JPS58192757A - ポリビニルアセタ−ル系樹脂砥石の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属類の鏡面仕上、光学部品の最終仕上、電
子部品の精密研磨等に用いられる新規なポリビニルアセ
タール（以下ＰＶＡｔと略記する）系樹脂砥石の製造方
法に関するものであシ、その目的とするところは、スク
ラッチの発生がなく、砥粒保持性に優れ、種々の砥粒が
使えることによって高精度、高能率研磨を行うことがで
きる■ムを系樹脂砥石の製造方法に関するものである。

従来、金属材料、非金属材料や石材等の曲面研磨や仕上
研磨には、■ＰＶＡｔ系樹脂砥石を用いる方法、■遊離
砥粒、ラップ液及びラップクロスを用いるラッピングま
たはポリッシングという研磨方法５■軟質ポリウレタン
フオームに砥粒を付着させたものを用いる方法（特開昭
５６−１２６５８１号）等が知られている。

しかし、それぞれ次のような欠点があった。

■のＰＶＡｔ系樹脂砥石は、ポリビニルアルコール（以
下ＰＶＡと略記する）、アルデヒド、酸、気孔生成剤か
らなるＰＶＡｔ反応系中に％砥粒を分散懸垂せ］、めた
状態で加熱し、アセタール化させることによって製造す
るものであり、他の合成樹脂砥石では得ることができな
い、高弾性、高遠続究孔率及び高砥粒率のものが得られ
るものである。

しかし７ながら、従来のＰＶＡ　を系樹脂砥石は、砥粒
が凝集していることによるものと思われるスクラッチが
生じること或いはアセタール化工程を要するので限られ
た種類の砥粒しか用いることができないという欠点があ
った。

従って、従来のＰＶＡｔ系樹脂砥石は、ステンレス、銅
、アルミニウム、ニッケル等のミラーポリッシ、レンズ
やプリズム等の光学部品のファイナルボリツシ、 づ：仁士邊ヴ法丑づ＝辷、更に、半導体材料のエピタキ
シャル成長を促進するような極めて滑らかな平面度、平
行度を得る必要のある水晶、サファイア単結晶等のポリ
ツシ、ＩＣやＬＳＩのシリコン、ゲルマニウムソの細化
合物半導体のミラーボリッシ等の分野には僅かしか用い
られていないものであった。

■の研磨方法は、砥粒とラップ液の飛散が多く、作業者
の体や衣服を汚したり、他の部品や機械に付着するので
作業環境が悪いこと、また砥粒、フッ１液、ラップクロ
スを用いるので研磨条件（研磨圧力、研磨剤濃度等）を
均一に長時間維持することが峙しいこと、更に、砥粒と
ラップ液の混合したものを供給しながら研磨するので飛
散等圧より実際に研磨に関与しない砥粒まで捨てること
になるので不経済であるという欠点があった。

■の研磨方法では、軟質ポリウレタンフォームに含有さ
れる砥＾低いこと、軟質ポリウレタンフォームは圧縮強
度が弱く、よって研磨能率が悪　　　　　」いという欠
点があった。

それで、前記分野で使用できるＰＶＡｔ系樹脂砥石が各
ユーザーから要求されていた。

本発明は、前記■のＰＶＡｔ系樹脂砥石の改良に関する
ものである。

■において、ヌクラッチが生じる原因である砥化度等の
各条件の枠が定められていることに起因する。最も砥粒
率が低ければ前記砥粒の凝集は緩和できるが研磨能率を
考えると砥粒率を高くしなければならず、この場合砥粒
の凝集を避けることができなかった。このために１６μ
ｍ以下の超微粉を凝集させずに分散、懸垂せしめること
Ｆｉ極めて難しい点にあった。

次に１種々の砥粒が使えない理由は、ＰＶＡｔ系樹脂砥
石を得るには、かなり高濃度の酸性領域下でアセタール
化反応を進行させる必要があるために、酸と直接反応す
る砥粒とか、アセタール化反応に微妙に影響を及ぼし満
足すべき気孔形顔を得難くするような砥粒は使用できな
かったのであり必然的に溶融アルミナや嶌化珪素等の砥
粒に限定されでいたのである。そのために、研磨目的に
合わない砥粒により研磨を行うことになり研磨能率が悪
いものであった。また、従来のＰＶＡｔ系樹脂砥石の製
法では、製造工程中での砥粒の損失が多く、このために
高価なダイヤモンド砥粒等は使用できないものであった
。

