JPS58109129A - 粉体と反応ガスとの懸濁スプレ−を生成するための方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、反応ガスの流れを偏向させ、そＯガスから形
成された部分ａｔ個別の乱流管中で乱流にし、そしてそ
れらを反応器内へ放出される予備分散スプレーと出合う
よう外方へ向かわせ、それによって粉体の粒子と反応ガ
ス流との間に、反応のために１賛な速ＩｉＬ差ｔつくり
出し、生成される廊濁スプレー（ｓｕｓｐｅｎｓｉｏｎ
畠ｐｒａｙ）　ｔ−変形し制御すること全目的とする方
法および装置に関する。

反応ガスと粉体の懸濁物を反応室中へ供給するのに二つ
の原理が応用されている。仁れらＯ原理によると、懸濁
物は実際の吹き込み（ｂｌａｓｔ−１ｎ）器具よりは前
のある点か、吹き込み具それ自体によって生成される。

前者の方法は炭木倣粉加熱における通例の炭素徽粉加熱
バーナーや、気流搬送された細粉鉱石又はｍｓ体Ｃａｏ
亀ｅ＠ｎｔｒ＊＊＠）が中ヤリアーガスとともに直接に
反応容器へ吹自ζ唆れる冶金システムに用いられている
０この方法ｔｉ＠いるときには、反応の吹き尿μｂ　ｌ
　ｏｖ−ｂａｃｋ）がおきないよう吹きこみ、４ｆｔａ
ｌｌｌｌせねばならない〇 予熱ｋｉ％ｉ６［に用いる場合や、そのはかに生成され
る懸濁物が反応性に富んでいる場合、例えば、冶金にお
ける硫化物濃緑体の酸素溶錬Ｏ場合には、懸濁物の最終
的生成はできるだけ反応容器に接近したところで、ある
いはよ）好ましくは本発明のごとく反応容器そのものの
中で行なわねばならない。

文献中には、反応谷幡中への懸濁物の供給について多数
の記載があるＯその多くは、気流担持された細粉固形物
の直接状き込みにりい【か、さもなくば、懸濁スプレー
が丁度エジェクターにおける如く反応ガス中に生じた圧
カッくルスによって生成され、反応室中に吹き込ｉれる
システムに関するものでおる。この様なスプレーは、そ
のスプレーの中央に練入良度の固形物を有し、１５〜２
０°のフレアー状角度をもつ巴錐廖を形成する。分布の
ノ（ターンは主として！！彫物の性質と、ＩｖＩｉ滴物
の流速によって左右される。固形物とガスはこの一場合
、実質的に同一方向をとるＯ 知られているように、反応する固体粒子と周りのガスと
の間の賀に移行は、それらの藺の速度差に実質的に依存
する。

冶金装置で通常用−られるガス流速と１Ｎ！！体の粒子
サイズの範囲に−ｑ社濃縮体粒子とガスの間の速度差は
急速に失なわれる傾向があることが知られズおり、また
容易に計算できるＯこＯＩｌ由から質量移行に型費な固
体粒子と反応ガスの間の流速差は、反応室内で反応ｏ＊
ｂｏ条件が別途に存在するような点で生じ、看しくに維
持されるということが大切であるＯ反応ｖＩＩＸが吹き
込み前のある点ですでに混合されている場合には、速度
差をつくる運動エネルギーは遥常吹き込みの点か、それ
より前の点で蛾大に′ｆＬる・他方、もし混合が反応室
自体の中で行なわれるなら、最尚の速［差を反応室中の
有望の点になるようｌＩｌ！！顧できるＯこのことは、
材料が反応室中へ拭き込まれる前にすでに−Ｓ混合され
、最終的な混合が反応室自体の中で行なわれるニゲな場
合にもあてはまる。

