JPS58107505A - 偏光膜の製造方法 - Google Patents
偏光膜の製造方法Info
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- JPS58107505A JPS58107505A JP20737481A JP20737481A JPS58107505A JP S58107505 A JPS58107505 A JP S58107505A JP 20737481 A JP20737481 A JP 20737481A JP 20737481 A JP20737481 A JP 20737481A JP S58107505 A JPS58107505 A JP S58107505A
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- polarizing film
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規な偏光処理液を使った耐湿性の優れたｍ個
光膜の製造方法に関する。
光膜の製造方法に関する。
液晶表示素子の急激な発展に供ない偏光板の需要が飛躍
的に増大したことは周知の通りである。
的に増大したことは周知の通りである。
今後さらに液晶表示素子が多方面に応用されるに従い偏
光板の需要も伸びると予想される。しかし偏光板の品質
レベルが現状のままである限り、特に耐湿性が著しく劣
る欠点を克服しなければ、これ以上の伸びは期待できな
いと思われる。
光板の需要も伸びると予想される。しかし偏光板の品質
レベルが現状のままである限り、特に耐湿性が著しく劣
る欠点を克服しなければ、これ以上の伸びは期待できな
いと思われる。
先ず従来の偏光膜は第１図に示す５種類に大別される。
（１） ポリビニールアルコール系（以下Ｐ Ｖ Ａ
と称す）フィルムな一軸延伸しながらあるいは一軸延伸
した後、ヨウ素１５を吸着させて偏光機能を付与した偏
光膜第１図（ａ）（以下ＨＨと称す）。
と称す）フィルムな一軸延伸しながらあるいは一軸延伸
した後、ヨウ素１５を吸着させて偏光機能を付与した偏
光膜第１図（ａ）（以下ＨＨと称す）。
（２） 透明プラスチックフィルム１４を一軸延伸し
ながらあるいは一軸延伸した後二色性染＄１６を吸着さ
せて′偏光機能を付与した偏光膜第１図（す（以下り膜
と称す）。
ながらあるいは一軸延伸した後二色性染＄１６を吸着さ
せて′偏光機能を付与した偏光膜第１図（す（以下り膜
と称す）。
（５） 透明プラスチックフィルム１７に一軸延伸す
る前あるいは一軸延伸した後、該フィルム内部に方向性
の有する二重結合１９を生じさせて偏光機能を付与した
偏光膜第１図（Ｃ） Ｃ以下Ｘ膜と称す）。
る前あるいは一軸延伸した後、該フィルム内部に方向性
の有する二重結合１９を生じさせて偏光機能を付与した
偏光膜第１図（Ｃ） Ｃ以下Ｘ膜と称す）。
上記５種類のうち、Ｈ膜については光学特性は優れてい
るが耐湿性に劣り、ＬＪｌ！ＩＮについては広範囲の色
調をかなり自由に選択できるが光学特性が劣ることと耐
湿性が充分でないことが挙げられる。
るが耐湿性に劣り、ＬＪｌ！ＩＮについては広範囲の色
調をかなり自由に選択できるが光学特性が劣ることと耐
湿性が充分でないことが挙げられる。
またＸ膜については耐湿性に優れるが光学特性が劣る等
各偶光膜とも一長一短がある。さらに上記以外の新開光
膜の開発される可能性が非常に薄いことから、上記偏光
膜の改良により光学特性を損なわず耐湿性の優れた偏光
膜を作ることが最良である。
各偶光膜とも一長一短がある。さらに上記以外の新開光
膜の開発される可能性が非常に薄いことから、上記偏光
膜の改良により光学特性を損なわず耐湿性の優れた偏光
膜を作ることが最良である。
ところが上記６種の偏光膜のうち、ＬＩＥについては端
光機能を満足する二色比の大きい染料がないため光学特
性を上げることが難かしい。仮に二色比の大きな染料を
作ろうとしても美大な時間を費やしてしまう。Ｋ膜につ
いてもその原理から光学特性を上げることが困難であり
、また色調の制御が難しいため適当でない。
光機能を満足する二色比の大きい染料がないため光学特
