JPS583223B2 - electrophotographic photoreceptor - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電子写真感光体に関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor.

電子写真感光体は、所定の特性を得るため、あるいは適
用される電子写真プロセスの種類に応じて種々の構成を
とるものである。Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process to which they are applied.

そして、電子写真感光体の代表的なものとして、表面に
絶縁層を備えた構成の感光体が広く用いられている。As a typical electrophotographic photoreceptor, a photoreceptor having an insulating layer on its surface is widely used.

この絶縁層は、光導電層の保護、感光体の機械的強度の
改善、暗減衰特性の改善、または、特定の電子写真プロ
セスに適用されるため（さらには無公害化の為）、等の
目的のために設けられるものである。This insulating layer is used to protect the photoconductive layer, improve the mechanical strength of the photoreceptor, improve the dark decay characteristics, or be applied to certain electrophotographic processes (and for pollution-free purposes). It is established for a purpose.

このような絶縁層を有する感光体または、絶縁層を有す
る感光体を用いる電子写真プロセスの代表的な例は、例
えば、米国特許第２８６００４８号公報、特公昭４１−
１６４２９号公報、特公昭３８−１５４４６号公報、特
公昭４６−３７１３号公報、特公昭４２−２３９１０号
公報、特公昭４３−２４７４８号公報、特公昭４２−１
９７４７号公報、特公昭３６−４１２１号公報、などに
記載されている。Representative examples of photoreceptors having such insulating layers or electrophotographic processes using photoreceptors having insulating layers are, for example, U.S. Pat.
JP 16429, JP 38-15446, JP 46-3713, JP 42-23910, JP 43-24748, JP JP 1977-1
It is described in Japanese Patent Publication No. 9747, Japanese Patent Publication No. 36-4121, etc.

電子写真感光体は、当然のことであるが、適用される電
子写真プロセスに応じた所定の感度、電気特性、さらに
は光学特性を備えていることが要求される。As a matter of course, electrophotographic photoreceptors are required to have predetermined sensitivity, electrical properties, and optical properties depending on the electrophotographic process to which they are applied.

しかし、そればかりでなく、感光体の耐久性およびクリ
ーニング性も重要な性質である。However, the durability and cleanability of the photoreceptor are also important properties.

耐久性は感光体を繰り返し使用する場合に要求される性
質であり、クリーニング性は感光体の表面に付着し、残
留するトナーの除去の容易性を決める性質であり、鮮明
な画像の形成、更には、クリーニング手段の損傷防止に
著しく影響を与えるものである。Durability is a property required when a photoreceptor is used repeatedly, and cleanability is a property that determines the ease with which residual toner that adheres to the surface of the photoreceptor can be removed. This significantly affects the prevention of damage to the cleaning means.

本来、絶縁層を備えた感光体は、絶縁層によって、耐久
性に優れでいるものであるが、トナーの転写性、クリー
ニング性あるいは、表面平滑性といったことについてな
お改善される可き点が指摘される。Originally, photoconductors equipped with an insulating layer have excellent durability, but it has been pointed out that there are still areas that can be improved in terms of toner transferability, cleaning performance, and surface smoothness. be done.

而して本発明は、表面潤滑性に優れ、その結果、耐久性
およびクリーニング性に優れた絶縁層を備えた感光体を
提供することを主たる目的とする。The main object of the present invention is to provide a photoreceptor having an insulating layer that has excellent surface lubricity and, as a result, excellent durability and cleanability.

本発明は、絶縁層中にシランカツプリング剤を加水分解
して生成されるシリケート化合物を含むことを特徴とす
る電子写真感光体である。The present invention is an electrophotographic photoreceptor characterized in that an insulating layer contains a silicate compound produced by hydrolyzing a silane coupling agent.

本発明に用いられるシランカツプリング剤は、無機物質
と結合するような反応基、例えば、アルコキシ基、シラ
ノール基など、と合成樹脂等の有機物質と結合するよう
な反応基、例えばビニル基、エポキシ基、メクアクリル
基、アミノ基などの両方を分子中に有するシラン化合物
である。The silane coupling agent used in the present invention includes reactive groups that bind to inorganic substances, such as alkoxy groups and silanol groups, and reactive groups that bind to organic substances such as synthetic resins, such as vinyl groups and epoxy groups. It is a silane compound that has both a methacrylic group, an amino group, and an amino group in its molecule.

