JPS5814977Y2 - 湿潤表面を持つデミスタ− - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案はジグザグプレート型デミスタ−（ｄｅｍｉ −
５ｔｅｒ ）の改良に関するものであって、残留同伴粒
子がデミスタ−プレートの人口部分で蓄積されるのを防
止するデ□スターに係る。

フライアッシュ含有煙道ガス又は粒子を伴った他端のガ
ス流をスクラッピングする場合、スクラッピング塔の出
口と接続される衝突型デミスタ−領域の人口部分では閉
塞がしばしば生起する。

従って、前段のスクラッピング工程で除去されなかった
粒子の析出（堆積）を防止するデミスタ−を設けること
が望渣しい訳である。

デ□スターとしては様々なタイプが知られている。

その一つは網を多層に設けたものであって、他の一つは
様々の形状のブレードを放射状に配置して同伴された水
分と液滴とを遠心分離するものである。

さらに會た別のデ□スター装置は表面積が大きい波形状
又はジグザグ状のプレートを互違いに又は狭い一定間隔
で配列し、しかもそのプレートをガス流通路を横断する
状態に設置してガス流に狭い曲折した複数個の通路を与
えたものである。

隣接させて設けた上記の如き屈折プレートはシェブロン
（ｃｈｅｖｏｃｎ）バッキング又はシェブロンプレート
とも呼ばれるが、＝般には衝突型分離器として分類され
る。

ところで、隣接した屈折プレートを用いるミスト排除装
置は粒子の析出が起りやすく、殊にその下部側、換言す
ればガス流に対する上流側で粒子の析出が生ずる。

そして粒子の析出はプレート間の狭いガス通路を塞いで
し筐５結果となる。

本考案の目的は少なくともプレートの下部表面を湿潤さ
せながら洗浄して粒子の堆積を防止する液噴霧方式を提
供することにある。

すなわち、本考案は接触−スクラッピング塔と、塔の下
部に位置する複数個の気−液接触部材と、塔の上部に位
置するガス流通路と、複数個の３路ジグザグプレ一ト部
材が水平方向に間隔をおいて垂直に配列されたデミスタ
−領域を前記のガス流通路内に少なくとも２列上下に間
隔をち・いて配置してなるデミスタ−領域と、下部デミ
スタ−領域の上に位置して当該領域に液滴を下向きに案
内する液ヘツダーと、下部デミスタ−領域の下に位置し
て当該領域に液滴を上向きに案内する液ヘツダーと、下
部デミスタ−領域の下方に位置するデフレクタ−プレー
トと、このデフレクタ−プレートと前記の気−液接触部
材との間に位置するトラップ−アウトトレイと、このト
ラップ−アウトトレイ上に集められた液を前記の液ヘソ
グーの各々に循環する装置とからなり、前記の下部デ□
スター領域の下部表面を液で上下から洗浄して当該表面
から粒子を除去できるようにした衝突型デ□スターを提
供する。

ジグザグプレートには適当な金属板、プラスチック又は
プレキシグラス（Ｐｌｅｘｉｇｌａｓ） 乃至ガラスフ
ァイバーなどを使用することができるが、本考案ではそ
の材質が特定なものに限定されることはない。

屈折プレートが位置する領域の下で液力−テンを形成さ
せるために液噴霧を行なうミスト除去方式にあっては、
デフレクタ−（変流）部材とトラップ−アウトトレイを
互違いに設けたその両者間で水フィルムを降下させれば
、気−液接触帯域から出るガス流をその水フィルムでさ
らに洗浄することができる。

