JPS58102795A - 光情報記録媒体 - Google Patents
光情報記録媒体Info
- Publication number
- JPS58102795A JPS58102795A JP56201711A JP20171181A JPS58102795A JP S58102795 A JPS58102795 A JP S58102795A JP 56201711 A JP56201711 A JP 56201711A JP 20171181 A JP20171181 A JP 20171181A JP S58102795 A JPS58102795 A JP S58102795A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- recording layer
- track
- photo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は記鎌層を構成する反射層がトラック状で6少そ
れ以外の部分が光Wk収層である光情報記鎌媒体に関す
る。
れ以外の部分が光Wk収層である光情報記鎌媒体に関す
る。
従来、書込みの際の案内溝な設は先光情報記―媒体とし
ては、基4[IIC予め使用する光ビームの波長のス・
Ii度の深さの溝を形成しさらにこの#IO上に金属、
半金属および色素を蒸着して情報記−媒体としたもの(
例えばslf#Rvsss−97033号公報参jl)
中平担なディスクの外周部に予めトラックを設けそれに
沿って情報を記―するようにしえもの(例えば%特開昭
51−91610号公報参照)などが知られている。
ては、基4[IIC予め使用する光ビームの波長のス・
Ii度の深さの溝を形成しさらにこの#IO上に金属、
半金属および色素を蒸着して情報記−媒体としたもの(
例えばslf#Rvsss−97033号公報参jl)
中平担なディスクの外周部に予めトラックを設けそれに
沿って情報を記―するようにしえもの(例えば%特開昭
51−91610号公報参照)などが知られている。
しかしながら、光ビームの波長のVallA度の深さo
ipIを基板に形成させゐ方式は、癖をプレスや射出成
形によって成形することから精度を高くすることが困難
である。tた、基板材料として用いられる塩化ビニル樹
脂紘成華性は良いが、耐久性が悪く一方アクリル樹脂は
成形その−のが困難であるという問題がある。
ipIを基板に形成させゐ方式は、癖をプレスや射出成
形によって成形することから精度を高くすることが困難
である。tた、基板材料として用いられる塩化ビニル樹
脂紘成華性は良いが、耐久性が悪く一方アクリル樹脂は
成形その−のが困難であるという問題がある。
tえ、外周部のみに、あらかじめトラックを設けてお亀
、それに沿って゛情報を配碌する方式は、内周部の任意
の場所に記鍮を行なえ攻いという問題がある。
、それに沿って゛情報を配碌する方式は、内周部の任意
の場所に記鍮を行なえ攻いという問題がある。
さらに、あらかじめトラックを全く設けない方式もある
がこれは、μ鳳オーダーonrxを機械精度のみで出さ
ねばならず装置が高価なものとなる。
がこれは、μ鳳オーダーonrxを機械精度のみで出さ
ねばならず装置が高価なものとなる。
本発明は上記問題K11lみてなされたものであって、
平担な基板を使用して安価Kll造で亀かつトラッキン
グナーボを効率よく行なえる光情報記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。
平担な基板を使用して安価Kll造で亀かつトラッキン
グナーボを効率よく行なえる光情報記録媒体を提供する
ことを目的とするものである。
すなわち1本発明の光情報記録媒体は基板と記録層とか
らな〕、前記記録層のトラックが反射層であシそして前
記記録層のトラック以外の部分が光吸収層であることを
轡黴とするものである。
らな〕、前記記録層のトラックが反射層であシそして前
記記録層のトラック以外の部分が光吸収層であることを
轡黴とするものである。
添付図画を参照して、本発明の光情報記録媒体の構成を
説明すると、第1図に示すように基板1の上KIea層
2が設けられてお〕、該記録層2はトラックの反射層6
とjta収層4とから構成されている。トラックの形状
は第2図に示すように同心円状に限ることなく、渦巻状