閃光溶錬などの幾つかの冶金法において、反応ガスは円
筒状の喬直な反応室の中へ独特の吹き込み器具を介し、
反応室の頂を通じてその中心に向けられる。ガスは、吹
き込み器具のψさは空間利用などの理由から水平に向け
られている０これは結果として、反応室中で一方的な流
れをもたらす。それは、直径に対比しての長さを吹き込
みの充分な制御のためＶＣ充分なだけとることが困離だ
からである。

反応室の中心軸に平行となるように反応ガス金偏向する
ことは、英国特許出願２０９０１５９ムに述べられてい
る。この塵朧によれば、反応ガスは仕切りによって部分
流に分けられる。部分ｖ＃、１ユ、それらの速度が同時
に増大するように反応室の中心１１１１１に平行になる
ように偏向され、また部分流は、それらが切れ目のない
カーテンとなって内−から供給され＊ｓａｉ体の流れ（
囲むように反応室中に放出される０反応室中で反応ガス
と幽紬体は制御された融滴スプレー【形成するＯ 本発明に従って吹き込みが行なわれるなら、一方向の流
れにもとずくこのような問題は現れない。なぜなら、反
応ガスの流れは個別の分流に分けられ、その髭、切口断
面積の尋人管長さに対する必要な比率が部分流の尋人管
の中で容易に達成できるからである。本発明の主な特徴
をよ、特許請求の範囲に示されている。

本発明は従って、粉体の予１ｄ分歓と反応ガスの全体を
乱れを伴い、方向性のある分流に分割することと、これ
ら０分流の運動エネルギーとを利用することによって反
応室中での反応に有利な点で粉体粒子と反応ガスの間の
最大速坂差ＩＩ−得るようにする仁とｔ目的として乱れ
を伴い４’Ｈ向性金もつ懸濁スプレーを反応室自体の中
で生成させる方法及び装置に関する。

本発明によると、ＩＩＢ？１ｉ！スプレーは反応室の頂
又はｌｉＫとりつけら１．れた、例えば、次のような装
置によシ形成される０ 空間利用の面から、主として水平な４ｔに沿ってバーナ
ーへ反応ガスを向けることがしけしば有利である。仁の
ような場合にバーナーの一つの重畳な役割は、反応室中
て望ましい方向に、例えば、反応室の軸に平行になるよ
うにガス七偏向することである。別の重畳な役割は、反
応ガスを反Ｗ剰Ｏ断面積にわたって望ましい具合に、例
えば、対称に分布させることである０本発明によれば、
反応ガスは、好ましくは一つの導管に沿って反応１ｊＬ
Ｏ’Ａｍ　（ａｒｃｈ）　Ｋ設けられた分配室へと向け
られる０もちろん、供給管の数が乱流管の数に一致する
ときは、分配室は必俵としない。

分配室から混合基へ導かれる三本又はそれ以上の放出管
によって反応ガス流は部分流に分けられ、そしてそれら
はｔｇ発主部材、好ましくは＃Ａ贅のできるものを経て
、乱流管へ流される。

混合点で作られるＬＩＬパターンは、ｔｆｌｌ、管の数
、位置、および配置と、ｉＬ、ｌＬの方向とによって調
節できる。

ガススプレーは、回転しないものでも、回転するもので
も、そのｓｗＡからガスｔ１に着することがで龜、その
場合、強力な混合領域とｌ１ｉｂＷＬの乱流が、スプレ
ーの周縁部で生成されることが知られている。もシ、炉
内へのガス放出速［（−０）を常数とし、放出区域が一
つ又は娩つかの軸数出口に分割されているとし、他の端
件は一定なものとすると、吸着効率（Ｑ／Ｑ、）１１ｃ
埋−的に導き出すことが可能である０この吸着効率は次
の法則に従う０ 輪。＝（ＣＩ刊、Ｓ暫ｉ こ＼にＱは放出口からの距離ｉにおけるスプレーの断面
中のガス量、Ｃ６は放出口におけるガス量、Ｃ１とＣ遵
その過程に依存する定数、Ｓはガススプレーの乱流から
導かれる値Ｏこれは即ち、本発明においては、乱流管の
畝（へ）それらＯ配置、および中心ｓＫ供給される固体
−漬物から−や距離によって、スプレーヤ（側御Ｏガス
の吸着効率ＣＱ／Ｑ、）　ｔ＊１ｌｌＩＬ、そしてそレ
ーよりも強い乱流を伴う周縁領域が太き−ことに注目す
べきである。