シランカソプリング剤としては、例えば、ビニルクロロ
シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、ビニルートリス（β−メトキシエトキシ）シ
ラン、γ−メククリルルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メククリルオキシプロピルトリス（β−メト
キシエトキシ），シラン、β−（３．４−エポキシシク
ロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシド
オキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ，ン、Ｎ−β
−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロ
キシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン
、γ−クロロプロピルトリメトキシシランなどである。Examples of the silane cassopring agent include vinylchlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinylroottris(β-methoxyethoxy)silane, γ-meccryloxypropyltrimethoxysilane, γ-meccryloxypropyltris( β-methoxyethoxy), silane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Triethoxysilane, N-β
-(aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β-(aminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N,N-bis(β-hydroxyethyl)-γ-aminopropyltriethoxysilane , γ-chloropropyltrimethoxysilane, and the like.

シラカツプリング剤の加水分解生成物は、シランカツプ
リング剤の分子中のケイ素原子に結合しているアルコキ
シ基、ハロゲン基、アシル基等の１部又は全部が酸又は
アルコールに置き替わった，ものである。A hydrolysis product of a silane coupling agent is one in which part or all of the alkoxy group, halogen group, acyl group, etc. bonded to the silicon atom in the molecule of the silane coupling agent is replaced with acid or alcohol. It is.

シランカツプリング剤の加水分解は種々の方法によって
行うことができる。Hydrolysis of the silane coupling agent can be accomplished by various methods.

例えば、シランカツプリング剤に無機酸を加えて、加水
分解生成物を生成させることができる。For example, an inorganic acid can be added to a silane coupling agent to form a hydrolysis product.

加水分解生成物としては、例えばメチルシリケート、エ
チルシリケート、プロビルシリケート、プチルシリケー
ト、フエニルシリケートなどのシリケート化合物がある
。Examples of hydrolysis products include silicate compounds such as methyl silicate, ethyl silicate, probyl silicate, butyl silicate, and phenyl silicate.

また、シリケート化合物を用いる場合には、シランカツ
プリング剤と共に用いることも有効である。Furthermore, when using a silicate compound, it is also effective to use it together with a silane coupling agent.

，また、硬化剤、例えば酢酸酢酸ナトリウム、酢酸アン
モニウム、ギ酸ナトリウム、などを用いることも好適で
ある。It is also suitable to use hardening agents such as sodium acetate, ammonium acetate, sodium formate, and the like.

シランカツプリング剤としては、ビニル基、エポキシ基
および１またはアルコキシ基を有するものが好適である
。As the silane coupling agent, those having a vinyl group, an epoxy group, and a mono- or alkoxy group are suitable.

特に、シランカツプリング剤としては、 （ＣＨ３Ｏ−）３Ｓｉ（ＣＨ２）３Ｃｌ，（ＣＨ３Ｏ）
３Ｓｉ−（ＣＨ２）３ＳＨ，（ＣＨ３）２ＳｉＣｌ２ などが好適である。In particular, as a silane coupling agent, (CH3O-)3Si(CH2)3Cl, (CH3O)
3Si-(CH2)3SH, (CH3)2SiCl2, etc. are suitable.

シランカツプリング剤の加水分解は、無機酸によるもの
の他に次のような方法によって行ってもよい。The silane coupling agent may be hydrolyzed by the following method in addition to using an inorganic acid.

例えば水せと加熱状態で反応させるとか、水分共存で紫
外線照射するとか、カルボン酸、スルホン酸等の有機物
と作用させてもよい。For example, it may be reacted with water brine in a heated state, irradiated with ultraviolet light in the presence of water, or reacted with an organic substance such as carboxylic acid or sulfonic acid.

シランカツプリング剤を加水分解して生成されるシリケ
ート化合物は、表面潤滑性、耐久性、クリーニング性お
よび表面硬度について優れた絶縁層を形成する。A silicate compound produced by hydrolyzing a silane coupling agent forms an insulating layer with excellent surface lubricity, durability, cleanability, and surface hardness.

絶縁層は、通常、層形成性の樹脂中にシランカツプリン
グ剤を加水分解して生成されるシリケート化合物を含有
させて形成される。The insulating layer is usually formed by containing a silicate compound produced by hydrolyzing a silane coupling agent in a layer-forming resin.

