JPS5830316B2 - 1-thikane-1H-tetrazole-5-thiolinoseizouhou - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は１−置換−ＩＨ−テトラゾール−５−チオー
ル類の新規な製造法に関するものでありこれを式に示す
と次の通りである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a novel method for producing 1-substituted-IH-tetrazole-5-thiols, which is represented by the following formula.

（式中、Ｒ１およびＲ１はアルキル基、Ｒ２はアラルキ
ル基、Ｘは酸残基をそれぞれ意味し、Ｒ１およびＲ’１
のアルキル基はアミン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基
もしくはアルコキシカルボニル基で置換されていてもよ
く、Ｒ１のアルキル基ににおける置換弁であるアミノ基
、ヒドロキシ基およびカルボキシ基は適宜保護されてい
るものとする） １−置換−ＩＨ−テトラゾール−５−チオール類（７）
の合成については次の方法が知られている。(In the formula, R1 and R1 are an alkyl group, R2 is an aralkyl group, and X is an acid residue, respectively, and R1 and R'1
The alkyl group may be substituted with an amine group, hydroxy group, carboxy group or alkoxycarbonyl group, and the amino group, hydroxy group and carboxy group which are substituted in the alkyl group of R1 are protected as appropriate. ) 1-Substituted-IH-tetrazole-5-thiols (7)
The following methods are known for the synthesis of

（１）ケミカル・アブストラクツ第６１巻第１４６６４
欄（１９６４年）に記載の方法（！り ジャーナル・
オブ・ファーマシューテイカル・サイエンスズ第５２巻
第９０９頁（１９６３年）に記載の方法 これらの方法を式で示すと次の通りである。(1) Chemical Abstracts Vol. 61 No. 14664
The method described in the column (1964) (!ri Journal・
of Pharmaceutical Sciences Vol. 52, p. 909 (1963) These methods are expressed as follows.

（１） ２ＣＨ３ＮＨ２＋Ｃ８２ →ＣＨＮＨＣ８ＳＨ−ＮＨ丁ＣＨ３ Ｈ３Ｊ ＣＨ３ＮＨＣ８ＳＣＨ３ これらの両方法は毒性の強いアジ化すｌ−ＩＪウムを原
料として使用するほか、（１）法においては、悪臭を発
するメチルメルカプタンを副生じ、また（１１）法にお
いては猛毒性を有するメチルインチオシアネートを原料
として用いなければならず、共に工業的方法としては好
ましくない。(1) 2CH3NH2+C82 →CHNHC8SH-NHDing CH3 H3J CH3NHC8SCH3 Both of these methods use highly toxic sulfur azide as a raw material. In the method (11), highly toxic methyl inthiocyanate must be used as a raw material, and both are unfavorable as industrial methods.

この発明は上記の両方法の欠点を克服すべくなされたも
のであり、危険性を有する物質を原料として使用せず、
かつ緩和な条件で反応が進行するという優れた利点を有
するものである。This invention was made to overcome the drawbacks of both of the above methods, and does not use hazardous substances as raw materials.
It also has the excellent advantage that the reaction proceeds under mild conditions.

この発明の反応はまずチオセミカルバジド類（Ｉ）に化
合物（Ｉ）を作用させることにより行われる。The reaction of this invention is first carried out by reacting compound (I) with thiosemicarbazide (I).

チオセミカルバジド類は一般式（Ｉ）で示されるが、さ
らに詳細には、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第３級ブチル、ペンチル、シ
クロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシル等のアルキル
基をＲ１として有する化合物を意味し、Ｒ１のアルキル
基はアミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくはメ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカ
ルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボ
ニル、第３級ブトキシカルボニル等のアルコキシカルボ
ニル基で置換されていてもよいものとする。Thiosemicarbazides are represented by the general formula (I), and more specifically, R1 is an alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, tertiary butyl, pentyl, cyclopentyl, hexyl, or cyclohexyl. The alkyl group of R1 is substituted with an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, or an alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, isopropoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tertiary butoxycarbonyl, etc. may be used.

そしてこれらの置換分が２個以上存在する場合にはそれ
らの置換分は同一であっても異なっていてもよいものと
する。When two or more of these substitutions exist, these substitutions may be the same or different.