この特性は、炉ガスによるスプレーの加熱を速める仁と
だけでなく、炉内に供給されるガスの混合にも役立つ０
たとえに、もう一つのガスが乱流管の周辺から概して低
目の速度で供給され、そこでこれらのガスは上記のよう
な原理によって混合されるに至る・いずれの場合も、工
程の条件が調節を支配する。

粉体と一部ガスとの懸濁物のほぼ予備混合され、予備分
散された流れは円形の断面を４つ形成された乱流域に供
給され、そこで、乱流管群から放出される二次ガスの乱
流が前述の、好ましくはよく分散された一部スプレーへ
向かって突っこまれ、そして強い乱流によってガスと固
体粒子の間に反応のために有利な速度差が生まれる。ａ
ｔｌｔによって作ら゛れ“る乱流域ｔ−′＃ＪＩ４節す
ることによって、騰満スプレーと乱流との出合点（礪ｌ
９Ｔ）と混合効率と、反応室中での会合ｌＩ！０１１１
泗物の分布を制御することができる０ 中央部に到来する懸濁物スプレーは、公知の方法、例え
ば、米国特許４，１４７．５３５号や米国特許４．：１
３１，０８７号に従う方法、あるいは気流搬送中に生成
される懸濁物によって生成されることが可能である。

本発明の蛾も１賛な利点は、次の造りである。

−二次ガスのために一本の導入管を用いるだけでよい（
！ｌ＃熱、材料のコスト、心安な空間等）〇 −反応ガススプレーｔｉ！ましい、かつ制御された方向
に向けることが可能〇 −粉体を分散させる友めに別個の部材音用いることがで
き褐畜材の選択は工程の要求に依るＯ −二次ガススプレーの乱流の強さと方向を制御すること
によって、いろいろの乱流の礒を工程の要求に対応して
つくることができる〇−装置の構造は背が低い。

−気流搬送に関して別個の収納サイロも、分散部材もな
しでも用いることのできる方法でりゐ０ −　最終的な結合が反応室まで起らな−　ために、極め
て反応性に富む談縮体につ−ても特に酸素の濃縮度の高
い場合、用いることのできる方法である。

この発明は、反射炉にも用いることができる０この場合
、濃縮体の全部、又は時として一部が実質上水平な炉の
末端から反応室中へ供給される。炉ａｔ−保護するため
に、濃縮体〇一部はデ壁に垂直に供給してもよい０炉の
末端から供給される濃一体は、例えば、気流で供給され
てもよく、この場合にそれはｍ−反応ガスと混合されて
いるが、実質上、水平の指向性で、しかも？ＬｔｌＬｔ
伴う懸濁物スプレーを作るように、反応ガスの大部分は
濃縮体スプレーのまわりから撹乱部分流の形で吹き込ま
れる０本発１！ｌｉＫ従うシステムは、前述の７ラツシ
エ炉への応用と同様の方法で、反射炉の弧状部からａｍ
ｍ体数散物供給するのに用いることができるのはもちろ
んである。

