物を一10°Cで1時間攪拌した。反応混合
物を重炭酸ナトリウム(42F)の水溶gjt、(45
0譚l)に投入し、室温で1時間攪拌した。水層を分取
し、6N塩酸でI)H2に調整し、酢酸エチルで抽出し
た。抽出液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
蒸発乾固した。残渣をジエチルエーテルと66− 共に摩砕して、7−(2−エトキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾニル−6−イ/I/)
アセトアミド〕−5−ア十トアセトキシメチル−3−セ
フェム−4−カルボン酸(シン異性体)(24,5F)
を得た。m9101〜106°C(分解)。
Production Example 1 Phosphorus pentachloride (16,6F) methylene chloride (150 liters)
) in a cold solution at -18 °C.
5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-i/I
/) Acetic acid (syn isomer) (17,3F) was added and the mixture was stirred at -13 to -10°C for 15 minutes. on the other hand,
7-Amino-6-acetoacetoxymethyl-6-cephem-4-carboxylic acid (
25,1y) and trimethylsilylacetamide (80F
) was warmed to a clear solution and cooled to -10°C. This cold solution was added to the activation mixture described in Section 2, and the resulting mixture was stirred at -10°C for 1 hour. The reaction mixture was diluted with an aqueous solution of sodium bicarbonate (42F), (45
The mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The aqueous layer was separated, adjusted to I)H2 with 6N hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The extract was washed with water, dried over anhydrous magnesium sulfate,
Evaporated to dryness. The residue was triturated with diethyl ether to give 7-(2-ethoxyimino-2-(5-
Amino-1,2,4-thiadiazonyl-6-i/I/)
Acetamide]-5-Atentoacetoxymethyl-3-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (24,5F)
I got it. m9101-106°C (decomposition).

工R(Nujol):3400,3300,3170,
1770゜1710.1660.1’620,1525
,1145,1035a++ ’1−メチルー1.2.
3−トリアシー)v(25蝉t)、ヨウ化ナトリウム(
18,OF)および水(3,0+++/)の混合物に8
0°Cで攪拌しながら7−〔2−エトキシイミノ−2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イ)
V)アセトアミド〕セファロスポツン酸ナトリウム(シ
ン異性体)(5,34y)を加え、攪拌を同じ温度で1
時間続けた。この混合物を室温に冷却し、水(25++
/)で希釈し、1N塩酸でI)H2,8に調整した。不
溶物を沖去し、p液を酢酸エチルで洗浄した後、酢酸エ
チルを蒸発除去し、非イオン性吸着樹脂ダイアイオンH
P−20(商標、三菱化成工業製)(160禦l)での
カラムクロマトグラフィーに付した。カラムを水洗した
後、20%メタノール水溶液で溶離を行なった。目的化
合物を含有する溶離液を集め、メタノールを減圧蒸発に
より除去し、凍結乾燥して、7−〔2−エトキシイミノ
−2−(5−アミノ−1,2,4−チア゛ジアゾー/l
/−5−イ1lz)7セ)7ミドー3−〔6−メチル−
1−(1,2,3−トリアゾリオ)メチルクー6−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)(1,0y
)を得た。mp141〜145°C(分解)。
Engineering R (Nujol): 3400, 3300, 3170,
1770°1710.1660.1'620,1525
, 1145, 1035a++ '1-methyl-1.2.
3-triacy)v (25 cicadas), sodium iodide (
8 in a mixture of 18,OF) and water (3,0+++/)
7-[2-Ethoxyimino-2-] with stirring at 0°C.
(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-y)
V) Acetamide] Sodium cephalospotunate (syn isomer) (5,34y) was added and stirred at the same temperature for 1 hour.
It lasted for hours. The mixture was cooled to room temperature and water (25++
/) and adjusted to I)H2.8 with 1N hydrochloric acid. After removing the insoluble matter and washing the p solution with ethyl acetate, the ethyl acetate was removed by evaporation, and the nonionic adsorption resin Diaion H was added.
It was subjected to column chromatography using P-20 (trademark, manufactured by Mitsubishi Chemical Industries, Ltd.) (160 mm). After washing the column with water, elution was performed with a 20% methanol aqueous solution. The eluate containing the target compound was collected, methanol was removed by vacuum evaporation, and lyophilized to give 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole/l).
/-5-i1lz)7ce)7mido3-[6-methyl-
1-(1,2,3-triazolio)methylcou 6-cephem-4-carboxylate (syn isomer) (1,0y
) was obtained. mp141-145°C (decomposition).

IP(Nujol):3400−3100.1770,
1660,1610゜1530.1035z ’ NMR(DMSO−C16,δ):1.23(3H,t
、、■=7Hz )。
IP (Nujol): 3400-3100.1770,
1660,1610°1530.1035z' NMR (DMSO-C16, δ): 1.23 (3H, t
,,■=7Hz).

3.15 オよび3.55(2H’、ABq、J=18
Hz)、4.13(2H,q、J=7Hz)、4.3[
](6H,s)、5.00(IH。
3.15 O and 3.55 (2H', ABq, J=18
Hz), 4.13 (2H, q, J=7Hz), 4.3[
] (6H, s), 5.00 (IH.

d−、J=5Hz ) 、 5.30および5.59(
2H,AB(1、J=14Hz)、5.67(IH,2
d、J=5および8Hz)。
d-, J=5Hz), 5.30 and 5.59 (
2H, AB (1, J = 14Hz), 5.67 (IH, 2
d, J = 5 and 8 Hz).

816(2H,bs)、8.82NH,s)、9.06
(IH,s)。
816 (2H, bs), 8.82NH, s), 9.06
(IH, s).

9.42(IH,d、J=8Hz) 実施例2 ヨウ化ナトリウム(12,25F)、5−メチルピリミ
ジン(1,867y)、水(2,5g?)およびアセト
ニトリル(7,5肩t)の混合物に、60°Cで攪拌し
ながら7−〔2−工1−キシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イル)アセト
アミド〕−3−アセトアセトキシメチ/1z−6−セフ
ェム−4−カルボン酸(シン異性体)(5,0y)を加
え、攪拌を同じ温度で1時間続けた。反応混合物を室温
に冷却し、水(151]/)と酢酸エチル(100*t
)との混合物で希釈した後、1N塩酸でp H2に調整
した。う水層を分取し、酢酸エチルで洗浄し、酢酸エチ
ルを蒸発除去した後、非イオン性吸着樹脂ダイアイオン
HP−2069− (150*t4)でのカラムクロマトクラフィーに付し
た。カラムを水洗した後、60%メタノール水溶液で溶
離を行なった。目的化合物を含有する溶離液を集め、4
0vrlまで減圧濃縮し、酸性アルミナ(10y)に通
し、凍結乾燥して、7−(2−エトキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)
アセトアミド、l−3−(5−メチル−1−ピリミジニ
オメチル)−6−ヒフエム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)(1,45F)を得た。mlN35〜140
°C(分解)。
9.42 (IH, d, J = 8 Hz) Example 2 Sodium iodide (12,25F), 5-methylpyrimidine (1,867y), water (2,5g?) and acetonitrile (7,5 shoulder t) 7-[2-ethyl-1-ximino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-/l/-3-yl)acetamido]-3-acetamide was added to the mixture with stirring at 60 °C. Acetoxymethy/1z-6-cephem-4-carboxylic acid (syn isomer) (5,0y) was added and stirring continued at the same temperature for 1 hour. The reaction mixture was cooled to room temperature and mixed with water (151]/) and ethyl acetate (100*t
) and then adjusted to pH 2 with 1N hydrochloric acid. The aqueous layer was separated, washed with ethyl acetate, ethyl acetate was removed by evaporation, and then subjected to column chromatography using a nonionic adsorption resin Diaion HP-2069- (150*t4). After washing the column with water, elution was performed with a 60% methanol aqueous solution. Collect the eluate containing the target compound, and
Concentrate under reduced pressure to 0 vrl, pass through acidic alumina (10y), and lyophilize to give 7-(2-ethoxyimino-2-(
5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)
Acetamide, 1-3-(5-methyl-1-pyrimidiniomethyl)-6-hyphem-4-carboxylate (syn isomer) (1,45F) was obtained. mlN35-140
°C (decomposition).

IP(Nujol) :3250,3150 、177
0.1660 。
IP (Nujol): 3250, 3150, 177
0.1660.

1610.1520a ’ NMR(D20.δ):1.32(3H,t、J=7H
2)、2.58(3H,s)、3.28および3.72
(2H,ABq、J=18Hz) 、4.33(2H,
q 、J=7Hz) 、5.30(IH。
1610.1520a' NMR (D20.δ): 1.32 (3H, t, J=7H
2), 2.58 (3H, s), 3.28 and 3.72
(2H, ABq, J=18Hz) , 4.33 (2H,
q, J=7Hz), 5.30 (IH.

d、 J=5Hz) 、5.37 オヨU 5.60(
2H,ABq 。
d, J=5Hz), 5.37 Oyo U 5.60(
2H, ABq.

J=14Hz)、5.90(IH,d、J=5Hz)、
9.25(2H,s)、9.60(IH,s) 実施例5 40一 実施例1および2と同様の方法により下記の化合物を得
た。
J=14Hz), 5.90 (IH, d, J=5Hz),
9.25 (2H, s), 9.60 (IH, s) Example 5 40 The following compound was obtained in the same manner as in Examples 1 and 2.

(1)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトア
ミド〕−6−(2−メチzlz−1−ビラゾリオメチ/
L’ ) −3−セフェム−4−カルボキシレ一ト(シ
ン異性体)、mpl 48〜158°C(分解)。
(1) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide]-6-(2-methyzlz-1-virazoliomethi/
L') -3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), mpl 48-158°C (decomposition).

IP(Nujol):3400−3100!770,1
665゜1610.1530z ’ Nlv!R(D20.δ):1.34(3H,t、J=
7Hz)、3.19゜3.57(2H,ABq、、J=
18Hz)、4.11(3H,s)。
IP (Nujol): 3400-3100!770,1
665°1610.1530z' Nlv! R (D20.δ): 1.34 (3H, t, J=
7Hz), 3.19°3.57 (2H, ABq,, J=
18Hz), 4.11 (3H, s).

4.37(2H,cl、J=7Hz)、5.27(IH
,d、J=5Hz)。
4.37 (2H, cl, J=7Hz), 5.27 (IH
, d, J=5Hz).

5.23および557(2H,ABq、、J=15Hz
)、5738(IH,d、J=5Hz)、6.78(I
H,t、J=3Hz)。
5.23 and 557 (2H, ABq,, J=15Hz
), 5738 (IH, d, J=5Hz), 6.78 (I
H, t, J = 3Hz).

821 (2H,d、J=3Hz) (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−3−・イル)アセトアミ
ド)−3−(1−ピリダシニオメチ)v ) −3−セ
フェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、m91
55〜160°C(分解)。
821 (2H, d, J = 3Hz) (2) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-3-·yl)acetamide)-3-(1-pyridacyniomethi)v)-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), m91
55-160°C (decomposition).

工R(Nujol) :3400−3100 、177
0 、1660 。
Engineering R (Nujol): 3400-3100, 177
0, 1660.

1610.1530,1350.1040c1N”NM
M3CD20. δ):1.23(3丁(、t 、 J
=7Hz ) 、3.05−3.92(2H,m) 、
4.20(2H,q、J=7Hz)、5.10(IH,
d、J=5Hz)、5.4−5.9(2H,m) 、5
.77(IH,d、J=5Hz) 、7.67(IH,
m)、8.42(IH,m)、9.20(IH,m)、
9.52(IH,m)(3)  7−C2−エトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)アセトアミド)−3−(’1−ビラジニオ
メチル)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)、m])165〜170°C(分解)、。
1610.1530, 1350.1040c1N”NM
M3CD20. δ): 1.23 (3 pieces (, t, J
=7Hz), 3.05-3.92 (2H, m),
4.20 (2H, q, J=7Hz), 5.10 (IH,
d, J=5Hz), 5.4-5.9 (2H, m), 5
.. 77 (IH, d, J=5Hz), 7.67 (IH,
m), 8.42 (IH, m), 9.20 (IH, m),
9.52(IH,m)(3) 7-C2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide)-3-('1-biradiniomethyl)-6 -cephem-4-carboxylate (syn isomer), m]) 165-170°C (decomposition).

IR(Nujo工):3250,3150,1770.
1660゜1610 、1520c1n NMR(D20.δC1,30(3H,t、J=7Hz
)、3.27および5.72 (2H,ABq、 、J
=18Hz) 、 4.33(2H,q 。
IR (Nujo Engineering): 3250, 3150, 1770.
1660°1610, 1520c1n NMR (D20.δC1,30(3H,t, J=7Hz
), 3.27 and 5.72 (2H,ABq, ,J
=18Hz), 4.33(2H,q.

J=7Hz)、5.30(IH,d、J=5Hz)、 
5.47および5.75(2H,ABq 、J=14H
z)、5.90(IH,d、J=5H2)、9.13(
2H,bS)、9.45(2H,bs)(4)7−(2
−メトキシイミノ−2−(5−アミノー1.2.4−チ
アジアゾ−)v−5−イル)アセトアミド”]−3−(
1−ピリダシニオメチル)−6−セフェム−4−カルボ
キシV−1−(シ:/M性体)、mp165〜170°
C(分解)、ッ IR(Nujol) :3400−3100.1770
.1660−1580 。
J=7Hz), 5.30 (IH, d, J=5Hz),
5.47 and 5.75 (2H, ABq, J=14H
z), 5.90 (IH, d, J = 5H2), 9.13 (
2H, bS), 9.45 (2H, bs) (4) 7-(2
-methoxyimino-2-(5-amino-1.2.4-thiadiazol-)v-5-yl)acetamide"]-3-(
1-pyridaciniomethyl)-6-cephem-4-carboxy V-1-(C:/M-form), mp165-170°
C (decomposition), IR (Nujol): 3400-3100.1770
.. 1660-1580.

1530 、1040 crt。1530 , 1040 crt.

NMR(D20.δ) : 3.47および3.83 
(2H、ABq 、 J=18Hz) 、4.05(3
H,s) 、5.25(IH,d、、J=5)4z) 
NMR (D20.δ): 3.47 and 3.83
(2H, ABq, J=18Hz), 4.05(3
H,s), 5.25(IH,d,, J=5)4z)
.

5.72(2H,broad、 s ) 、 587(
IH,d、 J=5Hz) 。
5.72 (2H, broad, s), 587 (
IH, d, J=5Hz).

