JPS58180024A - 電子ビ−ム露光方法 - Google Patents
電子ビ−ム露光方法Info
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- JPS58180024A JPS58180024A JP6337882A JP6337882A JPS58180024A JP S58180024 A JPS58180024 A JP S58180024A JP 6337882 A JP6337882 A JP 6337882A JP 6337882 A JP6337882 A JP 6337882A JP S58180024 A JPS58180024 A JP S58180024A
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- JP
- Japan
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- deflection
- conversion circuit
- region
- electron beam
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は、比較的大きな領域に対して電子ビームｔｍ向
する第１の偏向（以下、大偏向と略記）装置と、比較的
小さな領域に対して電子ビームを偏向する第２の偏向（
以下、小・−同と略記）装置の両方を備えた電子ビーム
露光装置を用いた電子ビーム露光方法に関する。
する第１の偏向（以下、大偏向と略記）装置と、比較的
小さな領域に対して電子ビームを偏向する第２の偏向（
以下、小・−同と略記）装置の両方を備えた電子ビーム
露光装置を用いた電子ビーム露光方法に関する。
（２）技術の背景
電子ビーム露光装置には電磁偏向方式や、静電偏向方式
がある。電磁偏向方式は、磁界によってビームを偏向さ
せる方式であり、大きな偏向を行なうことができ、すな
わち偏向利得が大きく、また偏向精度も良かった。しか
しながら電磁偏向方式は磁界を発生させるためにコイル
を用いており、前記コイルの影響によって高速偏向を行
なうことが困難であった。静電偏向方式は高速偏向が可
能であり、さらにｆｆ＆も良いが、偏向感度が低いため
大きな偏向を得ることが−しかった。
がある。電磁偏向方式は、磁界によってビームを偏向さ
せる方式であり、大きな偏向を行なうことができ、すな
わち偏向利得が大きく、また偏向精度も良かった。しか
しながら電磁偏向方式は磁界を発生させるためにコイル
を用いており、前記コイルの影響によって高速偏向を行
なうことが困難であった。静電偏向方式は高速偏向が可
能であり、さらにｆｆ＆も良いが、偏向感度が低いため
大きな偏向を得ることが−しかった。
前記二つの偏向方式の欠点をおぎなう方法として、電磁
偏向方式と静電偏向方式の四時に用がある０ カソード１％グリッド２、アノード３より成る電手続４
によって発射した電子ビーム５は′ｓ１スリット６、第
ルンズ７、ブランキング装置８．第２−”Ｊｙト９、＄
２ｖ：ｙＸ１０． ＃Ｉ３ｖンズ１１を通過して短形の
電子ビームになる。前記短形の電子ビームをＩｔｆｆｌ
偏向器に、静電偏向器１３で偏光させ対物レンズ１４を
介してウェハーＷに照射する。第１図に示した電子ビー
ム露光装置は、比較的太面槓全有する第１の領域（以下
、大領域と略ｄ己）に対して電子ビームを偏向し得る電
磁偏向場囲器と？備え、前記電磁偏向器によって、露光