本発明ｔ１添付の図面１に＃照して以下に史に　。

第１図は、本発明の応用の一つの対象である瞬時溶錬炉
（ｆｌａｓｈ　ｍｍｅｌｔｌｎｇ　ｆｕｒｎａｃｅ）の
略図で、第２図は本発明の一つの吐ｉしい実ｈｗＡ様の
垂直断面の略図、第３図は断面の斜視図としてｊＩｚ図
の装置の構造を詳細に示したもの、第４図は修整可能な
乱流パイプの一つの斜視図、ｇｓａａは本発明による一
つの装置におけ本実施例２０ガス速−分布：ｗｔａｉＦ
ｉ本発明による装置の一つにおける実施例３のガスｉＡ
度分布、第７図ないし１１１０図は、本実１ｊｌｌＫよ
る実施例４のガスの定速−―、第１１図は気流供給され
る粉末固体によって、ある懸濁物中に生じた同体とガス
の分布−ｊ１１１２図は、本発明に従う方法で分散され
た除、粉末固体材料の気流供給スプレーによって生じた
固体とガスの分布を示している。

嬉Ｊｌｌで参照番号ｌは、粉体を注入管２の上端へ運ぶ
コンベアーを示し、注入管霊ｔＡ９て粉体は連続的に落
下して分散部材３に向かい、それによって粉体と一部ガ
スの懸濁物は反応室中へ供給される。二次反応ガス４は
部材易のまわシに置かれた放出管ｔ！！て反応１ｉ１５
中へ向かうＯ 第２図で、気流搬送コンベアーの放出管にもなる注入管
２を経て流れる粉体は分散部＃３へ供給され、そこで、
−次分散ガス藝と粉体は予備混合され、反応室ｓ中へ分
散される。このようにして、気流搬送された粉体をパイ
プｉｔ−経て供給することもでき、この場合、分散部材
３と分散ガス６は必ずしも要しなり０二次反応ガス４は
、−次ガスよりも量が普通多いが、分配室γ中へほとん
ど水平に、なるべく−りの導入管食通じて向けられるの
が最も普通である。放出［８の乱流発生部材の構造と位
置とＯ関係で半径方向か接一方向のいずれかからが七分
配室７に向かう０３本の、好ましくは６本の放出管８に
僻七千分配された反応ガスはその軸のまわりに回転する
スプレーとなって、反応室５へ向かい、分散部材３から
放出されてくる粉体と〜医ガスの予備混合、予備分散さ
れた懸濁スプレー罠向かって懸濁スプレーの外側から朶
入する。

第３図は、乱流パイプの構造のｉｆ−細と、ガスを乱流
にするための好ましい制御システムの一つｔ示している
。反応ガスの供給導管９に伴って棒ｌＯがあり、それに
よって板１２が回動される０板１２はビン１３によって
レバー１４に結合されている。制御孔１５ぽレバーｉ＋
５筐わすことにより、制御スリーブ１１０作用で調節さ
れる・分配Ｍ７内の制御スリーブ１１は乱流管１６の上
部に位置している０乱流ｗ１６の下端は反応Ｍ５の頂部
の下側＆までのびている〇分紋室のために与えられた空
間＃′ｉ数字１７によって示されている。

第４図において、−口１５の＾さけレバー１４．２）１
動えよハ制御哀ワープ□１０作用、Ｃ−贅され、それに
ともなって開口１５のところの俊一方向供給速度が変化
し、その結果、ＩＬ流営五６からのガススプレーの回転
効率の変化をもたらすＯ 第５図では、−次ガス・はバーナーの中心から実施例２
で詳しく規定される多孔質半球１８を経て、炉室５へ向
かい放出されるように導かれる。二次ガス４は、分配室
７へ水平に導かれ、そこから６本の直立乱流管１６へ分
配される・乱流管の制御間隙１５は、乱流管１６から炉
室５へ放出されるガススプレーに平行で反時計方向の回
転運動を与える方のパイプ側面に設ゆられている。生じ
たガススプレー全体（−次及び二次ガス）の速度分布１
９は、バーナーからの三つの異なる距離について、最高
速度との関係で椋準化して示される＠！Ｉｓ図の寸法は
、有効平均放出口ｄ・ｆｆとの比で示されている。