シランカツプリング剤を加水分解して生成されるシリケ
ート化合物は、１０〜７０重量くの範囲で含まれること
が好適である。The silicate compound produced by hydrolyzing the silane coupling agent is preferably contained in an amount of 10 to 70% by weight.

絶縁層の形成成分として、必要に応じて他の成分を添加
して用いてもよい。Other components may be added as necessary to form the insulating layer.

この様な他の成分として代表的なものは、各種イソシア
ネート類、脂肪酸アミド、脂肪酸金属塩、ワックス等で
ある。Typical such other components include various isocyanates, fatty acid amides, fatty acid metal salts, wax, and the like.

脂肪酸アミド又は脂肪酸金属塩は画像濃度の向上に寄与
する。Fatty acid amide or fatty acid metal salt contributes to improving image density.

これらの化合物として、例えば、ステアリン酸アミド、
オレイン酸アミド、ステアリン酸金属塩、オレイン酸金
属塩等が挙げられる。These compounds include, for example, stearamide,
Examples include oleic acid amide, stearic acid metal salt, oleic acid metal salt, and the like.

又、ワックスは層の耐湿性をより向上させる、ワックス
としては、エチレン系ワックス、パラフィン系ワックス
、等通常のワックスが適宜使用される。Further, the wax further improves the moisture resistance of the layer, and as the wax, ordinary waxes such as ethylene wax and paraffin wax are appropriately used.

絶縁層の形成に用いられる樹脂としては、通常の各種の
樹脂が適宜用いられるものである。As the resin used for forming the insulating layer, various ordinary resins can be used as appropriate.

例えば、ポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン
、ポリスチレン、ポリ塩化ビニール、ポリ酢酸ビニール
、アクリル樹脂、ポリカーボネート、シリコン樹脂、弗
素樹脂、エポキシ樹脂等の有機絶縁物、及びそれらの共
重合体や混合物の溶剤型や熱重合体や光重合体型等の材
料を用い得る。For example, organic insulating materials such as polyethylene, polyester, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, acrylic resin, polycarbonate, silicone resin, fluororesin, epoxy resin, and solvent-based and heat-treated copolymers and mixtures thereof. Materials such as polymers and photopolymer types may be used.

また、絶縁層をより容易に形成することについて、塗布
によって絶縁層を形成することは、絶縁フイルムを接着
させて絶縁層とする場合よりも優れている。Furthermore, in forming the insulating layer more easily, forming the insulating layer by coating is superior to forming the insulating layer by adhering an insulating film.

また、塗布による場合には、ドラム状の感光体について
継ぎ目なしの絶縁層を形成することができる。Furthermore, in the case of coating, a seamless insulating layer can be formed on a drum-shaped photoreceptor.

このような点で、硬化性樹脂を用いることは、他の樹脂
に較べてより有効な態様である。In this respect, using a curable resin is a more effective mode than other resins.

硬化性樹脂は熱、光、電子線等により硬化する樹脂であ
る。Curable resin is a resin that is cured by heat, light, electron beam, etc.

熱硬化の場合には、樹脂の種類によっては室温で十分で
ある。In the case of thermosetting, room temperature is sufficient depending on the type of resin.

硬化性樹脂の特に好適なものとして、アクリル樹脂、ウ
レタン樹脂、ポリエステル樹脂およびエポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、シリコン樹脂等が挙げられ、これらの樹脂
はシランカツプリング剤を加水分解して生成されるシリ
ケート化合物との化学親和性に優れる。Particularly suitable curable resins include acrylic resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, melamine resins, silicone resins, etc. These resins are silicate compounds produced by hydrolyzing silane coupling agents. It has excellent chemical affinity with

なお、絶縁層は、所望の特性に応じた厚さに設定される
。Note that the thickness of the insulating layer is set according to desired characteristics.

一般に、感光体の保護及び耐久性、暗減衰特性の改善等
を主目的として絶縁層を付設する場合には絶縁層は比較
的薄く設定され、感光体を特定の電子写真プロセスに用
いる場合に設けられる絶縁層は比較的厚く設定される。In general, when an insulating layer is added for the main purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc., the insulating layer is set relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, The insulating layer is set to be relatively thick.

通常、絶縁層の厚さは、０．１〜１００μ、特には、０
．１〜５０μに設定される。Usually, the thickness of the insulating layer is 0.1 to 100μ, especially 0.
．． It is set to 1 to 50μ.