ジグザグプレートに対して噴霧する水又は他の洗液の量
は、液滴の乱流が生じないよう少なくともプレート下部
を充分に湿らすことができるよう調節することが好渣し
い。

この場合、液滴の乱流が生起すると、液滴がプレート間
を通って上に運ばれるため望１しくない。

装置によっては下部デミスタ−プレートに水を常に噴霧
しておく必要はない。

しかし、粒子の堆積によってプレート間のガス通路が閉
塞される場合は、プレートに噴霧を連続して行ない、プ
レート下部を常時湿潤させることが好ましい。

間欠的にプレートを湿潤させる場合には、タイマー又は
他の自動調節装置によって洗浄の噴霧を周期的に行なう
ことが可能である。

進んで添付図面にそって本考案をさらに具体的に説明す
る。

第１図には近接して設けられた複数個のジグザグプレー
ト１が示されており１各プレートは３つの平板部を有し
ているため、３通路を持つジグザグプレートである。

各プレートはガス流に対して曲折した狭い通路を提供し
て同伴ミストがプレートに衝突するよう、互に比較的狭
い間隔で配置される。

パイプ２は一定間隔で配置されたノズル３に洗浄液を供
給し、ノズルはプレート１の下部に洗浄を噴霧する。

この場合、ノズルからの噴霧がチャンバーの水平面全体
をカバーし、各ジグザグプレートの少なくとも下部屈折
プレートを充分に湿らすようパイプ２とノズル３は配置
される。

プレートの下部に噴霧される洗浄の量はガスの流速と、
採用したジグザグプレートのタイプとに依存する。

洗液はプレートの下部からその液滴が滴下するほどプレ
ート下部を完全に湿らさなければならない。

隣接するプレート間で液滴が渦巻ぐ現像は液滴の上方移
行を許すので、この現象が生起しないようにすることが
望ましい。

デスミスタ−ブレードのタイプ及びその設置間隔はいろ
いろに選択できるため、単位横断面積当りの噴霧量は可
変量である。

成る実験では、ガスが流速的２８ ｍ／ｓ で流れてい
る場合、ジグザグプレートの下部を充分に湿らし、隣接
プレート間での液滴の乱れを僅少にするためには、洗液
量を横断面積平方メートル当り毎分約２２リツトルとす
べきであった。

この液量はほぼ上限値である。

第２図に於て、気−液接触チャンバー４は多孔板６によ
って区画される複数個の気−液接触段５を搾している。

ガスは下部の人口γから導入されて接触段５を上昇し、
出口１０の下で一定の間隔で配置されたデミスタ−領域
８及び９に送られる。

水又は他の洗液はライン１１から入ロアに加えられ、ガ
ス流を予備飽和させる。

ライン１２内の液体は複数個の噴霧器１３に運ばれ、接
触段５内でガスと向流的に接触してこれをスクラッピン
グする。

本考案では各種の接触塔、スクラッピング塔などが使用
可能であるので、接触段のタイプは特定なものに限定さ
れることはない。

液体は下部の貯留領域１４に収集される。

粒子は出口１５から排出させることができ、液体はライ
ン１６、ポンプ１７、ライン１２及びパルプ１８を経て
循環される。

デミスタ−系は噴霧ノズル２０を有する上部ヘッダー１
９と、噴霧ノズル２３を有する下部ヘッダー２２を必要
とする。

これらのヘッダーはジグザグプレート８の上と下に位置
する。

従ってプレート８には洗液が上下両方向から噴霧される
。

デフレクタ−プレー゛＋、？４とトラップ−アウトトレ
イ２５の機能は第３図との関係で後述する。

トラップ−アウトトレイ２５の端部に沿う樋２６はライ
ン２Ｔから液体を取り出してポンプ２８に送り再循環す
べくライン３０及びヘッダー１９，２２に送る。

ライン１１と調節バルブ３１は、導入ガスを予備飽和す
るためにガス人ロアをライン３０と接続させている。

メイク−アップ洗液はライン３２及びバルブ３３から収
集樋２６を経て加えられる。

第３図は最下位のデ□スタープレート８の下で互違いに
配置されたデフレクタ−プレート２４とトラップ−アウ
トトレイ２５を示すものであってここではデミスタ−８
の下部湿潤部から流下した液体が、一定の間隔で配置さ
れたデフレクタ−上を流れている状態が示されている。

デフレクタ−上を流れた液体はプレート２４の端部に沿
って液力−テンを形成するが、上昇ガスはこの液力−テ
ンを通過しなげればならない。

液力−テンと互違いに配置されたトラップ−アウトトレ
イ２５とプレート２４とは付加的な衝突面をガスに提供
する６その衝突面には粒子が析出することがあるので、
プレート２４及びトレイ２５の下面を湿らすことが好會
しい。