の４葉位置を設足し、次いで前記基準位置全基準として
ｎ’ｄ記靜屯偏向器によって電子ビーム全高速−向させ
て露光処４金行なう％ａｔ有している。
偏向方式と静電偏向方式の四時に用がある０ カソード１％グリッド２、アノード３より成る電手続４
によって発射した電子ビーム５は′ｓ１スリット６、第
ルンズ７、ブランキング装置８．第２−”Ｊｙト９、＄
２ｖ：ｙＸ１０． ＃Ｉ３ｖンズ１１を通過して短形の
電子ビームになる。前記短形の電子ビームをＩｔｆｆｌ
偏向器に、静電偏向器１３で偏光させ対物レンズ１４を
介してウェハーＷに照射する。第１図に示した電子ビー
ム露光装置は、比較的太面槓全有する第１の領域（以下
、大領域と略ｄ己）に対して電子ビームを偏向し得る電
磁偏向場囲器と？備え、前記電磁偏向器によって、露光
の４葉位置を設足し、次いで前記基準位置全基準として
ｎ’ｄ記靜屯偏向器によって電子ビーム全高速−向させ
て露光処４金行なう％ａｔ有している。
（３）従来技術と問題点
比較的大きな領域に対して電子ビームを偏向する大圓向
方式と比較的小さな領域に対して電子ビームを偏向する
小圓向方式の両方を備えた電子ビームｄｉ装置？用いて
大きい範囲金高種度で露光するには、ビット数の多いデ
ジタル−アナログ変換回路（以下、ＤＡＣ！と略記）が
必要である。
方式と比較的小さな領域に対して電子ビームを偏向する
小圓向方式の両方を備えた電子ビームｄｉ装置？用いて
大きい範囲金高種度で露光するには、ビット数の多いデ
ジタル−アナログ変換回路（以下、ＤＡＣ！と略記）が
必要である。
例えばｌｏｍｍフィールド七００１２５μｍ率位で表わ
すには２０ビツトのＤＡＣが必要であるが。
すには２０ビツトのＤＡＣが必要であるが。
現在市販、開発されているＤＡＣはせいぜい多くて１８
ビット程度である。
ビット程度である。
そこで次に、１８ビツト以下のＤＡＣ’ｉ用いた従来の
電子ビームの偏向補正方法ｔ−説明する。第２図は従来
の成子ビームの偏向補正方法を示す図である。
電子ビームの偏向補正方法ｔ−説明する。第２図は従来
の成子ビームの偏向補正方法を示す図である。
同図に於いて、１５はデータ発生ｆ＆直、１８は１０ｍ
ｍフィールドを００５声ｍ単位で表わす１８ビツトのＤ
ＡＣ！、２０は補正変換回路、２３は００１２５μｍ率
位で樅わす１６ビツトのＤＡＣ。
ｍフィールドを００５声ｍ単位で表わす１８ビツトのＤ
ＡＣ！、２０は補正変換回路、２３は００１２５μｍ率
位で樅わす１６ビツトのＤＡＣ。
２６は増幅器、２フはＩＥ４ｉａ偏向器、３０は小領域
変換回路％３３は０２ｍｍフィールドを００１２５μｍ
率位で表わす１４ビツトのＤＡＣ，３５は壇（ 幅器、３６は静電偏向器をそれぞれ示す。
変換回路％３３は０２ｍｍフィールドを００１２５μｍ
率位で表わす１４ビツトのＤＡＣ，３５は壇（ 幅器、３６は静電偏向器をそれぞれ示す。
データ発生装置１５の大領域データ出力（Ｘ。
Ｙ）１６はＤＡＣ１８の入力１７に入る。一方。
データ発生装置１６０大領域データ出力（Ｘ、Ｙ）１６
′は補正変換回ｗ！２０の入力１９に入り、補正変換回
路２ｏの変換出力（Ｏｘ、 ｏり ２１はＤＡＣ２３の
人力２２に入る。前記ＤＡＣ１８σｍの出力２４及び前
記ｎＡｃｇ３の出力２５は増幅器２６を介してアナログ
量で加算され、電磁偏向器２）に接続される。また前記
データ発生装置１５の小領域データ出力（ｘ、ｙ）２Ｂ
は小領域変換回路３０の入力２９に入り、小領域変換回
路３０の出力（ｘ′、ｙ′）３１はＤＡＣ！３３の入力
３２に入り、更にＤＡＯ３３の出力３４は増幅器３５を
