JPS58153560A - 溶射皮膜形成方法 - Google Patents
溶射皮膜形成方法Info
- Publication number
- JPS58153560A JPS58153560A JP3667782A JP3667782A JPS58153560A JP S58153560 A JPS58153560 A JP S58153560A JP 3667782 A JP3667782 A JP 3667782A JP 3667782 A JP3667782 A JP 3667782A JP S58153560 A JPS58153560 A JP S58153560A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- melting point
- point material
- melt
- plasma
- spray gun
- Prior art date
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- Pending
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は融点の興なる材料を均一に分散させた皮膜を
溶射によ抄形成する溶射皮膜形成方法に関する。
溶射によ抄形成する溶射皮膜形成方法に関する。
従来無給油で長期間の回転摩擦などに耐える材料として
含有軸受けなどが使用されているが、上記含有軸受けは
材料中に泊を含浸υせたものであるため、高温下では使
用できない０そこで高温下でも使用で禽る耐摩耗性材料
として高融点セラミック中に固体潤滑材を均一に分数さ
せたものが提唱されてｉる。また上記材料を得る手段と
して、高融点のセツミックと低融点の固体潤滑材をパウ
ダ吠で混合し１プラス！溶射する方法−ＩｌｌｌｌＩｌ
ｉＩすれている。しかしこの方法では融点の低％／−ｈ
ｌｉｉ体潤滑材が蒸発してしまうため、十分な耐摩耗性
が得られな−。そζで竜ラミックをプラズマ溶射で−ま
た固体潤滑材を温度の低いガス溶射て同−個所に同時に
溶封する方法が提案されているが、この方法では、プラ
ズマジェットの勢が強Ｖ＆丸め、ガス溶射される固体潤
滑材が押し除けられて均一な溶射皮膜が得られない。こ
れを改曽するためＫは固体潤滑材もプラズマ溶射すれば
よいが、プラズマ溶射ガンは高価なため、２基使用する
ことは設備費が高くなって経済的でな−。
含有軸受けなどが使用されているが、上記含有軸受けは
材料中に泊を含浸υせたものであるため、高温下では使
用できない０そこで高温下でも使用で禽る耐摩耗性材料
として高融点セラミック中に固体潤滑材を均一に分数さ
せたものが提唱されてｉる。また上記材料を得る手段と
して、高融点のセツミックと低融点の固体潤滑材をパウ
ダ吠で混合し１プラス！溶射する方法−ＩｌｌｌｌＩｌ
ｉＩすれている。しかしこの方法では融点の低％／−ｈ
ｌｉｉ体潤滑材が蒸発してしまうため、十分な耐摩耗性
が得られな−。そζで竜ラミックをプラズマ溶射で−ま
た固体潤滑材を温度の低いガス溶射て同−個所に同時に
溶封する方法が提案されているが、この方法では、プラ
ズマジェットの勢が強Ｖ＆丸め、ガス溶射される固体潤
滑材が押し除けられて均一な溶射皮膜が得られない。こ
れを改曽するためＫは固体潤滑材もプラズマ溶射すれば
よいが、プラズマ溶射ガンは高価なため、２基使用する
ことは設備費が高くなって経済的でな−。
この発明はかかる事情に鑑みなされたもので、単一のプ
ラズマ溶射ガンで高融点材料中に低融点材料が均一に分
散する溶射皮膜が得られるようＫした溶射皮膜形成方法
を提供して、高温下でも耐摩耗性の低下しない材料が安
価に得られるようｋしたものである。
ラズマ溶射ガンで高融点材料中に低融点材料が均一に分
散する溶射皮膜が得られるようＫした溶射皮膜形成方法
を提供して、高温下でも耐摩耗性の低下しない材料が安
価に得られるようｋしたものである。
以下この発明方法を図示の一実施例により詳述すると、
図においてｌはプラズマ溶射ガンで、このプラズマ溶射
ガンＩからは高温のプラズマジェット２が皮膜を形成す
べ金材料３に向けて噴射されている。上記プツスマジエ
ツ）２Ｆｉ第２図に示すようにプラズマ溶射ガン１より
噴射された直後がもつとも高温で１材料３に近づくＫつ
れて低温となる温度分布を有する。そこでこの温度分布
を利用して、プラズマ溶射ガン１より噴射された直後の
温度の高いプラズマジェット２中に高融点の材料、例え
ば七う叱ツクをノズル４より投入し、またそれより下流
の温度の低いプラズマジェット２中に低融点の材料、例
えば固体潤滑材をノズル５より投入して、プラズマ溶射
ツ）２により材料３の表面に溶射し、溶射皮膜６を形成
する＠得られた溶射皮膜６は＠３図に示すように高融点
□材・料６ａ中に低融点材料６ｈが均一に分散されたも
のとなる・重た得られた皮膜６を顕微鏡で拡大撮影した
とζろ１１４図に示すように高融点材料（白い部分）中
に低融点材料（黒一部分）が均一に分散されて−ること
がｓｌｌで自た０この写真で使用したセツミックＦｉｃ
ｒ、ｃ、、固体潤滑材はポリ！ Ｘ ｆ Ａ／で、Ｃｒ
５Ｃ，はプラズマ溶射ガン１の先端より５■、ポリエス
テルは同ｌＯ■の点く投入した〇またプラズマ溶射ガン
ＩＫ使用した電流は５００４１使用ガスはＩｒ ＋ ＆