そこで、本発明者は上述の諸点、に鑑み種々研究した結
果、所期の目的を達成し得る本発明を得ることに成功し
たのである。

即ち、特許請求の範囲に記載した第１番目の発明は、Ｐ
ＶＡ　を系多孔質体に、砥粒、分散剤、分散媒からなる
懸濁液を一定量含浸させた後、乾燥し糸 で％Ｐ’ＶＡｔ恭多孔質体中に砥粒を凝集させることな
く均一に付着させることを特徴とするＰＶＡｔ系樹脂砥
石の製造方法であり、第２番目の発明は、ＰＶＡを系多
孔質体９粒、分散剤、分散媒、水性樹脂からなる懸濁液
を一定量含浸させた後、乾燥して、ＰＶＡｔ系多孔質体
中に砥粒を凝集させるととなく均一に付着させることを
特徴とするＰＶＡｔ系樹脂砥石の製造方法である７ 本発明は基材としてＰＶＡｔ、系多孔質体を用いるもの
であり、ＰＶＡの種類、気孔の大きさ、アセタール化度
等は特に限定することはないが、研磨目的に応じて適宜
用いることができる。

嵩比重についてはＯ，Ｏａ〜０．４５ｇ／ンの範囲のも
のを用いることが望ましい。なぜなら、本発明に用いる
ＰＶＡｔ系多孔質体は連続慨孔性に冨んでいることが必
要である。この連続気孔率は嵩比重が小さい程連続完孔
率が大という逆比例的関係にある。嵩比重が０．［ｌＱ
Δ−より小であると、品質が不安定であり、一方、嵩比
重が０．４５　ｆ　／Ｃｙｌより大であると本発明の含
浸に必要な連続気孔率が得られなくなるので好ましくな
い、また、上記範囲はＰＶＡｔ系樹脂砥石としての機械
的強度を満足させるためのものであり、ホリウレタンフ
ォームのような高圧縮しなくとも十分砥石強度があるも
のである。

次にｐｖムを系多孔質体が用いられる理由は、ＰｖＡｔ
系多孔質体が親水性に富むＯＨ基を分子内に多く含むた
め吸水性に優れ、また、独特の気孔形態のために保水力
が優れていることから、後で述べるように本発明の目的
に最適な樹脂であるといえる。この気孔形態については
、複雑な内部構造をもっており、懸濁液を含浸した際に
、砥粒が気孔凹部に吸着され研磨作業時に有効に作用す
る利点がある。

更圧、本発明の基材として用いるＰＶＡｔ多孔質体は、
既に砥粒が均一に分散、付着しているものであってもよ
い。

以上のＰＶＡｔ系多孔質体は、目的とする製品の形状に
できるだけ近い遍法にし−でおくことがロスを少なくす
ることから望ましい。

の他、　ＰＶＡｔ、系樹脂砥石において酸と加熱により
使用できないとされていたエメリー、酸化セリウム等の
砥粒であり、特に酸化セリウムは、ガラス研磨に優れて
いる。また、アセタール化反応後、残留した気孔生成剤
、酸、アルデヒドなどを除去させる水洗工程中流出し使
用できないとされていた高価な砥粒、例えばダイヤモン
ド、ポフゾン等も使用でき、優れた研削、研磨を行うこ
とができる。これらを二種以上混合して使用してもよい
。

砥粒の粒径は７５μｍよυ小さいものであれば十分本発
明方法に従うことができるが、本発明の目的および効果
を最大限に発揮するのは１６μｍ以下の超微粉である。

砥粒率は、その研磨目的に応じて懸濁液中の砥粒濃度を
変えるだけで任意に調節できるが、従来の微粉ＰＶＡｔ
系樹脂砥石では得られない６０〜９０Ｊチガの高砥粒率
が容易に得られる特徴がある。

