JPS584157A - コロナ放電方法 - Google Patents
コロナ放電方法Info
- Publication number
- JPS584157A JPS584157A JP10183281A JP10183281A JPS584157A JP S584157 A JPS584157 A JP S584157A JP 10183281 A JP10183281 A JP 10183281A JP 10183281 A JP10183281 A JP 10183281A JP S584157 A JPS584157 A JP S584157A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- corona discharge
- charging
- electrode
- dielectric constant
- coated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/915—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means using mechanical or physical means therefor, e.g. corona
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/10—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by electric discharge treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はコロナ放電方法に関し、特に写真乳剤層の如き
親水層を疎水性表面を有する支持体に塗布するに際し、
該疎水性表面を親水化するために用いられるのに適した
コロナ放電方法に関する。
親水層を疎水性表面を有する支持体に塗布するに際し、
該疎水性表面を親水化するために用いられるのに適した
コロナ放電方法に関する。
写真感光材料は一般に支持体−ヒに・・ロゲン化銀乳剤
層を少なくとも一層塗布することによって製造され、支
持体としてポリエチレン被覆紙、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム等疎水性表面を有する種々のものが目的
に応じて使用されている。一方これらの支持体表面に塗
布される写真層は通常親水性であるため、疎水性面に直
接塗布しても接着しないので、塗布するに際し支持体の
疎水性表面を親水化するのが普通である。親水化する方
法として、疎水性表面に接着し、かつ親水性層にも接着
することのできる組成物を塗布するいわゆる下引法、コ
ロナ放電処理法、火災処理法、紫外線照射法、グロー放
電処理法等積々の方法があるが、操作性、安全性、コス
ト等の実用面から、近年コロナ放電処理法が特にポリエ
チレン被覆紙では広く使用されている。
層を少なくとも一層塗布することによって製造され、支
持体としてポリエチレン被覆紙、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム等疎水性表面を有する種々のものが目的
に応じて使用されている。一方これらの支持体表面に塗
布される写真層は通常親水性であるため、疎水性面に直
接塗布しても接着しないので、塗布するに際し支持体の
疎水性表面を親水化するのが普通である。親水化する方
法として、疎水性表面に接着し、かつ親水性層にも接着
することのできる組成物を塗布するいわゆる下引法、コ
ロナ放電処理法、火災処理法、紫外線照射法、グロー放
電処理法等積々の方法があるが、操作性、安全性、コス
ト等の実用面から、近年コロナ放電処理法が特にポリエ
チレン被覆紙では広く使用されている。
しかしながら、コロナ放電処理法にも種々の欠点がある
。写真感光材料の製造に於ける太きな問題の１つは、放
電ムラに起因する不均一帯電によって、塗布された写真
層に塗布ムラが発生することである。写真層は一般に数
ミクロンないし数十ミクロン程度の薄層であるため、塗
布ムラは写真特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質
を著しく低下させる。
。写真感光材料の製造に於ける太きな問題の１つは、放
電ムラに起因する不均一帯電によって、塗布された写真
層に塗布ムラが発生することである。写真層は一般に数
ミクロンないし数十ミクロン程度の薄層であるため、塗
布ムラは写真特性に大きな悪影響を与え写真製品の品質
を著しく低下させる。
従来、このような塗布ムラを除去あるいは減少させる方
法として、塗液をコロナ放電による不均一帯電の影響を
受けＫくいような塗液に改良する方渕、コロナ放電処理
後塗液を塗布するまで一定期間放置して帯電状況を均一
化させる方法、コロナ放電処理後塗液を塗布する迄にコ
ロナ帯電面を加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一
化させる方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばか抄でなく、塗布ムラの除去は困難である。