性を上げることが難かしい。仮に二色比の大きな染料を
作ろうとしても美大な時間を費やしてしまう。Ｋ膜につ
いてもその原理から光学特性を上げることが困難であり
、また色調の制御が難しいため適当でない。
以上から現在最も多く使用されているＪＪＩを改良する
のが最も適している。ＨＭＫついては光学特性は優れて
いるため、問題はいがに耐湿性を上げるかであり次の５
方法が考えられる。
のが最も適している。ＨＭＫついては光学特性は優れて
いるため、問題はいがに耐湿性を上げるかであり次の５
方法が考えられる。
（１） 実際はＨ膜の両側に三酢酸セルロースフィル
ムをラミネートした偏光板として使うため、三酢酸セル
ｐ−スフィルムに換え透明性がよくて複屈折性がなく透
湿性の極めて小さいフィルみをライネートする。
ムをラミネートした偏光板として使うため、三酢酸セル
ｐ−スフィルムに換え透明性がよくて複屈折性がなく透
湿性の極めて小さいフィルみをライネートする。
（２） ＨＷ４と三酢酸セルロースフィルムの接着剤
をさらに接着力が大きく耐湿性のある接着剤に換える。
をさらに接着力が大きく耐湿性のある接着剤に換える。
（５） Ｈ膜中に吸着されている多ヨウ素分子の封じ
込めを偏光処理によりさらに強力にしてやる。
込めを偏光処理によりさらに強力にしてやる。
（す、Ｃ２）は根本的解決法でないため本発明者は（５
）の方法により改良を図った。
）の方法により改良を図った。
本発明の詳細な説明に入る前にＨ膜の構造について述べ
る。一般に一軸延伸したＰＶＡフィルムにヨ□つ素を吸
着させるか、あるいはヨウ素な吸着させたＰＶＡフィル
ムな一軸延伸すると第１図（ａ） Ｋ示す構造になるこ
とは前記した。ここでは全体を代嵌する一Ｓ＋の構造を
抜き出してさらに詳しく説明する。これを第２図（〜に
示す。ＰＶＡフィルム中に吸着されたヨウ素は、ＰＶＡ
ら旋分子鎖２２の中に一本の棒状分子構造（多ヨウ素分
子）２５をとって入っており、この様な構造を一般に包
接構造と呼ぶ。通常ヨウ素分子は第２図（ｋｌ示す２原
子分子であるが、ＰＶＡフィルムに吸着すると、第２図
（ｑに示す様な各原子間距離が等しく直線状に並んだ多
ヨウ素分子になるのである。しかしこのままでは多ヨウ
素分子は不安定であり、環境により容易にＰＶＡら旋分
子鎖中から抜は出てしまい、拳やがて偏光性が消失して
しまう。耐環境性（！＃に耐湿性）を向上させるために
は、多ヨウ素分子を強い力でＰＶＡら旋分子鎖中に固定
できれば達成できると考えられる。
る。一般に一軸延伸したＰＶＡフィルムにヨ□つ素を吸
着させるか、あるいはヨウ素な吸着させたＰＶＡフィル
ムな一軸延伸すると第１図（ａ） Ｋ示す構造になるこ
とは前記した。ここでは全体を代嵌する一Ｓ＋の構造を
抜き出してさらに詳しく説明する。これを第２図（〜に
示す。ＰＶＡフィルム中に吸着されたヨウ素は、ＰＶＡ
ら旋分子鎖２２の中に一本の棒状分子構造（多ヨウ素分
子）２５をとって入っており、この様な構造を一般に包
接構造と呼ぶ。通常ヨウ素分子は第２図（ｋｌ示す２原
子分子であるが、ＰＶＡフィルムに吸着すると、第２図
（ｑに示す様な各原子間距離が等しく直線状に並んだ多
ヨウ素分子になるのである。しかしこのままでは多ヨウ
素分子は不安定であり、環境により容易にＰＶＡら旋分
子鎖中から抜は出てしまい、拳やがて偏光性が消失して
しまう。耐環境性（！＃に耐湿性）を向上させるために
は、多ヨウ素分子を強い力でＰＶＡら旋分子鎖中に固定
できれば達成できると考えられる。
従来多ヨウ票分子の固定化処理としてホウ酸を用いてい
た。第５図（ａ）にホウ酸処理を施こしたＨ膜の構造を
示す。ら旋構造の中に多ヨウ素分子５５が入った７？Ｖ
Ａ分子＠５２の０ＲＩＩ鎖と、ホウ酸分子第５図（４中
の５つのＯＨ基が脱水縮合してＰＶＡ−０−Ｂ結合を生
じる。このためＰＶＡら旋分子５２がホウ素分子５４に
よりｉ！ｌＩ！Ｉをふさがれ、あたかも中に多ヨウ票分
子５２が入った筒状構造になる。ゆえ４ＣＰＶＡら旋分
子の安定化及び多ヨウ素分子のブロッキング作用が生じ
、耐環境性がかなり向上する。しかし不発明者の目標に
はまだ不充分であり、実用上にも問題がある。このこと
はホウ酸処理だけでは多ヨウ＊Ｓ子の固定化力が充分で