さらに上記のＲ１のアルキル基における置換分のうち、
アミノ基、ヒドロキシ基およびカルボキシ基は常用の保
護基で適宜保護されているものとする。Furthermore, among the substituents in the alkyl group of R1 above,
The amino group, hydroxyl group and carboxy group shall be appropriately protected with commonly used protecting groups.

もう一方の反応試剤である化合物（Ｉｔ）は一般式（Ｉ
Ｉ）で示されるが、さらに詳細には、ベンジル、αフェ
ネチル、αフェニルプロピル、ナフチルメチル、トリル
メチル、キシリルメチル等のアラルキル基をＲ２として
有し、ハロゲン化水素酸、硫酸、アルキル硫酸、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジアルキルカルバ
ミン酸等の酸の残基をＸとして有する化合物を意味する
。Compound (It), which is the other reaction reagent, has the general formula (I
I), but more specifically, it has an aralkyl group such as benzyl, α-phenethyl, α-phenylpropyl, naphthylmethyl, tolylmethyl, xylylmethyl as R2, hydrohalic acid, sulfuric acid, alkyl sulfuric acid, benzenesulfonic acid , toluenesulfonic acid, dialkylcarbamic acid, etc. as X.

この反応は、通常、溶媒中で行われる。This reaction is usually carried out in a solvent.

溶媒としては、アセトン、ジオキサン、メタノール、エ
タノール、エーテル、アセトニトリル、クロロホルム、
塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢
酸エチル、ジメチルホルムアミド、ピリジンまたはその
他の反応に関与しない一般有機溶媒があげられ、これら
のうち、親水性の溶媒は水と混合して使用することもで
きる。Solvents include acetone, dioxane, methanol, ethanol, ether, acetonitrile, chloroform,
Examples include methylene chloride, ethylene chloride, tetrahydrofuran, ethyl acetate, dimethylformamide, pyridine, and other general organic solvents that do not participate in the reaction. Among these, hydrophilic solvents can also be used in combination with water.

反応温度は特に限定されないが、通常室温ないしは加温
下に反応が行われることが多い。Although the reaction temperature is not particularly limited, the reaction is usually carried out at room temperature or under heating.

このようにして得られる化合物（ｌＩ）は常法により単
離、精製されるが、特に単離、精製することなく次のジ
アゾ化反応に付すこともできる。Compound (lI) thus obtained can be isolated and purified by a conventional method, but it can also be subjected to the next diazotization reaction without any particular isolation or purification.

ジアゾ化反応は一酸化窒素、亜硝酸もしくはその酸誘導
体を作用させることにより行われ、亜硝酸の酸誘導体と
しては、たとえば亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸
アミル、亜硝酸イソアミル、等の亜硝酸アルキル、塩化
ニトロシル、ニトロシル硫酸、ニトロシル酢酸などがあ
げられる。The diazotization reaction is carried out by the action of nitrogen monoxide, nitrous acid, or its acid derivatives. Examples of acid derivatives of nitrous acid include methyl nitrite, ethyl nitrite, amyl nitrite, and isoamyl nitrite. Examples include alkyl nitrate, nitrosyl chloride, nitrosyl sulfate, and nitrosyl acetic acid.

なお、亜硝酸をそのカリウム塩、ナトリウム塩など、ア
ルカリ金属塩の形で使用し、酸を添加してもよい。Note that nitrous acid may be used in the form of an alkali metal salt such as its potassium salt or sodium salt, and an acid may be added thereto.

この発明の方法では、使用する反応試剤に応じて処理方
法が異なるが、その代表的な例をあげると次の通りであ
る。In the method of this invention, the treatment method differs depending on the reaction reagent used, and typical examples thereof are as follows.

すなわち反応試剤として亜硝酸または一酸化窒素を使用
するときには、通常、化合物（ＩＩＩ）の溶液中に亜硝
酸ガスまたは一酸化窒素ガスを通じることによって行わ
れる。That is, when nitrous acid or nitrogen monoxide is used as a reaction reagent, the reaction is usually carried out by passing nitrite gas or nitrogen monoxide gas into the solution of compound (III).

反応試剤として亜硝酸塩を使用するときには、通常、化
合物（Ｉ）を塩酸、硫酸、硝酸等の鉱酸または養醸、酢
酸などの有機酸に溶解し、水冷下、この液に亜硝酸塩の
水溶液を加えることによって行われる。When using nitrite as a reaction reagent, compound (I) is usually dissolved in a mineral acid such as hydrochloric acid, sulfuric acid, or nitric acid, or an organic acid such as acetic acid, and an aqueous solution of nitrite is added to this solution under water cooling. It is done by adding.