法として、塗液をコロナ放電による不均一帯電の影響を
受けＫくいような塗液に改良する方渕、コロナ放電処理
後塗液を塗布するまで一定期間放置して帯電状況を均一
化させる方法、コロナ放電処理後塗液を塗布する迄にコ
ロナ帯電面を加電装置にて加電しコロナ帯電状態を均一
化させる方法等があるが、塗液からの改良は他の制約条
件が多いばか抄でなく、塗布ムラの除去は困難である。
コロナ放電処理後一定期間放置する方法は、中間製品の
増加、工程数の増加となりコストを増大させる。又加電
方法は帯電の均一化が不十分であるという欠点がある。
増加、工程数の増加となりコストを増大させる。又加電
方法は帯電の均一化が不十分であるという欠点がある。
本発明の目的は従来の方法が有する欠点がなく、かつ均
一なコロナ帯電を得ることのできるコロナ放電方法を提
供するにある。
一なコロナ帯電を得ることのできるコロナ放電方法を提
供するにある。
本発明の別の目的はコロナ放電処理によって親水化され
た疎水性支持体上に塗布ムラのない親水性塗布層を得る
ことのできるコロナ放電方法を提供するにある。
た疎水性支持体上に塗布ムラのない親水性塗布層を得る
ことのできるコロナ放電方法を提供するにある。
図１はコロナ放電の模様を模式的に示したものである。
アースロール１は、通常、アースされた金属ロール２上
にシリコンゴム等の絶縁性物質からなる絶縁性被覆層３
を有してなるものが用いられている。コロナ放電電極４
は一般的にはアルミニウム、鉄等の金属が用いられてい
る。放電６はコロナ放電電極４とアースロール１上を走
行する疎水性表面を有する支持体５との間の放電間隔に
おいて発生する。
にシリコンゴム等の絶縁性物質からなる絶縁性被覆層３
を有してなるものが用いられている。コロナ放電電極４
は一般的にはアルミニウム、鉄等の金属が用いられてい
る。放電６はコロナ放電電極４とアースロール１上を走
行する疎水性表面を有する支持体５との間の放電間隔に
おいて発生する。
本発明の目的は高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層で
金属ロール表面を被覆したアースロールまたはロール電
極を用いることによって達成される。
金属ロール表面を被覆したアースロールまたはロール電
極を用いることによって達成される。
本発明はコロナ放電そのものを均一にし、均一な帯電を
得るものであるので、前述したような不均一帯電をコロ
ナ放電処理後何らかの手段で不均一性を除去する従来の
方法とは異なり、不均一性を除去するために生じる不都
合はない。
得るものであるので、前述したような不均一帯電をコロ
ナ放電処理後何らかの手段で不均一性を除去する従来の
方法とは異なり、不均一性を除去するために生じる不都
合はない。
本発明の一つの態様について図１で説明すれば絶縁性被
覆層３として高誘電率物質を含有させたものを用いる。
覆層３として高誘電率物質を含有させたものを用いる。
本発明の別の態様は図１の電極４の代りにコロナ放電電
極としてロール電極（−図示していないが図１のアース
ロールド同様の形態のもの。但し、この場合アースロー
ルは絶縁性被覆層はなくてもよい。）を用いる場合には
、その絶縁性被覆層として高誘電率物質を含有させたも
のを用いる。
極としてロール電極（−図示していないが図１のアース
ロールド同様の形態のもの。但し、この場合アースロー
ルは絶縁性被覆層はなくてもよい。）を用いる場合には
、その絶縁性被覆層として高誘電率物質を含有させたも
のを用いる。
本発明に用いられる高誘電率物質は比誘電率２０以上の
粉体状のものが好ましく、粉体の粒状は直径約５０μ以
下、好ましくは約１０μ以下のものがよい。本発明に用
いるに好ましい高誘電率物質としてはチタン酸バリウム
磁器（比誘電率１１５０〜３２００ ）、チタン酸ジル
コニウム磁器（同５５）、チタン磁器（同３０〜９０）
等のセラミック原料が挙げらにるが、これらに限定され
ない。これらの高誘電率物質のうちチタン酸バリウム磁
器が最も好ましい。
粉体状のものが好ましく、粉体の粒状は直径約５０μ以
下、好ましくは約１０μ以下のものがよい。本発明に用
いるに好ましい高誘電率物質としてはチタン酸バリウム
磁器（比誘電率１１５０〜３２００ ）、チタン酸ジル
コニウム磁器（同５５）、チタン磁器（同３０〜９０）
等のセラミック原料が挙げらにるが、これらに限定され
ない。これらの高誘電率物質のうちチタン酸バリウム磁
器が最も好ましい。
高誘電率物質の絶縁性被覆層中の含有量は、通常、絶縁
性被覆層を形成する絶縁性物質１重量部に対し、約０．
３〜約３重量部の範囲で含有させるのがよい。含有量を
多くするに伴いコロナ帯電の均一性が向上するが、余り
多くなると絶縁性被覆層の耐久性が劣化したり、又高誘
電率物質の分数が不均一になるので、実用的にはこれら
を考慮して決定すればよい。
性被覆層を形成する絶縁性物質１重量部に対し、約０．
３〜約３重量部の範囲で含有させるのがよい。含有量を
多くするに伴いコロナ帯電の均一性が向上するが、余り
多くなると絶縁性被覆層の耐久性が劣化したり、又高誘
電率物質の分数が不均一になるので、実用的にはこれら
を考慮して決定すればよい。
絶縁性被覆層を形成する絶縁性物質としては、通常、シ
リコンゴム、エチレンプロピレンゴム、・・イパロ／等