本発明の感光体の最も代表的な構成は、光導電層が支持
体と絶縁層との間にある積層体である。The most typical structure of the photoreceptor of the present invention is a laminate in which the photoconductive layer is between a support and an insulating layer.

支持体は、ステンレス、銅、アルミニウム、錫などの金
属板、紙、シート、樹脂フイルムなど任意．の材料から
形成される。The support can be any metal plate such as stainless steel, copper, aluminum, or tin, paper, sheet, or resin film. Formed from material.

支持体は必要に応じて省略される。The support may be omitted if necessary.

光導電層は、Ｓ，Ｓｅ，Ｐｂｏ，及びＳ，Ｓｅ，Ｔｅ，
Ａｓ，Ｓｂ，Ｐｂ等を有した合金や金属間化合物等の無
機光導電材料を真空蒸着して形成される。The photoconductive layer includes S, Se, Pbo, and S, Se, Te,
It is formed by vacuum deposition of an inorganic photoconductive material such as an alloy or intermetallic compound containing As, Sb, Pb, etc.

またスパッタリング法による場合、ＺｎＯ，ＣｄＳ，Ｃ
ｄＳｅ，ＴｉＯ２等の高融点の光導電物質を支持体に付
着させて光導電層とすることもできる。In addition, when using the sputtering method, ZnO, CdS, C
A photoconductive layer can also be formed by depositing a photoconductive material with a high melting point, such as dSe or TiO2, on the support.

また塗布により光導電層を形成する場合、ポリビニルカ
ルバゾール、アントラセン、フタロシアニニン等の有機
光導電材料、及びこれらの色素増感やルイス酸増感をし
たもの、，さらにこれらの絶縁性バインダーとの混合物
を用い得る。In addition, when forming a photoconductive layer by coating, organic photoconductive materials such as polyvinylcarbazole, anthracene, phthalocyaninine, dye-sensitized or Lewis acid-sensitized products, and combinations of these with insulating binders may be used. Mixtures may be used.

またＺｎＯ，ＣｄＳ，ＴｉＯ２，ＰｂＯ等の無機光導電
体の絶縁性バインダーとの混合物も適する。Also suitable are mixtures of inorganic photoconductors such as ZnO, CdS, TiO2, PbO, etc. with insulating binders.

なお絶縁性パインダーとしては、前述の絶縁層の形成用
樹脂のような、各種樹脂が用いられる。Note that various resins such as the above-mentioned resin for forming an insulating layer are used as the insulating binder.

光導電層の厚さは、使用する光導電物質の種類や特性に
もよるが一般には、５〜１００μ、特には１０〜５０μ
程度が好適である。Although the thickness of the photoconductive layer depends on the type and characteristics of the photoconductive material used, it is generally 5 to 100 μm, particularly 10 to 50 μm.
degree is suitable.

また、絶縁層と光導電層との間に、シリケート化合物を
含んでいない絶縁層が介在する構成であってもよい。Alternatively, an insulating layer not containing a silicate compound may be interposed between the insulating layer and the photoconductive layer.

実施例１ ５ナインＳｅ２００ｇを蒸発皿に計りとり、蒸発源温度
３００℃、基体（Ａｌドラム）温度６８℃系内真空度１
×１０−５ｔｏｒｒで３５分間蒸着を実施し、６０μ膜
厚の光導電層を２つ形成させた。Example 1 200 g of 59 Se was weighed out in an evaporating dish, the evaporation source temperature was 300°C, the substrate (Al drum) temperature was 68°C, and the system vacuum degree was 1.
Vapor deposition was carried out at ×10 −5 torr for 35 minutes to form two photoconductive layers with a thickness of 60 μm.

得られた一方の光導電層の上に、光硬化型ウレタン樹脂
（商品名：ゾンネ、関西ペイント製）を粘度が９０ＣＰ
Ｓとなる様、メチルエチルケトン溶剤で希釈調製した液
に浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた後、４Ｋ
ｗ水銀ランプで５分間照射して硬化させ、１０μの絶縁
層を形成させた。A photocurable urethane resin (trade name: Sonne, manufactured by Kansai Paint) with a viscosity of 90CP was placed on one of the obtained photoconductive layers.
After soaking in a solution diluted with methyl ethyl ketone solvent so that it becomes S, and pulling it up at a speed of 30 mm/min,
It was cured by irradiation with a mercury lamp for 5 minutes to form an insulating layer of 10 μm.