8.5−8.7(2H,m) 、 9.4−9.6(I
H,m) 、 9.7−9.9(IH,m) (5)7−(2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イzlz)アセトア
ミド)−3−(2−メチ)v−1−ピラゾリオメチル)
−6−セフェム−4−カルホキシレーY(シン異性体)
、m9100〜110°C(分解)。
8.5-8.7 (2H, m), 9.4-9.6 (I
H, m), 9.7-9.9 (IH, m) (5) 7-(2-methoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-6-izlz)acetamido)-3-(2-methy)v-1-pyrazoliomethyl)
-6-cephem-4-carboxylene Y (syn isomer)
, m9100-110°C (decomposition).

IR(Nujo工C3400−3100,1770,1
660,1610゜1530.1285.10351m
 1HMR(D20.δ) : 3.15および3.8
7(2H,ABq、J=18Hz)、4.05(3H,
s)、4.08(3H,s)、5.21(IH,cl、
J=5Hz)、5.22オ、J:び5.49 (2H、
ABq、 。
IR (Nujo Engineering C3400-3100, 1770, 1
660,1610゜1530.1285.10351m
1HMR (D20.δ): 3.15 and 3.8
7 (2H, ABq, J=18Hz), 4.05 (3H,
s), 4.08 (3H, s), 5.21 (IH, cl,
J=5Hz), 5.22o, J:bi5.49 (2H,
ABq, .

J−=14Hz)、5.83(IH,d、J=5Hz)
、6.7−6.8(IH,m)、8.1−8.3(2H
,m)(6)  7− (2−エトキシイミノ−2−(
5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−/v−6−イル
)アセトアミド)−3−(2−エチル−1−ピラゾリオ
メチル)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シン
異性体)、mpl 5 El〜155°C(分解)。
J-=14Hz), 5.83 (IH, d, J=5Hz)
, 6.7-6.8 (IH, m), 8.1-8.3 (2H
, m) (6) 7- (2-ethoxyimino-2-(
5-amino-1,2,4-thiadiazol-/v-6-yl)acetamide)-3-(2-ethyl-1-pyrazoliomethyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), mpl 5 El~155°C (decomposed).

IR(Nujol):3300,3100,1770,
1670゜1610 、1525 CIn NMR(D20.δ):1.32(3H,t、J=7H
z) 、1.53(3H,t 、 J=7Hz ) 、
 3.13および3.54(2H。
IR (Nujol): 3300, 3100, 1770,
1670°1610, 1525 CIn NMR (D20.δ): 1.32 (3H, t, J=7H
z), 1.53 (3H,t, J=7Hz),
3.13 and 3.54 (2H.

ABq、J=18Hz)、4.33(4H,q、J=7
Hz)。
ABq, J=18Hz), 4.33 (4H,q, J=7
Hz).

5.25(IH,d、J=5Hz)、5.4(2H,m
)、5.85(IH,d、J=5Hz)、6.7−6.
9(IH,m)。
5.25 (IH, d, J = 5Hz), 5.4 (2H, m
), 5.85 (IH, d, J=5Hz), 6.7-6.
9 (IH, m).

8.2−8.3 (2H、m ) (7)  7− (2−アリルオキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−六アシアシーtv−6−イル)
アセトアミド)−3−(2−メチzl/−1−ピラゾリ
オメチ/l/ ) −3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、mp165〜175°C(分解)
8.2-8.3 (2H, m) (7) 7- (2-allyloxyimino-2-(5
-amino-1,2,4-hexaacytv-6-yl)
acetamido)-3-(2-methyzl/-1-pyrazoliomethy/l/)-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), mp165-175°C (decomposition)
.

JR(Nu、301) :5200.3100.177
0.1670゜1610 、152OrIn NMB(’D20.δ):3.20および3.60(2
H,AB(1,J=18Hz) 、4.15(3H,s
) 、4.60−4.95(2H,m) 。
JR (Nu, 301): 5200.3100.177
0.1670°1610, 152OrIn NMB ('D20.δ): 3.20 and 3.60 (2
H, AB (1, J = 18Hz), 4.15 (3H, s
), 4.60-4.95 (2H, m).

530(IH,d、、J=5Hz)、5.16−5.6
3(4H,m)。
530 (IH, d,, J=5Hz), 5.16-5.6
3 (4H, m).

5.8−64(2H,m) 、6.80(IH,t、J
=3Hz) 。
5.8-64 (2H, m), 6.80 (IH, t, J
=3Hz).

8.20 (2H、d、 J=3Hz )(8)  7
−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセ
トアミド、)l−3−(1−ピリダシニオメチル)−5
−士フエムー4−カルボキシレート(シン異性体)、m
9160〜165°C(分解)。
8.20 (2H, d, J=3Hz) (8) 7
-(2-(2-propynyloxyimino)-2-(5-
Amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide,)l-3-(1-pyridaciniomethyl)-5
-Femu 4-carboxylate (syn isomer), m
9160-165°C (decomposition).

IP(Nujol) :3250 、3200.310
0 、1770 。
IP (Nujol): 3250, 3200.310
0, 1770.

1660.1620.1520鋼 NMR(D20.δ)−6,03(IH,t、J=2H
2)、3.48および3.83(2H,ABq 、J=
18Hz) 、 4.93(2H,d。
1660.1620.1520 steel NMR (D20.δ) -6,03 (IH, t, J=2H
2), 3.48 and 3.83 (2H, ABq, J=
18Hz), 4.93 (2H, d.

J=2Hz) 、 5.27(I H,cl、J=5H
1、5,73(2H,broacl s)、5.88(
IH,d、J=5Hz)。
J=2Hz), 5.27(IH,cl, J=5H
1, 5, 73 (2H, broacl s), 5.88 (
IH, d, J = 5Hz).

8.60(2H,m)、9.47(1B、m) 、9.
83(IH,m)(9)  7− (2−(2−プロピ
ニルオキシイミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアジアゾール−6−イル)アセトアミド)−3−(2
−メチ/l/−1−ビラゾリオメチ/L’)−3〜セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、mp16
0〜170°C(分解)。
8.60 (2H, m), 9.47 (1B, m), 9.
83(IH,m)(9) 7- (2-(2-propynyloxyimino)-2-(5-amino-1,2,4-
thiadiazol-6-yl)acetamide)-3-(2
-Methi/l/-1-virazoliomethi/L')-3~cephem-4-carboxylate (syn isomer), mp16
0-170°C (decomposition).

IJ?(Nu、コ0IC3250−3100,1760
,1670゜1610.1520n 1 NMR(D20.δ) :3J]5(IH,t、J=2
Hz)、320および3.58(2H,ABq 、J=
18Hz)、4.13(3H。
IJ? (Nu, Ko0IC3250-3100,1760
,1670°1610.1520n 1 NMR (D20.δ) :3J]5(IH,t,J=2
Hz), 320 and 3.58 (2H, ABq, J=
18Hz), 4.13 (3H.

S)、4.97(2H,d、J=2H2)、5.30(
IH,d。
S), 4.97 (2H, d, J = 2H2), 5.30 (
IH, d.

JsHz ) 、5.27 オよび5.57(2H,A
Bq 、 J=14Hz)、5.92(IH,d−、J
=5Hz)、6.80(IH。
JsHz), 5.27 O and 5.57 (2H, A
Bq, J=14Hz), 5.92 (IH, d-, J
=5Hz), 6.80 (IH.

t、 J=3Hz) 、 8.23(2H,broad
、 s )60)  7−〔2−メチルチオメトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−i、 2.4− :)アジア
シー)v−6−イ/L/)アセトアミド〕−6〜(2−
メチル−1−ヒ°ラソ゛リオノチル)−6−七フェム−
4−カルボキシレ−1−(シン異性体)、mp145−
150°C(分解)。
t, J=3Hz), 8.23(2H, broad
, s)60) 7-[2-Methylthiomethoxyimino-2-(5-amino-i, 2.4-:) Asiacy)v-6-i/L/)acetamide]-6~(2-
Methyl-1-hyperionotyl)-6-7fem-
4-carboxylate-1- (syn isomer), mp145-
150°C (decomposition).

IFi(Nu、io]−):3280,3100.17
70,1665゜1605.1525c1n NMR(D20+CD50D、δ):223(3H,S
)、3.25および3.47(2H,ABq、J=18
Hz)、4.10(3H。
IFi(Nu,io]-):3280,3100.17
70,1665°1605.1525c1n NMR (D20+CD50D, δ): 223 (3H, S
), 3.25 and 3.47 (2H, ABq, J=18
Hz), 4.10 (3H.

s)、5.25(IH,d、、J=5Hz)、5.35
(2H,s)。
s), 5.25 (IH, d,, J=5Hz), 5.35
(2H, s).

528および5.48(2I−T、ABq−、J=14
Hz) 。
528 and 5.48 (2IT, ABq-, J=14
Hz).

5.87(IH,d、J=5Hz)、6.77(IH,
m) 。
5.87 (IH, d, J=5Hz), 6.77 (IH,
m).

8.20(2H,m) (+1) 7−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−
(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−)v−6−イ
ル)アセトアミl−”)−3−(2−メチル−1−ビラ
ゾリオメチ/l/ ) −3−t!フエムー4−カルボ
キシレート(シン異性体)、mp165−170°C(
分解)。
8.20(2H,m) (+1) 7-(2-carboxymethoxyimino-2-
(5-amino-1,2,4-thiadiazol-)v-6-yl)acetamyl-”)-3-(2-methyl-1-virazoliomethyl/l/)-3-t!femu-4-carboxylate (syn isomer), mp165-170°C (
Disassembly).

IR(NujO]−):3400,3290,3160
.3110゜1770.1670,1615.1525
(7)NMR(D20+NaHC06,δ):327お
よび3.47(2H。
IR(NujO]-): 3400, 3290, 3160
.. 3110°1770.1670,1615.1525
(7) NMR (D20+NaHC06, δ): 327 and 3.47 (2H.

ABq、J=18Hz)、4.10(3H,S)、4.
70(2H,S)。
ABq, J=18Hz), 4.10 (3H, S), 4.
70 (2H, S).

(2H,ABq、、J=14Hz)、5.92(’I 
H,d、、J=5Hz)、6.78(IH,m)、8.
22(2H,m)C12)  7−(2−(2−シクロ
ペンテン−1−イルオキシイミノ)−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)アセトアミ
ド)−3−(2−メチル−1−ピラゾリオメチル)−6
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、m
p155−166″C(分解)。
(2H,ABq,,J=14Hz), 5.92('I
H, d, , J=5Hz), 6.78 (IH, m), 8.
22(2H,m)C12) 7-(2-(2-cyclopenten-1-yloxyimino)-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide)-3-( 2-methyl-1-pyrazoliomethyl)-6
-cephem-4-carboxylate (syn isomer), m
p155-166″C (degraded).

工R(Nujol): 3250,3100,1770
,1660゜1605.1525m ” NMR(D20+CD30D、 δ):1.83−26
3(4H,m)。
Engineering R (Nujol): 3250, 3100, 1770
, 1660°1605.1525m” NMR (D20+CD30D, δ): 1.83-26
3 (4H, m).

320および3.43 (2H、ABq、 、 J=1
8Hz ) 。
320 and 3.43 (2H, ABq, , J=1
8Hz).

412(3H,s)、5.17(IH,d、J=s丁J
Z)。
412 (3H, s), 5.17 (IH, d, J = s ding J
Z).

5.13−5.67(3H,m) 、5.80(1丁L
d、J=5Hz)。
5.13-5.67 (3H, m), 5.80 (1 piece L
d, J=5Hz).

5.7.5−636(2H,m> 、6.77(IH,
m) 、 820(2H,m) (13)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4〜チアジアゾール=6−イル)アセトアミ
ド)−3−(2−アリル−1−ビラゾリオメチル)−6
−ヒフエム−4−カルボキシレート(シン異性体)、m
pl 30−140°C(分解)。
5.7.5-636 (2H, m>, 6.77 (IH,
m), 820(2H,m) (13)7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol=6-yl)acetamide)-3-(2-allyl-1 -virazoliomethyl)-6
-hihuem-4-carboxylate (syn isomer), m
pl 30-140°C (decomposition).

JR(Nujo月:3400−3100.1770,1
660,1610゜1530cn+ NMR(D2o、δ):1.32(3Hyb、J=7H
z)、3.13および3.46(2H,AB(1、J=
18Hz)、 4.31 (2H,q、。
JR (Nujo Month: 3400-3100.1770,1
660,1610°1530cn+ NMR (D2o, δ): 1.32 (3Hyb, J=7H
z), 3.13 and 3.46 (2H,AB(1,J=
18Hz), 4.31 (2H,q,.

J=7Hz)、5.0−5.3(4H,m) 、5.2
0(IH,d、、J−5Hz ) 、 5.29および
5.39(2H,ABq、J=14Hz)。
J=7Hz), 5.0-5.3 (4H, m), 5.2
0(IH,d,,J-5Hz), 5.29 and 5.39(2H,ABq,J=14Hz).

5.82(1H,d、J=5Hz)+5.8−62(I
H,m)。
5.82 (1H, d, J = 5Hz) + 5.8-62 (I
H, m).

6.8(18,m)、8.2(2H,m)(14)  
7.−(2〜エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−6−イ/I/)アセトアミド
)−3−(’3−クロロー1−ピリタシニオメチ/l/
 )−3−せフエムー4−カルボキシレート(シン異性
体)、mp145−150°C(分解)。
6.8 (18, m), 8.2 (2H, m) (14)
7. -(2~ethoxyimino-2-(5-amino-1,
2,4-thiadiazole-6-i/I/)acetamido)-3-('3-chloro-1-pyritassiniomethy/l/
)-3-sefemu 4-carboxylate (syn isomer), mp 145-150°C (decomposition).

IR(Nujol):3300−3iD0,1775,
1670゜1610.1530備 (15)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/v−6−イル)アセ
トアミド:]−3−(3−メチル−1−(1,3,4−
トリアソ゛リオメチル) )−3−ヒフエムー4−カル
ボキシレート(シン異性体)、mpl 56−157°
C(分解)。
IR (Nujol):3300-3iD0,1775,
1670°1610.1530 (15) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-/v-6-yl)acetamide:]-3-(3-methyl- 1-(1,3,4-
triazodiliomethyl)-3-hyphemu-4-carboxylate (syn isomer), mpl 56-157°
C (decomposition).