第６図では、実施例２の第５図に対応して、−次ガス６
はバーナーの中心から多孔半球１８’ｊ：Ｈて炉室５へ
放出される０二次ガス４は水平に分配室７へ導かれ、そ
仁から６本の乱流管１６に分配される。直径方向Ｏ乱流
管の傾斜は―節されている０傾斜の調節はボールジ１イ
ンド２０によってなされる。乱流管の入口１５の車付け
は、反時計回転のスプレーが他の乱流管のとれに％、影
形成れるが、そのものには時計方向回転のスプレーが形
成されるようになされる。速度分布１９は、第５図の中
間の距離に対応する＾さで測定された。１に６図の詳細
な解析は実施例３に示される。

第７図ないし第１０図社、実施例４の欄定結果である、
ガスの定速縦曲−２１ｔ示す・乱流管から放出されるガ
ススプレーの回転方向は矢印２２によって示される。

第１１図で、粉末固体材料の分布パターン２３とガス分
布パターン１９は、若干ひろがった放出口２６１経てそ
こから２．４ｍのｌ！１！鴫まで気流供給された同体材
料２４と飯送空気２５とのＪＩＩ１１１ｍスプレー１９
作られたものである。

第１２図で、粉末固体の分布パターン２３とガス分布パ
ターン１９とは、第１１図で示したと同様にして二次空
気４がａ流管１６から放出される際、粉末固体の分散と
拡がりにあずかるようにして形成され九〇 実施例によって本発明をさらに詳細に説明する０ 実施例１ 以下の実施例においては、銅の閃光溶錬で乱流管１６か
ら放出されるガススプレーの混合及び吸入効率を検討す
る。ここでの固体材料の総供ａｍｃａｍ体＋添加物ンは
ｉ、ｚ５４ｔ／ｈ　テ、総ガス童はｑ、＝ｚｓｏｏｏｄ
へ（酸素富化空気、０８富化率４０％３である。送入時
のガス温度は５００　Ｋ、炉内は１６００にである。ガ
スの２５−が混合濃縮体の予備分散に用いられ、残３１
７８−がその周９からＮ個の直流管を駁で供給される。

第１表は、上記の場合に温合及び吸込み効率、即ちＱ／
Ｑｏ＜ｉ（本文に定義あり）を記述する定数Ｃｔ１ガス
の放出面積が一定な鳩舎に％、１ 乱流管の数特、と乱流の回転速度四〇−数として示す。

第１表 Ｎｄ　　　　　　　　　　　　　Ｃ Ｍ　　ｍｗｘＯｓ＝０．ｌ　　ｓＪ）、３　　ｓ＝０．
６　　　ａ＝１１　　３６９　１．５５　１．９４　２
．７１　３．８８　　６．４３３　　２１３　２．６９
　３．３６　４．７０　６．７２　　９．４１６　　１
５１　３．７９　４．７４　６．６３　９．４８　１３
．２７１２　　１０６　５．４０　６．７５　９．４５
　１３．５０　１８．９０ｊ１１表から乱流管の数と乱
流の回転速度の増加が混合（ａ収容量）を増大させるこ
とがわかるＯ 実施例２ 粉体の支持部打金、この実施例及び以下二つの実施例（
３および４）では多孔半＃！１８にした０孔の百−の表
面積に対する比であられしたその空孔率は５．−一で通
過する空気菫は空気１量の２１．５−である・多孔半球
によって約２０°の拡張角度をもつ一様な空気スプレー
がＩＬｆｔ管の中心から得られ九〇 実験における配置は、纂５図の通りである０濃縮体バー
ナーの中心軸に関して対称にもうけられた６本の直立乱
流管中で回転の方向は同じであった。スプレーの乱流の
平均回転速度”ｄｆは０．３であった・図は、ガス流の
インパルスによって計算された有効直径Ｃｔ１．１１）
　Ｋ比例して描かれた◎高温ワイヤ風速針によって８過
９の距離（シ”ｏｆｆ’で測定された速度分布１９は最
大速度との比（Ｑ／ｕ１１）　Ｋ１ｍ準化された０この
実施例での速度分布は、次の二つの実施例ＫｊＰけると
同様に軸方向の速Ｊ［を示しているＯｊｇ５図でわかる
ように、ガス流の偏向とその指向は成功していた０一番
上の速度分布曲線１９は、乱流スプレーが多孔半球の中
心から放出されるガススプレー中へねじ込まれ、それと
ｓ、ｌ）合うことｔ示している・真中の分布曲線１９で
は、ガススプレーはほとんど完全に正常な分布の形に出
来ている０最も下の分布曲線では、分布に及はす乱流管
の効果はもはや見られな％／ｈ。