反応試剤として亜硝酸アルキル、塩化ニトロシル等を使
用するときには、通常化合物（ｌ［）を養醸、酢酸等の
有機酸に溶解し、これに亜硝酸アルキルまたは塩化ニト
ロシルを加えることによって行われる。When using an alkyl nitrite, nitrosyl chloride, etc. as a reaction reagent, the reaction is usually carried out by dissolving the compound (l[) in an organic acid such as acetic acid, and adding the alkyl nitrite or nitrosyl chloride thereto.

また、反応試剤としてニトロシル硫酸を使用するときに
は硫酸中で、ニトロシル酢酸を使用するときには酢酸中
で反応を行うのが普通である。Further, when nitrosyl sulfuric acid is used as a reaction reagent, the reaction is usually carried out in sulfuric acid, and when nitrosyl acetic acid is used, the reaction is carried out in acetic acid.

この発明の反応では、まず亜硝酸もしくは亜硝酸誘導体
によって化合物（Ｉ）がアジフ化されてジアゾニウム塩
となり、これがひきつづいて閉環し、化合物（Ｉｖ）を
生成するものと思われる。In the reaction of this invention, compound (I) is first aziphlated with nitrous acid or a nitrous acid derivative to form a diazonium salt, which is then ring-closed to produce compound (Iv).

化合物（ＩＶ）は常法により単離、精製されるが、特に
これを単離することなく、ひきつづいてフリーデル・ク
ラフッ触媒用化合物を作用させることもできる。Compound (IV) is isolated and purified by a conventional method, but it is also possible to subsequently react with a Friedel-Krach catalyst compound without isolating it.

フリーデル・クラフッ触媒用化合物としては、３塩化は
う素、３臭化はう素等の３ハロゲン化はう素、３塩化ア
ルミニウム、３臭化アルミニウム等の３ハロゲン化アル
ミニウム、２塩化亜鉛等のフリーデル・クラフッ型反応
に際して触媒として使用される化合物が挙げられる。Compounds for Friedel-Krauch catalysts include boron trihalides such as boron trichloride and boron tribromide, aluminum trihalides such as aluminum trichloride and aluminum tribromide, and zinc dichloride. Compounds used as catalysts in Friedel-Krach type reactions are mentioned.

この反応は通常溶媒中で行われ、溶媒としては例えば塩
化メチレン、クロロホルム、ベンセン、テトラヒドロフ
ラン、ジメチルホルムアミド、トルエン、キシレン等が
挙げられるが、その他のこの反応に悪影響を与えない溶
媒はいずれも使用することができる。This reaction is usually carried out in a solvent, such as methylene chloride, chloroform, benzene, tetrahydrofuran, dimethylformamide, toluene, xylene, etc., but any other solvent that does not adversely affect this reaction may be used. be able to.

この反応の温度は特に限定されないが、通常加温ないし
加熱下に反応が行われる。Although the temperature of this reaction is not particularly limited, the reaction is usually carried out with or under heating.

この反応により、化合物（ＴＶ）におけるアラルキｌし
基が脱離した化合物（Ｖ）が生成する。This reaction produces compound (V) in which the aralkylated group in compound (TV) is eliminated.

この化合物（■は常法により単離、採取される。This compound (■ is isolated and collected by a conventional method.

なお、この発明の方法で原料として、チオセミカルバジ
ド類（１）のうち保護されたアミノアルキル基、保護さ
れたヒドロキルアルキル基または保護されたカルボキシ
アルキル基をＲ１として有する化合物を使用する場合に
は、上記のようにして得られる化合物（Ｖ）を、さらに
アミノ基、ヒドロキシ基またはカルボキシ基における保
護基の脱離反応に付す。In addition, when using a compound having a protected aminoalkyl group, a protected hydroxylalkyl group, or a protected carboxyalkyl group as R1 among thiosemicarbazides (1) as a raw material in the method of this invention, The compound (V) obtained as described above is further subjected to an elimination reaction of the protecting group at the amino group, hydroxy group or carboxy group.

これらの保護基の脱離反応は保護基の種類に応じて常法
により適宜行なうことができる。The elimination reaction of these protecting groups can be appropriately carried out by conventional methods depending on the type of protecting group.

