JPS5839039U - 半導体素子の蒸着治具 - Google Patents

半導体素子の蒸着治具

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Publication number
JPS5839039U
JPS5839039U JP13441381U JP13441381U JPS5839039U JP S5839039 U JPS5839039 U JP S5839039U JP 13441381 U JP13441381 U JP 13441381U JP 13441381 U JP13441381 U JP 13441381U JP S5839039 U JPS5839039 U JP S5839039U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
jig
vapor deposition
semiconductor element
semiconductor devices
Prior art date
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Pending
Application number
JP13441381U
Other languages
English (en)
Inventor
大館　光雄
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 三菱電機株式会社 filed Critical 三菱電機株式会社
Priority to JP13441381U priority Critical patent/JPS5839039U/ja
Publication of JPS5839039U publication Critical patent/JPS5839039U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Thyristors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は半導体素子を示す斜視図、第２図は縦来例によ
る蒸着治具の分解斜視図、第３図は腕を浮き上げたマス
ク治具の斜視図、第４図ａ、　　ｂはこの考案の一実施
例を示すもので、第４図ａはマスク治具の展開斜視図、
第４図すは加工仕上後のマスク治具の斜視図である。 図中、５はサイリスタ素子、６′はマスク治具、６’　
ａは遊離マスク、６’　ｂは腕、６’　ｃは外周マスク
、６’　ｄはかさ、７は保持具である。なお、図中の同
一符号は同一または相当部分を示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体素子の少なくとも一主面に蒸着等により金属膜を
    形成させるために外周マスクと、その内部の遊離マスク
    と複数本の腕で架橋してなるマスク治具と、開口部を有
    し前記マスク治具と前記半導体素子とを接触させて挿着
    保持する保持具とからなる蒸着治具において、前記マス
    ク治具は遊離マスクと複数に分割された外周マスクと、
    前記遊離マスクと外周マスクの各分割部分とを接合する
    腕とからなり、かつ、前記各腕に前記半導体素子に接触
    しないための逃げ部を設けたことを特徴とする半導体素
    子の蒸着治具。
JP13441381U 1981-09-09 1981-09-09 半導体素子の蒸着治具 Pending JPS5839039U (ja)

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JPS5839039U true JPS5839039U (ja) 1983-03-14

Family

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6048693U (ja) * 1983-09-09 1985-04-05 山本　昌夫 遠赤外線面発熱体
JPS60160493U (ja) * 1984-04-02 1985-10-25 山本　昌夫 遠赤外線幅射器具
JPS6134879A (ja) * 1984-07-27 1986-02-19 越野　登 輻射式温熱装置
JPS622485A (ja) * 1985-06-27 1987-01-08 松下電器産業株式会社 面状ヒ−タ
JPH0218294U (ja) * 1988-07-22 1990-02-06

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