この操作を３回同様に繰り返し、３０μの絶縁層を光導
電層上に設けた。This operation was repeated three times to form a 30 μm insulating layer on the photoconductive layer.

この試料を（Ａ）とする。他方の光導電層上には、（Ａ
）と同様の操作を２回繰り返し、２０μのウレタン絶縁
層を設けた。This sample is referred to as (A). On the other photoconductive layer, (A
) was repeated twice to form a 20μ thick urethane insulating layer.

更にこの層上に、光硬化型ウレタン樹脂、ビニルトリア
セトキシランおよびプチルシリケート（８６：１２：２
）で混合し、さらに硬化剤として混合物１００重量部に
対して１重量部の酢酸ナを加えて粘度が９０ＣＰＳとな
る様にエチルアルコール希釈調製した液に浸し、３０ｍ
ｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた後、７５℃で１５分間加
熱後、４Ｋｗ水銀ランプで５分間照射して硬化させ、１
０μの絶縁層を層合した。Furthermore, on this layer, a photocurable urethane resin, vinyltriacetoxylan and butyl silicate (86:12:2
), then added 1 part by weight of sodium acetate per 100 parts by weight of the mixture as a hardening agent, and immersed it in a solution diluted with ethyl alcohol to give a viscosity of 90 CPS.
After pulling up at a speed of m/min, heating at 75°C for 15 minutes, irradiating with a 4Kw mercury lamp for 5 minutes to harden,
A 0μ insulating layer was laminated.

この試料を（Ｂ）とする。得られた試料（Ａ），（Ｂ）
に対し、一次−ＤＣ帯電、二次ＡＣ除電同時露光、全面
照射、■トナーによる乾式現像、ウレタンクリーニング
ブレード（硬度７０°、絶縁層面に対する角度３０°、
ブレード荷重２０ｋｇ）によるクリーニング処理のプロ
セスにより試料の潤滑性、画像性、耐久性の試験をした
結果、試料（Ａ）は摩擦係数が２７０で摺動音（ブレー
ドと絶縁層間の摩擦音）が激しく感光ドラムの５０回転
で、ブレードエッジ部の摩耗、絶縁層上のクリーニング
傷が顕著に観察されたが、一方試料（Ｂ）に関しては、
摩擦係数が１．０６で感光ドラムは円滑に回転し、画像
は良好で、感光ドラムの３６５００回転後でもブレード
エッジ部の摩耗破損、絶縁層上のクリーニング傷、又現
像剤の融着現像による成膜性は確認出来なかった。This sample is designated as (B). Obtained samples (A), (B)
On the other hand, primary DC charging, secondary AC static neutralization simultaneous exposure, whole surface irradiation, dry development with toner, urethane cleaning blade (hardness 70°, angle to the insulating layer surface 30°,
As a result of testing the lubricity, image quality, and durability of the sample through a cleaning process using a blade load of 20 kg, it was found that sample (A) had a friction coefficient of 270 and produced severe sliding noise (frictional noise between the blade and the insulating layer). At 50 revolutions of the drum, wear on the blade edge and cleaning scratches on the insulating layer were observed, but on the other hand, for sample (B),
With a coefficient of friction of 1.06, the photosensitive drum rotates smoothly and the image is good, and even after 36,500 rotations of the photosensitive drum, there are no abrasion breaks on the blade edge, cleaning scratches on the insulating layer, or defects caused by fusion development of the developer. Membrane properties could not be confirmed.

実施例２ ５ナインＳｅ−Ｔｅ（１０ｗｔ％）合金２００ｇを蒸発
皿に計りとり、蒸発源温度３２０℃、基体（Ａｌドラム
）温度６９℃、系内真空度１×１０−５ｔｏｒｒで４０
分間蒸着を実施し、６５μの膜厚の光導電層を２つ形成
させた。Example 2 200 g of 5-nine Se-Te (10 wt%) alloy was weighed into an evaporating dish, and the temperature was 40° C. at an evaporation source temperature of 320° C., a substrate (Al drum) temperature of 69° C., and an internal vacuum of 1×10 −5 torr.
Deposition was carried out for minutes to form two photoconductive layers with a thickness of 65 microns.