本発明に用いる分散剤としては、ポリオキシエチレン型
やソルビタン誘導体の非イオン系、スルホネート型、サ
ルファネート型、ホスフェート型などの陰イオン系、第
四級アンモニウム塩、イミダシリン型などの陽イオン系
のいずれのものも使用できるが、分散および懸垂効果を
高めるためにＨＬＢが１１〜１８のものが好ましく、さ
らに浸透を考慮した場合は、）ＩＬＢが１１〜１６のも
のが望ましい。

本発明の分散線は、ＦＶＡｔ樹脂多孔質体中和均−に砥
粒を含有せしめるために、水または水が主体となるもの
であることが必要な条件である。

なぜなら、ＰＶＡｔ樹脂多樹脂体孔質体中圧多くのＯＨ
基を有しており、これと１ｖＡｔ樹脂多孔質体れば、水
が最適なキャリヤーとなって砥粒を片ムを樹脂多孔質体
中へ、内部まで均一に導入するものである。また、ＰＶ
Ａｔ樹脂多樹脂体孔質体吸収した状態においては、水が
可塑剤として作用し、非常に柔軟になり圧縮回復弾性に
富むという特性を有することから、ＰＶＡｔ、樹脂多孔
質体に前記懸濁液を浸漬した後、必要に応じて絞りロー
ル、遠心操作等により適当な含浸度にコントロールでき
ること、更に、その後工程としての乾燥工程によって、
砥粒のマグレーションを惹起することなく、水のみが揮
散し、かくして、ＰＶＡｔ＠脂多孔質体中に内部まで均
一に砥粒を含有させたＰＶＡｔＩＭ脂砥石が得られるか
らである。

また、アセトン、メチルアルコール等の水に可溶な有機
溶剤を少量加えた水が主体である分散媒を用いた場合は
、水を用いた分散媒の作用効果と同様であり、乾燥時間
が早くなる利点がある。

本発明の砥粒、分散剤、分散媒は通常の分散方法によっ
て懸濁液とすることができる。

次に、第２の本発明は、砥粒、水、分散剤からなる懸濁
液中に水性の樹脂液を混合して用いることができる。用
いられる樹脂は、市販の水溶液型、エマルジ冒ン型で、
澱粉、カゼイン等の天然高分子や、ビニル系、アクリル
系、ゴム系、ウレタン系、エポキシ系、フェノール系等
の各種合成高分子である。これは、ＰＶＡｔ多孔質体と
砥粒との接着を強固にし、ＰＶＡ　ｔ、多孔質体の機械
的性質、熱的性質等を向上させるものである。

なお、第１の発明において、前記諸性質を向上させるた
めに、懸濁液を含浸後、水性樹脂や溶液型の樹脂で処理
してもよい。

ＰＶＡｔ多孔質体に、懸濁液を含浸させる方法は、懸濁
液中にＰＶＡｔ多孔質体を浸漬させるか、ＰＶＡを多孔
質体に懸濁液を上から含浸させればよい。

懸濁液を所定量保持したＰＶＡｔ多孔質体は、通常の熱
風乾燥賞で水分を除去する。また、前記水性の樹脂液を
用いた場合は、それぞれの樹脂液に見合った温度、時間
が選定され用いられる。

本発明は、以上の構成からなるものであるから次のよう
な効果がある。

本発明は、ＰＶＡｔ樹脂砥石であるから砥粒等の飛散が
なく作業環境を改善することができ、研磨条件の管理も
容易になり、また砥粒が有効に働く、町ので研磨効率が
よくなり、経済的になった。

本発明は、軟質ポリウレタンフォームの方法に比べ、高
砥粒率のものが得られるので、研磨能率がよいものであ
る。

本発明は、ＰＶＡｔ系多孔質体に、砥粒を均一に分散し
たものを含浸させるものであり、砥粒が凝集していない
のでスクラッチが生じないｐＶＡｔ系樹脂砥石が得られ
るようになった。また、アセタール化工程を要しないの
でいかなる種類の砥粒でも使用することができ、研磨目
的に合った砥粒を用いることにより、高精度、高能率研
磨を行えるようになった。