IR(Nu、j□圭):3400−31[]0,177
0,1660゜1610.1530〜−1 NMR(DMSO−(16,δ):1.22(3H,t
、、丁−−7Hz)。
IR (Nu, j□Kei): 3400-31[]0,177
0,1660°1610.1530~-1 NMR(DMSO-(16,δ):1.22(3H,t
,, ding--7Hz).

3.3−3.7(2H,m )、 4.05(3H、s
 )、 4.16(2H。
3.3-3.7 (2H, m), 4.05 (3H, s
), 4.16 (2H.

q 、J=7Hz)、4.7−53(2H,m)、4.
98(1B。
q, J=7Hz), 4.7-53 (2H, m), 4.
98 (1B.

011丁−5i(z)、5.63(IH,2d、、、T
=5および8丁(z)、8.10(2H,broad、
  s)、9.30(IH。
011-5i(z), 5.63(IH, 2d,,,T
= 5 and 8 guns (z), 8.10 (2H, broad,
s), 9.30 (IH.

s)、9.53(1B、d、J=8Hz)、10.25
(IH,s)。
s), 9.53 (1B, d, J=8Hz), 10.25
(IH, s).

(16)  7− (2−工1−キシイミノ〜2−(5
−アミノ−1,2,4−ジアジアゾール−3−イル)ア
セトアミド]−3−(4−メチル−1−(1,2゜4−
トリアゾリオメチル))−3−セフェム−4−カルボキ
シレート(シンX性体)、ml)159〜164°C(
分解)。
(16) 7-(2-tech1-ximino~2-(5
-amino-1,2,4-diadiazol-3-yl)acetamide]-3-(4-methyl-1-(1,2゜4-
triazoliomethyl))-3-cephem-4-carboxylate (syn-X form), ml) 159-164°C (
Disassembly).

IR(Nujol) :3400−3100 、177
0 、1660 。
IR (Nujol): 3400-3100, 177
0, 1660.

1605.1530n ’ NMFi(DMSO−d6.δ):1.23(3H,t
、J=7Hz) 。
1605.1530n' NMFi (DMSO-d6.δ): 1.23 (3H, t
, J=7Hz).

3.1−3J3(2H,m) 、3.91 (3H,s
) 、 4.12(2H,q。
3.1-3J3 (2H, m), 3.91 (3H, s
), 4.12 (2H, q.

J=7Hz) 、 4.98(IH,d 、 J=5H
7)、 5.0−5.5(2H,m) 。
J=7Hz), 4.98(IH,d, J=5H
7), 5.0-5.5 (2H, m).

5.65 (I H、2d、 、J=5およびBHz)
、8.13(2H。
5.65 (I H, 2d, , J=5 and BHz)
, 8.13 (2H.

broad s) 、 9.03(IH,S ) 、9
.31 (IH,d、J=8Hz)、1025(IH,
5) 67)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミt
”’)−5−(3−ヒドロキシ−1−ピリダシニオメチ
/l/)−3−セフェム−4−カルボキシレ−J(シ:
/異性体)、m9159〜166°C(分解)。
broad s), 9.03(IH,S), 9
.. 31 (IH, d, J=8Hz), 1025 (IH,
5) 67) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamit
"')-5-(3-hydroxy-1-pyridacyniomethyl/l/)-3-cephem-4-carboxylene-J (cy:
/isomer), m9159-166°C (decomposition).

I’R(NujolC3400−3100,1775,
1670゜1610.1520G NMFi (DMSO−d6.δ):1.27(3I(
、t、J=7Hz)。
I'R(NujolC3400-3100,1775,
1670°1610.1520G NMFi (DMSO-d6.δ): 1.27(3I(
, t, J=7Hz).

3.56(2H,broad S)、4.16(2H,
q、J=7Hz)。
3.56 (2H, broad S), 4.16 (2H,
q, J=7Hz).

4.9−56(3H,m) +5.83(IH,2d−
、J=51−.1:び8Hz)、6.91(IH,d、
J=9Hz)、7.6(IH,m)。
4.9-56 (3H, m) +5.83 (IH, 2d-
, J=51-. 1: and 8Hz), 6.91 (IH, d,
J=9Hz), 7.6 (IH, m).

8.09(2H,broad、s)、8.44(IH,
d、J=4Hz)。
8.09 (2H, broad, s), 8.44 (IH,
d, J=4Hz).

9.54(IH,d、J=8Hz) (117−〔2−エトキンイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−1−アジアゾール−6−イル)アセトアミ
ド)l−(3−フチ/l/−1−イミダゾリオメチル)
−6−ヒフエム−4−カルボキシレート(シン異性体)
、m9156〜165°C(分解)。
9.54 (IH, d, J = 8Hz) (117-[2-ethquinimino-2-(5-amino-
1,2,4-1-Adiazol-6-yl)acetamide)l-(3-buty/l/-1-imidazoliomethyl)
-6-hifuem-4-carboxylate (syn isomer)
, m9156-165°C (decomposition).

IR(Nujol):3300.3150,1770,
1660゜1605.153Qc1〃 NMR(DMSO−d 6.δ):1.23(3H,t
、J=7Hz)。
IR (Nujol): 3300.3150, 1770,
1660゜1605.153Qc1〃 NMR (DMSO-d 6.δ): 1.23 (3H, t
, J=7Hz).

312および3.54(2B、ABq、J=18Hz)
、3.86(3H,s) 、4.15(2H,q 、J
=7Hz)、5.02(IH。
312 and 3.54 (2B, ABq, J=18Hz)
, 3.86 (3H, s) , 4.15 (2H, q, J
=7Hz), 5.02 (IH.

d 、 J=5Hz ) 、 5.02 オよび5.1
8 (2H、AB(1。
d, J=5Hz), 5.02 o and 5.1
8 (2H, AB (1.

J=14Hz)、5.66(IH,2d、J=5 オよ
ひ9Hz)。
J = 14 Hz), 5.66 (IH, 2d, J = 5 oyohi 9 Hz).

7.65(IH,s)、7.97(IH,s)、8.2
5(2H。
7.65 (IH, s), 7.97 (IH, s), 8.2
5 (2H.

broad、s)、9.32(IH,s)、9.45(
IH,d。
broad, s), 9.32 (IH, s), 9.45 (
IH, d.

J=9Hz) 実施例4 トリフルオロ酢酸(20g?)中の7−〔2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ−
/L/−3−イル)アセトアミド〕−6−(6−メチ/
v−1−イミダゾリオメチル)−3−セフェム−4−カ
ルボキシレート・ジフェニルメチルエステルのトリフル
オロ酢酸塩(シン異性体)(6y)とアニソール(7,
5m/)との混合物を水浴で冷却しながら20分間攪拌
した。この混合物を攪拌下に冷ジイソプロピルエーテ)
lz(120m+/)に投入し、析出した沈殿を枦取し
た。この粉末を水(50g/)に懸濁させ、重炭酸ナト
リウム水溶液でpH4〜5に調整し、不溶物を沖去した
。炉液を非イオン性吸着樹脂であるダイアイオンHp−
20(10()+1りでのカラムクロマトグラフィーに
付した。カラムの水洗後、20%メタノール水溶液で溶
離を行なった。目的化合物を含有する溶離液を集め、メ
タノールを減圧蒸発により除去し、凍結乾燥して、7−
(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4
−チアジアゾール−6−、イル)アセトアミド)−3−
(3−メチ71/−1−イミダゾリオメチル)−6−ヒ
フエムー4−カルボキシレー[(シン異性体)(1,4
6F)を得た。m9156〜165°C(分解)。
J=9Hz) Example 4 7-[2-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-) in trifluoroacetic acid (20g?)
/L/-3-yl)acetamide]-6-(6-methy/
Trifluoroacetate (syn isomer) of v-1-imidazoliomethyl)-3-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl ester (6y) and anisole (7,
5 m/) was stirred for 20 minutes while cooling in a water bath. Cool this mixture under stirring with diisopropyl ether)
1z (120m+/), and the precipitate was collected. This powder was suspended in water (50 g/), the pH was adjusted to 4-5 with an aqueous sodium bicarbonate solution, and insoluble materials were removed. The furnace liquid was treated with Diaion Hp-, a nonionic adsorption resin.
Column chromatography was performed using 20 (10 () + 1). After washing the column with water, elution was performed with a 20% methanol aqueous solution. The eluent containing the target compound was collected, methanol was removed by vacuum evaporation, and frozen. Dry, 7-
(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4
-thiadiazole-6-,yl)acetamide)-3-
(3-methy71/-1-imidazoliomethyl)-6-hyphemu-4-carboxylene [(syn isomer) (1,4
6F) was obtained. m9156-165°C (decomposition).

IP(Nujol):3300.3150.1770.
1660゜1605.1530m−1 NMR(DMSO−46,δ):1.23(3H,t、
J=7H2)、3.12および3.54(2H,ABq
、J=18Hz)、3.86(3H,s)。
IP (Nujol): 3300.3150.1770.
1660°1605.1530m-1 NMR (DMSO-46, δ): 1.23 (3H, t,
J=7H2), 3.12 and 3.54 (2H, ABq
, J=18Hz), 3.86 (3H, s).

4.15(2H,q 、J=7Hz) 、 5.02(
IH,d、J=5Hz)。
4.15 (2H, q, J=7Hz), 5.02 (
IH, d, J = 5Hz).

502および5.18(2H,ABq 、J=14Hz
)、5.66(IH,2d、、J=5 オよび9I−T
Z)、7.65(IH,S)。
502 and 5.18 (2H, ABq, J=14Hz
), 5.66 (IH, 2d,, J=5 O and 9I-T
Z), 7.65 (IH, S).

7.97(IH,s)、8.25(2H,broad 
s)、932(IH,s)、9.45(IH,d、J−
9Hz)実施例5 実施例4と同様の方法により下記の化合物を得た。
7.97 (IH, s), 8.25 (2H, broad
s), 932 (IH, s), 9.45 (IH, d, J-
9Hz) Example 5 The following compound was obtained in the same manner as in Example 4.

(1)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアシアシー/l/−3−イ/L/)
アセトアミド)−5−(3−メチ/L’−1−(1,2
,3−)リアゾリオ)メチル〕−6−セフェムー4−カ
ルボキシレート(シン異性体)。mpl 41〜145
°C(分解)。
(1) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiasia/l/-3-i/L/)
acetamido)-5-(3-methy/L'-1-(1,2
,3-)riazolio)methyl]-6-cephemu 4-carboxylate (syn isomer). mpl 41-145
°C (decomposition).

IR(Nujol):3400=3100.1770.
1660.1610゜1530 、1035m−1 (2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノー
1.2.4−チアシアシー71/−3−イ/I/)アセ
トアミド〕〜6−(5−メチル−1−ピリミジニオメチ
/l/)−3−bフエムー4−カルボキシレート(シン
異性体)、mp135〜140°C(分解)。
IR (Nujol): 3400=3100.1770.
1660.1610°1530, 1035m-1 (2) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1.2.4-thiasiacy71/-3-i/I/)acetamide] ~ 6-(5 -Methyl-1-pyrimidiniomethy/l/)-3-bfemu-4-carboxylate (syn isomer), mp 135-140°C (decomposition).

IP(Nu、3o1):3250.3150.1770
,1660゜1610.1520(7J ” (3)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアシアシー)v−3−イ/I/)アセト
アミド)−3−(2−メチル−1−ビラゾリオメチ/I
/)−5−bフエムー4−カルボキシレート(シン異性
体)、mp148〜158°C(分解)。
IP (Nu, 3o1): 3250.3150.1770
, 1660° 1610.1520 (7J ” (3) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiasiacy)v-3-i/I/)acetamido)-3-(2-methyl-1-virazoliomethyl/I
/)-5-b fuemu 4-carboxylate (syn isomer), mp 148-158°C (decomposition).

工R(NujolC3400−3100,1770,1
665,1610゜1560m11 (4)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イ/I/)アセ
トアミド)−3−(1−ピリダシニオメチ/l/)−3
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、m
p155−160°C(分解)。
Engineering R (Nujol C3400-3100, 1770, 1
665,1610°1560m11 (4) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-5-i/I/)acetamide)-3-(1-pyridacyniomethyl/l/ )-3
-cephem-4-carboxylate (syn isomer), m
p155-160°C (decomposition).

IP(NujOl):3400−3100.1770,
1660゜1610.1530.1350.1040画
(5)7−[:2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアシアシー71/−3−イ/l/)ア
セトアミド)−3−(1−ビランニオノチル)−6−セ
フェム−4−カルボキシレート(シンU性体)、m91
65〜170°C(分解)。
IP(NujOl):3400-3100.1770,
1660°1610.1530.1350.1040 picture (5) 7-[:2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiasiacy71/-3-i/l/)acetamide)-3 -(1-bilaniononotyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn-U form), m91
65-170°C (decomposition).

IR(Nujol−):3250,3150,1770
,1660゜1610.1520an’ (6)7−(2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/v−6−イル)アセトアミ
l’)−3−(1−ピリダシニオメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シンU性K)、m9165
〜170°C(分解)。
IR (Nujol-): 3250, 3150, 1770
, 1660°1610.1520an' (6) 7-(2-methoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-Thiadiazo-/v-6-yl)acetamyl')-3-(1-pyridaciniomethyl)-3-cephem-4-carboxylate (Syn-U-K), m9165
~170°C (decomposition).

IP(NuiO上):3400−3100.1770.
1660−1580゜1530.1040(7) (7)  7− (2−メトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−1−イ/L/
)アセトアミド)−3−(2−メチ/L/−1−ピラゾ
リオメチル)−3−セフェム−4−カルボキシレート(
シン異性体)、m9100〜110°C(分解)。
IP (on NuiO): 3400-3100.1770.
1660-1580゜1530.1040(7) (7) 7- (2-methoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-/l/-1-y/L/
) acetamido)-3-(2-methy/L/-1-pyrazoliomethyl)-3-cephem-4-carboxylate (
syn isomer), m9100-110°C (decomposition).

IP(Nu、jol):3400−3100,1770
,1660゜1610.1530.1285,1035
r1(8)7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトア
ミド)−3−(2−エチル−1−ピラゾリオメチル)−
3−ヒフエムー4−カルボキシレート(シン異性体)、
m9150〜155°C(分解)、。
IP (Nu, jol): 3400-3100, 1770
,1660°1610.1530.1285,1035
r1(8)7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide)-3-(2-ethyl-1-pyrazoliomethyl)-
3-hifuemu 4-carboxylate (syn isomer),
m9150-155°C (decomposition).

