JPS58188838A - 4−(4′−フルオロベンゾイルオキシ)フエノ−ルのエステル誘導体 - Google Patents
4−(4′−フルオロベンゾイルオキシ)フエノ−ルのエステル誘導体Info
- Publication number
- JPS58188838A JPS58188838A JP7106382A JP7106382A JPS58188838A JP S58188838 A JPS58188838 A JP S58188838A JP 7106382 A JP7106382 A JP 7106382A JP 7106382 A JP7106382 A JP 7106382A JP S58188838 A JPS58188838 A JP S58188838A
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- formula
- compound
- fluorobenzoyloxy
- crystal composition
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は正の誘電異方性を有する新規な含フツ素液晶物
質又は非液晶物質及びそれを含有する液晶組成物Kll
する。
質又は非液晶物質及びそれを含有する液晶組成物Kll
する。
液晶表示素子は液晶物質が持つ光学異方性及び誘電異方
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DB型(動的叡覧型)、ゲ
スト自ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ、
夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしいず
れの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であること
が必要であることは共通しており、又、室温を中心とし
て出来るだけ広い混度箭囲で液晶相を示し、!罠表示素
子の種類によって異なる#遺な銹電P方性値(Δε)を
有する様にしなければならない、し2かし現在のところ
単一化合物ではこの様な条件を満た一ノー物質はなく、
数種の液晶化合物や非液晶化合物を混合して得られる液
晶組成物を使用しているのが現状である。最近は特に低
温(−20C11度)から高II(80〜90tZ’位
)にわたって動作する表示素子が要求される様になって
来ているので、より広い温度範囲ですぐれた動作特性を
持った液晶組成物が要望されている。
性を利用したものであるが、その表示様式によってTN
型(ねじれネマチック型)、DB型(動的叡覧型)、ゲ
スト自ホスト型、DAP型など各種の方式に分けられ、
夫々の使用に適する液晶物質の性質は異る。しかしいず
れの液晶物質も水分、空気、熱、光等に安定であること
が必要であることは共通しており、又、室温を中心とし
て出来るだけ広い混度箭囲で液晶相を示し、!罠表示素
子の種類によって異なる#遺な銹電P方性値(Δε)を
有する様にしなければならない、し2かし現在のところ
単一化合物ではこの様な条件を満た一ノー物質はなく、
数種の液晶化合物や非液晶化合物を混合して得られる液
晶組成物を使用しているのが現状である。最近は特に低
温(−20C11度)から高II(80〜90tZ’位
)にわたって動作する表示素子が要求される様になって
来ているので、より広い温度範囲ですぐれた動作特性を
持った液晶組成物が要望されている。
本発明の目的はこの様な液晶組成物の一成分として有用
な、特に低粘性な高温液晶又は非液晶化合物を提供する
ととにあろ1、 即ち、本発明は一般式 (上式中入は炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキ
シ基、又は−Df<又は−〇−Rを示1−1
夕は炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基を示