このようにして得られる１−置換−ＩＨ−テトラゾール
−５−チオール類■）は常法により、ナトリウム塩、カ
リウム塩等の所望の塩に導くことができる。The 1-substituted-IH-tetrazole-5-thiols (1) thus obtained can be converted into desired salts such as sodium salts and potassium salts by conventional methods.

次に、この発明の方法を実施例により説明する。Next, the method of the present invention will be explained using examples.

実施例 １ イ）４−メチルチオセミカルバジド３．１５ｇおよび塩
化ベンジル４．１７５ｇをエタノール３０ｍ１に加え、
２時間加熱還流した後、溶媒を減圧下で留去する。Example 1 a) Add 3.15 g of 4-methylthiosemicarbazide and 4.175 g of benzyl chloride to 30 ml of ethanol,
After heating under reflux for 2 hours, the solvent is distilled off under reduced pressure.

残留物をメタノール３ｍｌに加温溶解し、エーテル１０
ｍ１を加えた後、これを振とうする。The residue was dissolved in 3 ml of methanol under heating and diluted with 10 ml of ether.
After adding m1, shake it.

これにメタノール３１７１１を撹拌下、徐々に加えて均
一な溶液としたのち、室温で放置する。Methanol 31711 was gradually added to this while stirring to form a homogeneous solution, and then allowed to stand at room temperature.

析出する結晶を炉取し、エーテルで洗浄すると、ｍｐｌ
３９．５〜１４１℃のＳ−ベンジル４−メチルチオセ
ミカルバジドの塩酸塩４．７０７ｇを得る。When the precipitated crystals are collected in a furnace and washed with ether, mpl
4.707 g of S-benzyl 4-methylthiosemicarbazide hydrochloride is obtained at 39.5-141°C.

上記の結晶を炉取した後のろ液を減圧下で濃縮し、残渣
をメタノール−エーテル混合液（１：４）から再結晶す
ると、同じく目的物質１．５６７．９を得る。The filtrate after removing the crystals from the furnace is concentrated under reduced pressure, and the residue is recrystallized from a methanol-ether mixture (1:4) to obtain the desired substance 1.567.9.

総収量６．２７４ｇ。赤外線吸収スペクトル ッヌジ”” ”（ＣｒｆＬ−・） ：３１５０，１６４５，１５９０ 核磁気共鳴吸収スペクトル δＤ２０（ｐｐｍ）：３．０４（Ｓ、３Ｈ）４．４２（
ｓ、２Ｈ） ７．４８ （ｓ 、 ５Ｉ−（） 口）Ｓ−ベンジル−４−メチルチオセミカルバジドの塩
酸塩１．１５８ｇを水１０ｍ１に溶解し、これに亜硝酸
すｌ−ＩＪウム０．３４５ｇを水２蔵に溶解した溶液を
１５〜２０°Ｃで撹拌しながら５分を要して滴下する。Total yield 6.274g. Infrared absorption spectrum (CrfL-): 3150, 1645, 1590 Nuclear magnetic resonance absorption spectrum δD20 (ppm): 3.04 (S, 3H) 4.42 (
s, 2H) 7.48 (s, 5I-()) Dissolve 1.158 g of hydrochloride of S-benzyl-4-methylthiosemicarbazide in 10 ml of water, and add 0.345 g of sodium nitrite. A solution dissolved in two volumes of water is added dropwise over 5 minutes while stirring at 15-20°C.

これに１０％塩酸２ｒｒＬｌを２０分を要して１０〜１
５℃で撹拌しながら滴下した後、反応液を１０℃でさら
に３０分間撹拌する。Add 2rrLl of 10% hydrochloric acid to this for 20 minutes to
After addition dropwise with stirring at 5°C, the reaction solution is stirred at 10°C for an additional 30 minutes.

析出物を吸引済取し、冷水で洗浄すると、１−メチル−
５−ベンジルチオ−ｉ Ｈ−テトラゾール０．９５７ｇ
を得る。The precipitate was collected by suction and washed with cold water, resulting in 1-methyl-
5-benzylthio-i H-tetrazole 0.957g
get.

これをエーテル・ｎ−ヘキサン混合液から再結晶すると
、ｍｐ４８．５〜４９．５℃の本島精製品を得る。When this is recrystallized from a mixed solution of ether/n-hexane, a purified product of Honjima with a mp of 48.5 to 49.5°C is obtained.