を九は円弧状であってもよく、場合によりては直線であ
ってもよい。
説明すると、第1図に示すように基板1の上KIea層
2が設けられてお〕、該記録層2はトラックの反射層6
とjta収層4とから構成されている。トラックの形状
は第2図に示すように同心円状に限ることなく、渦巻状
を九は円弧状であってもよく、場合によりては直線であ
ってもよい。
次に、本発明の光情報記録媒体の製造方法を一般的に1
!明する。
!明する。
まず、フォトレジストを適尚な基板に適用してフォトレ
ジスト層を形成する。「フォトレジスト」と社感光性物
質であって元の作用で水や有機溶剤に溶けk〈い皮膜い
わゆる光硬化皮膜とな)一般に写真製版で画曽部、非画
倫部を分けるために用い本ものである。基板としてはガ
ラス、ゾツスチックなどの一般に用いられゐ透明な基材
を使用できる。基板に線熱伝導率を下げ九)、平滑性を
向上するために樹脂中酸化物などO下引層を形成しても
よい0次に、フォトレジスト層は通常の書きつけ方法ま
九は像様露光操作の使用によルツオトレジスト層に対し
てパターン(トラック)をつけ九7オトレジスト画像を
形成させることができる0本発−では/4ターンのつい
たフォトレジスト紘しジスト層Oj1轟な取ル扱いによ
ルすなわちフォトレジスト層を露光するようにレジスト
層上に*Ii*を書きつ妙ることによルを九は尚該技術
分野でよく知られ九jig光およq!I曽工薯によII
ノターンのついた溶媒不溶性レジストを形感させるこ−
によってフォトレジスト層上に形成される。≦のaa、
パターンは光情報記録媒体の記録層が記碌されるトラッ
クが形成されるように7オfトレジスト層上に同心甲状
壕九はうずt1状あるいは線状にレーザなどによりel
l込むかあるいはマスクを介して露光することによシ作
成される。
ジスト層を形成する。「フォトレジスト」と社感光性物
質であって元の作用で水や有機溶剤に溶けk〈い皮膜い
わゆる光硬化皮膜とな)一般に写真製版で画曽部、非画
倫部を分けるために用い本ものである。基板としてはガ
ラス、ゾツスチックなどの一般に用いられゐ透明な基材
を使用できる。基板に線熱伝導率を下げ九)、平滑性を
向上するために樹脂中酸化物などO下引層を形成しても
よい0次に、フォトレジスト層は通常の書きつけ方法ま
九は像様露光操作の使用によルツオトレジスト層に対し
てパターン(トラック)をつけ九7オトレジスト画像を
形成させることができる0本発−では/4ターンのつい
たフォトレジスト紘しジスト層Oj1轟な取ル扱いによ
ルすなわちフォトレジスト層を露光するようにレジスト
層上に*Ii*を書きつ妙ることによルを九は尚該技術
分野でよく知られ九jig光およq!I曽工薯によII
ノターンのついた溶媒不溶性レジストを形感させるこ−
によってフォトレジスト層上に形成される。≦のaa、
パターンは光情報記録媒体の記録層が記碌されるトラッ
クが形成されるように7オfトレジスト層上に同心甲状
壕九はうずt1状あるいは線状にレーザなどによりel
l込むかあるいはマスクを介して露光することによシ作
成される。
1[+はフォトレジスト層の未露光部分を接媒によpレ
ジスト層から除去することによって行なわれる。
ジスト層から除去することによって行なわれる。
次いで、フォトレジスト層の露光部分(白部分)と基板
表面とを例えばクロム酸温液などによって親水旭理を行
なう0次いで、フオ)L/レジスト層露光部分(白部分
)を例えば溶媒′を使用して一去する゛と基板の表面は
親水逃理され九部分(未−大部分′)と親木処理されな
かった部分になる0次に、このようKして処理された基
板表面に記録層形成液を塗布し先後加熱乾燥すると記録
層が形成される。塗布はブラシ塗)。
表面とを例えばクロム酸温液などによって親水旭理を行
なう0次いで、フオ)L/レジスト層露光部分(白部分
)を例えば溶媒′を使用して一去する゛と基板の表面は
親水逃理され九部分(未−大部分′)と親木処理されな
かった部分になる0次に、このようKして処理された基
板表面に記録層形成液を塗布し先後加熱乾燥すると記録
層が形成される。塗布はブラシ塗)。
ローラーmル、流し111ル1回転塗〕、スプレー塗ル
などによつそ行なわれる。
などによつそ行なわれる。
本発明における前記記録層形成液は例えば金属化合物を
水溶性樹脂溶液に溶解させさらに色素および還元剤を加
えて調製することがで龜る。
水溶性樹脂溶液に溶解させさらに色素および還元剤を加