ないことを示している。ホウ酸処理の場合、ＰＶＡら旋
分子鎖には直接結合してがっちり固定させるが、多ヨウ
素分子には立体的なブロッキング作用だけであるためと
考えられる。しかるにＰｖＡら旋分子鎗と多ヨウ素分子
の両方に直接結合して、強力な固定化力を生じる物質が
存在すれば耐環境性を飛躍的に向上させることが期待で
きる。
た。第５図（ａ）にホウ酸処理を施こしたＨ膜の構造を
示す。ら旋構造の中に多ヨウ素分子５５が入った７？Ｖ
Ａ分子＠５２の０ＲＩＩ鎖と、ホウ酸分子第５図（４中
の５つのＯＨ基が脱水縮合してＰＶＡ−０−Ｂ結合を生
じる。このためＰＶＡら旋分子５２がホウ素分子５４に
よりｉ！ｌＩ！Ｉをふさがれ、あたかも中に多ヨウ票分
子５２が入った筒状構造になる。ゆえ４ＣＰＶＡら旋分
子の安定化及び多ヨウ素分子のブロッキング作用が生じ
、耐環境性がかなり向上する。しかし不発明者の目標に
はまだ不充分であり、実用上にも問題がある。このこと
はホウ酸処理だけでは多ヨウ＊Ｓ子の固定化力が充分で
ないことを示している。ホウ酸処理の場合、ＰＶＡら旋
分子鎖には直接結合してがっちり固定させるが、多ヨウ
素分子には立体的なブロッキング作用だけであるためと
考えられる。しかるにＰｖＡら旋分子鎗と多ヨウ素分子
の両方に直接結合して、強力な固定化力を生じる物質が
存在すれば耐環境性を飛躍的に向上させることが期待で
きる。
本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、その目的と
するところは、簡単な方法により光学特性を損なわずに
耐湿性の優れた偏光膜を提供することである。
するところは、簡単な方法により光学特性を損なわずに
耐湿性の優れた偏光膜を提供することである。
本発明は、Ｃｕ、Ｆｅ、ｌＪｉ、Ｃｏ等のヨウ素化合物
を含む偏光処理液で偏光膜を処理することにより、耐湿
性の優れた端光膜を達成したことを％徴とするものであ
る。
を含む偏光処理液で偏光膜を処理することにより、耐湿
性の優れた端光膜を達成したことを％徴とするものであ
る。
これはヨウ素化合物の金属原子が、ＰＶＡら旋分子鎖の
ＯＨ基と多ヨウ素分子の両方に直接結合して高分子錯体
な形成するためである。特Ｋ Ｐ ｓ原子は安定な高分
子錯体を作り易く、またホウ素原子に比ペイオン牛後が
４倍近く大きいためヨウ素９子が抜けにくくなる。一般
にＩＰｅ原子４５は第４図（０に示す様に５つの配位子
４６により三万両錐構造をとる。配位子４６は電子供与
性の原子団であり、ＨＪ［Ｋ当てはめるとＰＶＡら旋分
子鎖のＯＨ基と多ヨウ索分子である。
ＯＨ基と多ヨウ素分子の両方に直接結合して高分子錯体
な形成するためである。特Ｋ Ｐ ｓ原子は安定な高分
子錯体を作り易く、またホウ素原子に比ペイオン牛後が
４倍近く大きいためヨウ素９子が抜けにくくなる。一般
にＩＰｅ原子４５は第４図（０に示す様に５つの配位子
４６により三万両錐構造をとる。配位子４６は電子供与
性の原子団であり、ＨＪ［Ｋ当てはめるとＰＶＡら旋分
子鎖のＯＨ基と多ヨウ索分子である。
第４図（ａ）Ｋ本発明により処理したＨ膜の構造を模式
的に示す。Ｆｅ原子４４がｉ；ｖＡら旋分子鎖４２のＯ
Ｈ基及び多ヨウ素分子４５と錯結合を形成する機構は次
の様に考察される。先ずＯＨ基の場合、電子が余ってお
り、これが１＠原子４４に取り入れられて配位結合を生
じるためである。
的に示す。Ｆｅ原子４４がｉ；ｖＡら旋分子鎖４２のＯ
Ｈ基及び多ヨウ素分子４５と錯結合を形成する機構は次
の様に考察される。先ずＯＨ基の場合、電子が余ってお
り、これが１＠原子４４に取り入れられて配位結合を生
じるためである。
また多ヨウ素分子４５の場合、多ヨウ素分子４Ｓは棒状
分子になっており、各ヨウ素原子の自由電子が棒状分子
の周魅全体に一様に分散した電子状態になっている。ゆ
えに多ヨウ素分子４５は電子供与性であると考えられＦ
ｅｉ子４４と配位結合を作ることが可能である。
分子になっており、各ヨウ素原子の自由電子が棒状分子
の周魅全体に一様に分散した電子状態になっている。ゆ
えに多ヨウ素分子４５は電子供与性であると考えられＦ
ｅｉ子４４と配位結合を作ることが可能である。
実際は、Ｆｅ原子と錯結合を形成する５つの配位子のう