介して靜１偏同器３６に接続される。
′は補正変換回ｗ！２０の入力１９に入り、補正変換回
路２ｏの変換出力（Ｏｘ、 ｏり ２１はＤＡＣ２３の
人力２２に入る。前記ＤＡＣ１８σｍの出力２４及び前
記ｎＡｃｇ３の出力２５は増幅器２６を介してアナログ
量で加算され、電磁偏向器２）に接続される。また前記
データ発生装置１５の小領域データ出力（ｘ、ｙ）２Ｂ
は小領域変換回路３０の入力２９に入り、小領域変換回
路３０の出力（ｘ′、ｙ′）３１はＤＡＣ！３３の入力
３２に入り、更にＤＡＯ３３の出力３４は増幅器３５を
介して靜１偏同器３６に接続される。
補正変侯回Ｖ６２０では大領域に於ける、あらかじめ求
められ、前記補正変換回路２０にセットさｎている偏向
利得補正係数、回転補正係数、台形歪係数、ノット量等
補正係数を用いて（１） 、 （２）式に示す補正デー
タの計算をデジタルで行なう。
められ、前記補正変換回路２０にセットさｎている偏向
利得補正係数、回転補正係数、台形歪係数、ノット量等
補正係数を用いて（１） 、 （２）式に示す補正デー
タの計算をデジタルで行なう。
ｏｘ−＝Ｇ、 ｊ Ｘ ＋ Ｒ１−Ｙ ＋ａ、 ” Ｘ
−Ｙ ＋ｖ（Ｘ 、Ｙ ）＋ｏｔ （１）ＱＹ＝Ｑ、
−Ｙ十Ｒ，４−４−ｆ（、４−Ｙ＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋０２
（２）（１）、（２）式においてＸ、Ｙはデータ発生
装置より発生するＸ軸方向、Ｙ軸方向の偏向データ５ｃ
Ｏｘ＊○りは変換後の偏向補正データ、Ｇ、、 Ｇ、は
偏向利得補正係数ｓ ＲＩ、Ｒ，は回転補正係数、”Ｉ
ｒ Ｈｌは台形歪形数、ｏｌ、ｏ冨はシフト量、Ｗ（
Ｘ、Ｙ）、ξ（ｘ、ｙ）は大領域における上記以外の歪
補正関数である。
−Ｙ ＋ｖ（Ｘ 、Ｙ ）＋ｏｔ （１）ＱＹ＝Ｑ、
−Ｙ十Ｒ，４−４−ｆ（、４−Ｙ＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋０２
（２）（１）、（２）式においてＸ、Ｙはデータ発生
装置より発生するＸ軸方向、Ｙ軸方向の偏向データ５ｃ
Ｏｘ＊○りは変換後の偏向補正データ、Ｇ、、 Ｇ、は
偏向利得補正係数ｓ ＲＩ、Ｒ，は回転補正係数、”Ｉ
ｒ Ｈｌは台形歪形数、ｏｌ、ｏ冨はシフト量、Ｗ（
Ｘ、Ｙ）、ξ（ｘ、ｙ）は大領域における上記以外の歪
補正関数である。
前記偏向データ即ちＸ、Ｙ及び前記偏向補正データ即ち
ＯＸ＊ ｏｒはＤＡＣ１Ｂ及び２３によってそれぞれア
ナログ量に変換され、更に増ｔｉｌｌ！器２６によって
増幅且つアナログ量で加算即ちＸ＋Ｏｘ％Ｙ＋０！とさ
れて、電磁偏向器２フに入る。
ＯＸ＊ ｏｒはＤＡＣ１Ｂ及び２３によってそれぞれア
ナログ量に変換され、更に増ｔｉｌｌ！器２６によって
増幅且つアナログ量で加算即ちＸ＋Ｏｘ％Ｙ＋０！とさ
れて、電磁偏向器２フに入る。
ま夷、データ発生装置１５より発生した小領域偏向デー
タは小領域変換回路３３に入る。この時同時に、前記大
領域偏向データで指定さｎた小領域の各補正係数すなわ
ち前記指定された小領域の偏向利得補正係数、回転補正
係数、台形歪係数、シフト量がデータ発生装置より小領
域変換回路に入る。
タは小領域変換回路３３に入る。この時同時に、前記大
領域偏向データで指定さｎた小領域の各補正係数すなわ
ち前記指定された小領域の偏向利得補正係数、回転補正
係数、台形歪係数、シフト量がデータ発生装置より小領
域変換回路に入る。
小領域変換回路では前記補正係数音用いて（３）、（４