、そして溶射距離はフ５■であった。
図においてｌはプラズマ溶射ガンで、このプラズマ溶射
ガンＩからは高温のプラズマジェット２が皮膜を形成す
べ金材料３に向けて噴射されている。上記プツスマジエ
ツ）２Ｆｉ第２図に示すようにプラズマ溶射ガン１より
噴射された直後がもつとも高温で１材料３に近づくＫつ
れて低温となる温度分布を有する。そこでこの温度分布
を利用して、プラズマ溶射ガン１より噴射された直後の
温度の高いプラズマジェット２中に高融点の材料、例え
ば七う叱ツクをノズル４より投入し、またそれより下流
の温度の低いプラズマジェット２中に低融点の材料、例
えば固体潤滑材をノズル５より投入して、プラズマ溶射
ツ）２により材料３の表面に溶射し、溶射皮膜６を形成
する＠得られた溶射皮膜６は＠３図に示すように高融点
□材・料６ａ中に低融点材料６ｈが均一に分散されたも
のとなる・重た得られた皮膜６を顕微鏡で拡大撮影した
とζろ１１４図に示すように高融点材料（白い部分）中
に低融点材料（黒一部分）が均一に分散されて−ること
がｓｌｌで自た０この写真で使用したセツミックＦｉｃ
ｒ、ｃ、、固体潤滑材はポリ！ Ｘ ｆ Ａ／で、Ｃｒ
５Ｃ，はプラズマ溶射ガン１の先端より５■、ポリエス
テルは同ｌＯ■の点く投入した〇またプラズマ溶射ガン
ＩＫ使用した電流は５００４１使用ガスはＩｒ ＋ ＆
、そして溶射距離はフ５■であった。
さらに比較のため、高融点材料及び低融点材料をパウダ
状に混合してプラズマ溶射したことにより得られた皮膜
の顕微鏡写真を１１５図に１そして高融点材料をプラズ
マ溶射、低融点材料をガス溶射したことにより得られた
皮膜の顕微鏡写真を第６図に夫々示す。何れも倍率はＸ
１２０である。
状に混合してプラズマ溶射したことにより得られた皮膜
の顕微鏡写真を１１５図に１そして高融点材料をプラズ
マ溶射、低融点材料をガス溶射したことにより得られた
皮膜の顕微鏡写真を第６図に夫々示す。何れも倍率はＸ
１２０である。
この発明方法は以上詳述したようにプラス！：：。
溶射ガンより噴出畜れるプラズマジェットの温度分数に
応じて高融点材料を高温部に１そして低融点材料を低温
部に夫々投入してプラズマ溶射するようにしたことから
一単一のプラズマ溶射ガンで高融点材料中に低融点材料
が均一に分散した溶射皮ｌＩが容易く得られるようにな
る０また得られた皮膜は高温下でも耐摩耗性が低下しな
いため、高温下で使用する軸受けや給油ので龜ない個所
に使用する軸受けなどに利用で自ると共に１単一のプラ
ズマ溶射ガンで形成可能なことから、少ない設備費で容
易に実線すること奄できる。
応じて高融点材料を高温部に１そして低融点材料を低温
部に夫々投入してプラズマ溶射するようにしたことから
一単一のプラズマ溶射ガンで高融点材料中に低融点材料
が均一に分散した溶射皮ｌＩが容易く得られるようにな
る０また得られた皮膜は高温下でも耐摩耗性が低下しな
いため、高温下で使用する軸受けや給油ので龜ない個所
に使用する軸受けなどに利用で自ると共に１単一のプラ
ズマ溶射ガンで形成可能なことから、少ない設備費で容
易に実線すること奄できる。
図面はこの発明の一実施例を示し、第１図はこの方法を
実施するプラズマ溶射ガン付近、の概略図、第２図はプ
ラズマジェットの温度分布を示す説明図、第３図は得ら
れた皮膜の拡大断面図、第４図は同顕微鏡写真、第５図
、＃１Ｉ６ｆＩ！Ｊは従来の方法で得られた皮膜の顕微
鏡写真である。 １は溶射ガンＳ２はプツズマジエツ）、６は溶射皮膜。 第１図 １Ｔ２ｖ？１ 笥３図 手続補正書（方式） 昭和 ５７年 ７月 ２日 特許庁長官基 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 特願昭５７−０３６６７７号２、発
明の名称 溶射皮膜形成方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区赤坂２丁目３番６号名称 （１２３
）株式会社／１°・松製作所代表者 河 合 良
− 昭和５７年６月１１日（発送日昭和５７年６月ｎ日）６
、補正の対象 明細書 ７補正の内容 手続補正書（自発） 昭和 ５７年１２月２３日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 特願昭５７− ０３６６７７号２、
発明の名称 溶射皮膜形成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区赤坂２丁目３番６号名称 （１２３
）株式会社小松製作所 代表者 河 合 良 − 自発補正 ６補正の対象 明細書 ７補正の内容 （１） 願書添付の明細書中篇１１６行目及び菖１７
行目の「含有軸受け」を「含油軸受け」と補正し、同頁
菖１９行目の「・・・使用で自る」の後Ｋ「無潤滑」を
加入する。 （２） 同明細書中第２頁第１０行目の「・・・勢が
・・・」を「・・・勢いが・・・」と補正し、同頁２０
行目の「でも」の後Ｋ「無潤滑油かつ」を加入する。 （３） 同明細書中１１４頁＄１１９行目の「分散に
応じて・・・」を「分布に応じて」と補正する。
実施するプラズマ溶射ガン付近、の概略図、第２図はプ
ラズマジェットの温度分布を示す説明図、第３図は得ら
れた皮膜の拡大断面図、第４図は同顕微鏡写真、第５図
、＃１Ｉ６ｆＩ！Ｊは従来の方法で得られた皮膜の顕微