実施例３　　　゛ 実施例２のときと同じ配置と乗汗で、＊抛ガ２の中間の
測定距離に相当する一つの測定距離で（第６図）、速度
分布測定（ｕ／１１１ｎ）　ｔ−行った０実験において
、乱流管中でのガスの回転方向は、他のどのパイプ中で
も回転が逆方向になるように変えられた。

測定は、乱流管の三つの偏向角度について行われた。β
＝÷９．５°、即ち、乱流スプレーが濃縮物バーナーの
中心軸に父わる角、β＝０６即ち、乱流スプレーが中心
軸に平行となる角、そして、β＝−９，５°、即ち、ス
プレーが中心軸から分散するとき０ 測定から角度に）のこんなわずかな調節によって、放散
（β〈０）も集中（β＞Ｏ）も可能なことがわかる。同
じことが通常用いられるスプレー放散角２αを用いても
表わせる。ただし、２αｗ　２　ａｒｃ　ｔａｎ　（ｒ
（ｕ＝ｏ、５　ｕ、／ｘ）　ｓここで、　β＝＋９．５
”のとき２α＝１１．０＠β＝０１１　　　のとき２α
＝１８．９゜β、−９，５”のとき２α＝３１．９ 角度βの調節は、菖・図中に示す各乱流管に％うけた球
接合（ボールジヨイント）システム２０ＶＣＬつて実行
できた０工程の条件下では、ボールジヨイント２０と！
ｉＬ流雪１６は通常の方法で冷却される。工程の要求か
ら乱流管１６の最終傾斜角（ロ）がきまる◎傾斜角が余
り小さいか（β＜０）、バーナーの中心角から乱流管ま
での距離が大きてざると、ガスの混合が妨げられる（別
々のスプレー）。

実施例４ 乱流管１６の回転方向と傾斜′Ｉｋ：変えることに工っ
て分布パターンの形【調節する可能性を示すために、実
施例２の配置と条件上用い、実施丙３に示した距離で定
速度−−２１をもとめ九〇ＩＡ７図二対流管１６の全て
においてガスの回転方向２２は同じ、反しち、反時計方 向である。β−−’９．５°。内側の 足速直円２１上で速度比し”ｏｆｆ＝ ６．４’ｌｋ、そして次ノ１−１”ｅは１．７％で６る
〇 ６本の乱流管１６によって生ずるふく らみは、内側の円にも認められる。

第８図：ガスの回転方向２２Ｆｉ、パイプａ、Ｃ。

ｅでは時計方向、パイプｂ、ｄ、ｆで は反時計方向である。ＭｆｆＰ＋角βは−９，ぎ。

ｕ／’ｕ　、１１は内−１円２１で６．４−１その次の
円２１で１．７１６である。乱流管１６によって作られ
る流れの場から 導かれるように、外向きの流れはパイ プｂとｅ、ｄとｅｅｆとａの間では強 められ、それ以外の間隙では内向きの 流れがつよめられ、その結果、三角形 の流れの場が生じる。

第９図：ガスの回転方向２２はパイプ１．ｂ。

Ｃでは時計方向、パイプｄ、・、ｆで は反時計方向である。乱流管１６の腿 斜角βは−９，６°　、ｕ／ｕｅｆｆは内側円２１”ｔ
’６．４％、次Ｏ円”Ｃ１−２１ｓａ最も外側で０．５
である。罰と同僚、 ここでも乱流管１６から放中するガス スプレーの回転方向２ｚにもとすいて、パイプａとｆの
間では外向きの膨らみ がパイプＣとｄの間では内向きの指向 があることが測定される。