）式に示す変換を行なう。
）式に示す変換を行なう。
ｘ’ ＝ｘ十ｇ＋ ・ｘ＋ｒ＋ ”７＋ｈｔ ・ｘ−ｙ
−）−ｏ、 （３）ｙ’ ＝ｙ＋ｇｔ ・ｙ
＋ｒｔ ６ ｘ−）−ｈ、 −ｘ−ｙ＋ｏ、
（４）（３）、（４）式において、Ｘ’７はデータ発
生装置より発生する小領域のＸ軸、ｙ軸方向の偏向デー
タ、Ｘ’ｌ Ｖ′は変換後の偏向データ、ｇｔ＋ ｇｔ
は偏向利得補正係数、ｒｌ＋ ｒ２は回転補正係数、ｈ
ｆｅｈｌは台形歪係数、０１，０□はシフト童である。
−）−ｏ、 （３）ｙ’ ＝ｙ＋ｇｔ ・ｙ
＋ｒｔ ６ ｘ−）−ｈ、 −ｘ−ｙ＋ｏ、
（４）（３）、（４）式において、Ｘ’７はデータ発
生装置より発生する小領域のＸ軸、ｙ軸方向の偏向デー
タ、Ｘ’ｌ Ｖ′は変換後の偏向データ、ｇｔ＋ ｇｔ
は偏向利得補正係数、ｒｌ＋ ｒ２は回転補正係数、ｈ
ｆｅｈｌは台形歪係数、０１，０□はシフト童である。
前記補正係数すなわちｇｌ ｒ ｇ２＋ ｒＩｔ ”２
＋ ｈＩｇ ”４ｒ Ｏ１ｉ＋ ｏ、はそれぞＣの小領
域によって異っている。前記補正された一同データ、す
なわちｘ′、７はデジタル−アナログ変換回路３３によ
ってアナログ値に変換さｎ、さらに増１−器３５によっ
て増幅されて静電偏向器３６へ入る。
＋ ｈＩｇ ”４ｒ Ｏ１ｉ＋ ｏ、はそれぞＣの小領
域によって異っている。前記補正された一同データ、す
なわちｘ′、７はデジタル−アナログ変換回路３３によ
ってアナログ値に変換さｎ、さらに増１−器３５によっ
て増幅されて静電偏向器３６へ入る。
しかしながら、上記電子ビームの偏向補正方法では、大
領域でＤＡＣｌＢの出力２４とＤＡＯ２３の出力２５と
をアナログ値で加算している為、アナログ１直が複雑に
なるばかりでなく、アナログ回路の素子の温度が上昇す
るに伴って、アナログ１直が不安定となり、大領域に於
いて高精度な電子ビームの一同が行なえないという欠点
を有している。そしてこの欠点は大領域を分割した小領
域内の偏向器［１も低下させる。
領域でＤＡＣｌＢの出力２４とＤＡＯ２３の出力２５と
をアナログ値で加算している為、アナログ１直が複雑に
なるばかりでなく、アナログ回路の素子の温度が上昇す
るに伴って、アナログ１直が不安定となり、大領域に於
いて高精度な電子ビームの一同が行なえないという欠点
を有している。そしてこの欠点は大領域を分割した小領
域内の偏向器［１も低下させる。
（４）発明の目的
本発明は＃記問題点を解決するものであり、その目的と
するところは大領域にわたって摺度が良く、高速偏向が
可能な電子ビーム露光装置を実現する電子ビームの偏向
補正方法會提供することにある。
するところは大領域にわたって摺度が良く、高速偏向が
可能な電子ビーム露光装置を実現する電子ビームの偏向
補正方法會提供することにある。
（５）発明の構成
本発明は、比較的大面積を有する第１の領域に対して電
子ビームを偏向し得る第１のビーム偏向手段と、比較的
小面積を有する＃Ｉ２の領域に対して電子ビームを偏向
する８２のビーム偏向手段とを備え、前記第１のビーム
偏向手段によって、露光の基準位ｆｔ−設定し、次いで
前記基準位置を基準としてｍ記第２のビーム偏向手段に
よりて所望の露光処理を行なう方法に於いて、ｌｌＩ記
第１の偏向手段における位置情報の余剰分を前記第２の
ビーム偏向手段の制御情報にデジタル盪として加算して
、かかる１１２のビーム偏向手段を制御すること全特徴
とするものである。
子ビームを偏向し得る第１のビーム偏向手段と、比較的
小面積を有する＃Ｉ２の領域に対して電子ビームを偏向