のゴムが用いられるが、これらに限定されない。これら
のゴムの比誘電率は、通常、約８以下である。
リコンゴム、エチレンプロピレンゴム、・・イパロ／等
のゴムが用いられるが、これらに限定されない。これら
のゴムの比誘電率は、通常、約８以下である。
尚、本発明でいう比誘電率は、周波数１００ＫＨｚで測
定した値を示す。
定した値を示す。
本発明のコロナ放電方法は写真乳剤層の如き厳密なその
均一性を要求される親水性の薄層を疎水性表面を有する
支持体に塗布するだめの親水化方法として好適である。
均一性を要求される親水性の薄層を疎水性表面を有する
支持体に塗布するだめの親水化方法として好適である。
本発明が適用できる疎水性表面を有する支持体としては
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重
合体等のポリオレフィン系重合体を紙、他の合成フィル
ムあるいは金属箔等の基体の両面又は片面にラミネート
したものがその代表的なものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリスチレン等その他の疎水性フィルム
にも適用することができる。これらの疎水性重合体層に
は二酸化チタン、カーボンブラック等の顔料、その他染
料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含有されていても
よい。これらの支持体の疎水性表面は粗面化されたもの
であってもよい。
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−ブテン共重
合体等のポリオレフィン系重合体を紙、他の合成フィル
ムあるいは金属箔等の基体の両面又は片面にラミネート
したものがその代表的なものであるが、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリスチレン等その他の疎水性フィルム
にも適用することができる。これらの疎水性重合体層に
は二酸化チタン、カーボンブラック等の顔料、その他染
料、増白剤、帯電防止剤等の添加剤が含有されていても
よい。これらの支持体の疎水性表面は粗面化されたもの
であってもよい。
本発明のコロナ放電方法により疎水性表面を有する支持
体に塗布される塗層としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀等の・・ロゲン化銀乳剤層およびハレーシ
ョン防止層、下引層等積々の親水性コロイド含有層がそ
の代表的なものであり、親水性コロイドとしてはゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリルアミド、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリビニルメチルエーテル、
メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体等積々のものが使用され
る。これらの親水性コロイド含有層にはノ・イドロキノ
ン、１−フェニル−３−ピラゾリドンの如き現像主薬、
カーボンブラック、二酸化チタン、シリカ、タルク、ク
レー、硫酸バリウム、酸化亜鉛、米でんぷん等の顔料や
マット化剤、ホルマリン、クロム明パン等の硬化剤、湿
潤剤、カプラー、銀錯塩拡散転写用銀沈殿核等が必要に
より含有される。
体に塗布される塗層としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化
銀、沃臭化銀等の・・ロゲン化銀乳剤層およびハレーシ
ョン防止層、下引層等積々の親水性コロイド含有層がそ
の代表的なものであり、親水性コロイドとしてはゼラチ
ン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポ
リアクリルアミド、カルボキシメチルセルロース、ヒド
ロキシエチルセルロース、ポリビニルメチルエーテル、
メチルビニルエーテル−無水マレイン酸共重合体、スチ
レン−無水マレイン酸共重合体等積々のものが使用され
る。これらの親水性コロイド含有層にはノ・イドロキノ
ン、１−フェニル−３−ピラゾリドンの如き現像主薬、
カーボンブラック、二酸化チタン、シリカ、タルク、ク
レー、硫酸バリウム、酸化亜鉛、米でんぷん等の顔料や
マット化剤、ホルマリン、クロム明パン等の硬化剤、湿
潤剤、カプラー、銀錯塩拡散転写用銀沈殿核等が必要に
より含有される。
本発明が適用される塗布方式としては、ディップ方式、
エアーナイフ方式、キス方式、ビード方式、カーテン方
式等積々の方式があるが、ビード方式、カーテン方式等
の高速塗布方式に有利である。本発明の実施に際して上
記親水性有機コロイド溶液は単液層あるいは複数の液層
として塗布される。
エアーナイフ方式、キス方式、ビード方式、カーテン方
式等積々の方式があるが、ビード方式、カーテン方式等
の高速塗布方式に有利である。本発明の実施に際して上
記親水性有機コロイド溶液は単液層あるいは複数の液層
として塗布される。
次に本発明の実施例を示すが、これに限定されるもので
はない。
はない。
実施例
図１に示したコロナ放電装置において、鉄製金属ロール