第１０図：乱流管１６中のガスの回転方向ｚ２は第９図
と同じであるｏｉＩＬ流管Ｃとｄは、パイプｄとｆに向
かつてそれぞれ９．り折り曲げられ、さらに、パイプｂ
と・ はお互いに４　、７５’ずらして設置された。パイプａ
とｆはさらに、即ち、 ９．５°余分にずらし九〇Ｖ１゜ｆｆは内側の円２１上
で６．４ｓ、次の円上 で１．７チ、最も外側の円２１上で ０．５’１６である０ これらの四系統の実績をもとに、乱流管１６の０ｍ角と
ガスの回転角２２に関節することにより、この一つの装
置単独で望みの形の分布ノ（ターン２１ｔ−生み出すこ
とができることがわかる。籍に、ＩＩｋＩＩｋの場合（
第１９図）は１、非対称の（制御された）バターｙＯ生
成を示してお）、これは横巴形の断面をもつ炉構造に、
倒えば、反射炉のアーチからの供給に適している。

実施例５ −　手工業的スケールで、本発明によるｌ！Ｉ細体バー
ナー會、第１１図および第１２図に示した要領で用い、
粉末固体材料（ｌｌ１ｍ体士添加Ｍ）はバーナーの中心
から緩やかにふくらんだ円錐２６を経て気流により　２
２５０　ｋｇ／ｈで供給された０円錐の放出口の径は７
１００ｍで、搬送空気はＱｎ−４７８１／ｂ　であった
。二次空気Ｑｎ＝１７４７Ｍは、６・本のたてに設けら
れた乱流管１６’ｉｆｉて同じ、方向の乱流を与えるよ
うに向けられた０乱流管の出口の直径はＪｒ３４關だっ
た０−次ガスと二次ガスの温度は３００にであった。乱
流の実効回転はＳ、、、−０，３であった。

粉車園体のふるい分析の結果は、９０チー８０μ創７ｉ
’＄　−４３μｍ、　５０％　−３９μｍ１．２５％　
−３２μｍ□−゛淘スプレーの断面上の固形分の分布は
、バーナーからの距離ｘｘ２　ｍ　４ｍで測定されたＯ
ｊＩ　ｌ　Ｎ＃の閾は、同体の供給と加圧空気だけが送
られ、二次空気はゼ曹であつ九（第１１図）。

第２段階では、二次空気も送られた（籐１２図）Ｏ第１
１図と第１２図は、下向きにガス速度分４１９ｔ−１通
常の方法に従って図示し、また測定のレベルから上向き
に粉末固体の分布２３１に示している。

第１１図と第１２図の固体物質分布を比軟すると、圧送
スプレーのみ（纂１１図）のとき死滅的せまい分布を与
えるが、それはガス分布１９に似ているｏＥＥ発明に従
う配置により、即ち乱流スプレーを付加すると（謳１２
図〕、固体分布２３は拡大してガス分布１９と一致する
ようになる。実施例の要領で求めたスプレー拡張角の比
軟によって、講１２図の固体物質分布２３に対する前述
の角［２αはｊｉｌ１図のそれと比べて３倍である（Ｉ
Ｌ４’／４．σ）Ｏガスの分布につい１の対応する角２
αは、第１１図に比して８１１２図では２．５倍にすぎ
ない（１８，０″／７．１　）　。