する８２のビーム偏向手段とを備え、前記第１のビーム
偏向手段によって、露光の基準位ｆｔ−設定し、次いで
前記基準位置を基準としてｍ記第２のビーム偏向手段に
よりて所望の露光処理を行なう方法に於いて、ｌｌＩ記
第１の偏向手段における位置情報の余剰分を前記第２の
ビーム偏向手段の制御情報にデジタル盪として加算して
、かかる１１２のビーム偏向手段を制御すること全特徴
とするものである。
（６）発明の実施例
以Ｆ１本発明の実施例を用いて詳細な説明を行なう。第
３図は本発明の実施例を示す。
３図は本発明の実施例を示す。
同図に於いて、３７はデータ発生装置、４０は大領域変
換回路、４３は１０ｍｍフィールドを００５μｍ単位で
表わす１８ビツトのＤＡＣ％４５はＪＩ幅器、４６は電
磁偏向器、４９は小領域変換回路、５２はデジタル加算
器、５５はα２ｍｍフィー々ドを００１２５μｍ単位で
表わす１４ビツトのＤＡＣ１５フは増幅器、５８は静電
偏向器をそＣぞｎボす。
換回路、４３は１０ｍｍフィールドを００５μｍ単位で
表わす１８ビツトのＤＡＣ％４５はＪＩ幅器、４６は電
磁偏向器、４９は小領域変換回路、５２はデジタル加算
器、５５はα２ｍｍフィー々ドを００１２５μｍ単位で
表わす１４ビツトのＤＡＣ１５フは増幅器、５８は静電
偏向器をそＣぞｎボす。
本発明によれば、データ発生装置３７の大領域データ出
力（Ｘ、Ｙ’）３８は大領域変換回路４０の人力３９に
入り、大領域変換回路４０の変換出力（Ｘ’、Ｙ’）４
１ｉ（１０５ｘｍ以上と００５μｍ未満の２つのデータ
に分け、その内００５μｍ以りのデータ（Ｘ’Ｌｏｓ
ｐ Ｙ５−ｏＩＩ）がＤＡＣ４３の入力４２に入り、更
に前記ＤＡＣ！４３の出力４４は増）＠器４５を介して
、ｌｌＬｉ１１偏向器４６に接続される。
力（Ｘ、Ｙ’）３８は大領域変換回路４０の人力３９に
入り、大領域変換回路４０の変換出力（Ｘ’、Ｙ’）４
１ｉ（１０５ｘｍ以上と００５μｍ未満の２つのデータ
に分け、その内００５μｍ以りのデータ（Ｘ’Ｌｏｓ
ｐ Ｙ５−ｏＩＩ）がＤＡＣ４３の入力４２に入り、更
に前記ＤＡＣ！４３の出力４４は増）＠器４５を介して
、ｌｌＬｉ１１偏向器４６に接続される。
また前記データ発生装置３７の小領域データ出力（ｘ、
ｙ）４７は小領域変換回路４９の入力４Ｂに入り、小領
域変換回路４９の変換出力（Ｘ’、ｙ’）５０は大領域
変換回路４０の変換出力（Ｘ／、 Ｘ／ ）４１の内の
前記α０５ ｓｍ未満のデータ（Ｘ”、 Ｙ″）５１と
デジタル加算器６２でデジタルの値で加算される。
ｙ）４７は小領域変換回路４９の入力４Ｂに入り、小領
域変換回路４９の変換出力（Ｘ’、ｙ’）５０は大領域
変換回路４０の変換出力（Ｘ／、 Ｘ／ ）４１の内の
前記α０５ ｓｍ未満のデータ（Ｘ”、 Ｙ″）５１と
デジタル加算器６２でデジタルの値で加算される。
そして前記デジタル加算器５２の出力５３ＦｉＤＡ Ｏ
５５ｔ７）入力５４に入り、ＤＡＣ５５（１）出力５６
は増幅器５７金介して静電偏向６５８に接続さｎる０尚
、ｚＺ ｙ／は’ ＝ ｘ′、、ｏｓ ＋ Ｘ“＊
Ｙ’＝ Ｙ′０．０５ ＋ Ｙ“の関係を示す。
５５ｔ７）入力５４に入り、ＤＡＣ５５（１）出力５６
は増幅器５７金介して静電偏向６５８に接続さｎる０尚
、ｚＺ ｙ／は’ ＝ ｘ′、、ｏｓ ＋ Ｘ“＊
Ｙ’＝ Ｙ′０．０５ ＋ Ｙ“の関係を示す。
大領域変換回路４０では（５）、（６）式に示すデータ
の補正を行なう。
の補正を行なう。
Ｘ’ｅ４＋Ｇ、−Ｘ＋Ｈ，”Ｙ＋Ｈ，’Ｘ”Ｙ＋ｖ（Ｘ