IR(NujOl):3500.3100,1770,
1670゜1610.1525cm (9)7−(2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトア
ミド)−3−(2−メチ/L/−1−ピラゾリオメチル
)−6−ヒフエムー4−カルボキンレート(シン異性体
)、m9165〜175°C(分解)。
IR(NujOl):3500.3100,1770,
1670° 1610.1525 cm (9) 7-(2-allyloxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide)-3-(2-methy/L/-1 -pyrazoliomethyl)-6-hyphemu 4-carboxylate (syn isomer), m9165-175°C (decomposition).

工R(Nujol):3200,3100,1770,
1670゜1610.15200++ θo)7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2
−(5−アミノ−1,2,4−″fチアアゾールー3−
イ/l/)アセトアミド)−3−(1−ピリダシニオメ
−F−/l/)−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)。m p 160〜165’C(分解)
Engineering R (Nujol): 3200, 3100, 1770,
1670°1610.15200++ θo)7-(2-(2-propynyloxyimino)-2
-(5-amino-1,2,4-″fthiazole-3-
acetamido)-3-(1-pyridacyniome-F-/l/)-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer). m p 160-165'C (decomposition)
.

IP(Nujol−):3250,3200.3100
,1770゜1660 、1620 、1520m−1
(il)  7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ
)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
6−イ/l/)アセトアミド)−3−(2−メチル−1
−ビラゾリオメチ/l/)−5−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、l’1160〜170°C
(分解)。
IP (Nujol-): 3250, 3200.3100
,1770°1660 ,1620 ,1520m-1
(il) 7-(2-(2-propynyloxyimino)-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-
6-i/l/)acetamido)-3-(2-methyl-1
-virazoliomethi/l/)-5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), l'1160-170°C
(Disassembly).

IR(Nujol):3250−3100.1760,
1670゜1610.1520備 (iz)  7− (2−メチルチオメトキシイミノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チアンアゾ−/v−6
−イlし)アセトアミド)−3−(2−メチ/I/−1
−ビオ ラシリきメチル)−6−セフェム−4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、mp145−150°C(分解)。
IR (Nujol): 3250-3100.1760,
1670°1610.1520bi(iz) 7-(2-methylthiomethoxyimino-
2-(5-amino-1,2,4-thianazo-/v-6
-yl)acetamide)-3-(2-methy/I/-1
-violasilikimethyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), mp 145-150°C (decomposition).

工Fi(NujOl):3280,3100.1770
,1665.1605゜1525Cn+ 63)7−(2−カルボギシメトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−1−アジアシー)v−6−イル
)アセ1−アミド)−3−(2−メチ)L/−1−ピラ
ゾリオメチル)−5−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、mI)165〜170°C(分解)。
Engineering Fi (NujOl): 3280, 3100.1770
, 1665.1605°1525Cn+ 63) 7-(2-carbogysimethoxyimino-2-(5
-Amino-1,2,4-1-Asiacy)v-6-yl)ace1-amido)-3-(2-methy)L/-1-pyrazoliomethyl)-5-cephem-4-carboxylate ( syn isomer), mI) 165-170°C (decomposition).

IR(Nujol):3400,3290,3160,
3110゜1770.1670.1615.1525o
a ’(1ゆ 7−(2−(2−シクロペンテン−1−
イルオキシイミノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−
チアシアシー)v−6−イル)アセ1−アミド〕−3−
(2−メチル−1〜ピラゾリオメチル)−6−セフェム
−4−カルボキシレート(シン異性体)、m9155〜
160°C(分解)。
IR (Nujol): 3400, 3290, 3160,
3110°1770.1670.1615.1525o
a'(1 7-(2-(2-cyclopentene-1-
yloxyimino)-2-(5-amino-1,2,4-
thiasiacy)v-6-yl)ace1-amide]-3-
(2-methyl-1-pyrazoliomethyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), m9155-
160°C (decomposition).

■h(Nujol):3250,3100,1770,
1660゜1605.1525α (15)7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミ
ド”) −3−(2−アリル−1−ビラゾリオメチ)v
)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シフ異性体
)、mp130〜140°C(分解)。
■h (Nujol): 3250, 3100, 1770,
1660°1605.1525α (15) 7-[2-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide”) -3-(2-allyl-1-virazoliomethi) v
)-6-cephem-4-carboxylate (Schiff isomer), mp 130-140°C (decomposition).

IR(Nujol−) :341]0−3100 、1
770 、1660゜1610 、1530f1 (16)7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセ1゛ア
ミド)−3−(3−クロロ−1−ビリダシニオメチル)
−6−セフェム−4−カルホキシレ=1・(シン異性体
)、m’p145〜150’c(分解)。
IR (Nujol-): 341] 0-3100, 1
770, 1660°1610, 1530f1 (16) 7-[2-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acelamide)-3-(3-chloro- 1-pyridaciniomethyl)
-6-cephem-4-carboxylene=1. (syn isomer), m'p145-150'c (degraded).

JR(Nujol−):3300−3100 、177
5 、1670 。
JR (Nujol-): 3300-3100, 177
5, 1670.

1610.1530z (17)  7− (2−工トキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イル)アセ
トアミド〕−3−(3−メチル−1−(1+3+4−ト
リアゾリオメチル)]−]6−セフェムー4−力ルポキ
シレートシン異性体)、mp153〜157’C(分解
)。
1610.1530z (17) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-
amino-1,2,4-thiadiazol-5-yl)acetamide]-3-(3-methyl-1-(1+3+4-triazoliomethyl)]-]6-cephemu 4-lupoxylate sin isomer), mp153-157'C (degraded).

JR(Nu jo]j :3400−3100.177
0 、1660゜1610.1530α C8)7−(2−工トキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾ−/v−6−イル)アセトアミ
ド〕−3〜〔4−メチル−1−(1,2,4−トリアゾ
リオメチル))−3−セフェム−4−カルボキシレート
(シン異性体)、mp159〜164°C(分解)。
JR(Nujo]j:3400-3100.177
0, 1660°1610.1530α C8) 7-(2-ethoxytoximino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-/v-6-yl)acetamide]-3-[4-methyl-1-(1,2,4-triazoliomethyl))-3-cephem-4-carboxylate isomers), mp 159-164°C (decomposition).

IR(Nujol):3400−3100.1770.
1660゜1605 、1530z (1→ 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−y−yシーyシー)v−3−イル)アセ
トアミド)−3−(3−ヒドロキシ−1−ピリダシニオ
メチル)−3−hフエム−4−カルボキシレート(シン
異性体)、mT)159〜163°C(分解)。
IR (Nujol): 3400-3100.1770.
1660°1605, 1530z (1→ 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-y-yCy-C)v-3-yl)acetamide)-3-(3- Hydroxy-1-pyridaciniomethyl)-3-h fem-4-carboxylate (syn isomer), mT) 159-163°C (decomposition).

IR(Nu、]]01c3400−3100.1775
1670゜1610.1520(7) 製造例2 五塩化リン(54,6ji)の塩化メチレン(500m
l )溶液に、−20°Cで冷却攪拌しなから2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−3−イル)酢酸(シフ異性体)(54,0y)
を加えた。この混合物を−15〜−12°Cで30分間
、次いで一5°Cで2時間攪拌した。目的化合物の沈殿
を含有する得られた反応混合物ニー5°Cでジイソプロ
ピルエーテル(5oOml)を加え、混合物を一5〜1
0°Cで50分間攪拌した。析出した沈殿を沖取し、ジ
インプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、2−エトキ
シイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾ
ール−6−イル)アセチルクロリド塩酸塩(シン異性体
)(60,17F)を得だ、m19125〜127°C
(分解)。
IR(Nu,]]01c3400-3100.1775
1670°1610.1520(7) Production example 2 Phosphorus pentachloride (54,6ji) in methylene chloride (500m
l) Add 2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetic acid (Schiff isomer) (54,0y) to the solution while stirring and cooling at -20°C.
added. The mixture was stirred at -15 to -12°C for 30 minutes and then at -5°C for 2 hours. To the resulting reaction mixture containing a precipitate of the desired compound, diisopropyl ether (500ml) was added at 5°C and the mixture was diluted with
Stirred at 0°C for 50 minutes. The precipitate was collected, washed with diimpropyl ether, and dried to give 2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetyl chloride hydrochloride (synisomer body) (60,17F), m19125~127°C
(Disassembly).

IR(Nujol):1785,1625.1055c
i ’分析値:(C6H802N4SC工、)CHN 
   S   C1 計算値: 26.572.9520.6611.81 
26.20実測値: 26.1329920.4911
.7726.41製造例6 塩化メチレン(30(]++l)中の7−アミノ−5−
クロロメチ/l/−3−セフェム−4−カルボン酸・ジ
フェニルメチルエステルの4酸塩(27y)の懸濁液に
、N 、 N−ジメチルアニリン(36,2y)を5°
Cに水浴冷却しながら加えた。得られた溶液に2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2゜4−チアシア
ソー)v−6−イル)アセチルクロリド塩酸塩(シン異
性体)(16,2y)を11°Cより低温で少しつつ加
え、この混合物を5°Cで45分間攪拌した、反応混合
物を塩化メチレン(100ml)と水(200++/)
との混合溶媒で希釈し、1N塩酸でI)H2に調整した
。有機層を分取し、水洗し、硫酸マクネシウムで乾燥し
、蒸発乾固した。
IR (Nujol): 1785, 1625.1055c
i ' Analysis value: (C6H802N4SC engineering,) CHN
S C1 Calculated value: 26.572.9520.6611.81
26.20 Actual value: 26.1329920.4911
.. 7726.41 Preparation Example 6 7-Amino-5- in methylene chloride (30(]++l)
N,N-dimethylaniline (36,2y) was added to a suspension of chloromethy/l/-3-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethyl ester tetraacid (27y) at 5°C.
C while cooling in a water bath. 2-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2゜4-thiacyaso)v-6-yl)acetyl chloride hydrochloride (syn isomer) (16,2y) was added to the obtained solution at 11°C. The reaction mixture was diluted with methylene chloride (100 ml) and water (200 ml) and the mixture was stirred for 45 min at 5°C.
It was diluted with a mixed solvent with 1N hydrochloric acid and adjusted to I)H2. The organic layer was separated, washed with water, dried over magnesium sulfate, and evaporated to dryness.

残渣をジエチルエーテル中で摩砕して、7−〔2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−6−イル)アセ1−アミド’)) −3−クロ
ロメチル−6−セフェム−4−カルボン酸、ジフェニル
メチルエステ/1/(シン異性体)(32,4y)を得
た。ITII)120−125°C(分解)。
The residue was triturated in diethyl ether to give 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)ace1-amide'))-3-chloromethyl -6-cephem-4-carboxylic acid, diphenylmethyl ester/1/(syn isomer) (32,4y) was obtained. ITII) 120-125°C (decomposition).

IR(Nujol−):3300,3150,1780
,1725゜1675.1625,1530,1495
cInNMR(])MSO−d6. δC1,28(3
H,t、J=7Hz)。
IR (Nujol-): 3300, 3150, 1780
,1725°1675.1625,1530,1495
cInNMR(])MSO-d6. δC1,28(3
H, t, J = 7Hz).

3.68(2E(、broad、 s)、4.23(2
H,q、、J−=7Hz>。
3.68 (2E(, broad, s), 4.23 (2
H, q, , J-=7Hz>.

4.47(2H,s)、5.27(IH,cl 、J=
5Hz)、5.97(IH,2C1,J=5オよびBH
z)、7.0(IH,S)。
4.47 (2H, s), 5.27 (IH, cl, J=
5Hz), 5.97 (IH, 2C1, J=5o and BH
z), 7.0 (IH, S).

7.2−7.7(10H,m)、8.17(2H,br
oad  s)。
7.2-7.7 (10H, m), 8.17 (2H, br
oad s).

9.62(IFT、d、J=8Hz) 製造例4 塩化メチレン(100gZ)と酢酸(10rZ)の混合
溶媒中の7−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ
−1,2,4−チアシアシー/I/−3−イル)アセト
アミドジ−6−クロロメチル−6−セフェム−4−カル
ボン酸・ジフェニルメチルエステ/I/(シン異性体)
(10y)の***液に、60禿過酸化水素水(1,84
rZ)とタングステン酸すトリウム(0,3y)とを加
えた。
9.62 (IFT, d, J=8Hz) Production Example 4 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4) in a mixed solvent of methylene chloride (100gZ) and acetic acid (10rZ) -Thiasiacy/I/-3-yl)acetamidodi-6-chloromethyl-6-cephem-4-carboxylic acid diphenylmethylester/I/(syn isomer)
(10y) to a cold solution of 60% hydrogen peroxide solution (1,84%
rZ) and thorium tungstate (0,3y) were added.

この混合物を水浴中で45分間攪拌したのち、ジエチル
エーテル(300*t′)に投入した。析出した沈殿を
p取し、ジエチルエーテルで洗SLで、7−〔2−エト
キシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジア
ゾール−6−イル)アセトアミF〕−3−クロロメチル
−6−セフェム−4−力155°C(分解)。
The mixture was stirred in a water bath for 45 minutes and then poured into diethyl ether (300*t'). The deposited precipitate was collected, washed with diethyl ether, and purified with SL to give 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamiF]-3-chloromethyl. -6-cephem-4-force 155°C (decomposition).

IR(Nu、1o1):3280,3170,1785
,172i1667.1628.1530(1)−1H
MFt(DMSO−(16,δ):1.30(3H,t
、J=7Hz)。
IR (Nu, 1o1): 3280, 3170, 1785
, 172i1667.1628.1530(1)-1H
MFt(DMSO-(16,δ):1.30(3H,t
, J=7Hz).

3.90(2H,broad  s)、4.23(2H
,q、、J=7I−TZ)、4.58(2H,broa
、d、s)、5.12(IH,d、。
3.90 (2H, broad s), 4.23 (2H
, q, , J=7I-TZ), 4.58 (2H, broa
, d, s), 5.12 (IH, d,.

J=5Hz)、6.10(IH,2d、、J=5および
8Hz)。
J = 5 Hz), 6.10 (IH, 2d, , J = 5 and 8 Hz).