の表面を、絶縁性物質の・・イノ；ロン１重量部に対し
、下表に示した量の平均粒径約５μのチタン酸バリウム
磁器を均一に分散含有。
の表面を、絶縁性物質の・・イノ；ロン１重量部に対し
、下表に示した量の平均粒径約５μのチタン酸バリウム
磁器を均一に分散含有。
させた絶縁性被覆層で被覆したアースロールを使用した
。このアースロール上を坪量１６０ｆ／ｍ’の紙基体の
両面を３０μ厚のポリエチレン層で被覆した支持体を６
０ｍ／分の速度で矢印の方向に走行させながら、コロナ
周波数１１０ＫＨ２，放電電流１．ＯＡでコロナ放電を
行った。絶縁性被覆層厚は全て４ｆｉとし、放電電極の
先端部と支持体表面との間隔は５００μとした。
。このアースロール上を坪量１６０ｆ／ｍ’の紙基体の
両面を３０μ厚のポリエチレン層で被覆した支持体を６
０ｍ／分の速度で矢印の方向に走行させながら、コロナ
周波数１１０ＫＨ２，放電電流１．ＯＡでコロナ放電を
行った。絶縁性被覆層厚は全て４ｆｉとし、放電電極の
先端部と支持体表面との間隔は５００μとした。
コロナ放電処理後の支持体ポリエチレン層表面のコロナ
帯電状態を観察するため、着色顔料としてカーボンブラ
ックを０．５ ％の濃度で含む電子写真用液体現像剤に
コロナ放電処理を行った前記試料を浸漬し、ポリエチレ
ン層表面のトナーによる着色状態にてコロナ帯電の状態
を判定し、その結果を下表に示した。
帯電状態を観察するため、着色顔料としてカーボンブラ
ックを０．５ ％の濃度で含む電子写真用液体現像剤に
コロナ放電処理を行った前記試料を浸漬し、ポリエチレ
ン層表面のトナーによる着色状態にてコロナ帯電の状態
を判定し、その結果を下表に示した。
表
尚、コロナ帯電状態は帯電ムラのない最良のものを１と
し、全面にムラのある不良のものを４として評価した４
段階法による値である。
し、全面にムラのある不良のものを４として評価した４
段階法による値である。
上記表からアースロールの絶縁性被覆層に高誘電率物質
を含有させるとポリエチレン層表面のコロナ帯電ムラが
改良され、均一なコロナ帯電が得られることがわかる。
を含有させるとポリエチレン層表面のコロナ帯電ムラが
改良され、均一なコロナ帯電が得られることがわかる。
次に本実施例の上記方法と全く同じ要領でコロナ放電処
理した直後に支持体のコロナ帯電面にゼラチン−ハロゲ
ン化銀乳剤を塗布した。試料Ｎ１１Ｌ１は全面に塗布ム
ラが発生したが、試料随２は部分的にしか塗布ムラが見
られなかった。
理した直後に支持体のコロナ帯電面にゼラチン−ハロゲ
ン化銀乳剤を塗布した。試料Ｎ１１Ｌ１は全面に塗布ム
ラが発生したが、試料随２は部分的にしか塗布ムラが見
られなかった。
試料随３は塗布ムラがほとんど目立たず良好であり、試
料醜４〜６は塗布状態が極めて良好であった。
料醜４〜６は塗布状態が極めて良好であった。
図１はコロナ放電の模様の模式的説明した断面図。
１・・・・・・・・アースロール
２・・・・・・・・アースロールの金属ロール３・・・
・・・・・アニスロールの絶縁性被覆層４−一・・・コ
ロナ放電電極 ５・・・・・・・・疎水性表面を有する支持体６・・・
・・・・放 電 手続補正書（自発） 昭和５７年６月２ｚ日 １、事件の表示 昭和５６年 特許 願第 １０１８８２ 号
２、発明の名称 コロナ放電方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の白玉丁目４番２号名
称 （５９８延１に鉦株式会社 ４、代理人 居 所 〒１００東京都千代田区丸の内三丁目４番２号
三菱製紙株式会社内 ５、補正命令の日付 ｉｐ和 年 月、 日 別紙のとおり １、明細書第５頁第８〜１４行１本発明の別の態様は〜
含有させたものを用いる」を次のように訂正。 「本発明の別の態様は、図１の電極４の代りにコロナ放
電電極としてロール電極（図示していないが、図１のア
ースロールと同様の形態のもの）を用いる場合には、そ
のロール電極表面に高誘電物質を含有させた絶縁性被覆
層を設ける。 但し、この場合アースロールは絶縁性被覆層はなくても
よい。 本発明において絶縁性被覆層の層厚は特に限定されない
が、通常約１〜ｌＯ冨ト好ましくは約２〜ｑｍ’ａの範
囲ｆ使用される。余り薄くするとコロナ放電時に絶縁破
壊が起こりやすく、又１ 経時によるゴムの物性劣化に
より絶縁層の耐久期間が短かくなるという不都合を生じ
る。又余り部厚くな、るとコスト上不利になるだけでな
く放電の均一性が悪くなるのｔ好ましくない。」２、明
細書第６頁第２行 「セラミック原料」を「セラミック」に訂正。 「（１）高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層１金属ロ
ール表面を被覆したアースロールまたはロール電極を用
いることを特徴とするコロナ放電方法。 （２）高誘電率物質の比誘電率が２０以上である特許請
求の範囲第１項記載のコロナ放電方法。 （４）高誘電率物質がチタン酸バリウム磁器、チタン酸
ジルコニウム磁器、チタン磁器から選ばれる少なくとも
１つである特許請求の範囲第８項に記載のコロナ放電方
法。」１１開昭５８−４１５７ （５） ３５５−
・・・・・アニスロールの絶縁性被覆層４−一・・・コ
ロナ放電電極 ５・・・・・・・・疎水性表面を有する支持体６・・・