第２の発明では、水性樹脂を加えるのでＰＶＡｔ多孔質
多孔路体骨格との接着を強力にすると共に諸性質を向上
させることができ、能率のよい研磨ができるのである。

次に実施例を挙げて本発明の詳細な説明する。

実施例　１゜ ＰＴＡｔ多孔質体（アセタール化度７８モルチ、気孔率
８９％、嵩比重Ｑ、１４ｆｌ／’ＣＩ／　）に、平均粒
径ｎ、ｓμｍの酸化クロム８０＃、分散剤としてとドロ
キシエチルセルａ−ス（ハーキエレス社製ＮａｔｒＯｓ
Ｏ１２５０Ｈ）０．５％水溶液ｉｏ＃からなる懸濁液を
含浸させて乾燥し、成型して、嵩比重０．９４１７Ｃｗ
！、砥粒率＄５ｗｔ％、気孔率７４％のｐＶＡｔｌＪ脂
砥石を得、た。この砥石で４５μｍのダイヤモンドディ
ヌクで荒うオビングにより厚さを規制したサファイア単
結晶を３μ哨ペースト状ダイヤモンドを用いてラッピン
グにより表面粗さを０．０１〜０．０５μｍ度に中仕上
加工したものを、蒸留水を用いて研磨したところ、表面
粗さ１０５−以下で加工変質層が全くなく、エピタキシ
ャル成長用の基板として使用できる超精密無歪面を得た
。

比較例　１゜ 軟質ポリウレタンフォーム（気孔率９７％、平均気孔径
０．４鯉、嵩比重０．０４９＆（シー）を実施例１の懸
濁液中に浸漬して取り出し乾燥し、成型したものは、嵩
比重０．０５Ｉ／／Ｃｍ、砥粒率２０　ｖｔ％　、気孔
率９７−であった、この砥石で実施例１と全く同じ条件
で、実施例１のＰＶＡｔ樹脂砥石の代わりに研磨したと
ころ、通常の顯１１Ｍで観察できる程度のへき開を含む
梨地面の状態であった。基板として用いるには数倍の研
磨時間がかかった。

実施例　Ｚ ｐＶＡｔ多孔質体（アセタール化度５８七ルチ、気孔率
８９％、嵩比重０．１’４　ｆｌ／Ｃ１／）に、Ｃφ１
５００＃砥粒７６ｋｑ、水１８０＆９、メタノール２０
＃、分散剤（日本乳化剤株式会社製Ｄｉｓｒｏｌ　−Ｓ
Ｈ）　０．８　＃よりなる懸濁液を給み込ませた後、乾
燥して水分を除去した。

次にレゾール型フェノール樹脂（住友デ島レス株式会社
製ＰＲ−９４０）のメタノールｌＯチ溶液中に浸漬して
含浸度（含浸後磁石重量／含浸前砥石重量）が１．６に
なるように脱液し、予備乾燥で揮発分を除去したあと、
１５０”Ｃで熱処理許動肩定の寸法に成型した。このＰ
　Ｖ　Ａ’を樹脂砥石は嵩比重０．６７　ｇΔ７、砥粒
率７４ｗｔ％、気孔率７１チであった。この砥石で、ニ
ッケル板（前加工Ｃ”８００のＰＶＡｔ樹脂砥石）を研
磨したところ、スクラッチのまったく入らない鏡面が得
られた。

、　　　ＰＶＡｔ多孔質体（アセタール化度６０七ルチ
、気孔率９１％、嵩比重口、　１２１１／Ｃｄ　）に、
平均粒子径１．２μｍの酸化セリウム５０＃、水１２０
＃、分散剤（日本乳化剤株式会社製Ｄｉ、５ｒＯ１−８
Ｈ）　０．４８　ｋｇよりなる懸濁液を含浸した後、乾
燥した。次に、溶剤型熱硬化性アクリル樹脂（三愛レイ
ヨン株式会社製ＢＥ−５１０２）の！２チ１．１．１、
トリクロルエタン溶液中に浸漬１７て、含浸度が１．６
になるように脱液し、予備乾燥で揮発分を取り除いてか
ら１５０℃で熱処理後、所定の寸法に成型して、嵩比重
０．７５１／ン、砥粒率７７載チ、気孔率７８％のＰｖ
Ａｔ４１１Ｉｉ脂砥石を得た。このれた艶が得られた。