実施例５は、それまでの実施例１ｍ臆するもので、乱流
スプレーによって粉末固形物を横方向に移行させること
ができ、それ故に懸濁スプレー中で良好な拡が９と、必
嶽な嫉紬体刈ガス比【与えることが可能で、そのような
総点で懸濁スプレー中の混合及び歓込＆Ｌ力を増すこと
ができることを示している。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明になる瞬時溶錬炉の略図、３１２図は
、本発明の一実施ｍ様の無直納面図、第３図は、第２図
の装置の補遺を示す＊＠糾祝図０謳４図は、Ｌｕパイプ
の一斜視図、第５図は、本発明の一装置における実施＠
２のガス速度分布図、藻６−Ｆｉ、本発明による一装置
における実施例３のガス速度分布図、第７図ないし４１
０図は、本発明による実施例４のガスの定連−＠！、ｊ
ｌ！１１図は、−調書中の固体とガスとの分布図、菖１
２図は、本％明方法で分散された（支）体とガスの分布
図。 ＃捧Ｍ鰺材 ８　放出管 以　　上 代理人　弁理士　　砂　　川　　五　　部（１ｍか１名
） 手続補正書（自発） １、事件の表示 昭和５７年特許願第２０６８３５号 ２、発明の名称 ３、補正をする者 事件との関係：特許出顆人 名称　　オートクムプ　オイ 代表者　　アーロ　ラウリン ４、代理人 自　　　　発

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）　　粉体を反応室へ流入させること、そして反応
   ガス流の大部分音粉体のまわ９に向けることにより、粉
   体と反応ガスとの指向性でかつ、制御され一＃−−滴ス
   プレーを形成するための方法であって、粉体は反応室に
   向かい、反応ガスの一部と混合され、残りの反応ガスは
   粉体の流れの周囲から対称に、少なくとも三本の別々な
   、少なくとも部分的に乱流をともなうスプレーとして反
   応室へ向けられること、および乱ａｔともなうが％Ｉｌ
   ｊ＃された融滴スプレーを作るように反応ガスが反応室
   中で予備分散さたた粉体の流れの中へ放出されること１
   ＊徴とする方法０ （２）反応室中へ向けられる個別の反応ガス流が回転し
   ないガススプレーの着ｔＭ］ｌ１１１に有する乱流ガス
   スプレーから生成されるととｔ−特徴とする特許請求の
   範囲（１）の方法。 （鴫　粉体が気流により反応室中に送られることｔ−特
   徴とする特許請求の範囲（１）の方法。 （４）　　Ｊｌｌ！淘スプレスプレーが、反応ガスの線
   分スプレーの乱流の方向ｔ″調顧ることにより修整され
   ることを特徴とする特許請求の４１（１）の方法。 （５）懸濁スプレーの形状が、反応ガスの郡分スプレー
   の方位を調節することによりｆ蟹されること１−＊黴と
   する特許請求の範囲（１）の方法。 （６）　　反応室の上部又は端にもうけた粉体供給部材
   ３１ＤＪ＋Ｉｄ圓に設けられ九特許請求の範囲（１）の
   方法を実行するための反応ガス分配および配向装置であ
   って、粉体供給部材３の周囲に反応ガス分配部材７が同
   軸ＫＷｌｉけられ、七〇から、少なくとも３本の！ｌ１
   ｌＩＩｋ可能の反応ガス放出管８が反応室に同けて発し
   ており、咳放出管は前記粉体供給部材の周囲に対称に設
   けられている仁とｔ４１黴とする反応ガス分配および配
   向装置。 （η　放出管８の上部に反応ガス管乱流にするための制
   御装置１１があることを特徴とする特許請求の範囲（荀
   の装置。 （６）放出管８が、反応室に回いている端において少な
   くとも同軸である二本のパイプから成り、内側のパイプ
   は反応ガスを乱流にするための制御装置【有することｔ
   特徴とする特許請求の範囲（６）の装置。 （匈　放出管８の直径方向の傾斜が放出管に接合され九
   ボールジ曹イン）２０によって調節できることｔｑ＃黴
   とする特許請求の範回（６）の装置。 輪　放出管８の上部に乱流の量及び／又は方向を―整す
   ることのできる制御義賦１１があることｔ特徴とす今簀
   軒請求の範−（２）又１ は（ηの装置◎