ち、ＯＨ基と多ヨウ素分子の割合は種々存在すると考え
られる。ただ立体的効果により制限があるかもしれない
。
ち、ＯＨ基と多ヨウ素分子の割合は種々存在すると考え
られる。ただ立体的効果により制限があるかもしれない
。
本発明による処理では、ＰＶＡら旋分子鎖がＦ・原子と
の錯結合により安定化されて円筒状の構造を形成し、さ
らに該ら旋分子鎖中に入っている多ヨウ素分子がＦｅ原
子との直接的な錯結合により固定化されるため、多ヨウ
素分子に対して非常に強いプロツキ／タカと固定化力が
生じる。このことは耐環境性（％に耐湿性）が、従来に
比べ飛躍的に向上することを意味する。
の錯結合により安定化されて円筒状の構造を形成し、さ
らに該ら旋分子鎖中に入っている多ヨウ素分子がＦｅ原
子との直接的な錯結合により固定化されるため、多ヨウ
素分子に対して非常に強いプロツキ／タカと固定化力が
生じる。このことは耐環境性（％に耐湿性）が、従来に
比べ飛躍的に向上することを意味する。
また本発明とホウ酸処理を併用すると効果が高まり、一
段と耐環境性が向上する。
段と耐環境性が向上する。
第５図に本発明によるＨ膜の製造方法を示す。
ｐｖムフイルム５１を偏光処理槽５５中に浸漬し、Ａ−
Ｂ間で５〜５倍に一軸延伸する０次にホウ酸処理槽５４
中に浸漬し、水洗槽５５で水洗して、乾燥炉５６中で４
０〜７０Ｃの温度で乾燥する。
Ｂ間で５〜５倍に一軸延伸する０次にホウ酸処理槽５４
中に浸漬し、水洗槽５５で水洗して、乾燥炉５６中で４
０〜７０Ｃの温度で乾燥する。
最後にＨ膜となったフィルム５２を巻取る。
ここで偏光処理とは、ＰＶＡフィルムに′Ｂつ索ヲ吸着
させて偏光能を付４することであり、また本光明忙於い
ては金属原子による高分子錯体を形成させる処理でもあ
る。ゆえに偏光処理は本発明の中心を成す最重要工程で
あり、液組成は以下Φ様になっている。
させて偏光能を付４することであり、また本光明忙於い
ては金属原子による高分子錯体を形成させる処理でもあ
る。ゆえに偏光処理は本発明の中心を成す最重要工程で
あり、液組成は以下Φ様になっている。
金属ヨウ化物（ＭＩｎ）はＨＣｊ ｔｇ性下でＨ２Ｏ。
により次式のごとく酸化される＝
Ｍ Ｉ ｎ −！Ｌ！２Ｌ−ｙ、 （ｎ ＊ １ ）
＋十工、＋（ｎ＋１）ｅＯ１ （Ｍ＝金属原子、ｎ：１〜５の整数） 上記反応式から生じた工８分子がＰＶＡら旋分子鎖中に
入り多ヨウ素分子を形成する。当初金属イオンＭ（ｎ＋
１）＋は、ＰＶＡら旋分子鎖の立体的な原因のため完全
な錯体な形成しない。−軸延伸工程により、ｐｖムら旋
分子鎖及び多ヨウ素分子が一方向に配列すると同時に１
金楓イオンＭ（ｎ＋１）′″が両電子供与基に対して錯
結合を生じ、強力に多ヨウ素分子を同定すると考えられ
る。
＋十工、＋（ｎ＋１）ｅＯ１ （Ｍ＝金属原子、ｎ：１〜５の整数） 上記反応式から生じた工８分子がＰＶＡら旋分子鎖中に
入り多ヨウ素分子を形成する。当初金属イオンＭ（ｎ＋
１）＋は、ＰＶＡら旋分子鎖の立体的な原因のため完全
な錯体な形成しない。−軸延伸工程により、ｐｖムら旋
分子鎖及び多ヨウ素分子が一方向に配列すると同時に１
金楓イオンＭ（ｎ＋１）′″が両電子供与基に対して錯
結合を生じ、強力に多ヨウ素分子を同定すると考えられ
る。
ホウ酸処理はより安定化するために行ない、水洗は余分
な偏光処理液及びホウａｌｔを除去するためである。
な偏光処理液及びホウａｌｔを除去するためである。
また偏光膜の透過率は、金属ヨウ化物１１１度と処理時
間を一定にするとＸ ＨＩ Ｏ寓Ｗｊｌ餐により決定
されるため制御が容易である。
間を一定にするとＸ ＨＩ Ｏ寓Ｗｊｌ餐により決定
されるため制御が容易である。
以上の他に耐環境性帆影響を及ぼす要因として偏光処理
と延伸処理の一序があり、偏光処理した後一度に延伸す
ると最もよくなることがわかった。
と延伸処理の一序があり、偏光処理した後一度に延伸す
ると最もよくなることがわかった。
第１表に結果を示す。この理由としては、前記したよう
に金属イオンＭ（ｎ＋１）が錯結合を形成する際、Ｐｖ
ム−ヨウ素包接化合物の立体構造に大きく依存するため
と推測される。
に金属イオンＭ（ｎ＋１）が錯結合を形成する際、Ｐｖ