実施例　４゜ ＰＶＡｔ多孔質体（アセタール化度６０七ルチ、気孔率
９１％、嵩比重（Ｌｌ　２１７Ｃｄ　）に、平均粒径１
．４戸ｍの酸化シルコニニウム４５＃、アクリル酸エス
テル樹脂エマルジ菖ン（昭和高分子株式会社製ＡＰ−５
０）２．４＃、水９．６に９、分散剤（日本乳化剤株式
会社製Ｄｉｓｒｏｌ　Ｈ１２）　！ｈ、５に４Ｉよりな
る懸濁液を染み込ませた後、熱風乾燥により水分を除去
し、嵩比重０，６４１／Ｃｒｄ、砥１ａ：４Ａ　８ｏ　
ｗｔ％ｊＦｃ孔率ａｏ　ｑｂ　ｃｙ）　ＰＶＡｔ樹脂砥
石を得た。

このＰＶＡｔ［脂砥石を用いてシリコンウェファ−を研
磨したところ、スクラッチの入らない鏡面が得られた。

実施例　シ ＰＶＡｔ多孔質体（アセタール化度５２七ルチ、気孔率
９２％、嵩比重０．１２９７Ｃｄ）を所定の寸法に成型
した。水性ウレタン樹脂水溶液（＆５ｗｔチ）中に、ダ
イヤモンド（平均粒径６μ）を１．５ｗｔ％含有するよ
うに均一分散した懸濁液を作り、核ＰＶＡｔ多孔質体に
含浸度４８倍量を含浸した後、熱風乾燥して。

ｐＶＡｔ樹脂砥石（電比ｉ　ＣＬ　１３９／（４１、コ
ンセントレージ冒ン２５、気孔率８９％）を得た。

とのＰＶＡｔ樹脂砥石で蒸留水を用いて研磨したところ
、ヌクラッチのまったく人らない、平面度平行度が特に
優れ、かつ、加工変質層がほとんどない表面が得られ、
工Ｃ用のウェファ−として十分通用するものであった。

実施例　６゜ ＰｖＡｔ多孔質体（アセタール化度５２七ルチ、気孔率
９３チ、嵩比重０．０９　ｊＪ／Ｃｍ’、）を平均粒径
８μｍの炭化けい素３０幻、平均粒径１．５戸の酸化ク
ロム４０ｋＱ、ヒドロキシエチルセルロース（ハーキ纂
しス社Ｆ！Ｎａｔ、ｒｏｓｏ１２５０　Ｈ）　０．５　
Ｔｏ水溶液３０紳からなる懸濁液中に浸漬し、含浸度３
．８倍量を含浸したのち、熱風乾燥してＰＶＡ　ｔ、樹
脂砥石（嵩比重０．２７、砥粒率６６Ｗ′１．％、気孔
率８９チ）を得た。

この砥石を用いて装飾用の真珠の表面を研磨したところ
、キズのまったく入らない、極めて優れた艶が得られた
。

特許出願人 日本特殊研砥株式会社 手続補正書（自発） １．事件の表示 昭和５７年特許願第７６１５６号 ２、発明の名称 ポリビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法３、補正を
する者 事件との関係　　　　特許出願人 京都市南区吉祥院御池町１８番地 ４、補正の対象 明細書の「特許請求の範囲」の欄と「発明の詳細な説明
」の欄 １）特許請求の範囲の記載を別紙の通り訂正する。

