JPS581500B2 - シヤドウマスク - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、シャドウマスクの特に有効面の変形を防止す
るように改良したものである。

従来のシャドウマスク１は第１図ａ及び第１図ｂに示す
ように矩形状の有効面２に長方形状の多数の透孔３が設
けられている。

この長方形状の透孔３は従来の丸孔に比して電子ビーム
透過率が高いので明るい画面が得られるという特徴を持
っている。

しかし一方ではその機械的強度が弱いので有効面２が第
２図に示すようにその一部が変形を起すという不都合が
起る。

この現象は特に有効面の周辺にのみ発生する。

この原因を調べてみると長形状の透孔の長手方向に配列
された透孔３と透孔３との間のブリッジ４の機械的強度
が極端に弱いためである。

従ってこの部分がネックとなって変形が起る。

さてこのシャドウマスクと組合される螢光面は第３図に
示すようにこのシャドウマスクの長手力向に連続して形
成されたストライプ状の螢光体５Ｒ，５Ｇ，５Ｂによる
螢光面６が形成される。

この螢光面６の形成は当然組合される上記シャドウマス
ク１によって形成されるのである。

そこで次の点を考慮しなければならない。

即ち、上記ブリッジ４の幅を広くすると、螢光面の形成
の際、このブリッジ部分が周知のように露光の際に影と
なってしまって第４図に示すようにそのストライプ状螢
光体５Ｒが部分的にくびれ７を生じて正常なストライプ
が形成されなくなる。

そのため電子ビームのランデイング等に対して好ましく
ない結果を招く。

したがって、上記ブリッジ４は螢光面の形成或いは電子
ビームの透過率を向上させて明るい画面を得るため等に
対しては不用とするか又は極めて狭くすることが好適で
ある。

しかし、上記シャドウマスクの有効面は、螢光面の形成
されているパネル面に合致させるために所定曲率を持っ
て湾曲される。

これは通常プレスによって成形されるが、その際ブリッ
ジ変形いわゆる伸びが生ずる。

特に機械的強度を必要とする有効面の周面が中央部に比
べて変形が太きい。

これは透孔を有する有効部と透孔のない非有効部との機
械的強度の差による。

なお、マスクの機械的強度をあげるにはマスクを厚くす
ることも考えられるが、マスクの中央部と周辺部の相対
的強度はそのままであり、上記変形を防市することには
ならない。

本発明は、以上の点から一方では強度を維持するために
ブリッジの幅を広くする必要があり、他方では螢光面の
形成等によるそのブリッジ４の幅を狭くする必要と夫々
逆の関係となってそのブリッジ４の寸法が極めて重要な
存在となって来る。

本発明者等はこの点を重視して改良に改良を重ねた結果
、強度及び螢光面の形成を共に両立させることに成功す
ることができたものである。

則ち、有効面の中央部は出来るだけ上記ブリッジの幅を
狭くして電子ビームの透過率及び螢光面に形成されるス
トライプ螢光体に充分に寄与するようにし、有効面の周
辺に機械的強度を充分にするためブリッジの幅を上記中
央部に対して広く形成する。

つまり有効面の周辺部のブリッジ断面積を中央部より大
きくし、中央部より機械的強度を大きくするものである
。

しかしこの広さは螢光面のストライプが上記した“くび
れ”の現出が出来ない程度に広くすることが重要であり
、この幅の最大限を０．２５ｍｍを限度に形成したもの
である。

逆に中央部のブリッジ幅はプレス時の変形あるいは完成
後の変形防止のため０．０５ｍｍを最小限としたもので
ある。

更に、もう一つの方法として、上記最大幅を維持させて
ブリッジの数を増大することによって有効面周辺におけ
るブリッジの形成密度を増大し、実質的に機械的強度を
強くするようにしたものである。

ブリッジが、マスク成形時のブリッジ部伸び量が有効面
全面にわたって容認できるもので、十分なる機械的強度
を有するとともに画面の明るさ、螢光面のムラが良好な
範囲であれば透孔の大きさ、ストライプと直角方向の透
孔ピツチは従来と同様で良い。