ム−ヨウ素包接化合物の立体構造に大きく依存するため
と推測される。
第１表
以下に本発明の実施例と従来例挙げ、偏光板とした場合
の耐湿性を比較した。ここで述べる偏光板とは、ＨＩ＆
の両側に三酢酸セルロースフィルムをラミネートしたも
のである。
の耐湿性を比較した。ここで述べる偏光板とは、ＨＩ＆
の両側に三酢酸セルロースフィルムをラミネートしたも
のである。
〔実施例１〕
ＰＶＡフィルム（東京セロノーン製Ｈ−５０）を下記の
組成の偏光処理液に６０秒間浸漬した後、−４に４倍地
伸した。この時点でＰＶＡフィルムの色相が透明から青
色系統に変わり、高分子金属錯体が生じたことがわかっ
た。次に４０Ｃの４−ホウ酸液に９０秒間浸漬し、最後
に水洗乾燥して目的のＨ膜を得た。この様にした得たＨ
ＪＩｉの両面にポリウレタン系の接着剤を塗り、三酢酸
セルロースフィルム（富±フィルムｇ Ｔ Ａ Ｃフィ
ルム）をラミネートして偏光板にした。
組成の偏光処理液に６０秒間浸漬した後、−４に４倍地
伸した。この時点でＰＶＡフィルムの色相が透明から青
色系統に変わり、高分子金属錯体が生じたことがわかっ
た。次に４０Ｃの４−ホウ酸液に９０秒間浸漬し、最後
に水洗乾燥して目的のＨ膜を得た。この様にした得たＨ
ＪＩｉの両面にポリウレタン系の接着剤を塗り、三酢酸
セルロースフィルム（富±フィルムｇ Ｔ Ａ Ｃフィ
ルム）をラミネートして偏光板にした。
〔実施例２〕
ＰＶＡフィルムＣｌｌ０Ｋセロハン製Ｈ−５０）を下記
の組成の偏光処理液に４５秒間浸漬した後、一度に４倍
延伸した。この時点でＰＶＡフィルムが青色系統に変化
した。以下〔実施例１〕を同様に処理して偏光板にした
。
の組成の偏光処理液に４５秒間浸漬した後、一度に４倍
延伸した。この時点でＰＶＡフィルムが青色系統に変化
した。以下〔実施例１〕を同様に処理して偏光板にした
。
ＰＶＡフィルム（東京セロハンＩｎ−５０）を下記の組
成の従来偏光処理液に６０秒間浸漬した後、一度に４倍
延伸した。この時点では、ＰＶＡフィルムの色相は単に
ヨウ素が吸着した 色を呈した。次１（４０℃の４％ホ
ウ酸液に１２０秒間浸漬すると、育系統に色相が変化し
ＰＶＡ分子鎖にホウ素が結合したことがわかった。最後
に水洗乾燥して従来のＨＩＥを得、〔実施例１〕と同様
に偏光板にした。
成の従来偏光処理液に６０秒間浸漬した後、一度に４倍
延伸した。この時点では、ＰＶＡフィルムの色相は単に
ヨウ素が吸着した 色を呈した。次１（４０℃の４％ホ
ウ酸液に１２０秒間浸漬すると、育系統に色相が変化し
ＰＶＡ分子鎖にホウ素が結合したことがわかった。最後
に水洗乾燥して従来のＨＩＥを得、〔実施例１〕と同様
に偏光板にした。
上記〔実施例１〕、〔実施例２〕、〔従来例〕で作った
偏光板の光学特性及び耐湿性を第２表に示す。これから
明らかなように本発明による〔実施例１〕、〔実施例２
〕は耐湿性が非常に優れ、〔従来例〕は非常に劣ること
がわかる。
偏光板の光学特性及び耐湿性を第２表に示す。これから
明らかなように本発明による〔実施例１〕、〔実施例２
〕は耐湿性が非常に優れ、〔従来例〕は非常に劣ること
がわかる。
ｗＥ２表
以上から本発明は簡単な方法で光学特性を低下させず、
耐湿性の優れた偏光板を提供する。このことは単に偏光
板自体の特性向上にとどまらず、偏光板を使うＴＮ型液
晶表示素子の応用分野拡大にも役立つものである。
耐湿性の優れた偏光板を提供する。このことは単に偏光
板自体の特性向上にとどまらず、偏光板を使うＴＮ型液
晶表示素子の応用分野拡大にも役立つものである。
第１図は従来の各偏光膜の構造を表わし、（ａ）は、Ｈ
膜の構、（ｂ）はＬ膜の構造、（Ｃ）はＸ膜の構造の概
略を表わす。ここで１１．１４．１７はｐｖムフイルム
または透明プラスチックフィルム。１２゜１５．１８は
該フィルムの分子鎖、１５は多ヨウ素分子、１６は二色
性染料、１９は分子−内二重結合。 第２図（ａ）は第１図に示すＢ膜の概略構造の拡大図で
あり、２２はＰ”ｉｋら旋分子鎖、２ｓは多ヨウ素分子
を表わす。第２図（ｂ）はヨウ素分子の２原子分子構造
、第２図（Ｃ）はヨウ素分子の多原子分子構造を表わす
。 第Ｓ図（〜はホウ酸処理した場合のＨ膜構造であり、５
２はｐｖムら旋分子鎖、５５は多ヨウ素分子、５４はホ