２）第５頁第８行の「最も」を１つとも」に訂正する。

５）第５頁第Ｕ行「しい点にあった。」を「しいもので
あった。」に訂正する。

り第９頁第１４行「・・・・・・できるが、」と「従来
」の間に「前記した」を加える。

５）第９頁第１４行の「・・・・樹脂砥石」と「では得
られない・・・・」の間に次のことを加える。

「及びその他の合成樹脂砥石」 ６）第９頁第１４の「・・・・砥粒のマ」と「グレ゛−
シツン・・・・」の間に「イ」を加える。

７）第９頁第１４の「・・・・である。」の後に次のと
とを加える。

ｒｐｖｈｔ樹脂多孔樹脂多孔合体含浸度は特にこだわる
必要はない。つまり、先に述べたとおシ、ＰＴＡ　を樹
脂多孔質体は、分子中に多くの親水性α に富むＯＨ基を有することと、複雑な内部構造を有する
気孔形態とがあいまって、含浸度の値に関係なく、含浸
後の乾燥工程における砥粒のマイ 〜グレーシロンを引き起こさないことと、含浸液の付着
量の試料内でのバラツキが少ないからである。ｐｙＡｔ
　樹脂以外の多孔質体、たとえばウレタンフオームを例
にとるとその気孔形態のために含浸度を高くすると乾燥
中の砥粒のマイグレーションが激しく、一方、激しいマ
イグレーションを起こさない程度まで脱液した場合、試
料内での含浸液の付着量のバラツキが大となり、かつ、
本発明の目的とするような高砥粒率のものは得られない
。」 ８）第ｎ頁第４行目の「・・・・を含浸」と「後、・・
・・」の間に次のことを加える。

「させ、乾燥した」 ９）第し頁第５行「・・・・もよい。」の後に次のこと
を加える。

「ここで使用する樹脂としては、ポリビニルアルコール
、ポリビニルメチルエーテル、酢酸ヒニル、アクリル、
ポリアミド、アルキド、飽和ポリエステル、ポリウレタ
ン、フェノキシ、ポリスルホン、ポリアリルスルホンな
どの熱可塑性樹脂、フェノール、レゾールシノール、ユ
リア、メラミン、フラン、エポキシ、不飽和ポリエステ
ル、アクリル、インシアネート、シリコーン、アクリル
酸ジエステルなどの熱硬化性樹脂、熱可塑性ＳＢＲ，ブ
チルゴム、ポリクロロプレン、ニトリルゴム、ポリサル
ファイドなどの合成ゴム系などがある。

これらの樹脂を砥粒を付着せしめたＰＴＡｔ樹脂系樹脂
系多孔金体して均一に付着せしめるには、水または有機
溶剤中に溶解したもの、あるいは、エマルジ曹ン型のも
のを用いる必要がある。

有機溶剤は、ｎ−ペンタン、ｎ−へキサン、け１ イソブチレン、テレ曾ン油などの脂肪族炭化水素、トル
エン、キシレン、ベンゼンなどの芳香族炭化水素、塩化
メチレン、メチルエチルケトン、シクロペンタノンなど
のケトン類、メタノ−ル、エタノール、セロソルブ、グ
リセロールなどのアルコール類などを、樹脂の種類に応
じ１１）　　第１３頁第１行の「比べ、」と「高砥粒率
・・・」の間に次のととを加える。

「圧縮成型などを必要とせず容易に」 １２）　　第１３頁第１行の「・・・・高砥粒率」と「
のものが・・・・」の間に次のことを加える。

「高密度」 １３）　　第１３頁第１４行目の「・・・・のである。

」の後に次のことを加える。

「さらに第２の発明においても、懸濁液を含浸させ、乾
燥した後、水性樹脂や溶剤型の樹脂で処理してもよい。

」 １４）　　第１４頁第２行の「１０ｋｇ」を「１００ｋ
ｇ」に訂正する。

１５）　　　第１５頁第３行の「・・・・がかかった。

」と第４行の「実施例２．」の間に次のことを加える。

軟質ポリエステルポリウレタンフォーム（気泡数３０個
、ｊ、嵩比重０．［Ｉ２）を実施例１の懸濁液中で絞り
ロールを用いて懸濁液をウレタンフオームの内部まで強
制的に入れた後、懸濁液から取υ出し絞りロールを用い
て含浸度が３，５になるように脱液したあと、乾燥し、
成型したものは、電比］ｉ０．［１４、砥粒率５２．６
ｗｔ％、気孔率９８％であった。