得られた二種類の光導電層の一方に対し、光硬化型不飽
和ポリエステル樹脂（商品名：ＵＶ一ＣＭ−１０３−カ
シューＫＫ製）の粘度が９０ＣＰＳとなる様、メチルエ
チルケトンで希釈した液に浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速
度で引き上げた後、４Ｋｗ水銀ランプで５分間照射して
硬化させた。One of the two types of photoconductive layers obtained was immersed in a solution diluted with methyl ethyl ketone so that the viscosity of the photocurable unsaturated polyester resin (product name: UV-CM-103-manufactured by Cashew KK) was 90 CPS. , at a speed of 30 mm/min, and then irradiated with a 4 Kw mercury lamp for 5 minutes to cure.

この操作を３回繰り返して３０μの絶縁層を設けた。This operation was repeated three times to form an insulating layer of 30 μm.

この試料を（Ｃ）とする。他方の光導電層上には（Ｃ）
で用いた光硬化型不飽和ポリエステルとγ−メタクリル
オキシプロピルトリメトキシシランとプロビルシリケー
ト（７０：２５：５）を混合し、さらに硬化剤として酢
酸アンモニウムと酢酸を混合物１００重量部に対して各
々１重量部加えて、粘度が９０ＣＰＳとなる様にメチル
アルコールで希釈し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上
げた後、８０℃で１５分間加熱した後、４Ｋｗ水銀ラン
プで５分間照射して硬化させ１０μの膜厚を得た。This sample is designated as (C). On the other photoconductive layer (C)
The photocurable unsaturated polyester used in , γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and probyl silicate (70:25:5) were mixed, and ammonium acetate and acetic acid were added as curing agents to 100 parts by weight of the mixture, respectively. Add 1 part by weight, dilute with methyl alcohol to have a viscosity of 90CPS, pull it up at a speed of 30mm/min, heat it at 80℃ for 15 minutes, and then irradiate it with a 4Kw mercury lamp for 5 minutes to harden it to 10μ. The film thickness was obtained.

この操作を３回同様に繰り返し、３０μの絶縁層を光導
電層上に形成させた。This operation was repeated three times to form a 30 μm insulating layer on the photoconductive layer.

この試料を（Ｄ）とする。This sample is designated as (D).

得られた試料（Ｃ），（Ｄ）に対し、実施例１と同様の
試験をした結果、試料（Ｃ）は感光ドラムの５０回転で
ブレードエッジ部が摩耗破損し、摺動音が激しくクリー
ニング不良が観察されたが、一方、試料（Ｄ）に関して
は、感光ドラムは円滑に回転し、画像及びクリーニング
性が良好で、ドラムの３９０００回転後でもブレードエ
ッジ部、絶縁層上に異常は認められなかった。The obtained samples (C) and (D) were subjected to the same test as in Example 1. As a result, the blade edge of sample (C) was worn out and damaged by 50 rotations of the photosensitive drum, and the sliding noise was severe and cleaning was difficult. However, for sample (D), the photosensitive drum rotated smoothly, the image and cleaning performance were good, and no abnormalities were observed on the blade edge or insulating layer even after the drum rotated 39,000 times. There wasn't.

実施例３ ５ナインＳｅ−Ａｓ（１．０ｗｔ％）合金２００ｇを蒸
発皿に計りとり、蒸発源温度３１５℃、基体（Ａｌドラ
ム）温度６８℃、系内真空度、１×１０−５ｔｏｒｒで
４０分間蒸着を実施し、６８μの光導電層を２つ形成さ
せた。Example 3 200 g of 59 Se-As (1.0 wt%) alloy was weighed into an evaporating dish, and the temperature was 40° C. at an evaporation source temperature of 315° C., a substrate (Al drum) temperature of 68° C., and an internal vacuum of 1×10 −5 torr. Deposition was carried out for minutes to form two 68μ photoconductive layers.

得られた２つの光導電層上の一方を、熱硬化型アクリル
樹脂（商品名：パルスラックｎｏ２０００、中国塗料製
）を粘度が９０ＣＰＳとなる様にメチルエチルケトンで
希釈調製した液に浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き
上げた後、６０℃で３０分間加熱して硬化させた。One side of the resulting two photoconductive layers was immersed in a solution prepared by diluting a thermosetting acrylic resin (trade name: Pulse Lac no 2000, manufactured by China Paint Co., Ltd.) with methyl ethyl ketone to a viscosity of 90 CPS, and dipping it at 30 mm/min. After pulling it up at a speed of , it was cured by heating at 60° C. for 30 minutes.

