JPS58142935U - 気相成長装置のノズル - Google Patents

気相成長装置のノズル

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Publication number
JPS58142935U
JPS58142935U JP3920082U JP3920082U JPS58142935U JP S58142935 U JPS58142935 U JP S58142935U JP 3920082 U JP3920082 U JP 3920082U JP 3920082 U JP3920082 U JP 3920082U JP S58142935 U JPS58142935 U JP S58142935U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nozzle
vapor phase
phase growth
growth apparatus
base end
Prior art date
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Pending
Application number
JP3920082U
Other languages
English (en)
Inventor
小宮山　「よし」三
岩田　公弟
Original Assignee
東芝機械株式会社
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Filing date
Publication date
Application filed by 東芝機械株式会社 filed Critical 東芝機械株式会社
Priority to JP3920082U priority Critical patent/JPS58142935U/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図および第２図はそれぞれ従来の気相成長装置を示
す概要縦断面図、第３図イは第２図に示した気相成長装
置のノズルの一例を示す部分拡大正面図、第３図口は第
３図イの■−■線による断面図、第４図は第３図イ１口
に示したノズルを用いた場合の反応ガスとサセプタ上の
ウェハとの接触状態を示す部分平面図、第５図は第３図
イ９口に示したノズルと本考案のノズルとを用いた場合
のサセプタの半径方向におけるエピタキシャル層の膜厚
の状態を示す曲線図、第６図イは第２図に示した気相成
長装置のノズルの他の例を示す部分　、拡大正面図、第
６図口は第６図イのＶＩ−ＶＩ線による断面図、第７図
は第６図イ９口に示したノズルを用いた場合の反応ガス
とサセプタ上のウェハとの接触状態を示す部分平面図、
第８図は本考案によるノズルの一実施例を示す要部縦断
面図、第９図は第８図に示したノズルの下面図、第１０
図および第１１図は本考案によるノズルのそれぞれ異な
る他の実施例を示す縦断面図である。 １０ａ、１０１）、１０ｂ□、１０ｂ２，２０ａ、２０
））。 ２０Ｃ・・・・・・ノズル、１１・・・・・・ベルジャ
、１２・・・・・・ウェハ、１３・・・・・・反応室、
１４．１４Ａ、１４Ｂ。 １４Ｇ、２２・・・・・・ノズル穴、１５・・・・・・
サセプタ。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １　気相成長装置のノズルにおいて、該ノズルを元端側
    から先端側に向って大径となるテーパ状にし、該テーパ
    の周面にノズル穴を設けると共−に、ノズルの単位長さ
    当りのノズル穴の数を元端側から先端側へいくに従って
    順次増加させたことを特徴とする気相成長装置のノズル
    。 ２　ノズル穴の穴径が、元端側を大きくし、先端側へい
    くに従って順次小さくされている実用新案登録請求の範
    囲第１項記載の気相成長装置のノズル。 ３　ノズルのテーパの角度が、１５°〜９０°である実
    用新案登録請求の範囲第１または２項記載の気相成長装
    置のノズル。
JP3920082U 1982-03-19 1982-03-19 気相成長装置のノズル Pending JPS58142935U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102560432A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5136984A (ja) * 1974-09-24 1976-03-29 Nippon Paint Co Ltd Gensuishindokyokusennoyomitorihoho oyobi sonosochi
JPS544347A (en) * 1977-06-13 1979-01-13 Fuji Electric Co Ltd Power source equipment for electronic circuit
JPS5429743U (ja) * 1977-07-29 1979-02-27

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5136984A (ja) * 1974-09-24 1976-03-29 Nippon Paint Co Ltd Gensuishindokyokusennoyomitorihoho oyobi sonosochi
JPS544347A (en) * 1977-06-13 1979-01-13 Fuji Electric Co Ltd Power source equipment for electronic circuit
JPS5429743U (ja) * 1977-07-29 1979-02-27

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102560432A (zh) * 2010-12-13 2012-07-11 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种基片承载装置及应用该装置的基片处理设备

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