7.02(IH,s)、7.20−7.73(10H,
m)、8.15(2H,broad  S)、9.00
(IH,d−、J==lz)製造例5 7−〔2−工l・キシイミノ−2−(5−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−5−イル)アセトアミF)−
3−クロロメチル−6−セフェム−4−力ルボン酸−1
−オキシド・ジフェニルメチルエステル(シン異性体)
(9,85y)のアセトン(222g/)***液にヨウ
化ナトリウム(822y)を加え、この混合物を水浴冷
却しながら2時間攪拌した。溶媒を減圧蒸発した後、残
渣を塩化メチレン(200ml)と水(100m/)と
の混合溶媒に溶解した。有機層を分取し、チオ硫酸すi
・リウム水溶液および水で順に洗浄し、硫酸マクネノ−
2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−
イル)アセトアミド)−6−ヨードメチル−6−ヒフエ
ム−4−カルボン酸−1−オキシド・ジフェニルメチル
エステル(シン異性K)(10,39y)を得た。rn
 ■−) 159〜163°C(分解)。
7.02 (IH, s), 7.20-7.73 (10H,
m), 8.15 (2H, broad S), 9.00
(IH, d-, J==lz) Production Example 5 7-[2-l・ximino-2-(5-amino-1,
2,4-thiadiazol-5-yl)acetamiF)-
3-chloromethyl-6-cephem-4-carboxylic acid-1
-Oxide diphenyl methyl ester (syn isomer)
Sodium iodide (822y) was added to a cold solution of (9,85y) in acetone (222g/) and the mixture was stirred for 2 hours with water bath cooling. After evaporating the solvent under reduced pressure, the residue was dissolved in a mixed solvent of methylene chloride (200ml) and water (100ml). Separate the organic layer and add thiosulfate
・Wash with lium aqueous solution and water in order, and rinse with sulfuric acid
2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-3-
yl)acetamido)-6-iodomethyl-6-hyphem-4-carboxylic acid-1-oxide diphenylmethyl ester (synisomer K) (10,39y) was obtained. rn
■-) 159-163°C (decomposition).

IFt (Nll joi )−625[]、315[
]、1780.1720゜1670.1620.152
0crn NMR(DMSO−(16,δ):1.29(3H,t
、、T=7Hz)。
IFt (Nll joi)-625[], 315[
], 1780.1720°1670.1620.152
0 crn NMR (DMSO-(16, δ): 1.29 (3H, t
,,T=7Hz).

3.95(2H,m)、4.25(2H,q 、、丁=
7Hz )、4.50(2H,m)、5.12(IH,
cl 、J−5H7)、6.05(11−1゜2d、 
J=5および9Hz)、7.00(IH,S)、7.4
(10H,m)、8.13(2H,broad、 S)
、8.96(IH,d、、J 〜9)(Z) 製造例6 テトラヒドロフラン(7mt)中の7−(2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアシアシー
/l/−3−イア1z)アセトアミド〕−6−ヨードメ
チ)V−3−t!フエムー4−カルボン酸−1−オキシ
ド“・ジフェニルメチルエステ/L/(シン異性体)(
4y)と1−メチルイミダゾ−/l/(0,5y)との
混合物を室温で40分間攪拌した。析出した沈殿を戸数
し、テトラヒドロフランで洗浄シ、乾燥して、7−〔2
−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チ
アジアゾ−/l/−3−イ/I/)アセトアミド)−3
−(3−メチtV−1−イミダゾリオノチ/l/ ) 
−3−セフェム−4−カルボキンレート−1−オキシド
・ジフェニルメチルエステル・ヨーシト(ノン異性体)
(4,20y)を得た。
3.95 (2H, m), 4.25 (2H, q,, ding=
7Hz), 4.50 (2H, m), 5.12 (IH,
cl, J-5H7), 6.05 (11-1°2d,
J=5 and 9Hz), 7.00 (IH, S), 7.4
(10H, m), 8.13 (2H, broad, S)
, 8.96 (IH, d,, J ~9) (Z) Preparation Example 6 7-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiasiacy/l) in tetrahydrofuran (7 mt) /-3-ia1z)acetamide]-6-iodomethy)V-3-t! Fuemu 4-carboxylic acid-1-oxide “Diphenylmethyl ester/L/(syn isomer)(
A mixture of 4y) and 1-methylimidazo-/l/(0,5y) was stirred at room temperature for 40 minutes. The deposited precipitate was collected, washed with tetrahydrofuran, dried, and 7-[2
-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-/l/-3-i/I/)acetamide)-3
-(3-methytV-1-imidazolionoty/l/)
-3-cephem-4-carboxylate-1-oxide diphenylmethyl ester ioside (non-isomer)
(4,20y) was obtained.

mp105〜114°C(分解)。mp 105-114°C (decomposition).

IR(Nujo工):3250 、3150.1790
 、1720 。
IR (Nujo Engineering): 3250, 3150.1790
, 1720.

1670.1610,1520c1M NMR(DMS 0−(16,δ)−1,2H3H,t
、J=7Hz)、3.77(3H,s)、4.10(2
)T、m) 、4.15(2H,q、、J=7Hz)、
5.1(3H,m)、6.07(2d、、IH,J=5
および8Hz)、6.87(IH,S) 、7.33(
11H,m)。
1670.1610,1520c1M NMR (DMS 0-(16,δ)-1,2H3H,t
, J=7Hz), 3.77 (3H,s), 4.10 (2
)T, m) ,4.15(2H,q,,J=7Hz),
5.1 (3H, m), 6.07 (2d, , IH, J=5
and 8Hz), 6.87(IH,S), 7.33(
11H, m).

7.60(IH,s)、8.00(2H,broacl
 s) 、8.91(IH,d、J=8Hz)、8.9
3NH,broad s)製造例7 アセトニトリル(40ml)中の7−C2−エトキシイ
ミノ−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−6−イル)アセトアミド〕−3−(3エステル・ヨー
シト(シン異性体)(4y)とN、N−ジメチルアニリ
ン(1,21y)との混合物に、水浴で冷却しながら攪
拌下に8°Cより低温tで三塩化リン(1,37y)を
滴下した。得られた混合物を同じ温度で25時間攪拌し
た後、ジエチルエーテ/1z(45s+l)をこれに加
えた。析出した沈殿を炉取し、ジエチルエーテルで洗浄
し、乾燥して、7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−
アミノ−1,2,4−チアシアシー#−3−イル)アセ
トアミド:1ll−3−(3−メチル−1−イミダゾリ
オメチル)−6−セフェム−4−カルボキシレート・ジ
フェニルメチルエステル 異性体)(4.18y)を得た。mp115.5〜12
0、5°C(分解)。
7.60 (IH, s), 8.00 (2H, broacl
s), 8.91 (IH, d, J=8Hz), 8.9
3NH, broad s) Preparation Example 7 7-C2-Ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamide]-3-(3 ester iosito) in acetonitrile (40 ml) (Syn isomer) (4y) and N,N-dimethylaniline (1,21y) were cooled in a water bath and phosphorus trichloride (1,37y) was added dropwise with stirring at a temperature lower than 8°C. After the resulting mixture was stirred at the same temperature for 25 hours, diethyl ether/1z (45s+l) was added thereto.The precipitate precipitated was filtered, washed with diethyl ether, and dried to give 7-[ 2-ethoxyimino-2-(5-
Amino-1,2,4-thiasiacy#-3-yl)acetamide: 1ll-3-(3-methyl-1-imidazoliomethyl)-6-cephem-4-carboxylate diphenylmethyl ester isomer) (4 .18y) was obtained. mp115.5-12
0.5°C (decomposition).

IFi(NujoIC1780,1720,1680.
1630。
IFi (NujoIC1780, 1720, 1680.
1630.

1560α NMF( DMSO−d6,δ):1.22(3H,t
,J=7Hz)。
1560α NMF (DMSO-d6, δ): 1.22 (3H, t
, J=7Hz).

3、09(3H,S)、6B6(2H,m)、4.18
(2H.(1。
3, 09 (3H, S), 6B6 (2H, m), 4.18
(2H. (1.

J=7Hz)、5.18(3H.m)、6.05(IH
,2d.。
J=7Hz), 5.18 (3H.m), 6.05 (IH
, 2d. .

J=5and9Hz)、6.94(IH,8)、7.4
(’15H,m)。
J=5and9Hz), 6.94 (IH, 8), 7.4
('15H, m).

9、60(IH,d.、J=9Hz) 製造例8 テトラヒドロフランとメタノールの1:1混合溶媒(I
Cl+t′)中の7−〔2−エトキシイミノ−2−( 
5 −7 ミノ− 1.2.4−?7シ7ソー/l/ー
3ーイ/I/)アセトアミド)−3−(3−メチ/L’
 − 1−イミダゾリオメチル)−5−セフェム−4−
カルボキシレート・ジフェニルメチルエステル・ヨーシ
ト(シン異性体)(3.9y)の溶液を、イオン交換樹
脂〔アンバーライ) IRA−400 ( 商標、ロー
ム・アンド・ハース社flR))リフルオロ酢酸塩形)
(40m/)を充填したカラムに通した。同じ溶媒(8
0mt)で溶出を行ない、溶出液を蒸発乾固した。残渣
をジエチルエーテル中で摩砕して、7−〔2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1、2.4−チアジアゾー
ル−6ーイル)アセトアミド〕−3−(3−メチル−1
−イミダゾリオメチル)−3−セフェム−4−カルボキ
シレート、ジフェニルメチルエステル・トリフルオロ酢
酸塩(シン異性体)(2.745りを得た。mpl 1
 0〜1195°C(分解)。
9,60 (IH, d., J=9Hz) Production Example 8 1:1 mixed solvent of tetrahydrofuran and methanol (I
7-[2-ethoxyimino-2-(
5 -7 Mino- 1.2.4-? 7shi7so/l/-3-i/I/)acetamide)-3-(3-methy/L'
-1-imidazoliomethyl)-5-cephem-4-
A solution of carboxylate diphenylmethyl ester iosito (syn isomer) (3.9y) was added to an ion exchange resin (Amberly) IRA-400 (trademark, Rohm & Haas Inc. flR) refluoroacetate form).
(40 m/). Same solvent (8
Elution was carried out at 0 mt) and the eluate was evaporated to dryness. The residue was triturated in diethyl ether to give 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamido]-3-(3-methyl-1
-imidazoliomethyl)-3-cephem-4-carboxylate, diphenylmethyl ester trifluoroacetate (syn isomer) (obtained 2.745 ml. mpl 1
0-1195°C (decomposition).

IR(Nujol):3250,3150,1790.
1720。
IR (Nujol): 3250, 3150, 1790.
1720.

1690.1670,1630,1530.1500f
1製造例9 製造例1と同様にして下記の化合物を得た。
1690.1670,1630,1530.1500f
1 Production Example 9 The following compound was obtained in the same manner as in Production Example 1.

7−112−メチルチオメトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/I/
)アセトアミド〕セファロスポラン酸(シン異性体)、
m I) 95.5〜103.5°C(分解)。
7-112-Methylthiomethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-/l/-3-i/I/
) Acetamide] Cephalosporanic acid (syn isomer),
m I) 95.5-103.5°C (decomposition).

In(Nujol):3400,3300.3190.
1770゜1720.1670,1620.1525a
11NMFi(DMSO−d6.δC2,00(3H,
s)、2.17(3H,s)。
In(Nujol):3400,3300.3190.
1770°1720.1670,1620.1525a
11NMFi (DMSO-d6.δC2,00(3H,
s), 2.17 (3H, s).

3.50(2H,broad S)、4.68および4
.92(2H。
3.50 (2H, broad S), 4.68 and 4
.. 92 (2H.

ABq、、J=13Hz) 、5.10(IH,d、J
−=sHz)、5.20(2H,s)、5.77(IH
,2d、J=5および8Hz ’) 、 8.07(2
H,broad s)、9.53(IH,d、J=8H
z)実施例6 前述の実施例と同様にして下記の化合物を得た。
ABq,, J=13Hz), 5.10(IH,d,J
-=sHz), 5.20 (2H, s), 5.77 (IH
, 2d, J=5 and 8Hz'), 8.07(2
H, broad s), 9.53 (IH, d, J=8H
z) Example 6 The following compound was obtained in the same manner as in the previous example.

(1)  7−(2−エトキシイミノ−2−(5−7ミ
ノー1.2.4−チアジアゾ−)V−3−イ/l/)ア
セトアミド)−3−(2−(2−ヒドロキシエチ)v 
) −1−ピラゾリオメチル〕−6−セフェム−4−カ
フ1− ルボキシレート(シン異性体)、mpl 40〜147
℃(分解)。
(1) 7-(2-ethoxyimino-2-(5-7minor1.2.4-thiadiazole-)V-3-i/l/)acetamide)-3-(2-(2-hydroxyethy) v
) -1-pyrazoliomethyl]-6-cephem-4-cuff 1-ruboxylate (syn isomer), mpl 40-147
°C (decomposition).

IR(Nujol) :3400−3100 、177
0 、1660 。
IR (Nujol): 3400-3100, 177
0, 1660.

1610.1525,1280.1035C7#NMR
(D20.δ) :1.35(3H,t、J=7Hz)
 、3.17および3.55(2H,ABq、J=18
Hz)、3.99(2H。
1610.1525, 1280.1035C7#NMR
(D20.δ): 1.35 (3H, t, J=7Hz)
, 3.17 and 3.55 (2H, ABq, J=18
Hz), 3.99 (2H.

t、J=5Hz)、4.37(2H,q、J=7Hz)
、4.72(2H,t、J=5Hz)、5.30(IH
,d、J=5Hz)。
t, J = 5Hz), 4.37 (2H, q, J = 7Hz)
, 4.72 (2H, t, J=5Hz), 5.30 (IH
, d, J=5Hz).

5.48(2H,broad s)、5.92(IH,
d、J=5Hz)、6.89(IH,m)、8.35(
2H,m)(2)7−(2−エトキシイミノ−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)ア
セトアミド)−3−(2−アミノ−1−ピリミジニオメ
チル)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、mpl 95〜200℃(分解)。
5.48 (2H, broad s), 5.92 (IH,
d, J=5Hz), 6.89 (IH, m), 8.35 (
2H,m)(2)7-(2-ethoxyimino-2-(5
-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide)-3-(2-amino-1-pyrimidiniomethyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), mpl 95~ 200°C (decomposition).

IP(Nu、jol):3280.3160.1765
.1660゜1635.1610.1565,1520
.1030C7’INMR(DMSO−d−6、δ) 
:1.34(3](、t、J=7Hz) 。
IP (Nu, jol): 3280.3160.1765
.. 1660°1635.1610.1565,1520
.. 1030C7'INMR (DMSO-d-6, δ)
:1.34(3)(, t, J=7Hz).