この操作を３回くり返して３０μの絶縁層を、形成させ
た。This operation was repeated three times to form an insulating layer with a thickness of 30 μm.

この試料を（Ｅ）とする。他方の光導電層上には、（Ｅ
）で用いた熱硬化型アクリル樹脂とビニルクロルシラン
とフエニルシリケート（９１：６：３１）の混合物を粘
度が９０ＣＰＳとなる様エチルアルコールで調製した液
に１浸し、３０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上げた後、７
５℃で３０分間加熱して硬化させた。This sample is designated as (E). On the other photoconductive layer, (E
) The mixture of thermosetting acrylic resin, vinylchlorosilane, and phenyl silicate (91:6:31) used in ) was immersed in a solution prepared with ethyl alcohol so that the viscosity was 90 CPS, and the mixture was pulled up at a speed of 30 mm/min. After that, 7
It was cured by heating at 5° C. for 30 minutes.

この操作を３回同様にくり返し、３０μの絶縁層を形成
させた。This operation was repeated three times to form an insulating layer with a thickness of 30 μm.

この試料を（Ｆ）とする。This sample is designated as (F).

得られた試料（Ｅ），（Ｆ）に対し、実施例１と同様の
試験をした結果、試料（Ｅ）は感光ドラムの４０回転時
で、ブレードエッジ部が摩耗、破損し摺動音が激しく、
クリーニング不良の現象が観察されたが、一方試料（Ｆ
）に関しては、感光ドラムは円滑に回転し、画像及びク
リーニング性が良好で感光ドラムの１７５００回転時で
もブレードエッジ部の摩耗、絶縁層上のクリーニング傷
は殆んど確認されなかった。The obtained samples (E) and (F) were tested in the same manner as in Example 1. As a result, the blade edge of sample (E) was worn and damaged at 40 rotations of the photosensitive drum, and there was no sliding noise. violently,
A phenomenon of poor cleaning was observed, but on the other hand, the sample (F
), the photosensitive drum rotated smoothly, the image quality and cleaning performance were good, and even when the photosensitive drum was rotated at 17,500 rpm, there was hardly any wear on the blade edge or cleaning scratches on the insulating layer.

実施例４〜１４ 実施例１の試料（Ａ）の製造において、光硬化型ウレタ
ン樹脂の代りに、次の各実施例に示す成分の混合物を用
いて、必要な加熱および／または光照射の硬化処理を行
い試料を製造した。Examples 4 to 14 In the production of sample (A) of Example 1, a mixture of components shown in the following examples was used instead of the photocurable urethane resin, and the necessary heating and/or light irradiation curing was performed. A sample was prepared by processing.

その結果、４〜１４の各実施例の場合について製造され
た試料も試料（Ｂ）と同様に、表面潤滑性に優れたもの
であった。As a result, the samples manufactured for each of Examples 4 to 14 also had excellent surface lubricity, similar to sample (B).