ウ素原子を表わす、第５図（時はホウ酸分子の構造を表
わす。 第４図（ａ）は本発明による錯体形成処理をした場合の
Ｈ膜構造であり、４２はｐ Ｖ Ａら旋分子鎖、４５は
多ヨウ素分子、４４は金属原子を表わす。 ＃！７図（呻はＦｅ原子の錯体構造を示し、４５はＰａ
原子、４６は配位子を表わす。 第５図は本発明による製造方法を示し、５１はＰＶＡフ
ィルム、５２はＨ膜、５５は偏光処理槽、５４はホウ酸
処理槽、５５は水洗槽、５６は乾燥炉、５７は処理ロー
ラを表わす。 戸。 （Ｇ） （ｂ） 第１図 ＣＧ） ：：］ｂ） （Ｃ）第２図 ＼ 禦 ／′ （０） Ｈ （ｂ） 第３図 手続補正書（自発） 昭和ｖｆ年１０月 ８日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５６年特許願第２０７５７４号 ２、発明の名称 偏光膜の製造方法 ３、補正をする者 ４、代理人 ５、 補正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 特許請求の範囲を以下の如く訂正。 ｒ（１） ａ明プラスチックフィルムを一軸延伸し二
色性物質を吸着せしめてなる偏光膜に於いて、偏光機能
全付与する処理をヨウ素化合物で行なうことを特徴とす
る偏光膜の製造方法。 （２） ヨウ素化合物がＣｕＩ、Ｃｕ１１．Ｎｉ１１
゜Ｃ０ＸＢ、Ｆｅ１ｌ、 １Ｆｅ工１ である特許請求
の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 （３）偏光機能を付与する処理液がＨｃｇ。 Ｈ雪ｓｏ４等の酸によりＰＨが７以下にコントロ２され
、さらに前記処理液に酸化剤としてＨＩ Ｏ，が添加さ
れている特許請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法
。 （４） 偏光機能を付与する処理液により処理された
後、５〜５倍に一軸延伸′する特許請求の範囲第１項記
載の偏光膜の製造方法。」２ 明細書８頁上から２行目 「配位結合τ生じるためである。」とあるを「配位結合
を生じる。」に訂正します。 。 五 ＠′１１０頁上から２行目 「Ｍ、、 ＨｔＯｓ Ｍ（ｎ＋１ ）”＋Ｉ、 ＋（ｎ
−）−１） ｅＪＩＣＡ とあるを Ｉｓ ｏ＝ ｒ Ｍ ｒ ｎ−７−＋Ｍ （＋＞＋す＋Ｉｔ 十（ｎ
＋１ ） ｅＨｃＱ Ｊ に訂正します。 ４、同１１頁上から５行目 ［金属イオン、（ｔ１＋ｔ）」とあるを「金、ｋＡイオ
ンＭ （ｎ ＋ １）” 」と訂正します。 五 同１１頁、第１表中 「耐湿性 （６０℃Ｘ９０ Ｃ／Ｄ ＲＩ（） Ｊとあるを「耐湿
性 （６０℃×９０チＲＩ（）Ｊと訂正します。 ＆ 同１１頁下から８行目 「従来例挙げ」とあるを 「従米例金挙げ」と訂正します。 ； 同１３頁下から１０行目 「吸着した色」とあるを 「吸着し次褐色」に訂正します。 以 上
膜の構、（ｂ）はＬ膜の構造、（Ｃ）はＸ膜の構造の概
略を表わす。ここで１１．１４．１７はｐｖムフイルム
または透明プラスチックフィルム。１２゜１５．１８は
該フィルムの分子鎖、１５は多ヨウ素分子、１６は二色
性染料、１９は分子−内二重結合。 第２図（ａ）は第１図に示すＢ膜の概略構造の拡大図で
あり、２２はＰ”ｉｋら旋分子鎖、２ｓは多ヨウ素分子
を表わす。第２図（ｂ）はヨウ素分子の２原子分子構造
、第２図（Ｃ）はヨウ素分子の多原子分子構造を表わす
。 第Ｓ図（〜はホウ酸処理した場合のＨ膜構造であり、５
２はｐｖムら旋分子鎖、５５は多ヨウ素分子、５４はホ
ウ素原子を表わす、第５図（時はホウ酸分子の構造を表
わす。 第４図（ａ）は本発明による錯体形成処理をした場合の
Ｈ膜構造であり、４２はｐ Ｖ Ａら旋分子鎖、４５は
多ヨウ素分子、４４は金属原子を表わす。 ＃！７図（呻はＦｅ原子の錯体構造を示し、４５はＰａ
原子、４６は配位子を表わす。 第５図は本発明による製造方法を示し、５１はＰＶＡフ
ィルム、５２はＨ膜、５５は偏光処理槽、５４はホウ酸
処理槽、５５は水洗槽、５６は乾燥炉、５７は処理ロー