640および3.83(2H,ABQ、J=18Hz)
640 and 3.83 (2H, ABQ, J=18Hz)
.

72− 4.14(2H,q、、J=7Hz)、4.70および
545(2H,ABq、、J=14E(Z)、5.08
(IH,d、J−5Hz) 、5.70(IH,d、d
、、J−5および5nz)。
72- 4.14 (2H, q, , J = 7Hz), 4.70 and 545 (2H, ABq, , J = 14E (Z), 5.08
(IH, d, J-5Hz), 5.70 (IH, d, d
, J-5 and 5nz).

7.0(IH,m)tsl(2H,broad、s)+
8.5(IH,m)、8.7(IE(、m)、9.46
(IH,d、J−8Hz) 出願人   藤沢薬品工業株式会社 手続補正書(方式) %式% 1 事件の表示 昭和57年特許願第55263号 2 発明の名称 新規セフェム化合物およびその製造法、並びに細菌感染
症予防・治療剤 5 補正をする者 特許出願人 大阪市東区道修町4丁目6番地 (524)藤沢薬品工業株式会社 代表者藤澤友吉部 4代理人 〒562 大阪市淀川区加島2丁目1番6号 5 補正命令の日付 昭和57年7月9日 (発送日:昭和57年7月27日) 6、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄 7 補正の内容 明細書の1許請求の範囲」の全文の浄書(内容に変更な
し) 1〕ノ上 特願昭57−55263号 [2、特許請求の範囲 (1)一般式 (式中、Hl  はアミノまたは保護されだアミノ基、
 R2け適当彦置換基で置換されていてもよい低級脂肪
族膨化水素基、またはシクロ低級アルケニル基;式−d
■゛jで示される基は適当な置換基で置換されていても
よい窒素原子2個以上含有複素環カチオン基をそれぞれ
慧味する)で示される新規ヒフエム化合物およびその塩
類。
7.0(IH,m)tsl(2H,broad,s)+
8.5 (IH, m), 8.7 (IE (, m), 9.46
(IH, d, J-8Hz) Applicant Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Procedural amendment (method) % formula % 1 Indication of case Patent application No. 55263 of 1982 2 Title of invention Novel cephem compound and method for producing the same; Bacterial Infection Prevention/Treatment Agent 5 Person making the amendment Patent applicant 4-6 Doshomachi, Higashi-ku, Osaka (524) Fujisawa Pharmaceutical Co., Ltd. Representative Tomoyoshi Fujisawa Department 4 Agent 2-1 Kajima, Yodogawa-ku, Osaka 562 No. 6 No. 5 Date of amendment order July 9, 1980 (Delivery date: July 27, 1982) 6. “Claims” column 7 of the specification subject to amendment 1) Engraving of the entire text of ``Claims'' (no changes to the contents) 1) No. 1 Patent Application No. 57-55263 [2. Claims (1) General formula (wherein, Hl is amino or a protected amino group,
Lower aliphatic swollen hydrogen group, or cyclo lower alkenyl group, which may be substituted with a suitable substituent for R2; Formula -d
(2) Novel HIFUEM compounds and salts thereof, each of which is a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms, each of which is optionally substituted with an appropriate substituent.

間第1項記載の化合物のシン異性体。A syn isomer of the compound according to item 1.

(6)Hかアミノ;Rが低級アルキルチオもしくはカル
ボキシで置換されでいてもよい低級脂11メ1族#p化
水素基、またはシクロ低級アルケニル邦、;式−幀扇゛
で示される基が、低級アルキル、アミノ、低級アルケニ
ル、ハロゲン、ヒドロキシもしくけヒドロキシ低級アル
キルで徘f%されていてもよい、2個以上の窒素伸子含
有不飽和5〜6員複素旬食環カチオン基であZ、特許請
求の範囲第2項記載の化合物。
(6) H or amino; R may be substituted with lower alkylthio or carboxy; a lower aliphatic group #p hydrogen group; or cyclo-lower alkenyl; a group represented by the formula An unsaturated 5- to 6-membered heterocyclic ring cationic group containing two or more nitrogen molecules, which may be substituted with lower alkyl, amino, lower alkenyl, halogen, hydroxyl or hydroxy lower alkyl, patented. A compound according to claim 2.

(4)  Pi2がそれぞれ1個の低級アルギルチオも
しくけカルボキンで置換されていてもよい低級アルキル
、低級アルケニルもしくは低級アルキニル、昔たはシク
ロ低級アルケニ/I/i式−N■・で示される基がそれ
ぞれ低級アルキル、アミノ、低級アルケニル、ハロゲン
、ヒドロキシおよびヒドロキシ低級アルキルから選ばれ
た置換基を1個イ1していてもよいトリアゾリオ、イミ
ダゾリオ、ピリミジニオ、ビラゾリオ、ビリダシニオも
しくはビラジニオである特許請求の範囲第5項記載の化
合物。
(4) A group in which Pi2 is a lower alkyl, lower alkenyl or lower alkynyl, which may each be substituted with one lower argylthio or shikke carboxyne, or a group represented by the formula -N■. Claims 1. Triazolio, imidazolio, pyrimidinio, virazolio, viridacinio or virazinio, each of which may have one substituent selected from lower alkyl, amino, lower alkenyl, halogen, hydroxy and hydroxy-lower alkyl. Compound according to item 5.

(5)R2がメチル、エチル、アリル、2−プロピニル
、カルボキシメチル、メチルチオメチル1− 4f−1ri2−シクロペンテン−1−イ杓式・−Ni
l’:・で示される。Jij−が、1飴1のメチルで置
換されたトリアゾリオ、1個のメチルで置換されたイミ
ダゾリオ、1個のメチルもしくはアミノで置抄されたピ
リミジニオ、1個のメチ/l/、エチル、2−ヒドロキ
シエチルもしくはアリルで置換されたビラゾリオ、1個
のヒドロキシもしくけクロルで置換されでいてもよいビ
リダシニオ、すたはビラシニオである持前t^求の帥間
第4項紀載の化合物。
(5) R2 is methyl, ethyl, allyl, 2-propynyl, carboxymethyl, methylthiomethyl 1-4f-1ri2-cyclopentene-1-i -Ni
Indicated by l':・. Jij- is triazolio substituted with 1 methyl, imidazolio substituted with 1 methyl, pyrimidinio substituted with 1 methyl or amino, 1 methyl/l/, ethyl, 2- Compounds described in Section 4 of the Journal of Mochimae T^Ku no Jima, which are virazolio substituted with hydroxyethyl or allyl, viridacinio which may be substituted with one hydroxyl or chlorine, and birazolio.

(6)Rが低級アルキル;式−袖■ で示埒れる基が1
イ1^1の低級アルギルでj府1換されたトリアゾリオ
である特許請求の範囲第4坑1記載の化合物。
(6) R is lower alkyl; the group represented by the formula - sleeve ■ is 1
The compound according to claim 4, which is a triazolio substituted with a lower argyl of 1^1.

(ハ Rが低級アルキ/L−;式−Neで示される基が
1個の低級アルキルで置換されたイミダゾリオである特
許請求の範囲第4項記取りの化合物。
The compound according to claim 4, wherein R is lower alkyl/L-; the group represented by the formula -Ne is imidazolio substituted with one lower alkyl.

(8)Rが低級アルキル;式−に■゛?で示される基が
1イト〜″の低級アルキ)Vまたはアミノで1肖換され
たビリダシニオである特許請求の範囲第4項記し・の化
合物。
(8) R is lower alkyl; 5. The compound according to claim 4, wherein the group represented by is viridacinio substituted with 1 to 1 lower alkyl(V) or amino.

(9)Rが低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキ
ニル、カルボキシ低級アルキル、低級アルキルチオ低級
アルキ1vまたはシクロ低級アルケニ)Vj式−i■7
1で示される基が1個の低級アルキル、ヒドロキシ低級
アルキルまたけ低級アルケ二〜で置換されたビラゾリオ
である特許請求の範囲第4項記載の化合物。
(9) R is lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, carboxy lower alkyl, lower alkylthio lower alkyl 1v or cyclo lower alkeni) Vj formula -i■7
5. The compound according to claim 4, wherein the group represented by 1 is virazolio substituted with one lower alkyl, hydroxy lower alkyl, or lower alkene.

CI[)  Rが低級アルキルまたけ低級アルキニルま
たはハロゲンで置換されていてもよいピリダシニオであ
る特許請求の範囲第4項記載の化合物。
5. The compound according to claim 4, wherein CI[) R is lower alkyl, lower alkynyl, or pyridacinio optionally substituted with halogen.

61)R2が低級アルキlvi式−Nの)で示される県
がピラジニオである特許請求の範囲第4項記載の化合物
61) The compound according to claim 4, wherein R2 is lower alkyl and the compound represented by the formula -N is pyrazinio.

a27−C2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾ−t+/−3−イル)アセトアミ
ド)−3−(3−メチ1v−1−イミダゾリオメチ/l
/ ) −5−セフェム−4−カルホキ4− シレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/L/)アセトアミ
ドl−3−(3−メチ/”−1−(1,2,3−トリア
ゾリオ)メチル〕−5−七フエムー4−カルボキシレー
ト(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)アセトアミド)−3
−(5−メチ/L/:1−ピリミジニオメチfv)−3
−セフェム−4−カルボキシレート(シンI6性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イ)v)アセトアミド)−
3−(2−メチル−1−ビラゾリオメチル)−5−セフ
ェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/L’−3−イル)アセトアミド1
−3−(1−ピリダシニオメチ#)−6−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異5− 性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)アセトアミド)−3
−(1−ピリダニオメチル)−5−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−5−イ/I/)アセトアミド)
−3−(1−ピリダシニオメチ)v ) −3−セフェ
ム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−メトキンイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イA/)アセトアミド1−
3−(2−メチル−1−ビラゾリオメチiv ) −3
−セフェム−4−カルボキンレート(シン異性体L 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−zLz−5−イ/I/)アセトアミ
ド)−3−(2−エチ/L/−1−ビラゾリオメf/L
/)−3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体)、 7−〔2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1
,2,4−チアジアゾ−/L’−5−イル)アセトアミ
ド’)−3−(2−メチ)V−1−ビラゾリオメチ/I
/)−3−セフェム−4−力7レボキシレート(シン異
性体)、 7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イ/I/
)アセトアミドl−3−(1−ピリダシニオメチル)−
6−セフェム−4−カルボキンレート(シン異性体)、 7−C2−C2−プロピニルオキシイミノ)−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−5−イ)L/
)アセトアミドl−3−(2−メチル−1−ビラゾリオ
メチル→−3−セフェム−4カルボキシレート(シン異
性体)、 7−(2−メチルチオメトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾ−/L’−5−イル)アセ
トアミド)−3−(2−メチ/l/−1−ピラゾリオメ
チル)−5−セフェム−4−カルボキシレート(シン異
性体)、 7−(2−力!レボキシメトキシイミノ−2−(5−ア
ミノ−1,2,4−チアジアゾ−A/−3−イlv)ア
セトアミド)−3−(2−メチ/L/−1−ピラゾリオ
メチル)−3−ヒフエムー4−カルボキシレート(シン
異性体)、 7−(2−(2−シクロペンテン−1−イルオキシイミ
ノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−3−イル)アセトアミド〕−5−(2−メチル−1−
ビラゾリオメチ/l/ ) −5−セフェム−4−カル
ボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−A/−5−イル)アセトアミド)−
3−(2−アリル−1−ビラゾリオメチ/L/ ) =
 3−セフェム−4−力〜ボキシレート(シン異性体)
、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−1v−3−イ)v)アセトアミド)
−3−(5−クロロ−1−ピリダジニ8− オメチ/L/ ) −5−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/L/−3−イル)アセトアミド)
−3−(3−メチ/L’−1−(1,3,4−トリアゾ
リオメチlv)’)−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド)−s
L(4−メチ/l/−1−(1,2,4−トリアゾリオ
メチル))−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−tV−3−イlv)アセトアミド)
−3−(3−ヒドロキシ−1−ビリダシニオメチ1)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/l/−3−イ/I/)アセトアミ
ド)−3−(2−(2−ヒドロキシエチ/L/)9− −1−ピラゾリオメチル〕−5−セフェム−4−カルボ
キシレート(シン異性体)、および7−〔2−エトキシ
イミノ−2−(5−アミノ−1、2,4−チアジアゾー
ル−6−イ/I/)アセトアミ ミド〕−1−(2−アミノ−1−ピンニオメチ/L/ 
) −3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性
体) よシなる群から選ばれた特許請求の範囲第5項記載の化
合物。
a27-C2-ethoxyimino-2-(5-amino-1
,2,4-thiadiazol-t+/-3-yl)acetamido)-3-(3-methy1v-1-imidazoliomethy/l
/ ) -5-cephem-4-calphoxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-Thiadiazo-/l/-3-i/L/)acetamide l-3-(3-methy/"-1-(1,2,3-triazolio)methyl]-5-7femu-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-5-yl)acetamide)-3
-(5-methy/L/:1-pyrimidiniomethyfv)-3
-cephem-4-carboxylate (syn I6-mer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole-3-i)v)acetamide)-
3-(2-methyl-1-virazoliomethyl)-5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-/L'-3-yl)acetamide 1
-3-(1-pyridacyniomethi#)-6-cephem-4
-carboxylate (synisomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-5-yl)acetamide)-3
-(1-pyridaniomethyl)-5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(5-amino-1,2
, 4-thiadiazole-5-i/I/)acetamide)
-3-(1-pyridaciniomethy)v) -3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-methquinimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole-3-iA/)acetamide 1-
3-(2-methyl-1-virazoliomethiv) -3
-cephem-4-carboxinate (syn isomer L 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole-zLz-5-i/I/)acetamido)-3-(2-ethyl/L/-1-virazoliomef/L
/)-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-allyloxyimino-2-(5-amino-1
,2,4-thiadiazol-/L'-5-yl)acetamido')-3-(2-methy)V-1-virazoliomethy/I
/) -3-cephem-4-force 7 levoxylate (syn isomer), 7-(2-(2-propynyloxyimino)-2-(5
-amino-1,2,4-thiadiazole-5-i/I/
) Acetamide l-3-(1-pyridaciniomethyl)-
6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-C2-C2-propynyloxyimino)-2-(5
-amino-1,2,4-thiadiazole-5-i)L/
) Acetamide l-3-(2-methyl-1-virazoliomethyl → -3-cephem-4 carboxylate (syn isomer), 7-(2-methylthiomethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4 -thiadiazol-/L'-5-yl)acetamide)-3-(2-methy/l/-1-pyrazoliomethyl)-5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-(2-force! Levoxymethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-A/-3-ylv)acetamide)-3-(2-methy/L/-1-pyrazoliomethyl)-3-hifuemu 4 -carboxylate (syn isomer), 7-(2-(2-cyclopenten-1-yloxyimino)-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide]-5- (2-methyl-1-
Virazoliomethi/l/) -5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-A/-5-yl)acetamide)-
3-(2-allyl-1-virazoliomethi/L/) =
3-cephem-4-boxylate (syn isomer)
, 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
, 4-thiadiazole-1v-3-i)v)acetamide)
-3-(5-chloro-1-pyridazini8-omethi/L/) -5-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1, 2
,4-thiadiazol-/L/-3-yl)acetamide)
-3-(3-methy/L'-1-(1,3,4-triazoliomethylv)')-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2- (5-amino-1,2
,4-thiadiazol-6-yl)acetamido)-s
L(4-methy/l/-1-(1,2,4-triazoliomethyl))-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5 -amino-1,2
, 4-thiadiazol-tV-3-ylv)acetamide)
-3-(3-hydroxy-1-pyridacyniomethyl)-
3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole/l/-3-i/I/)acetamido)-3-(2-(2-hydroxyethyl/L/)9--1-pyrazoliomethyl]-5-cephem-4-carboxylate( syn isomer), and 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-6-i/I/)acetamimide]-1-(2-amino-1-pinniomethyl/ L/
) -3-cephem-4-carboxylate (syn isomer) A compound according to claim 5 selected from the group consisting of: -3-cephem-4-carboxylate (synisomer);