赤外線吸収スペクトル シ８ジ’ ”（Ｃｒ／Ｌ ）ニア７０，６９０核磁気
共鳴吸収スペクトル ＤＣｌ δ ３ （ｐｐｎ） ： ３．７５ （ｓ 、 ３
Ｈ）４．４９ （ｓ 、 ２Ｈ） ７．２９（ｍ、５Ｈ） ハ）■−メチルー５−ベンジルチオーＩＨ−テトラゾー
ル２．０６＆、３塩化アルミニウム２．００３ｇおよび
トルエン１０ＴＬｌからなる混合物を撹拌しながら２０
分間加熱還流する。Infrared absorption spectrum (Cr/L) near 70,690 Nuclear magnetic resonance absorption spectrum DCl δ 3 (ppn): 3.75 (s, 3
H) 4.49 (s, 2H) 7.29 (m, 5H) C) ■-Methyl-5-benzylthio IH-tetrazole 2.06 x 20 while stirring a mixture consisting of 2.003 g of aluminum trichloride and 10 TLl of toluene.
Heat to reflux for minutes.

これに水冷下で水２０ｍ１を少量ずつ加え、過剰の３塩
化アルミニウムを分解する。20 ml of water is added little by little to this under water cooling to decompose excess aluminum trichloride.

これにトルエン１５ＴＬｌヲ加え、水層を分取する。Add 15 TL of toluene to this and separate the aqueous layer.

トルエン層を水１５ＴＬｌと１０ｍ１で２回抽出する。The toluene layer is extracted twice with 15 TLl and 10 ml of water.

水層を合し、減圧下で濃縮した後、残渣を熱クロロホル
ム２５ｍ１で４回抽出する。After the aqueous layers are combined and concentrated under reduced pressure, the residue is extracted four times with 25 ml of hot chloroform.

クロロホルム抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、
クロロホルムを減圧下で留去すると、１−メチル−ＩＨ
−テトラゾール−５−チオール１．０１：ｌを得る。After drying the chloroform extract with magnesium sulfate,
When chloroform is distilled off under reduced pressure, 1-methyl-IH
1.01:l of -tetrazole-5-thiol is obtained.

これをクロロホルム２１ｒＬｌから再結晶するとｍｐ１
２３．５〜１２４℃の本島精製品を得る。When this is recrystallized from chloroform 21rLl, mp1
A Honjima purified product with a temperature of 23.5 to 124°C is obtained.

赤外線吸収スペクトル シ８ジ３−″（α ） ：３２００〜２６００．１５１０ 実施例 ２ 乾燥した４−メチルチオセミカルバジド２１ｇ、塩化ベ
ンジル２７．８３ｇおよびエタノール１５０１ｒＬｌの
混合物を２時間加熱還流した後、溶媒を減圧下に留去す
る。Infrared absorption spectrum: 3200 to 2600.1510 Example 2 A mixture of 21 g of dry 4-methylthiosemicarbazide, 27.83 g of benzyl chloride, and 1501 rL of ethanol was heated under reflux for 2 hours, and then the solvent was removed under reduced pressure. evaporate to the bottom.

残渣に水１２０ｍ１を加えて溶解し、これに亜硝酸すＩ
−ＩＪウム１３．８ｇを含む水溶液２３ｍ１を、撹拌下
、内温１０〜１５°Ｃで１５分を要して滴下する。Add 120ml of water to the residue to dissolve it, and add nitrous acid I
-23 ml of an aqueous solution containing 13.8 g of IJum is added dropwise over 15 minutes while stirring at an internal temperature of 10 to 15°C.

これに１０％塩酸７３ｍ１を同温度で４０分を要して滴
下した後２０分間撹拌する。To this was added dropwise 73 ml of 10% hydrochloric acid at the same temperature over 40 minutes, followed by stirring for 20 minutes.

反応混合物をトルエン１５０ｍ１および５０ＴＬｌで２
回抽出し、抽出液を硫酸マグネシウムで乾燥した後、流
過する。The reaction mixture was diluted with 150 ml of toluene and 50 TLl.
The extract is extracted twice, dried over magnesium sulfate, and then filtered.