この砥石で実施例１と全く同じ条件で、実施例１のｐｖ
Ａｔ樹脂砥石の代りに研磨したところ、比較例１の場合
と同様、通常の顕微鏡で観察できる程度のへき開を含む
梨地面の状態であった。基板として用いるには数倍の研
磨時間がかかった。

比較例　＆ 気泡数２４個／ｅｘ、嵩電比０．０３５の膜ぬきをおこ
なった網状ポリエステルポリウレタンフォームを実施例
１の懸濁液中で絞りロールを用いて懸濁液をウレタンフ
オームの内部まで強制的に入れた後、懸濁液から取シ出
し、絞りロールを用いて含浸度が５．５になるように脱
液したあと乾燥し、成型したものは嵩比重０．０７４、
砥−２，６ｗｔ％、気孔率９６．６％であった。この砥
石で実施例１と全く同じ条件で、実施例１のＰｖＡｔ樹
脂砥石の代りに研磨したところ、比較例１の場合と同様
、通常の顕微鏡で観察できる程度のへき開を含む梨地面
の状態であった。基板として用いるには数倍の研摩時間
がかかった。

比較例　４゜ 比較例３で得た砥石を圧縮倍率（圧縮後の寸法／圧縮前
の寸法）が百になるように１５０℃でプレス成型をおこ
なったものは、嵩比重０．８９、砥粒率５１６ｗｔ％、
気孔率５９．６％であった。とめ砥石で実施例１と全く
同じ条件で実施例１のＰＶＡｔ樹脂砥石の代シに研磨し
たととる、肉眼で観察できる程度の深いキズが多数みら
れた。基板としては使用できないものであった。

比較例　５゜ 比較例３で得た砥石を圧縮倍率が）になるように１５０
°Ｃでプレス成形をおこなったものは、嵩比重０．３０
、砥粒率５２．６　Ｗｔ　％、気孔率８６．２チであっ
た。

この砥石で実施例１と全く同じ条件で実施例１のＰＶＡ
ｔ樹脂砥石の代りに研磨したところ、肉眼で観察できる
程度の深いキズが多数みられた。基板としては使用でき
ないものであった。」 別　　紙 ２、特許請求の範囲 耗 １、　ポリビニルアセタール系多即質体に、砥粒、分散
剤、分散媒からなる懸濁液を一定量含浸させた後、乾燥
して、ポリビニルアセター／Ｌ’系多孔質体中に砥粒を
凝集させることなく均一に付着させることを特徴とする
ポリビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法。

２　分散媒が水、または水を主体とするものである特許
請求の範囲第１項記載のポリビニルアセタール系樹脂砥
石の製造方法。

リビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法。

１ポリビニルアセタ一ル系多孔質体に、砥粒、分散剤、
分散媒、水性樹脂からなる懸濁液を一定量含浸させた後
、乾燥して、ポリビニルアセター／Ｉ／系多孔質体中に
砥粒を凝集させるととなく均一に付着させることを特徴
とするポリビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法。

＆　分散媒が、水、または水を主体とするものである特
許請求の範囲第５項記載のポリビニルアセクール系樹脂
砥石の製造方法。゛

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　ポリビニルアセタール系多孔質体に、砥粒、分散
   剤、分散媒からなる懸濁液を一定量含浸させた後、乾燥
   して、ポリビニルアセタール系多孔質体中には粒を凝集
   させることなく均一に付着させることを特徴とするポリ
   ビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法。 ２、分散媒が水、または水を主体とするものである特許
   請求の範囲第１項記載のポリビニルアセタール系樹脂砥
   石の製造方法。 ３、　ポリビニルアセタール系多孔質体に、砥粒、分散
   剤、分散媒、水性樹脂からなる懸濁液を一定量含浸させ
   た後、乾燥して、ポリビニルアセタール系多孔質体中に
   砥粒を凝集させることなく均一に付着させることを特徴
   とするポリビニルアセタール系樹脂砥石の製造方法。 本　分散媒が、水、または水を主体とするものである特
   許請求の範囲第３項記載のポリビニルアセタール系樹脂
   砥石の製造方法。