(式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ基、R2
は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化
水素基、またはシクロ低級アルケニル基;式−N′■)
・で示される基は適当な(−) 置換基で置換されていてもよい窒素原子2個以上含有複
素環カチオン基をそれぞれ意味する)で示される新規セ
フェム化合物またはその塩類の製造に際し、 (a) −熱式 (式中、R1とR2はそれぞれ上記と同じ意味であり、
Rけ式−H■ の基により置換されうる基を意味する)
で示される化合物またはその塩類に、一般式 (式中、式ぺ 7の化合物は、處当な置換基で置換され
ていてもよい、窒素原子2個線上含壱複素環化合物を意
味する)で示される化合物を作用させるか、またれ (至)一本式 (式中、R1、R2および式−*”4’・の八はそ4゛
′ れぞれ前と同じ意味であり、Rは保護されたカルボキシ
基、Xは酸残基をそれぞわ意味する)で示される化合物
を、カルボキシ侶護児−の鋭離反応に1寸ことを特徴と
する製造法。
(wherein R1 is an amino or protected amino group, R2
is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate substituent, or a cyclo-lower alkenyl group; formula -N'■)
When producing a new cephem compound or its salts, the group represented by (-) means a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms which may be substituted with an appropriate (-) substituent, respectively. ) - thermal formula (in the formula, R1 and R2 each have the same meaning as above,
R means a group that can be substituted by a group of the formula -H)
The compound represented by or its salts has the general formula (wherein, the compound of formula 7 means a heterocyclic compound containing two nitrogen atoms on a line, which may be substituted with an appropriate substituent). The compound shown can be reacted with the following formula (to) one formula (wherein R1, R2 and the formula -*"4'.8 have the same meanings as before, and R is 1. A method for producing a compound represented by a protected carboxy group (X means an acid residue) in a sharp-dissociation reaction of a carboxy group.

64 一般式 (式中、R目、アミノまたは作置されたアミノ基;Rけ
適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水
素基、またけシクロ低級アで示される基は適当な置換基
で置換されていてもよい、窒素原子2個以上含有仲素環
カチオン基をそれぞれ意味する)で示さねる化合物およ
びその塩類。
64 General formula (wherein R's, amino or placed amino group; R's are lower aliphatic hydrocarbon groups which may be substituted with suitable substituents, and groups represented by cyclo-lower a are suitable) (respectively means a neutral ring cationic group containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with a substituent) and salts thereof.

6つ  一般式 (式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ12− い低級脂肪族炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル
基=Hは保護されたカルボキシ基;Xは酸残基9式−N
’■〕゛で示される基は適当な置換基で置換されていて
もよい窒素原子2個以上含有複素環カチオン基をそれぞ
れ意味する)で示される化合物の製造に際し、一般式(
式中、R’  、R2、R’  、Xおよび式−虻i)
・の基はそれぞれ前と同じ意味)で示される化合物を還
元することを特徴とする製造法。
6 general formulas (wherein R1 is amino or a protected amino-12-lower aliphatic hydrocarbon group, or cyclo-lower alkenyl group = H is a protected carboxy group; X is an acid residue 9 -N
The group represented by '■]' means a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms which may be substituted with an appropriate substituent.
In the formula, R', R2, R', X and the formula-i)
A manufacturing method characterized by reducing a compound represented by (each group has the same meaning as before).

(16)  一般式 (式中、R1はアミノまたは保護されたアミノ基、 R
2は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭
化水素基、またはシクロ低級ア13− ルケニル基;式−凡の)で示される基は適当な置換基で
置換されていてもよい窒素原子2個以上含有複素環カチ
オン基をそれぞれ意味する)で示される化合物またはそ
の塩類を有効成分とする細菌感染症予防・治療剤。」
(16) General formula (wherein R1 is amino or a protected amino group, R
2 is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate substituent, or a cyclo-lower 13-alkenyl group; the group represented by the formula (2) may be substituted with an appropriate substituent. A prophylactic/therapeutic agent for bacterial infections, which contains a compound represented by (representing a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms) or a salt thereof as an active ingredient. ”

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)一般式 (式中、Rはアく)捷たは保護されたアミン基;Rは適
当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水素
基、またはシクロ低級ア置換基で置換されていてもよい
、窒素原子2個以上含有複素環カチオン基をそれぞれ意
味する)で示される新規セフェム化合物およびその塩類
。 (6)Rがアミノ;Rが低級アルキルチオもしくはカル
ボキシで置換されていてもよい低級脂肪族炭化水素基、
またはシクロ低級アルケニル、アミノ、低級アルケニル
、ハロゲン、ヒドロキシもしくはヒドロキシ低級アルキ
ルで置換されていてもよい、2個以上の窒素原子含有不
飽和5〜6員複素単環カチオン基である特許請求の範囲
第2項記載の化合物。 (4)R2がそれぞれ1個の低級アルキルチオもしくは
カルボキシで置換されていてもよい低級7 ルキ/L’
、低級アルケニルもしくは低級アルキニル、まタハシク
ロ低級アルクニル、式−N■lで示される基がそれぞれ
低級アルキル、アミノ、イ氏級アルケニル、ハロゲン、
ヒドロキシおよびヒドロキシ低級アルキルから選ばれた
置換基を1個有していてもよいトリアゾリオ、イミダゾ
リオ、ピリミジニオ、ピラゾリオ、ピリミジニオもしく
はピラシニオである特許請求の範囲第6項記載の化合物
。 (5)  Rがメチル、エチル、アリル、2−プロピニ
ル、カルボキシメチル、メチルチオメチルで示される基
が、1個のメチルで置換されたトリアゾリオ、1個のメ
チルで置換されたイミダゾリオ、1個のメチルもしくは
アミノで置換されたピリミジニオ、1個のメチル、エチ
ル、2−ヒドロキシエチルもしくはアリルで置換された
ピラゾリオ、1個のヒドロキシもしくはクロルで置換さ
れていてもよいピリダシニオ、またはピラジニオである
特許請求の範囲第4項記載の化合物。 る基が1個の低級アルキルで置換されたトリアゾリオで
ある特許請求の範囲第4項記載の化合物。 基が1個の低級アルキルで置換されたイミダゾリオであ
る特許請求の範囲第4項記載の化合物。 る基が1個の低級アルキルまだはアミンで置換されたピ
リミジニオである特許請求の範囲第46− 項記載の化合物。 (9)Rが低級アルキル、低級アルケニル、低級アルキ
ニル、カルボキシ低級アルキル、低級アルキルチオ低級
アルキルまたはシクロ低級ア級アルキノペ ヒドロキシ
低級アルキルまたは低級アルケニルで置換されたピラゾ
リオである特許請求の範囲第4項記載の化合物。 (If)  Rが低級アルキ/I/まだは低級アルキニ
ルまだはハロゲンで置換されていてもよいピリダシニオ
である特許請求の範囲第4項記載の化合物。 /−八 61)Rが低級アルキル;式−N、■7Iで示される基
がピラシニオである特許請求の範囲第4項記載の化合物
。 e127−(2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−
1,2,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド
)−3−(3−メチ)v−1−イミダゾリオメチ)v 
) −3−セフェム−4−カルボキー4− シレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イル)アセ1゛アミド)−
3−(3−メチtv −1−(1,2,+ −トリアゾ
リオ)メチル〕−6−セフェムー4−カルポキシレート
(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアシアシー)L/−3−イル)アセトアミド)
−3−(5−メチル−1−ピリミジニオメチ/l/ )
 −3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体
)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イ/1/)アセトアミド)
−3−(2−メチル−1−ビラゾリオメチ7v)−3−
セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イ/I/)アセトアミド)
−3−(1−L’リタシニオメチル)−5−セフェム−
4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアシアシー)v−3−イ/I/)アセトアミド
)−3−(1−ピリシニオメチル)−3−セフェム−4
−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド)−3
−(1−ピリダシニオメチ)V)=6−セフェム−4−
カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−メトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−3−イ)v)アセトアミド)−
3−(2−メチル−1−ビラゾリオノチ/L’ ) −
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異1生イわ
、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イ/L/)アセトアミド)
−3−(2−エチル−1−ビラゾリオメ−f−)v)−
3−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−アリルオキシイミノ−2−(5−アミノ−1
,2,4−チアシアシー/l/−3−イル)アセトアミ
ド)−3−(2−メチル−1−ピラゾリオメチル)−6
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(5
−アミノ−j、2.4−−Fアジアゾール−6−イル)
アセトアミド〕−3−(1−ピリダシニオメチル)−6
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−(2−(2−プロピニルオキシイミノ)−2−(5
−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)ア
セトアミド)−3−(2−メチル−1−ビラゾリオメチ
)v ) −3−セフェム−4カルボキシレート(シン
異性体)、 7−(2−メチルチオメトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアシアシー)v−3−イル)アセト
アミド’)−3−(2−メチル−1−ピラゾリオメチル
)−6−セフェム−4−カル7− ボキシレート(シン異性体)、 7−(2−カルボキシメトキシイミノ−2−(5−アミ
ノ−1,2,4−チアジアゾール−6−イ)v)アセト
アミド)−3−(2−メチル−1−ピラゾリオメチル)
−6−士フエムー4−カルボキシレート(シン異性体)
、 7−(2−(2−シクロペンテン−1−イルオギシイミ
ノ)−2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール
−5−イル)アセトアミド〕−5=(2−メチ)v−1
−ビラゾリオメチ/l/ ) −3−セフェム−4−カ
ルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−5−イル)アセトアミド)−3
−(2−アリル−1−ビラゾリオメチ/l/ ) −3
−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−)Ly−3−イ/I/)アセトアミ
ド)−3−(3−クロロ−1−ピリグジニ8− オメチル)−6−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イル)アセトアミド)−3
−(3−メチ)v−1−(1,3,4−トリアゾリオメ
チル)’)−3−十フエムー4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアシアシー/L/−3−イル)アセトアミド)
=3−(4−メチル−1−(1,2,4−トリアゾリオ
メチル))−3−セフェム−4−カルボキシレート(シ
ン異性体)、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾール−6−イ/I/)アセ1−アミド
)−3−(3−ヒドロキシ−1−ピリダシニオメチル)
−6−セフェム−4−カルボキシレート(シン異性体)
、 7−〔2−エトキシイミノ−2−(5−アミノ−1,2
,4−チアジアゾ−/I/−6−イ)v)アセトアミド
)−3−[2−(2−ヒドロキシエチル)し ト(シン異性体) よりなる群から選ばれた特許請求の範囲第5項記載の化
合物。 63 一般式 (式中、R1はアミンまたは保護されたアミノ基、Rは
適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水
素基、捷たはシクロ低級アルケニル基;式−社■)で示
される基は適当な置換基で置換されていてもよい3素原
子2個以上含有複素環カチオン基をそれぞれ意味する)
で示される新規セフェム化合物またはその塩類(a) 
 一般式 (式中、RとRはそれぞれ上記と同じ意味うる基を意味
する)で示される化合物またはそ置換されていてもよい
、窒素原子2個以上含有複素環化合物を意味する)で示
される化合物を作用させるか、まだは (b)  一般式 (式中、R1、R2および式−汀■゛1の基はそ4゛・
− れそれ前と同じ意味であり、Rは保護されたカルボキシ
基、Xは酸残基をそれぞね意味する)で示される化合物
を、カルボキシ保護基の脱離反応に付すことを特徴とす
る製造法。 641 一般式 (式中、Rはアミノまたは保護されたアミン基るR は
適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水
素基、またはシクロ低級アで示される基は適当な置換基
で置換されていてもよい、窒素原子2個以」−含有複素
環カチオン基をそれぞれ意味する)で示される化合物お
よびその塩類。 05 一般式 (式中、Rはアミノ1だけ保護されたアミノ−1つ− 基;R2は適当な置換基で置換されていてもよい低級脂
肪族炭化水素基、またはシクロ低級アルケニル基;Hは
保護されたカルボキシ基;置換基で置換されていてもよ
い、窒素原子2個以−1−含有複素環カチオン基をそれ
ぞれ意味する)の基はそれぞれ前と同じ意味)で示され
る化合物を還元することを特徴とする製造法、。 0θ 一般式 (式中、R1はアミノまたは保護されたアミン基1Rは
適当な置換基で置換されていてもよい低級脂肪族炭化水
素基、捷たはシクロ低級アー督乙− 置換基で置換されていてもよい窒素原子2個以上含有複
素環カチオン基をそれぞれ意味する)で示される化合物
またはその塩類を有効成分とする細菌感染症予防・治療
剤。
[Claims] (1) General formula (wherein R is a) a truncated or protected amine group; R is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate substituent, or A novel cephem compound and its salts, each represented by a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with a cyclo-lower a substituent. (6) R is amino; R is a lower aliphatic hydrocarbon group optionally substituted with lower alkylthio or carboxy;
or an unsaturated 5- to 6-membered heteromonocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with cyclo-lower alkenyl, amino, lower alkenyl, halogen, hydroxy, or hydroxy-lower alkyl. Compound according to item 2. (4) Lower 7 Ruk/L' in which each R2 may be substituted with one lower alkylthio or carboxy
, lower alkenyl or lower alkynyl, or cyclo-lower alknyl, the group represented by the formula -Nl is lower alkyl, amino, i-alkenyl, halogen,
7. The compound according to claim 6, which is triazolio, imidazolio, pyrimidinio, pyrazolio, pyrimidinio or piracinio which may have one substituent selected from hydroxy and hydroxy lower alkyl. (5) A group in which R is methyl, ethyl, allyl, 2-propynyl, carboxymethyl, or methylthiomethyl, triazolio substituted with one methyl, imidazolio substituted with one methyl, or one methyl or pyrimidinio substituted with amino, pyrazolio substituted with one methyl, ethyl, 2-hydroxyethyl or allyl, pyridacinio optionally substituted with one hydroxy or chloro, or pyrazinio. Compound according to item 4. 5. The compound according to claim 4, wherein the group represented by is a triazolio substituted with one lower alkyl. 5. A compound according to claim 4, wherein the group is imidazolio substituted with one lower alkyl. 46. The compound according to claim 46, wherein said group is pyrimidinio substituted with one lower alkyl amine. (9) R is lower alkyl, lower alkenyl, lower alkynyl, carboxy lower alkyl, lower alkylthio lower alkyl, or pyrazolio substituted with cyclo lower alkinope, hydroxy lower alkyl or lower alkenyl; Compound. (If) The compound according to claim 4, wherein R is lower alkyl/I/lower alkynyl or pyridacinio optionally substituted with halogen. /-861) The compound according to claim 4, wherein R is lower alkyl; the group represented by the formula -N and 7I is piracinio. e127-(2-ethoxyimino-2-(5-amino-
1,2,4-thiadiazol-6-yl)acetamido)-3-(3-methy)v-1-imidazoliomethy)v
) -3-cephem-4-carboxy 4-sylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-3-yl)acetamide)-
3-(3-methtv-1-(1,2,+-triazolio)methyl]-6-cephemu 4-carpoxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino -1,2
,4-thiasiacy)L/-3-yl)acetamide)
-3-(5-methyl-1-pyrimidiniomethy/l/)
-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole-6-i/1/)acetamide)
-3-(2-methyl-1-virazoliomethi7v)-3-
Cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
, 4-thiadiazole-6-i/I/)acetamide)
-3-(1-L'litaciniomethyl)-5-cephem-
4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiasiacy)v-3-i/I/)acetamido)-3-(1-pyriciniomethyl)-3-cephem-4
-carboxylate (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-6-yl)acetamide)-3
-(1-pyridacyniomethi)V)=6-cephem-4-
Carboxylate (syn isomer), 7-[2-methoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazole-3-i)v)acetamide)-
3-(2-methyl-1-virazolionoti/L') -
3-cephem-4-carboxylate (synthelic acid, 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
, 4-thiadiazole-6-i/L/)acetamide)
-3-(2-ethyl-1-virazoliome-f-)v)-
3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-allyloxyimino-2-(5-amino-1
,2,4-thiasiacy/l/-3-yl)acetamido)-3-(2-methyl-1-pyrazoliomethyl)-6
-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-(2-(2-propynyloxyimino)-2-(5
-amino-j, 2.4--F adiazol-6-yl)
Acetamide]-3-(1-pyridaciniomethyl)-6
-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-(2-(2-propynyloxyimino)-2-(5
-amino-1,2,4-thiadiazol-3-yl)acetamide)-3-(2-methyl-1-virazoliomethi)v) -3-cephem-4 carboxylate (syn isomer), 7-(2- Methylthiomethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiasiacy)v-3-yl)acetamido')-3-(2-methyl-1-pyrazoliomethyl)-6-cephem-4-cal7- Boxylate (syn isomer), 7-(2-carboxymethoxyimino-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazole-6-y)v)acetamido)-3-(2-methyl-1-pyrazoliomethyl )
-6-Femu 4-carboxylate (syn isomer)
, 7-(2-(2-cyclopenten-1-ylogiciimino)-2-(5-amino-1,2,4-thiadiazol-5-yl)acetamide]-5=(2-methy)v-1
-virazoliomethi/l/) -3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-5-yl)acetamide)-3
-(2-allyl-1-virazoliomethi/l/) -3
-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-Thiadiazo-)Ly-3-I/I/)acetamido)-3-(3-chloro-1-pyrigini-8-omethyl)-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[ 2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
,4-thiadiazol-6-yl)acetamide)-3
-(3-methy)v-1-(1,3,4-triazoliomethyl)')-3-tenfemu 4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5 -amino-1,2
,4-thiasiacy/L/-3-yl)acetamide)
=3-(4-methyl-1-(1,2,4-triazoliomethyl))-3-cephem-4-carboxylate (syn isomer), 7-[2-ethoxyimino-2-(5- Amino-1,2
,4-thiadiazol-6-i/I/)ace1-amido)-3-(3-hydroxy-1-pyridaciniomethyl)
-6-cephem-4-carboxylate (syn isomer)
, 7-[2-ethoxyimino-2-(5-amino-1,2
, 4-thiadiazo-/I/-6-i)v)acetamido)-3-[2-(2-hydroxyethyl)-(synisomer) Compounds described. 63 General formula (wherein R1 is an amine or a protected amino group, R is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate substituent, a straight or cyclo lower alkenyl group; Formula - Company ■) Each of the groups represented by means a heterocyclic cationic group containing two or more triatomic atoms which may be substituted with an appropriate substituent)
A novel cephem compound or its salts (a) represented by
A compound represented by the general formula (wherein R and R each mean a group having the same meaning as above) or a heterocyclic compound containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted therewith. (b) General formula (wherein R1, R2 and the group of formula
- is the same as before, R is a protected carboxy group, and X is an acid residue) is subjected to an elimination reaction of the carboxy protecting group. Manufacturing method. 641 General formula (wherein R is an amino or protected amine group, R is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with an appropriate substituent, or the group represented by cyclo-lower a is an appropriate substituent) Compounds and salts thereof, each of which refers to a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms, which may be substituted with . 05 General formula (in the formula, R is an amino group in which only amino 1 is protected; R2 is a lower aliphatic hydrocarbon group that may be substituted with an appropriate substituent, or a cyclo-lower alkenyl group; H is Protected carboxy group; each refers to a heterocyclic cationic group containing 2 or more nitrogen atoms, which may be substituted with a substituent) (each has the same meaning as before) is reduced. A manufacturing method, characterized by: 0θ General formula (wherein, R1 is an amino or protected amine group, 1R is a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with a suitable substituent, or a lower aliphatic hydrocarbon group which may be substituted with a straight or cyclo-substituent. A prophylactic/therapeutic agent for bacterial infections containing as an active ingredient a compound represented by the following formula (representing a heterocyclic cationic group containing two or more nitrogen atoms which may be present) or a salt thereof.
JP5526382A 1981-04-03 1982-04-02 Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism Granted JPS584789A (en)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8110556 1981-04-03
GB8110556 1981-04-03
GB8122896 1981-07-24
GB8132775 1981-10-30