なお硫酸マグネシウムはトルエン１、．５ｍｌで２回洗
浄し、洗液を先のｐ液に合わす。In addition, magnesium sulfate is 1 part toluene, . Wash twice with 5 ml and combine the washing liquid with the previous p solution.

これを減圧下で約１２０ｍ１に濃縮した後、この濃縮液
に３塩化アルミニウムの粉末３３．３７５ｇを加え撹拌
下、１５分間加熱還流する。After concentrating this to about 120 ml under reduced pressure, 33.375 g of aluminum trichloride powder was added to the concentrated solution and heated under reflux for 15 minutes while stirring.

水冷下、反応混合物に水１５０１ｒＬｌを撹拌しながら
、少量ずつ加えた後、さらにトルエン３０ｍ１を加える
。While stirring, 1,501 rL of water was added little by little to the reaction mixture under water cooling, and then 30 ml of toluene was added.

トルエン層を分取し、水５０ｍ１で２回洗浄する。The toluene layer is separated and washed twice with 50 ml of water.

先の水層とこの水洗液とを合わせ、トルエン２０ｍ１で
抽出する。The previous aqueous layer and this washing liquid were combined and extracted with 20 ml of toluene.

先のトルエン溶液とこのトルエン抽出液とを合わせ、２
０％水酸化ナトリウム水溶液１０１ｒＬｌで抽出し、こ
の抽出液をトルエン５１１１１で洗浄した後、水冷下、
濃塩酸でＰＨ１に調整する。Combine the previous toluene solution and this toluene extract, and
After extraction with 101 rLl of 0% aqueous sodium hydroxide solution and washing this extract with 51111 toluene, under water cooling,
Adjust the pH to 1 with concentrated hydrochloric acid.

析出する結晶を吸引済取、乾燥後、酢酸エチル３ｍｌか
ら再結晶すると、ｍｐ １２２〜１２４．５℃の１−メ
チル−ＩＨ−テトラゾール−５−チオール９１８■を得
る。The precipitated crystals were collected by suction, dried, and then recrystallized from 3 ml of ethyl acetate to obtain 918 ml of 1-methyl-IH-tetrazole-5-thiol with a mp of 122-124.5°C.

また、先にトルエン２０ｒｕｌで抽出した後の水溶液に
塩化ナトリウムを飽和させ、酢酸エチル１００ＴＬｌで
２回、５０ｍ１で１回抽出した後、硫酸マグネシウムで
乾燥する。Further, the aqueous solution previously extracted with 20 ml of toluene is saturated with sodium chloride, extracted twice with 100 ml of ethyl acetate and once with 50 ml of ethyl acetate, and then dried with magnesium sulfate.

硫酸マグネシウムを炉取しないまま、これに活性炭１．
５ｇを加え、約５分聞損とうした後、沢過する。1. Activated carbon is added to the magnesium sulfate without removing it from the furnace.
Add 5g, stir for about 5 minutes, and then filter thoroughly.

残渣を酢酸エチル３０ｍ１で洗浄し、この洗液を先の酢
酸エチル溶液に合わせる、この溶液を減圧下で約２０〜
２５ｍ１に濃縮し、析出する結晶を加熱溶解した後、放
冷する。The residue was washed with 30 ml of ethyl acetate, and this washing liquid was combined with the previous ethyl acetate solution.
After concentrating to 25 ml and dissolving the precipitated crystals by heating, the mixture is allowed to cool.

析出する結晶を済取し、酢酸エチル３７７１１で洗浄す
ると、ｍｐ １２２．５〜１２５０Ｃの１−メチル−
ＩＨ−テトラゾール−５−チオール８．５１７ｇを得る
。When the precipitated crystals were collected and washed with ethyl acetate 37711, 1-methyl-
8.517 g of IH-tetrazole-5-thiol are obtained.

またこの結晶を炉取したア 後の母液を減圧下に約１０ｍ１に濃縮し、析出する結晶
を加熱溶解したのち、放冷する。Further, the mother liquor after removing the crystals in a furnace is concentrated to about 10 ml under reduced pressure, and the precipitated crystals are heated and dissolved, and then allowed to cool.

析出する結晶を吸引済取し、酢酸エチル２ｍｌで洗浄す
ると、同じく目的物質４．３０３ｇを得る。The precipitated crystals are collected by suction and washed with 2 ml of ethyl acetate to obtain 4.303 g of the target substance.