鏡写真である。 １は溶射ガンＳ２はプツズマジエツ）、６は溶射皮膜。 第１図 １Ｔ２ｖ？１ 笥３図 手続補正書（方式） 昭和 ５７年 ７月 ２日 特許庁長官基 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 特願昭５７−０３６６７７号２、発
明の名称 溶射皮膜形成方法 ３ 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区赤坂２丁目３番６号名称 （１２３
）株式会社／１°・松製作所代表者 河 合 良
− 昭和５７年６月１１日（発送日昭和５７年６月ｎ日）６
、補正の対象 明細書 ７補正の内容 手続補正書（自発） 昭和 ５７年１２月２３日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 １、事件の表示 特願昭５７− ０３６６７７号２、
発明の名称 溶射皮膜形成方法 ３、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都港区赤坂２丁目３番６号名称 （１２３
）株式会社小松製作所 代表者 河 合 良 − 自発補正 ６補正の対象 明細書 ７補正の内容 （１） 願書添付の明細書中篇１１６行目及び菖１７
行目の「含有軸受け」を「含油軸受け」と補正し、同頁
菖１９行目の「・・・使用で自る」の後Ｋ「無潤滑」を
加入する。 （２） 同明細書中第２頁第１０行目の「・・・勢が
・・・」を「・・・勢いが・・・」と補正し、同頁２０
行目の「でも」の後Ｋ「無潤滑油かつ」を加入する。 （３） 同明細書中１１４頁＄１１９行目の「分散に
応じて・・・」を「分布に応じて」と補正する。
Claims (1)
- プラズマ溶射ガンＩより噴射されるプラズマジェット２
の温度分布に応じて高温側に高融点材料を、宜た低温側
に低融点材料を投入してプラズマ溶射を行うことにより
、高融点材料中に均一に低融点材料が分布された溶射皮
膜６を得ることを特徴とする溶射皮膜形成方法Ｏ
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3667782A JPS58153560A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 溶射皮膜形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3667782A JPS58153560A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 溶射皮膜形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58153560A true JPS58153560A (ja) | 1983-09-12 |
Family
ID=12476480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3667782A Pending JPS58153560A (ja) | 1982-03-10 | 1982-03-10 | 溶射皮膜形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58153560A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7438979B2 (en) | 2003-05-26 | 2008-10-21 | Komatsu Ltd. | Thermal spray membrane contact material, contact member and contact part, and apparatuses to which they are applied |
| CN109415795A (zh) * | 2016-06-15 | 2019-03-01 | 于利奇研究中心有限公司 | 自修复热障层及其制造方法 |
-
1982
- 1982-03-10 JP JP3667782A patent/JPS58153560A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7438979B2 (en) | 2003-05-26 | 2008-10-21 | Komatsu Ltd. | Thermal spray membrane contact material, contact member and contact part, and apparatuses to which they are applied |
| US7648773B2 (en) | 2003-05-26 | 2010-01-19 | Komatsu Ltd. | Thermal spray membrane contact material, contact member and contact part, and apparatuses to which they are applied |
| CN109415795A (zh) * | 2016-06-15 | 2019-03-01 | 于利奇研究中心有限公司 | 自修复热障层及其制造方法 |
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