、Ｙ）＋Ｏ，（５）Ｙ’ −Ｙ＋Ｇ、 −Ｙ＋Ｒ，−Ｘ
＋Ｈ，−Ｘ −Ｙ＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋Ｏ，（６）（５）、
（６）式に於いて、！’、 Ｙ’は変換後の偏向データ
を示す。
、Ｙ）＋Ｏ，（５）Ｙ’ −Ｙ＋Ｇ、 −Ｙ＋Ｒ，−Ｘ
＋Ｈ，−Ｘ −Ｙ＋ξ（Ｘ、Ｙ）＋Ｏ，（６）（５）、
（６）式に於いて、！’、 Ｙ’は変換後の偏向データ
を示す。
補正さｎた偏向データ即ち・１１． ｙ／の内α０５μ
ｍ以上のデータＸＬｏｓ ｌ Ｍ５．ｏｓはＤＡＣｔ４
３によってアナログの値に変換され、更に増幅器４５に
よって増幅されて、電磁偏向器４６に入る。前記動作に
よって大填域中の小領域の位置が設定される。
ｍ以上のデータＸＬｏｓ ｌ Ｍ５．ｏｓはＤＡＣｔ４
３によってアナログの値に変換され、更に増幅器４５に
よって増幅されて、電磁偏向器４６に入る。前記動作に
よって大填域中の小領域の位置が設定される。
またデータ発生装＃３７より発生した小領域偏１ｇＪデ
ータは小領域変換回路４９に入る。小領域変換回路では
前記（３）、（４）式に示す変換を行なう。前記補正さ
ｎ念を崗向データ、即ちｘ ／、 ｙ／と大領域変換回
路４０で補正さｎた偏向データＸ′、Ｙ′の内の００５
未満のｆ−タｆ、Ｙ“とはデジタル加算器５２で加算さ
ｆｌ、ＤＡＣ５５によって変換され、更に増Ｓ器５７に
よって増幅されて静電偏向器５日へ人力される。
ータは小領域変換回路４９に入る。小領域変換回路では
前記（３）、（４）式に示す変換を行なう。前記補正さ
ｎ念を崗向データ、即ちｘ ／、 ｙ／と大領域変換回
路４０で補正さｎた偏向データＸ′、Ｙ′の内の００５
未満のｆ−タｆ、Ｙ“とはデジタル加算器５２で加算さ
ｆｌ、ＤＡＣ５５によって変換され、更に増Ｓ器５７に
よって増幅されて静電偏向器５日へ人力される。
ＩｇｔＩ記動作は電磁偏向器４６によって大きく電子ビ
ーム金閣向させ、ついで高速で静電偏向させて、大領域
にわたって高速で高精度な電子ビームの偏向補正及び露
光を行うことができ、しかも前記補正値ｘ ′、 ｙ
／とＸ“、Ｙ“とはデジタルの値で加算されている為、
回路はアナログ回路はど複雑になることはなく、安定で
高精度な電子ビームの偏向が行なうことができる。
ーム金閣向させ、ついで高速で静電偏向させて、大領域
にわたって高速で高精度な電子ビームの偏向補正及び露
光を行うことができ、しかも前記補正値ｘ ′、 ｙ
／とＸ“、Ｙ“とはデジタルの値で加算されている為、
回路はアナログ回路はど複雑になることはなく、安定で
高精度な電子ビームの偏向が行なうことができる。
（６） 発明の実施列
本発明を用いることにより電磁偏向方式と静電偏向方式
の二つを用い友従来得られなかった大領域にわたって高
精度な偏向が可能となる電子ビーム偏向装置を得ること
ができる。
の二つを用い友従来得られなかった大領域にわたって高
精度な偏向が可能となる電子ビーム偏向装置を得ること
ができる。
第１図は電子ビーム露光装置金示す図、第２図従来の電
子ビーム露光方法における偏向利御系を示す図、第３図
は本発明による電子ビーム露光方法における偏向制御軍
の実施例を示す図である。 １５．３７・・・・・・データ発生装置、１８．２３．
３３．４３．５５・・・・・・ＤＡＣ，２０・・・・・
・補正変換回路、２７．４６・・・・・・電磁偏向器、
２６．３５゜４５．５７・・・・・・増幅器、３０．４
９・・・・・・小領域変換回路、３６．５８・・・・・
・静電偏向器、４０・・・・・・大領域変換回路、５２