ラを表わす。 戸。 （Ｇ） （ｂ） 第１図 ＣＧ） ：：］ｂ） （Ｃ）第２図 ＼ 禦 ／′ （０） Ｈ （ｂ） 第３図 手続補正書（自発） 昭和ｖｆ年１０月 ８日 特許庁長官殿 １、事件の表示 昭和５６年特許願第２０７５７４号 ２、発明の名称 偏光膜の製造方法 ３、補正をする者 ４、代理人 ５、 補正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 特許請求の範囲を以下の如く訂正。 ｒ（１） ａ明プラスチックフィルムを一軸延伸し二
色性物質を吸着せしめてなる偏光膜に於いて、偏光機能
全付与する処理をヨウ素化合物で行なうことを特徴とす
る偏光膜の製造方法。 （２） ヨウ素化合物がＣｕＩ、Ｃｕ１１．Ｎｉ１１
゜Ｃ０ＸＢ、Ｆｅ１ｌ、 １Ｆｅ工１ である特許請求
の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 （３）偏光機能を付与する処理液がＨｃｇ。 Ｈ雪ｓｏ４等の酸によりＰＨが７以下にコントロ２され
、さらに前記処理液に酸化剤としてＨＩ Ｏ，が添加さ
れている特許請求の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法
。 （４） 偏光機能を付与する処理液により処理された
後、５〜５倍に一軸延伸′する特許請求の範囲第１項記
載の偏光膜の製造方法。」２ 明細書８頁上から２行目 「配位結合τ生じるためである。」とあるを「配位結合
を生じる。」に訂正します。 。 五 ＠′１１０頁上から２行目 「Ｍ、、 ＨｔＯｓ Ｍ（ｎ＋１ ）”＋Ｉ、 ＋（ｎ
−）−１） ｅＪＩＣＡ とあるを Ｉｓ ｏ＝ ｒ Ｍ ｒ ｎ−７−＋Ｍ （＋＞＋す＋Ｉｔ 十（ｎ
＋１ ） ｅＨｃＱ Ｊ に訂正します。 ４、同１１頁上から５行目 ［金属イオン、（ｔ１＋ｔ）」とあるを「金、ｋＡイオ
ンＭ （ｎ ＋ １）” 」と訂正します。 五 同１１頁、第１表中 「耐湿性 （６０℃Ｘ９０ Ｃ／Ｄ ＲＩ（） Ｊとあるを「耐湿
性 （６０℃×９０チＲＩ（）Ｊと訂正します。 ＆ 同１１頁下から８行目 「従来例挙げ」とあるを 「従米例金挙げ」と訂正します。 ； 同１３頁下から１０行目 「吸着した色」とあるを 「吸着し次褐色」に訂正します。 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）透明プラスチックフィルムを一軸延伸し二色性物
質を吸着せしめてなる偏光膜に於いて、偏光機能を付与
する処理をヨウ素化合物で行なうことを特徴とする偏光
膜の製造方法。 Ｑ） ヨウ素化合物がＣｕ工＋ Ｃｕ ｒ Ｈ＠ Ｎｉ
１ｇ ＋Ｃｏ工１．Ｐａ工、、Ｆｅ１１である特許請求
の範囲第１項記載の偏光膜の製造方法。 （５）偏光機能を付与する処理液がＨｃｊ。 Ｈ１ｓｏ４等の酸によりＰＨが７以下にされ、さらに前
記処理液に酸化剤として）Ｉ、 Ｏ，が添加されている
特許請求の範囲８１項記載の偏光膜の製造方法。 （４）偏光機能を付与する処理液により処理された後５
〜５倍に一軸延伸する特許請求の範囲第１項記載偏光膜
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20737481A JPS58107505A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 偏光膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20737481A JPS58107505A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 偏光膜の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58107505A true JPS58107505A (ja) | 1983-06-27 |
| JPS6114484B2 JPS6114484B2 (ja) | 1986-04-18 |
Family