さらに、この結晶を済取した後の母液を減圧下に濃縮す
る。Furthermore, the mother liquor after collecting the crystals is concentrated under reduced pressure.

残渣を酢酸エチルに加熱溶解し、放冷後、析出物を吸引
済取し、冷酢酸エチルで洗浄すると、同じく目的物質１
．７８１．９を得る。The residue was heated and dissolved in ethyl acetate, and after cooling, the precipitate was collected by suction and washed with cold ethyl acetate.
．． Get 781.9.

総収量１５．５１１゜紫外線吸収スペクトル λＣ２■４５Ｃ■１ （ｍμ）二 ２４７ａＸ 赤外線吸収スペクトル シ８ジ３−′Ｌ′（ｃｒＩｌ−リ ：２６００〜３２００，１５１０ 核磁気共鳴吸収スペクトル δＤＭＳＯ−ｄ６（ｐｐｍ）：３．６６（ｓ、３Ｈ）実
施例 ３ 上記と同様にして、それぞれ対応する原料物質から次の
目的物質を得た。Total yield 15.511° Ultraviolet absorption spectrum λC2 45C 1 (mμ) 2 247aX Infrared absorption spectrum ): 3.66 (s, 3H) Example 3 In the same manner as above, the following target substances were obtained from the corresponding raw materials.

（１）１−エチル−ＩＨ−テトラゾール−５−チオノ ｍｐ４８〜５００Ｃ（分解） 紫外線吸収スペクトル λＨ２０（ｍμ）：２２６ ａＸ （２）１−プロピル−ＩＨ−テトラゾ −ル ｍ９６０〜６５°Ｃ 紫外線吸収スペクトル ル チ λＨ２０（ｍμ） ： ２２５ ａＸ （３） ■−ブチル １Ｈ−テトラゾ ル チ オー ル ｍｐ ３ ６〜３ ８°Ｃ 紫外線吸収スペクトル λＨ２０（ｍμ）：２２５ ａＸ （４）■ーシクロヘキシル ５−チオール ｍ９８４〜８７°Ｃ 紫外線吸収スペクトル λＨ２０（ｍμ）：２３０ ａＸ ｆ−Ｔ テトラゾ ル （５） １−（２−アセトアミドエチル）トラゾール−
５−チオール ｍｐ １３７．５〜１３９．５℃（分解）この化合物を
常法により処理してＮ 基を脱離して次の化合物を得た。(1) 1-Ethyl-IH-tetrazole-5-thiono mp48-500C (decomposition) Ultraviolet absorption spectrum λH20 (mμ): 226 aX (2) 1-Propyl-IH-tetrazole m960-65°C Ultraviolet absorption spectrum Ultraviolet absorption spectrum λH20 (mμ): 225 aX (3) ■-Butyl 1H-tetrazolthiol mp 3 6 to 3 8°C Ultraviolet absorption spectrum λH20 (mμ): 225 aX (4) ■-Cyclohexyl 5-thiol m984 to 87° C Ultraviolet absorption spectrum λH20 (mμ): 230 aX f-T Tetrazol (5) 1-(2-acetamidoethyl)trazol-
5-Thiol mp 137.5-139.5°C (decomposition) This compound was treated in a conventional manner to eliminate the N group to obtain the following compound.

（６）１−（２−アミノエチル）−１Ｈ ルー５−チオール塩酸塩 ｍ９１９０〜１９３°Ｃ（分解） （７）１−（２−ヒドロキシエチル） ＩＨ アセチル テトラゾ ＩＨ テト ラブ−ルー５−チオール ｍｐ １３５〜１３７８Ｃ （８）２−（５−メルカプト−ＩＨ−テトラゾ−１−イ
ル）酢酸エチルエステル 赤外線吸収スペクトル シ８ジ’ ”（ｃｒｆＬ’ ） ： １７５０（９）
２−（５−メルカプト−ＩＨ−テトラゾ−１−イル）酢
酸 シ８ジ’ ”（ｃｒｒＬ’ ） ： １７２０ａＸ(6) 1-(2-aminoethyl)-1H Blue-5-thiol hydrochloride m9 190-193°C (decomposition) (7) 1-(2-hydroxyethyl) IH Acetyltetrazo IH Tetrablue-5-thiol mp 135-1378C (8) 2-(5-mercapto-IH-tetrazo-1-yl)acetic acid ethyl ester infrared absorption spectrum ``(crfL'): 1750(9)
2-(5-mercapto-IH-tetrazo-1-yl)acetic acid cyclodi'(crrL'): 1720aX