・・・・・・デジタル加算器。 兆１図 晃２図
子ビーム露光方法における偏向利御系を示す図、第３図
は本発明による電子ビーム露光方法における偏向制御軍
の実施例を示す図である。 １５．３７・・・・・・データ発生装置、１８．２３．
３３．４３．５５・・・・・・ＤＡＣ，２０・・・・・
・補正変換回路、２７．４６・・・・・・電磁偏向器、
２６．３５゜４５．５７・・・・・・増幅器、３０．４
９・・・・・・小領域変換回路、３６．５８・・・・・
・静電偏向器、４０・・・・・・大領域変換回路、５２
・・・・・・デジタル加算器。 兆１図 晃２図
Claims (1)
- 比較的大面積を有する第１の領域に対して電子ビーム全
偏向し得る第１のビーム偏向手段と、比較的小面積を有
する第２の領域に対して電子ビームｔ″偏向する＃Ｉ２
のビーム偏向手段とを備え、前ｄ己第１のビーム偏向手
段によって、露光の基準位Ｉｔを設定し、次いで前記基
準位置を基準として前記第２のビーム偏向手段によって
所望の露光処理を行なう方法に於いて、前記第１の偏向
手段における位１１情報の余剰分を前記第２のビーム偏
向手段の制御１１ｇ１ｆ′ｉｖ報にデジタル量として加
算して、かかる第２のビーム偏向手段を制御することを
特徴とする′１子ビーム露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6337882A JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6337882A JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58180024A true JPS58180024A (ja) | 1983-10-21 |
| JPH0328811B2 JPH0328811B2 (ja) | 1991-04-22 |
Family
ID=13227568
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6337882A Granted JPS58180024A (ja) | 1982-04-16 | 1982-04-16 | 電子ビ−ム露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58180024A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017143034A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司 | 画像取得方法及び電子ビーム検査・測長装置 |
-
1982
- 1982-04-16 JP JP6337882A patent/JPS58180024A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017143034A (ja) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 東方晶源微電子科技（北京）有限公司 | 画像取得方法及び電子ビーム検査・測長装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0328811B2 (ja) | 1991-04-22 |
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