す) で表わサワる4−(4’−フルオロベンゾイルオキシ)
フェノールのエステル誘導体及びそれを含有する本発明
の化合物はあまり大きくない正の誘電異方性を示し、液
晶組成物の粘性を低くする性質もあり、又、ムが()−
凰又は−0−凡の化合物はネiチック温度が広く、%に
高い透明点(N−I点)を持っており、広い液晶温度範
囲を持つ液晶組成物を得るのに極めて有用な化合物であ
る。
な、特に低粘性な高温液晶又は非液晶化合物を提供する
ととにあろ1、 即ち、本発明は一般式 (上式中入は炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキ
シ基、又は−Df<又は−〇−Rを示1−1
夕は炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキシ基を示
す) で表わサワる4−(4’−フルオロベンゾイルオキシ)
フェノールのエステル誘導体及びそれを含有する本発明
の化合物はあまり大きくない正の誘電異方性を示し、液
晶組成物の粘性を低くする性質もあり、又、ムが()−
凰又は−0−凡の化合物はネiチック温度が広く、%に
高い透明点(N−I点)を持っており、広い液晶温度範
囲を持つ液晶組成物を得るのに極めて有用な化合物であ
る。
つぎに本発明の化合物の製造法ドついて述べる7まず1
モルの4−フルオロ安息香酸クロリドと1.5モルのハ
イドロキノンとピリジン存在下で反応して4−4′−フ
ルオロベンゾイルオキシ)フェノールとし、それを分離
する。ついで、これを最終目的物に対応する酸の酸クロ
リドと反応して目的物を得る。これを反応式で示すと (1) 以下実施例により本発明の化合物につき!に評#lK説
明する。
モルの4−フルオロ安息香酸クロリドと1.5モルのハ
イドロキノンとピリジン存在下で反応して4−4′−フ
ルオロベンゾイルオキシ)フェノールとし、それを分離
する。ついで、これを最終目的物に対応する酸の酸クロ
リドと反応して目的物を得る。これを反応式で示すと (1) 以下実施例により本発明の化合物につき!に評#lK説
明する。
與施N1()ランス−4−エチルシクロヘキサンカルボ
ン酸4−(4’−フルオロベンゾイルオキシ)フェニル
エステルの製造〕 ハイドロキノン!51をピリジン100w/に4[IU
K加温して溶かす。これに4−フルオロ安息香酸クロリ
ド2911を加え、室温にて一瞬放置する。
ン酸4−(4’−フルオロベンゾイルオキシ)フェニル
エステルの製造〕 ハイドロキノン!51をピリジン100w/に4[IU
K加温して溶かす。これに4−フルオロ安息香酸クロリ
ド2911を加え、室温にて一瞬放置する。
トルエン500−加え水11にあけると結晶が析出する
。この結晶をr遇してからトルエン層を6N−HCt、
ライで2N−NaOH水溶液1?浄し、ツいで中性にな
るまで水で洗浄する。トルエン層を無才硫酸ナトリウム
で乾燥1−た後トルエンを留去する、残った結晶物にエ
タノールを200m加り溶か′to不溶物があるがその
まま放冷すると結晶が析出するのでF消し、母液を10
0ゴまで濃縮し、再度放冷する。結I#を炉LL母液に
水300ゴ加え乙と結晶が析出する。これが4−(4’
−フルオロベンゾイルオキシ)フェノールである。収量
1611、収率35憾、rap、 1427〜143.
6であった。
。この結晶をr遇してからトルエン層を6N−HCt、
ライで2N−NaOH水溶液1?浄し、ツいで中性にな
るまで水で洗浄する。トルエン層を無才硫酸ナトリウム
で乾燥1−た後トルエンを留去する、残った結晶物にエ
タノールを200m加り溶か′to不溶物があるがその
まま放冷すると結晶が析出するのでF消し、母液を10
0ゴまで濃縮し、再度放冷する。結I#を炉LL母液に
水300ゴ加え乙と結晶が析出する。これが4−(4’
−フルオロベンゾイルオキシ)フェノールである。収量
1611、収率35憾、rap、 1427〜143.