えて調製することがで龜る。
金属化合物は還元剤の作用によって以下の金属粒子ムg
、ムu、 Ou、 Pd、 re、00%Ni、!1、
v、 si。
、ムu、 Ou、 Pd、 re、00%Ni、!1、
v、 si。
G・、 Be、 テh、 Mn、 Pt% Rh
、 Xr% TO,R@、Ru、 Os。
、 Xr% TO,R@、Ru、 Os。
MO% 〒a1 ム1、 Xn% 8n、 8@、
テ@、 Or、 Bi、Hf、!、)Ia、 Zr、
W、 Zn、 Mg、 iio、 )ib、 La、
’Prを形成し得るものである。金属化合物の具体例
としては硝駿銀、シアン化銀カリクム、シアン代金カリ
クム、銀アンンン錯体、銀シアン錯体、金塩オたは金シ
アン錯体などをあけることかで龜る。
テ@、 Or、 Bi、Hf、!、)Ia、 Zr、
W、 Zn、 Mg、 iio、 )ib、 La、
’Prを形成し得るものである。金属化合物の具体例
としては硝駿銀、シアン化銀カリクム、シアン代金カリ
クム、銀アンンン錯体、銀シアン錯体、金塩オたは金シ
アン錯体などをあけることかで龜る。
還元剤として紘ホルマりン、瀾石酸、瀬石酸塩。
還元糖1次亜燐酸塩、水素化硼素ナトリウム、ジメチル
ア安ンボラ7などを使用できる m元側は金属化合物1
モルに対しα5〜10’lル好宜しくはα5〜4モルの
弊履で使用できる。
ア安ンボラ7などを使用できる m元側は金属化合物1
モルに対しα5〜10’lル好宜しくはα5〜4モルの
弊履で使用できる。
水溶性樹脂としては例えにポリビニルアルコール、ポリ
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルア建
ドなどを使用で自る。水溶性樹脂に対する金属化合物の
量は重量比で11〜10好ましくはα5〜t5である。
ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルア建
ドなどを使用で自る。水溶性樹脂に対する金属化合物の
量は重量比で11〜10好ましくはα5〜t5である。
さらに、本発明において用いられる色票としては例えば
下記の染料をあけることがで@:b。
下記の染料をあけることがで@:b。
(1) 直接染料
化学構造から分類すると、アゾ、スチルベン、チアゾー
ル、ジオキサジン、フタロシアニン系などがある。それ
ぞれ代表的なものを以下にあげる。
ル、ジオキサジン、フタロシアニン系などがある。それ
ぞれ代表的なものを以下にあげる。
(IL)アゾ系
0、x、ダイL//ト・イzg−12(0,1,248
95)オレンジ 29(129155) レッド 2(# 23500) バイオレット 7(# 27855)ブルー 41
(# 42700) グI)−ン 33(134270) 1 59(# 34040) ブラウン 25(# 36030)ブラック 2
2(# 35435)56(# 34170) (b)スチルベン系 0、工、ダイレクト・イエロー 39プ2ツク 6
2 (0)フタロシアニン系 0.1.ダイレクト・ブルー 86(0,1,741
80)(2)酸性染料 (&)アゾ系 0、工、アシッド・イエロー 36(c、z、1so6
s)オレンジ 56(# 22895)レッド
9(115635) バイオレット 7(118055) ブルー 29(120460) グリーン 35(# 13361) ブラック 26(# 27070) (1))アントラキノン系 0.1.7−/ ラド・バイオVツ) ((:!、L
61710,6180(1)ブルー 23CO,工、6
1t2s) グリ−744(# 61590) ブラック48(# 65005) (C)トリフェニルメタン系 C1工、アシッド・バイオレット49 (C,工、 4
2640)ブルー 85(# 42660) グリーン 16(144025) (司キtンテン系 0.1.アシッド・レッド 92(0,工、4541
0)(・)アジン系 C1工、アシッド・レッド 59(C,工、5031
s)ブラック 2(150420) (3) 塩基性染料 (a)シアニン系 0、工、ペイシック−vy ド 12(C0x、48
070)バイオレット 7(# 48020)(1)
)アゾ系 0、工、ペイシック・ブラウン 1(0,工、21
000)ブラック 2(111825) (0)アジン系 0、x、ベイVツクーvツド 2(0,1,502