第３図ではヘッダー３５に噴霧器３６を設置してプレー
ト２４及びトレイ２５の下面を湿らし、この部分への粒
子を付着を防止している。

タイマーを設置して接触チャンバーの様々な高さレベル
で各種のノズルを連続的に操作することも可能である。

噴霧液体が表面に直接衝突する場合には、デミスタ−操
作のある期間だけ表面を湿潤させることができる。

また噴霧液体が表面に直接衝突しない場合には、噴霧を
連続的に行なって粒子の析出とその堆積を阻止すること
が得策である。

実験的操作に於てフライアッシュ粒子を同伴する発電所
煙道ガスをスクラッピングする場合、デ□スター領域の
最下部分の一部を下から間欠的に噴霧し、他の部分を連
続的に噴霧すると、１５０時間後に於ては連続噴霧を行
なった部分は全く清浄であったのに対し、間欠的にしか
噴霧しなかった部分はかなりの固体堆積が認められた。

従って粒子を同伴するガス流を処理する場合は何れの場
合でも常に表面を湿潤状態に保持しておくことが好まし
い。

液滴がデミスタ−ブレードを通って上昇してしまうとい
う好ましくない現象を生起させるところの乱流の発生を
抑制しつつデミスタ−の下部プレート部を完全に湿潤さ
せることは望ましい。

ジグザグ状のデミスタ−プレートを湿潤させる操作のタ
イプを決定するために、パイロットプラントでプレート
表面の湿潤テストを行なって最適液流量を決定した。

テストに用いたジグザグプレートの大きさと間隔を第４
図に示す。

第４図では丁度二つのプレートが示されているが、各デ
□スター領域では複数個のジグザグプレートが設置され
ることは勿論である。

パイロットプラントのスクラッピング塔上に位置するデ
ミスタ−フレードで湿潤テストを行ない、そこで得られ
たデータ乃至は情報をここに記すと次の通りである。

使用したスクラッピング塔の横断面積は約９３０ ｃｒ
Ａであった。

処理ガス流は塔内を上向きに流れながら軽量接触素子の
存在下に無秩序に降下する噴霧液体と向流的に接触した
。

この場合、前記の接触素子は塔を横断する多孔板によっ
て区画された１個又はそれ以上の接触段間に収納されて
いる。

尚、このスクラッピング塔は公知の乱流型接触吸収塔を
小型化したものである。

ガス流速は約２．８ｍ／ｓであった。

塔の上部にはジグザグ状のデミスタ−プレートの層を一
定間隔で水平に２層設けた。

これらのプレートは塔頂部の断面拡張部分に設置される
ものであって、その横断面積は約１２・５０ｃ１ｒＬ２
であった。

前記のデ□スターは第４図に示す如くジグザグプレート
であって、ガラスファイバー製である。

各ジグザグプレートは三つのセクションからなり、各セ
クションの長さは７−３ ｃｒｎ （２８インチ）であ
る。

二つのセクショ／が接続する角度は９００であり、平行
プレート間の距離は４．４ｃｒｒＬ（１３−インチ）で
ある。

！たプレートの層間の水平距離は３．２に７７１（１圭
インチ）である。

二つのデミスタ−領域のうち、下側のデミスタ−領域の
下に位置する完全円錐型ジェットノズルには、濾過水が
一定圧で供給され、デミスタ−プレートの下側面に噴霧
される。

・水の量を変化させて各テストを行ない、テスト期間中
スクラバーのプレキング２ス窓を通して肉眼観察した。

このテストに於て、噴霧水はジグザグブレード群の下部
から入って１ず第４図の表面１に衝突するが、噴霧水の
一部はガス流に伴われた後表面３′に衝突する。

上向きに流れるガス流は表面１上の水フィルムを剥り取
ってコーナー／ ４／での水フィルムの厚さを増大さ
せることが認められた。

また表面３′に衝突した水は集１つて細流となり、表面
２′を流下することが認められ、さらにコーナー′−４
′からは水滴が駆送されてその液滴が表面３’、４’及
び５′に衝突することが認められた。

表面２′及び４′でも表面１′及び３′から落下する水
滴が集められる。

表面を湿潤させ、乱流を与える上記の液流量はガス流速
及びジグザグプレートの大きさと間隔を上記のテストの
如く設定した場合での流量であることは勿論である。

従って衝突板の大きさ乃至は形状が変わり、ガスの流速
が変われば、デミスタ−の下部表面を十二分に湿潤させ
、しかもデミスタ−プレート間で望１しくない液滴の乱
流を防止するには液流量を改めて設定する要がある。