実施例 混合物成分 ４ウレタン樹脂（商品名：トアウレタン５００東亜ウレ
タン製）（９０） ビニルクロルシラン（７） フエニルシリケート（３） ５ポリエステル樹脂（商品名：パルスラツク１０００、
中国塗料製）（４０） ビニルアセトキシシラン（１４） プチルシリケート（３） 酢酸ナトリウム（３） ウレタン樹脂（商品名：トアウレタン５００）（４０） ６ポリエステル樹脂（商品名：バーノツクＤ−１６０、
日本ライヒ製）（３０） エポキシ樹脂（商品名：エピコート８２８、シェル製）
（３４） γ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（３
０） メチルエチルシリケート（６） ７アクリルウレタン樹脂（商品名：ラストラゾールＡ−
８０３、日本ライヒ製）（４０）エポキシ樹脂（商品名
：エピコート１００１、シェル製）（４０） エチルシリケート（２） ビニル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン（１７
） 酢酸アンモニウム（０．５） 酢酸（０．５） ８ウレタン樹脂（商品名：ゾンネ、関西ペイント製）（
３０） ポリエステル樹脂（商品名：デスモヘン ８００、日本ポリウレタン製）（４０） ビニルクロルシラン（２５） プチルシリケート（５） ９ポリエステル樹脂（商品名：ＯＤＸ−１０５日本ライ
ヒ製）（９０） Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン（８） エチルシリケート（２） １０ポリエステル樹脂（商品名：バーノツクＤ−２２０
、日本ライヒ製）（８０） ビニルトリエトキシシラン（１６） プチルシリケート（３） 酢酸ナトリウム（１） １１光硬化型エポキシ樹脂（商品名：エピコート８２８
）（９０） ビニルトリアセトキシシラン（８） エチルシリケート（２） １２光硬化型不砲和ポリエステル（商品名：Ｕ■−ＣＭ
−１０２、カシュー製）（８０） γ−グリシドオキシプロピルトリメトキシシラン（１７
） プチルシリケート（３） １３メラミン樹脂（商品名：Ｄ−１００−２日本ペイン
ト製）（７０） ビニルトリメトキシシラン（２５） フエニルシリケート（５） １４シリコン樹脂（商品名：Ｘ−１２−９１７信越化学
製）（６０） ビニルクロルシラン（３２） メチルエチルシリケート（７） 酢酸ナトリウムと酢酸（各０．５） 尚、−上記４〜１４において、カツコ内の数値は重量組
成比を示す。Example mixture components 4 Urethane resin (trade name: Toa Urethane 500 manufactured by Toa Urethane) (90) Vinylchlorosilane (7) Phenyl silicate (3) 5 Polyester resin (trade name: Pulslac 1000,
Made by China Paint) (40) Vinyl acetoxysilane (14) Butyl silicate (3) Sodium acetate (3) Urethane resin (Product name: Tourethane 500) (40) 6 Polyester resin (Product name: Burnok D-160,
(manufactured by Nippon Reich) (30) Epoxy resin (product name: Epicote 828, manufactured by Shell)
(34) γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane (3
0) Methyl ethyl silicate (6) 7 Acrylic urethane resin (Product name: Lastrazol A-
803, manufactured by Nippon Reich) (40) Epoxy resin (trade name: Epicote 1001, manufactured by Shell) (40) Ethyl silicate (2) Vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane (17
) Ammonium acetate (0.5) Acetic acid (0.5) 8 Urethane resin (Product name: Sonne, manufactured by Kansai Paint) (
30) Polyester resin (trade name: Desmohen 800, manufactured by Nippon Reich) (40) Vinylchlorosilane (25) Butyl silicate (5) 9 Polyester resin (trade name: ODX-105 manufactured by Nippon Reich) (90) N-bis ( β-Hydroxyethyl)-γ-aminopropyltriethoxysilane (8) Ethyl silicate (2) 10 Polyester resin (Product name: Burnok D-220
, manufactured by Nippon Reich) (80) Vinyltriethoxysilane (16) Butyl silicate (3) Sodium acetate (1) 11 Photocurable epoxy resin (Product name: Epicote 828
) (90) Vinyltriacetoxysilane (8) Ethyl silicate (2) 12 Photocurable unbonded polyester (Product name: U■-CM
-102, made by Cashew) (80) γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane (17
) Butyl silicate (3) 13 Melamine resin (Product name: D-100-2 manufactured by Nippon Paint) (70) Vinyltrimethoxysilane (25) Phenyl silicate (5) 14 Silicone resin (Product name: X-12-917) (manufactured by Shin-Etsu Chemical) (60) Vinylchlorosilane (32) Methyl ethyl silicate (7) Sodium acetate and acetic acid (0.5 each) In addition, - in 4 to 14 above, the numbers in brackets indicate the weight composition ratio.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 １ 光導電層の上に絶縁層を有する電子写真感光体にお
いて、絶縁層がシランカツプリング剤を加水分解して生
成されるシリケート化合物を含むことを特徴とする電子
写真感光体。 ２ 絶縁層がシランカツプリング剤を加水分解して生成
されるシリケート化合物および硬化性樹脂を含む特許請
求の範囲第１項記載の電子写真感光体。[Scope of Claims] 1. An electrophotographic photoreceptor having an insulating layer on a photoconductive layer, wherein the insulating layer contains a silicate compound produced by hydrolyzing a silane coupling agent. body. 2. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the insulating layer contains a silicate compound produced by hydrolyzing a silane coupling agent and a curable resin.