すなわち、本願はマスク有効面の中央部と周辺部の強度
を相対的に変える（周辺部を強くする）ためにブリッジ
幅を変えるものであり、ここで透孔の大きさ、ストライ
プと直角方向の透孔ピツチはブリッジ方向の機械的強度
についての重要なパラメーターとはならない。

次に、本発明の実施例を第５図を参照して説明する。

厚さ約０．１８ｍｍの軟鉄板より成るシャドウマスク１
０の有効面１１の周辺部１２においては長方形状の各電
子ビーム透過孔１３の長手方向（Ｙ軸方向）の間に並ん
だ各ブリッジ１４の幅Ｗは約０．２５ｍｍに形成し、こ
れから有効面中央部のＹ軸線に近づくにしたがってＷ１
は約０． １ ８ ｍｍ、Ｗ２は約０．１５ｍｍそして
Ｗ３は０．０７ｍｍに形成し、電子ビーム透過孔１３の
大きさは全て一定に形成してある。

従って、透孔のビッチＰが周辺と中央で異る。

このようにして形成された上記シャドウヤスク１０の周
辺は、ブリッジ１４の幅を広くしてその機械的強度を増
大することができ、この部分の変形を防止しストライプ
螢光体にくびれのない螢光面を形成することを可能とし
た。

また、第６図は本発明の他の実施例を示すもので、有効
面１１の周辺部における電子ビームの透過孔１３のピツ
チＰと、中央部の透過孔１３のビッチＰとは一定である
が、透過孔１３の長さが中央部の透孔に対して周辺部の
透孔の長さを短かくしてありこれによってブリッジの幅
を周辺で広くＷ中央で狭くｖ形成したものである。

本発明は上記のように構成したもので、シャドウマスク
１０の周辺部における機械的強度の低下によるマスクの
有効面の変形を防止することができ、しかも周辺部での
電子ビームの透過量の減小を最小限にすることができて
螢光面での有効画面周辺の暗部を極力押えることができ
た。

そして更にストライブ螢光光の形状への影響もほとんど
なく良好なストライプ螢光面を形成できるという効果が
ある。

以上のように、本発明においてはシャドウマスクを湾曲
成形する際に起る上記有効面の変形が防正されたもので
、これが受像管内に装着されて螢光面に対向された場合
有効面全体にわたって管のパネル面に対して一定の間隔
（約１０％）に保持されるので、このシャドウマスクの
透孔と螢光体との相対的関係が正確に維持されるので動
作中の温度変化に対しても有利であり、スミランデイン
グ等による色ずれ現象がほとんどなくなったという種々
の改良効果がある。

々おブリッジ１４の幅Ｗを０．２５ｍｍ以上にするとス
トライプ螢光体被膜の形状が第４図に示すように変形し
てしまって発光輝度むらを起したりするので好ましくな
い。

従って、上記周辺部におけるブリッジ１４の幅Ｗは約０
．２５％乃至０．１８％程度がよく、中央部においては
０．１２乃至０．０５％程度が機械的強度、ストライプ
螢光体の形成及び発光輝度の低下防止を共に満足できる
値であることが判っている。

【図面の簡単な説明】

第１図ａは従来のシャドウマスクの斜視図、第１図ｂは
その一部の拡大斜視図、第２図は第１図のシャドウマス
クの変形状態の一部を示す断面図第３図及び第４図は本
発明を説明するためのシャドウマスクと螢光面との関係
を説明するための断面図及び断面斜視図、第５図及び第
６図は本発明シャドウマスクの一部の正面図である。 １０・・・・・・シャドウマスク、１１・・・・・・有
効面、１２・・・・・・周辺部、１３・・・・・・透過
孔、１４・・・・・・ブリッジ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 長形状の透孔を有し、との透孔の長手方向の長さが
   有効面にわたって一定でその中央部のピッチより周辺部
   のピッチが大きく、長手方向の透孔間の最大間隔が０．
   ２ ５ ｍｍ、最小間隔が０．０５ｍｍであることを
   特徴とするシャドウマスク。 ２ 長形状の透孔を有し、との透孔のピッチが有効画面
   全面にわたって一定でその長手方向の透孔間々隔が有効
   面の中央で狭く周辺部で広くなるように順次変化され透
   孔間の最大間隔が０．２５ｍｍ、最小間隔が０．０５ｍ
   ｍであることを特徴とするシャドウマスク。