ID=16538659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20737481A Granted JPS58107505A (ja) | 1981-12-22 | 1981-12-22 | 偏光膜の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58107505A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61175602A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-07 | ポラロイド コーポレーシヨン | 偏光子およびその製法 |
| JPS63311203A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 偏光フィルムの製造方法 |
| JPH02244006A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-09-28 | Nippon Kayaku Co Ltd | 位相差フィルム及びその製造法 |
| JPH07104126A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Kuraray Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法 |
| WO2007086392A1 (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Kyoto University | ポリマー－金属複合体及びその製造方法 |
| KR101025466B1 (ko) | 2008-01-17 | 2011-04-04 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 편광판, 그 제조 방법, 광학 필름 및 화상 표시 장치 |
-
1981
- 1981-12-22 JP JP20737481A patent/JPS58107505A/ja active Granted
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61175602A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-07 | ポラロイド コーポレーシヨン | 偏光子およびその製法 |
| JPH0234001B2 (ja) * | 1985-01-25 | 1990-08-01 | Polaroid Corp | |
| JPS63311203A (ja) * | 1987-06-12 | 1988-12-20 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 偏光フィルムの製造方法 |
| JPH02244006A (ja) * | 1989-03-17 | 1990-09-28 | Nippon Kayaku Co Ltd | 位相差フィルム及びその製造法 |
| JPH07104126A (ja) * | 1993-10-05 | 1995-04-21 | Kuraray Co Ltd | 偏光フィルムの製造方法 |
| WO2007086392A1 (ja) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Kyoto University | ポリマー－金属複合体及びその製造方法 |
| JP5444559B2 (ja) * | 2006-01-24 | 2014-03-19 | 国立大学法人京都大学 | ポリマー−金属複合体及びその製造方法 |
| KR101025466B1 (ko) | 2008-01-17 | 2011-04-04 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 편광판, 그 제조 방법, 광학 필름 및 화상 표시 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6114484B2 (ja) | 1986-04-18 |
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