6であった。
以十の様Kして得られた4−(4’−フルオロベンゾイ
ルオキシ)フェノール2.3#(0,01モル)をピリ
ジン50−に溶かし、よくふりまぜながらトランス−4
−エチルシクロヘキサンカルボン酸クロリド1.81
(n、01モル)を加え一瞬放置した。
ルオキシ)フェノール2.3#(0,01モル)をピリ
ジン50−に溶かし、よくふりまぜながらトランス−4
−エチルシクロヘキサンカルボン酸クロリド1.81
(n、01モル)を加え一瞬放置した。
トルエン200―加え、水200mgKあける。トルエ
ン層を分離し、6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ水溶
液で洗浄した後、中性になるまで水洗する。それを無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを減圧で留去し、残
った結晶物をエタノールで再結晶して目的のトランス−
4−エチルシクロヘキサンカルボン酸4−(4’−フル
オロベンゾイルオキシ安息香酸フェニルエステルを得た
。 収量1.7g、収率47%。又そのC−N点は91
6〜92.0、NIは178.8rであった。
ン層を分離し、6N塩酸で、ついで2N苛性ソーダ水溶
液で洗浄した後、中性になるまで水洗する。それを無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを減圧で留去し、残
った結晶物をエタノールで再結晶して目的のトランス−
4−エチルシクロヘキサンカルボン酸4−(4’−フル
オロベンゾイルオキシ安息香酸フェニルエステルを得た
。 収量1.7g、収率47%。又そのC−N点は91
6〜92.0、NIは178.8rであった。
実施例2〜13
実jlHR11においてトランス−4−ニブルシクロヘ
キサンカルボン酸クロリドの伏りに第11prC示す様
な最終目的物に対応する酸クロリド誘導体001モルと
反応させた他は全<pm忙して目的の化合物を11造し
た。これらの結果を実施例1の結果と共に第1表に示す
。
キサンカルボン酸クロリドの伏りに第11prC示す様
な最終目的物に対応する酸クロリド誘導体001モルと
反応させた他は全<pm忙して目的の化合物を11造し
た。これらの結果を実施例1の結果と共に第1表に示す
。
第 1 表
実施例14(応用例)
4−ペンチル−4′−シアノビフェニル 5(1
%4−へブチル−4′−シアノビフェニル 35
チ4−オクチルオキシ−47−シアノビフェニル 17
嗟からなる液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一2
〜44LStl’、粘度は20rで400pでそれを封
入して得られる液晶セルのしきい値電圧は1.40 V
。
%4−へブチル−4′−シアノビフェニル 35
チ4−オクチルオキシ−47−シアノビフェニル 17
嗟からなる液晶組成物のネマチック液晶温度範囲は一2
〜44LStl’、粘度は20rで400pでそれを封
入して得られる液晶セルのしきい値電圧は1.40 V
。
飽和電圧t90Vである。
Claims (1)
- (1)一般式 (上式中入は炭素数1〜1oのアルキル基又はアルコキ
シ基、ぺ)−B又は0−Rを示し、又Rは炭素数1〜1
oのアルキル基又はアルコキシ基を示す) で表わされ゛る4−(4’−フルオロペンツイルオキシ
)フェノールのエステル誘導体。 (2・一般式 (上式中入は炭素数1〜10のアルキル基又はアルコキ
シ基、へ)L R又は0−Rを示し、又Rは炭素数1〜
10のアルキル基又はアルコキシ基を示す) で表わされる4−4’−フルオロベンツイルオキシ)フ
ェノールのエステル誘導体を少なくとも一種含有するこ
とを特徴とする液晶組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7106382A JPS58188838A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 4−(4′−フルオロベンゾイルオキシ)フエノ−ルのエステル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7106382A JPS58188838A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 4−(4′−フルオロベンゾイルオキシ)フエノ−ルのエステル誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58188838A true JPS58188838A (ja) | 1983-11-04 |
Family
ID=13449688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7106382A Pending JPS58188838A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 4−(4′−フルオロベンゾイルオキシ)フエノ−ルのエステル誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58188838A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005528457A (ja) * | 2002-06-06 | 2005-09-22 | 株式会社 キャンバス | Dna損傷誘発性細胞周期g2チェックポイントを排除し、そして/またはdna損傷処置の抗癌活性を増強する化合物 |
-
1982
- 1982-04-27 JP JP7106382A patent/JPS58188838A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005528457A (ja) * | 2002-06-06 | 2005-09-22 | 株式会社 キャンバス | Dna損傷誘発性細胞周期g2チェックポイントを排除し、そして/またはdna損傷処置の抗癌活性を増強する化合物 |
JP4919598B2 (ja) * | 2002-06-06 | 2012-04-18 | 株式会社 キャンバス | Dna損傷誘発性細胞周期g2チェックポイントを排除し、そして/またはdna損傷処置の抗癌活性を増強する化合物 |
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