・・・・放 電 手続補正書（自発） 昭和５７年６月２ｚ日 １、事件の表示 昭和５６年 特許 願第 １０１８８２ 号
２、発明の名称 コロナ放電方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区丸の白玉丁目４番２号名
称 （５９８延１に鉦株式会社 ４、代理人 居 所 〒１００東京都千代田区丸の内三丁目４番２号
三菱製紙株式会社内 ５、補正命令の日付 ｉｐ和 年 月、 日 別紙のとおり １、明細書第５頁第８〜１４行１本発明の別の態様は〜
含有させたものを用いる」を次のように訂正。 「本発明の別の態様は、図１の電極４の代りにコロナ放
電電極としてロール電極（図示していないが、図１のア
ースロールと同様の形態のもの）を用いる場合には、そ
のロール電極表面に高誘電物質を含有させた絶縁性被覆
層を設ける。 但し、この場合アースロールは絶縁性被覆層はなくても
よい。 本発明において絶縁性被覆層の層厚は特に限定されない
が、通常約１〜ｌＯ冨ト好ましくは約２〜ｑｍ’ａの範
囲ｆ使用される。余り薄くするとコロナ放電時に絶縁破
壊が起こりやすく、又１ 経時によるゴムの物性劣化に
より絶縁層の耐久期間が短かくなるという不都合を生じ
る。又余り部厚くな、るとコスト上不利になるだけでな
く放電の均一性が悪くなるのｔ好ましくない。」２、明
細書第６頁第２行 「セラミック原料」を「セラミック」に訂正。 「（１）高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層１金属ロ
ール表面を被覆したアースロールまたはロール電極を用
いることを特徴とするコロナ放電方法。 （２）高誘電率物質の比誘電率が２０以上である特許請
求の範囲第１項記載のコロナ放電方法。 （４）高誘電率物質がチタン酸バリウム磁器、チタン酸
ジルコニウム磁器、チタン磁器から選ばれる少なくとも
１つである特許請求の範囲第８項に記載のコロナ放電方
法。」１１開昭５８−４１５７ （５） ３５５−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）高誘電率物質を含有する絶縁性被覆層で金属ロー
ル表面を被覆したアースロールまたはロール電極を用い
ることを特徴とするコロナ放電方法。 （′４ 高誘電率物質の比誘電率が２０以上である特許
請求の範囲第１項記載のコロナ放電方法。 （３）高誘電率物質がチタン酸バリウム磁器、チタン酸
ジルコニウム磁器、チタン磁器から選ばれる少なくとも
１つである特許請求の範囲第各項に記載のコロナ放電方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10183281A JPS584157A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | コロナ放電方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10183281A JPS584157A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | コロナ放電方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS584157A true JPS584157A (ja) | 1983-01-11 |
| JPS623939B2 JPS623939B2 (ja) | 1987-01-28 |
Family
ID=14311059
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10183281A Granted JPS584157A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | コロナ放電方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584157A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5322735A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-02 | Bexford Ltd | Photographic film base and method of producing same |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP10183281A patent/JPS584157A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5322735A (en) * | 1976-08-16 | 1978-03-02 | Bexford Ltd | Photographic film base and method of producing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS623939B2 (ja) | 1987-01-28 |
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