第２及び第３図の如く噴霧装置とデミスタ−を配置した
実寸大の擬似パイロットプラントを使用した別の操業テ
ストでは、デミスタ−の横断面積平方フィート当り毎分
０．１ガロンより僅かに少ない液量でデミスタ−プレー
トを清浄に保持できることが認められた。

この液量は、第３図のデフレクタ−プレート２４及びト
ラップ−アウトトレイ２５を設置せずにデミスタ−下部
を噴霧し湿潤する場合の液量の１／２ より多少中ない
量である。

洗液としては一般に水が使用されるが、僅かにアルカリ
性であるか、あるいは僅かに酸性である液体も洗液とし
て使用可能である。

衝突板は必ずしも正確にジグザグ状であることを要しな
い。

第５図は衝突板の別態様を示すものであって、ここでは
各プレートが波形状に設計されており、衝突面は傾斜し
ている。

こうしたプレートもｌた曲折したガス通路を提供するこ
とができ、ミスト含有流と接触すると衝突面を与えるも
のである。

次の本考案の実施態様を示す。

、１、）ラップ−アウトトレイの下側にヘソグーと噴霧
器を設置して液をデフレクタ−プレートとトラップ−ア
ウトトレイの下面に噴霧することによって湿潤衝突面を
さらに提供した実用新案登録請求の範囲記載のデミスタ
−装置。

２、上述したところと実質的に同一のデミスタ−装置。

【図面の簡単な説明】

第１図はミスト排除装置のジグザグプレートに洗液が噴
霧されている状態を示す説明図である。 第２図は下部デミスタ−領域の粒子の堆積を阻止するた
めに下部デミスタ−領域を洗浄し、その領域の下位で洗
浄を収集してそれを噴霧装置乃至はガス人口に循環させ
るフロ一様式を示す説明図である。 第３図は第２図の３−３線に於ける拡大断面図であって
、一定の間隔で配置されたデフレクタ−プレート（変流
板）と、噴霧液を収集して上昇ガス流を洗浄するための
液力−テンを提供するトラップアウトプレートとを示す
ものである。 第４図はジグザグ状のプレートデミスタ−の隣接関係と
、プレート間の間隔を示す説明図である。 第５図は波形の衝突分離板を示す説明図である。 １・・・ジグザグプレート、２・・・パイプ、３・・・
ノズル、４・・・気−液接触チャンバー、５・・・気−
液接触段、６・・・多孔板、７・・・ガス人口、８，９
・・・デミスタ−領域、１０・・・ガス出口、１１，１
２・・・液ライン、１３・・・噴霧器、１４・・・貯液
領域、１５・・・粒子出口、１６・・・液ライン、１γ
・・・ポンプ、１８・・・バルブ、１９・・・上部ヘッ
ダー、２０・・・噴霧ノズル、２１・・・液ライン、２
２・・・下部ヘッダー ２３・・・噴霧ノズル、２４・
・・デフレクタ−プレート、２５・・・トラップ−アウ
トトレイ、２６・・・樋、２Ｔ・・・液ライン、２Ｂ・
・・ポンプ、２９，３０・−・液ライン、３１・・・バ
ルブ、３２・・・メイクアップ液ライン、３３・・・バ
ルブ、３４・・・液力−テン、３５・・・ヘッダー３６
・・・噴霧器。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 接触−スクラッピング塔と、塔の下部に位置する複数個
   の気−液接触部材と、塔の上部に位置するガス流通路と
   、複数個の３路ジグザグプレ一ト部材が水平方向に間隔
   をおいて垂直に配列されたデ□スター領域を前記のガス
   流通路内に少なくとも２列上下に間隔をおいて配置して
   なるデ□スター領域と、下部デミスタ−領域の上に位置
   して当該領域に液滴を下向きに案内する液ヘツダーと、
   下部デミスタ−領域の下に位置して当該領域に液滴を上
   向きに案内する液ヘツダーと、下部デミスタ−領域の下
   方に位置するデフレクタ−プレートと、このデフレクタ
   −プレートと前記の気−液接触部材との間に位置するト
   ラップ−アウトトレイと、このトラップ−アウトトレイ
   上に集められた液を前記の液ヘツダーの各々に循環する
   装置とからなり、前記の下部デミスタ−領域の下部表面
   を液で上下から洗浄して当該表面から粒子を除去できる
   ようにした衝突型デミスタ−装置。