40)レッド D # 45160) バイオレット10(# 45170)ブルー 3(
# 51005) ブルー 25(# 52025) (司トリフェニルメタン系 ○、工、ペイシック・レッド 9(0,1,425
00)バイオレット !(# 42555)ブルー
1(# 42025) グリーン 4(# 42000)(4)媒染、酸
性媒染染料 (&)アゾ系 0.1.モープント・イエロー 1(C0工、14
025)イエロー 26(# 22880)オレン
ジ 37(# 18750)レッド ?(#
16105) バイオレット 5(115670) 0、:[、!−ダント・プ#−13(0,工、1668
0)グリーン 11(# 20440)ブラック
?(# 16500)(1)アントラキノン系 篭−ダントーレツド 3(Ct、1.5&005)
ブルー 8(# 58805) ブラック 13(1,65615)
。
95)オレンジ 29(129155) レッド 2(# 23500) バイオレット 7(# 27855)ブルー 41
(# 42700) グI)−ン 33(134270) 1 59(# 34040) ブラウン 25(# 36030)ブラック 2
2(# 35435)56(# 34170) (b)スチルベン系 0、工、ダイレクト・イエロー 39プ2ツク 6
2 (0)フタロシアニン系 0.1.ダイレクト・ブルー 86(0,1,741
80)(2)酸性染料 (&)アゾ系 0、工、アシッド・イエロー 36(c、z、1so6
s)オレンジ 56(# 22895)レッド
9(115635) バイオレット 7(118055) ブルー 29(120460) グリーン 35(# 13361) ブラック 26(# 27070) (1))アントラキノン系 0.1.7−/ ラド・バイオVツ) ((:!、L
61710,6180(1)ブルー 23CO,工、6
1t2s) グリ−744(# 61590) ブラック48(# 65005) (C)トリフェニルメタン系 C1工、アシッド・バイオレット49 (C,工、 4
2640)ブルー 85(# 42660) グリーン 16(144025) (司キtンテン系 0.1.アシッド・レッド 92(0,工、4541
0)(・)アジン系 C1工、アシッド・レッド 59(C,工、5031
s)ブラック 2(150420) (3) 塩基性染料 (a)シアニン系 0、工、ペイシック−vy ド 12(C0x、48
070)バイオレット 7(# 48020)(1)
)アゾ系 0、工、ペイシック・ブラウン 1(0,工、21
000)ブラック 2(111825) (0)アジン系 0、x、ベイVツクーvツド 2(0,1,502
40)レッド D # 45160) バイオレット10(# 45170)ブルー 3(
# 51005) ブルー 25(# 52025) (司トリフェニルメタン系 ○、工、ペイシック・レッド 9(0,1,425
00)バイオレット !(# 42555)ブルー
1(# 42025) グリーン 4(# 42000)(4)媒染、酸
性媒染染料 (&)アゾ系 0.1.モープント・イエロー 1(C0工、14
025)イエロー 26(# 22880)オレン
ジ 37(# 18750)レッド ?(#
16105) バイオレット 5(115670) 0、:[、!−ダント・プ#−13(0,工、1668
0)グリーン 11(# 20440)ブラック
?(# 16500)(1)アントラキノン系 篭−ダントーレツド 3(Ct、1.5&005)
ブルー 8(# 58805) ブラック 13(1,65615)
。
(0)キサンチン系
モープント・レッド 15(0,1,45305)(
11) )リフェニルメタン系 モープント・パイ誓レット 1(o、x、43565)
ブルー 47(146855) (5)電動染料 (a)アントツキノン系 0、工、パット・イエ目−2(0,1,67300)イ
エロー 4(z 59100) オレンジ 2(# 59705) 0、x、バット−レッド 10(0,1,6700
0)バイオレット13(# 68700)ブルー
18(# 59815)グリーン 8(# 7
1050) ブラック ?(165230) グリーン D # 59825) (1))インジゴイド系 a、x、パyトー*vyジ 5(o、z、73335
)オレンジ 7(# 71105) レッド 2(# 73365) バイオレット 2(# 73385)ブルー 1
