JPS58143827A - 排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置 - Google Patents

排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置

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JPS58143827A
JPS58143827A JP57024539A JP2453982A JPS58143827A JP S58143827 A JPS58143827 A JP S58143827A JP 57024539 A JP57024539 A JP 57024539A JP 2453982 A JP2453982 A JP 2453982A JP S58143827 A JPS58143827 A JP S58143827A
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JP
Japan
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gas
catalyst
exhaust gas
flow
stream
Prior art date
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Pending
Application number
JP57024539A
Other languages
English (en)
Inventor
Michiyasu Honda
本田 充康
Masao Hino
日野 正夫
Toru Seto
徹 瀬戸
Toshio Suzuki
俊雄 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP57024539A priority Critical patent/JPS58143827A/ja
Publication of JPS58143827A publication Critical patent/JPS58143827A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/008Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction
    • B01J8/0085Details of the reactor or of the particulate material; Processes to increase or to retard the rate of reaction promoting uninterrupted fluid flow, e.g. by filtering out particles in front of the catalyst layer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00805Details of the particulate material
    • B01J2208/00814Details of the particulate material the particulate material being provides in prefilled containers

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
  • Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、石炭焚ボイラ、ごみ焼却炉、製鉄用焼結設備
、その他燃焼装置等に[1設はれるダーティ排ガスの脱
硝あるいは脱硝および脱硫の同時処理を行う竪型のガス
並行流式触媒(格子状、蜂の巣状等のガス通過孔を有す
る。)を用いた排ガス浄化方法、ならびに該方法の実施
に用いられる排ガス浄化装置に関するものである。
従来の排ガス浄化装置において、ダーティ排ガスつまり
付着性又は粘着性の強いダストナ含む排ガスを処理する
場合における排ガス浄化用の並行流式触媒反応式装置に
は、該触媒のガス入1]側端而およびガス通過孔の入口
は近にダストが1=I着、堆積し、ガス通過孔が次第に
狭小化して遂にその一部が閉塞状態になる難点がある。
ダストによる前記ガス通過孔の狭小又は閉塞が生じると
、圧損が上昇し然も脱硝性能あるいは脱硝・脱備、性能
が次第に低下(−で運転不能になる。
しかしながら、現在では前記の難点を解決する一手段と
して、除煤装置即ちスーツブロー装置が備えられている
。該装置は触媒層のガス入口側又はガス出口側よりガス
体を噴射させるための、抜数のノズルな有するチューブ
を前記反応槽内に設置し、反応槽外より一定圧力にて空
気又は蒸気を噴射させて前記の付着ダストを除去するよ
うにしており、この手段によればダス) 1=J着の除
去は略確実に実現できるが、反応槽内の処理ガス量が膨
大であるため必然的に付着ダスト量も多く、前記スーツ
ノロ−装置を使用t7て賢時に付着ダストを除去すると
相当針のダストが煙突から排出でれて二次公害を惹起す
る恐わがあって、七の二次公害発生の防止手段を要する
また、従来の排ガス浄化用の並行流式触媒を用いた反応
装置においては、触媒におけるガス通過孔の全面に刊ガ
スを略均等に流し、しかもガスの圧損を少くするために
触媒から相当離した上流側に目の荒いガス整流板を設け
ているが、装置構造が複雑になる欠点がある。
通常、ダストが付着しやすいやは、ダストの性能即ち七
〇け着註、粘着性の強い場合、ガス流速が遅い場合、あ
るいはガス流の乱れが少ない場合などである。
本発明は、従来の並行流式触媒を用いて排ガスを脱硝あ
るいは脱硝・脱硫する場合における前記したような欠点
を解消するために開発したものであって、並行流式触媒
のガス入口部におけるガス流れに意識的に乱れを発生さ
せて、該触媒のガス入口側にダストな酊着t、難い状態
にする方法を提案するにあり、また、その方法を実施す
るためにガス流乱し板を設置した装置を供する点にあっ
て、その排ガス浄化方法は、層流をなして反応槽内を流
れる排ガスを前記反応槽内の略全面にわたって略均等に
攪乱でせたのち、その攪乱流を直ちに並行流式触媒の端
面に当ててそのガス通過孔内に流入せしめ、前記並行流
式触媒のガス通過孔内において整流せしめて接触浄化す
る点に特徴を有し、その排ガス浄化装置は、格子状、蜂
の果状等に配設ざねだ多数のガス通過孔を有し反応槽内
に配設された並行流式触媒の排気ガス入口側端面に近接