Claims (1)

【特許請求の範囲】 （式中、Ｒ１はアルキル基を意味し、該アルキル基はア
ミン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくはアルコキ
シカルボニル基で置換されていてもよく、Ｒ１のアルキ
ル基における置換分であるアミノ基、ヒドロキシ基およ
びカルボキシは保護されているものとする） で示されるチオセミカルバジド類に一般式（式中、Ｒ２
はアラルキル基、Ｘは酸残基をそれぞれ意味する） で示される化合物を反応させて一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前と同じ意味）で示される化
合物を得、これをジアゾ化反応に付して一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前と同じ意味）で示されるＩ
Ｈ−テトラゾール類を得、次いでこれにフリーデル・ク
ラフッ触媒用化合物を作用させて一般式 （式中、Ｒ′１はアルキル基を意味し、Ｒ′１のアルキ
ル基はアミン基、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくは
アルコキシカルボニル基で置換されていでてもよいもの
とする） で示される１−置換−１Ｈ−テトラゾール−５−チオー
ル類を得ることを特徴とする１−置換ＩＨ−テトラゾー
ルー５−チオール類の製造法。 （式中、Ｒ１はアルキル基を意味し、該アルキル基はア
ミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくはアルコキ
シカルボニル基で置換されていてもよく、Ｒ１のアルキ
ル基における置換分であるアミノ基、ヒドロキシ基およ
びカルボキシ基は保護されているものとする） で示されるチオセミカルバジド類に一般式（式中、Ｒ２
はアラルキル基、Ｘは酸残基をそれぞれ意味する） で示される化合物を反応させて一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前と同じ意味）で示される化
合物を得、これをジアゾ化反応に付して一般式 （式中、Ｒ１およびＲ２は前と同じ意味）で示されるＩ
Ｈ−テトラゾール類を得、次いでこれにフリーデル・ク
ラフッ触媒用化合物を作用させたのち、保護基の脱離反
応に付して （式中、Ｒ′１はアルキル基を意味し、Ｒ′１のアルキ
ル基はアミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基もしくは
アルコキシカルボニル基で置換されていてもよいものと
する） で示される１−置換−ＩＨ−テトラゾール−５チオール
類を得ることを特徴とする１−置換ＩＨ−テトラゾール
ー５−チオール類の製造法。[Claims] (In the formula, R1 means an alkyl group, and the alkyl group may be substituted with an amine group, a hydroxy group, a carboxy group, or an alkoxycarbonyl group, and the substituent in the alkyl group of R1 is certain amino groups, hydroxy groups and carboxy groups are protected).
represents an aralkyl group and X represents an acid residue, respectively) to obtain a compound represented by the general formula (in the formula, R1 and R2 have the same meanings as before), and this is subjected to a diazotization reaction. I represented by the general formula (wherein R1 and R2 have the same meanings as before)
H-tetrazoles are obtained, and then a Friedel-Krach catalyst compound is reacted on the H-tetrazoles to obtain the general formula (wherein, R'1 means an alkyl group, and the alkyl group of R'1 is an amine group, a hydroxy group, 1-substituted IH-tetrazole-5-thiols characterized by obtaining 1-substituted-1H-tetrazole-5-thiols, which may be substituted with a carboxy group or an alkoxycarbonyl group. manufacturing method. (In the formula, R1 means an alkyl group, and the alkyl group may be substituted with an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, or an alkoxycarbonyl group, and an amino group or a hydroxy group that is a substituent in the alkyl group of R1. and the carboxy group is protected) to thiosemicarbazides represented by the general formula (wherein R2
represents an aralkyl group and X represents an acid residue, respectively) to obtain a compound represented by the general formula (in the formula, R1 and R2 have the same meanings as before), and this is subjected to a diazotization reaction. I represented by the general formula (wherein R1 and R2 have the same meanings as before)
H-tetrazoles were obtained, which was then treated with a Friedel-Krach catalyst compound, and then subjected to a protective group elimination reaction (in the formula, R'1 means an alkyl group, R'1 (the alkyl group may be substituted with an amino group, a hydroxy group, a carboxy group or an alkoxycarbonyl group) Method for producing substituted IH-tetrazole-5-thiols.