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1344049A Division JPH02218685A (en) 1981-04-03 1989-12-28 New cephem compound, production thereof and preventive-curing agent of microbism

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS584789A true JPS584789A (en) 1983-01-11
JPH0261479B2 JPH0261479B2 (en) 1990-12-20

Family

ID=10520916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5526382A Granted JPS584789A (en) 1981-04-03 1982-04-02 Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS584789A (en)

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5841887A (en) * 1981-08-19 1983-03-11 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation and preventive or remedy for microbism
JPS5859992A (en) * 1981-09-14 1983-04-09 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephen compound, its preparation and preventing agent and remedy for microbism
JPS60226886A (en) * 1984-04-17 1985-11-12 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and its preparation
WO1986005184A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Takeda Chemical Industries, Ltd. Antibacterial compound
WO1986005787A1 (en) * 1985-04-01 1986-10-09 Takeda Chemical Industries, Ltd. Antibacterial compounds
JPS6290A (en) * 1985-01-30 1987-01-06 Eisai Co Ltd 3-(pyrrolidinio)methyl-3-cephem derivative
EP0214600A2 (en) * 1985-09-03 1987-03-18 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Cephalosporin derivatives
JPS62149681A (en) * 1985-09-03 1987-07-03 Otsuka Chem Co Ltd Novel derivative of cephalosporin compound, production thereof and pharmaceutical composition containing said derivative
JPS62174085A (en) * 1985-11-22 1987-07-30 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
JPS6399079A (en) * 1986-09-22 1988-04-30 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
JPH01151589A (en) * 1987-09-14 1989-06-14 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
US4864022A (en) * 1985-04-17 1989-09-05 Takeda Chemical Industries, Ltd. 3-Condensed imidazolium-cephem compounds
US4929612A (en) * 1987-04-17 1990-05-29 Eisai Co., Ltd. Thiadiazolylacetamide cephem derivatives
JPH02218685A (en) * 1981-04-03 1990-08-31 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd New cephem compound, production thereof and preventive-curing agent of microbism
JP2007505895A (en) * 2003-09-18 2007-03-15 アステラス製薬株式会社 Cephem compound

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5559197A (en) * 1978-10-27 1980-05-02 Glaxo Group Ltd Novel cephalosporin compound
JPS5566591A (en) * 1978-11-15 1980-05-20 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism
JPS55115888A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5559197A (en) * 1978-10-27 1980-05-02 Glaxo Group Ltd Novel cephalosporin compound
JPS5566591A (en) * 1978-11-15 1980-05-20 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic
JPS55105689A (en) * 1978-12-29 1980-08-13 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem and cepham compounds, their preparation and preventive and remedy for microbism
JPS55115888A (en) * 1979-02-23 1980-09-06 Glaxo Group Ltd Cephalosporin antibiotic

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02218685A (en) * 1981-04-03 1990-08-31 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd New cephem compound, production thereof and preventive-curing agent of microbism
JPH0524159B2 (en) * 1981-04-03 1993-04-06 Fujisawa Pharmaceutical Co
JPS5841887A (en) * 1981-08-19 1983-03-11 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound, its preparation and preventive or remedy for microbism
JPH0453868B2 (en) * 1981-08-19 1992-08-27 Fujisawa Pharmaceutical Co
JPS5859992A (en) * 1981-09-14 1983-04-09 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephen compound, its preparation and preventing agent and remedy for microbism
JPH0526795B2 (en) * 1981-09-14 1993-04-19 Fujisawa Pharmaceutical Co
JPS60226886A (en) * 1984-04-17 1985-11-12 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and its preparation
JPS6290A (en) * 1985-01-30 1987-01-06 Eisai Co Ltd 3-(pyrrolidinio)methyl-3-cephem derivative
WO1986005184A1 (en) * 1985-03-01 1986-09-12 Takeda Chemical Industries, Ltd. Antibacterial compound
WO1986005787A1 (en) * 1985-04-01 1986-10-09 Takeda Chemical Industries, Ltd. Antibacterial compounds
US4864022A (en) * 1985-04-17 1989-09-05 Takeda Chemical Industries, Ltd. 3-Condensed imidazolium-cephem compounds
JPS62149681A (en) * 1985-09-03 1987-07-03 Otsuka Chem Co Ltd Novel derivative of cephalosporin compound, production thereof and pharmaceutical composition containing said derivative
EP0214600A2 (en) * 1985-09-03 1987-03-18 Otsuka Kagaku Kabushiki Kaisha Cephalosporin derivatives
JPS62174085A (en) * 1985-11-22 1987-07-30 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
JPS6399079A (en) * 1986-09-22 1988-04-30 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
US4929612A (en) * 1987-04-17 1990-05-29 Eisai Co., Ltd. Thiadiazolylacetamide cephem derivatives
JPH01151589A (en) * 1987-09-14 1989-06-14 Fujisawa Pharmaceut Co Ltd Novel cephem compound and production thereof
JPH0576950B2 (en) * 1987-09-14 1993-10-25 Fujisawa Pharmaceutical Co
JP2007505895A (en) * 2003-09-18 2007-03-15 アステラス製薬株式会社 Cephem compound
JP4643577B2 (en) * 2003-09-18 2011-03-02 アステラス製薬株式会社 Cephem compound

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0261479B2 (en) 1990-12-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0062321B1 (en) New cephem compounds, processes for their preparation, pharmaceutical compositions containing them and their starting compounds
JPS584789A (en) Novel cephem compound, its preparation, preventive and remedy for microbism
US7384928B2 (en) Broad spectrum cephem compounds
JPH03163087A (en) New cephem compound and production thereof
JPS6399079A (en) Novel cephem compound and production thereof
DK162391B (en) ANALOGY PROCEDURE FOR PREPARING SYN-ISOMERS OF 3,7-DISUBSTITUTED 3-CEPHEM-4-CARBOXYLIC ACID COMPOUNDS
FI86430B (en) Method for production of therapeutically active cephalosporin derivatives
EP0074645B1 (en) New cephem compounds, processes for their preparation and pharmaceutical antibacterial composition containing them
JPS6127990A (en) Cephalosporin compound
SE450384B (en) NEW CEFEM SOCIETIES AND PROCEDURES FOR THEIR PRODUCTION
AU612990B2 (en) Antibiotic compounds
JP2004529172A (en) Cephem compound
JPH01193273A (en) Novel cephem compound its production and preventive and therapeutic agents for bacterial infection
JPH02262583A (en) Novel cephem compound and its production
JPS62215594A (en) 3,7-disubstituted-3-cephem compound and production thereof
JPS5951292A (en) Cephalosporin compound and its preparation
EP0349340A2 (en) Novel cephem compound, method for producing the same and anti-bacterial agent
JP3218363B2 (en) Cephem compound, method for producing the same, and antibacterial agent containing the compound
JPS6236387A (en) 3,7-disubstituted-3-cephem compound and production thereof
CA1284995C (en) Cephalosporin compounds and processes for preparing the same
JPH0526795B2 (en)
JPS5810588A (en) 7-acylamino-3-substituted cephem compound and its preparation
JPS59184186A (en) Novel cephem compound
JPH0359076B2 (en)
JP2005536499A (en) Cephalosporin