させて、前記並行流式触媒のガス通過孔と同等以上の太
きさよりなる多数の開口が全面に略均等配置はれ排ガス
の層流を攪乱するガス流乱し板を前記反応槽内の略全断
面にわたって配設した点に特徴を有するものである。
以下、本発明の一実施例を図示に基づき詳細に説明する
。先ず従来の脱硝装置のフローバタンをt−,1図によ
って説明すると、図中(1)はボイラ本体、(イ)は燃
焼排ガス、(3)はエコノマイザであって、エコノマイ
ザ(3)を出た燃焼排ガス量)は集塵機f41Vcて除
塵でれ、もしくは除煤でれないままで脱硝装置(5)へ
導入され、七の導入に際し還元剤として供給プれたNH
3ガス(ロ)とともに、脱硝装置(5)内の入口側に配
設でれた整流板(8)によって整流されたのち、その整
流啓れたNH3を付加している排ガスが並行流式触媒(
7)の各ガス通過孔内を流通して脱硝あるいは脱硝・脱
硫されるようになっており、また、次第に並行流式触媒
(7)のガス入口側にダストが蓄積しガスの圧損が上柱
し始めた場合に、該触媒(7)の上流側又は下流側に設
けたスートプロワ(91がら空気又は蒸気が噴出されて
、前記は着ダストを間欠的に除去するようになっている
しかし、前記17たような排ガス浄化装置による浄化方
法においては、前記したようにダストを除去した際に多
量のダストが煙突から排出される恐れがあるとともに、
多量の空気又は蒸気を要する欠点があるため、本発明に
おいては、第2図に示すように脱硝装置Q51内に配設
した並行流式触媒0ηのガス入口側端面(171)の上
流側に、少なくとも5儂以上、50crIL以下(装置
が特に大型の場合)の間隙fslを設けてガス流乱し板
(イ)を脱硝装置(151即ち反応!(15’)の略全
断面にわたって配設しており、反応槽(15’)内に流
入して層流(ハ)をなしている排ガスの流れは、前記の
ガス流乱し板(20)によって槽内の略全面にわたって
略均等に攪乱され、その攪乱流は直ちに並行流式触媒面
のガス入口側端面(171)に衝突して、前記端面(1
7t)および並行流式触媒aηの各ガス通過孔(172
)の入口側に付着しているダストを除去し、ざらに前記
排ガスは各ガス通過孔の内壁に接触して浄化されるとと
もに整流されて通過する。
第6図に第2図のA部分の拡大図を示し、図中叫は並行
流式触媒(171の触媒支持枠、a]はガス流乱し板@
)を支持するアングルであって、ガス流乱し板(2■に
は、全面に多数の開口を均一に配設した例えばエキスノ
ξンドメタルカ1使用されるため、反応槽(15’)内
における通常のガス流速にてそのガス流を略全面にわた
り均等に攪乱させることができる。また、ガス流乱し板
(20)には第4図に示すa。
b、c・・・・・・figのような各種の異なる形状の
開口を有する部材を、種々の条件に応じて用いることが
でき、一方、並行流式触媒C171の断面形状は通常格
子状あるいは蜂の巣状に配設烙れた多数のガス通過孔(
172)を有したものになっており、該ガス通過孔(1
72)IC対するガス流乱し板(イ)の各開口(20、
)の大きさは同等かそれ以上にはれているため、前記の
ように排ガス流を攪乱できる。
即ち、第4図に示すε、d、eのタイプは自体の形状に
よって排ガス流をよく攪乱できるし、b。
19gのようなものであっても、触媒に近接させている
ため攪乱を生じさせることができ、また、ガス通過孔(
172)と開口(201)との形状の相違、位置変化に
よっても実質的な攪乱を生ずる。
なお、ガス流乱し板(2α上へのダストのN1着、蓄積
は、その開口による撹乱流によって除去されることにな
る。
従って、前記したような方法および装置の実施例によれ
ば、並行流式触媒のガス入口側端面に拘突する排ガスの
攪乱Rによって、そのガス入口側端面およびガス通過孔
の入口側におけるダストのけ着が常時除去されて蓄積さ
れず、また、従来のような多量の空気、蒸気を不曹とし
、スートブロワ装置が不必要となり非常に経済的である
など、極めて簡単な方法、装置にてダスト付着を効率よ
く防止することができる。
以上本発明な実施例について説明したが、勿論本発明は
このような実施例にだけ局限されるものではなく、本発
明の精神を逸脱しない範囲内で種々の設計の改変な砲し
つるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の排ガス浄化装置における脱硝装置を示す
機構図、第2図は本発明の一実砲例を示す脱硝装置の機
構図、第6図は第2図のA部分の拡大斜視図、第4図(
at〜(glはガス流乱し板の各実施例を示す平面と同
断面図である。 15:脱硝装置   15′:反応槽 17:並行流式触媒 172:ガス通過孔20:ガス流
乱し板 復代理人 弁理士開本重文 外2名 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 fil、層流をなして反応槽内を流れる排ガスを前記反
    応槽内の略全面にわたって略均等に攪乱させたのち、そ
    の撹乱流を直ちに並行流式触媒の端面に当ててそのガス
    通過孔内に流入せしめ、前記並行流式触媒のガス通過孔
    内において整流せしめて接触浄化することに特徴を有す
    る排ガス浄化方法。 (2)、格子状、蜂の巣状等に配設された多数のガス通
    過孔を有し反応槽内に配設された並行流式触媒の排気ガ
    ス入口側端面に近=−aせて、前記並行流式触媒のガス
    通過孔と同等以上の大きざよりなる多数の開口が全面に
    略均等配置され排ガスの層流を攪乱するガス流乱し板を
    前記反応槽内の略全断面にわたって配設したことに特徴
    を有する排ガス浄化装置。
JP57024539A 1982-02-19 1982-02-19 排ガスの浄化方法および排ガス浄化装置 Pending JPS58143827A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6294717A (ja) * 1985-10-18 1987-05-01 Matsushita Seiko Co Ltd 厨芥処理機
TWI485355B (zh) * 2011-12-05 2015-05-21 Mitsubishi Hitachi Power Sys Vertical flow downflow type smoke denitrification device
KR20160088176A (ko) * 2015-01-15 2016-07-25 두산중공업 주식회사 연소시스템의 분진집적 방지용 덕트 구조

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