(173000) (6)分散染料 (a)アゾ系 C0工、ディスノース・イエロー 7(C11,2
6090)オレンジ 5(# 11100)レッ
ド 7(# 11150) バイオレット24(# 11200)(1))アント
ラキノン系 オレンジ 11 (c、x、607oO)レッド
11 (# 62015)バイオレット
4 (# 61105)ブルー 27
(160767)(7)油溶染料 (a)アゾ系 0、工、ソバント・イエロー 6(0,工、113
90)オレンジ 5(# 18745)レッド
27(# 26125) ブラウン 5(# 12020) (b)アントツキノン系 バイオレット 14 (0,工、61705)ブ
ルー 11 (161525)グリーン
(# 61565)(0)ツタロシアニy系 ソルベント・ブルー 25(0,工、74350)(
〜トリフェニルメタン系 051 (0,1,21260)色素の添加
量は水溶性樹脂に対して重量比でα002〜10好まし
く唸α01〜toである。
11) )リフェニルメタン系 モープント・パイ誓レット 1(o、x、43565)
ブルー 47(146855) (5)電動染料 (a)アントツキノン系 0、工、パット・イエ目−2(0,1,67300)イ
エロー 4(z 59100) オレンジ 2(# 59705) 0、x、バット−レッド 10(0,1,6700
0)バイオレット13(# 68700)ブルー
18(# 59815)グリーン 8(# 7
1050) ブラック ?(165230) グリーン D # 59825) (1))インジゴイド系 a、x、パyトー*vyジ 5(o、z、73335
)オレンジ 7(# 71105) レッド 2(# 73365) バイオレット 2(# 73385)ブルー 1
(173000) (6)分散染料 (a)アゾ系 C0工、ディスノース・イエロー 7(C11,2
6090)オレンジ 5(# 11100)レッ
ド 7(# 11150) バイオレット24(# 11200)(1))アント
ラキノン系 オレンジ 11 (c、x、607oO)レッド
11 (# 62015)バイオレット
4 (# 61105)ブルー 27
(160767)(7)油溶染料 (a)アゾ系 0、工、ソバント・イエロー 6(0,工、113
90)オレンジ 5(# 18745)レッド
27(# 26125) ブラウン 5(# 12020) (b)アントツキノン系 バイオレット 14 (0,工、61705)ブ
ルー 11 (161525)グリーン
(# 61565)(0)ツタロシアニy系 ソルベント・ブルー 25(0,工、74350)(
〜トリフェニルメタン系 051 (0,1,21260)色素の添加
量は水溶性樹脂に対して重量比でα002〜10好まし
く唸α01〜toである。
上述のようにして調製され九配置層形成液は基板上に記
録層前駆体を形成させる九めに塗布されるが、その際膜
厚はα1〜10−鵬好ましくは03〜2μmの範囲で適
用される。記録層形成液を塗布した後紀帰層前駆体を加
熱処理に付して記録層を形成させる。加熱は50°〜1
50℃好ましくは60°−+100℃の温度範囲内で行
なわれる。
録層前駆体を形成させる九めに塗布されるが、その際膜
厚はα1〜10−鵬好ましくは03〜2μmの範囲で適
用される。記録層形成液を塗布した後紀帰層前駆体を加
熱処理に付して記録層を形成させる。加熱は50°〜1
50℃好ましくは60°−+100℃の温度範囲内で行
なわれる。
加熱時間は加熱温度などく依存して変化するが加熱は少
なくとも記録層のトラックが金属粒子の反射層になるま
で行うことが必要である。記録層のトラック以外の部分
は光吸収層であって金属粒子および/lたは金属化合物
および色素からなっている。なお、上記の製造法は例示
のためのものであってこれに隈られるものではない。
なくとも記録層のトラックが金属粒子の反射層になるま
で行うことが必要である。記録層のトラック以外の部分
は光吸収層であって金属粒子および/lたは金属化合物
および色素からなっている。なお、上記の製造法は例示
のためのものであってこれに隈られるものではない。
次に1本発明の元情報記鎌媒体を作製する1つの手順を
第3図について説明すると、基体1にフォトレジストを
適用してフォトレジスト層5を形成させる(ム工程)、
次に7オトレジスト層5にアルゴンレーザを用いて同心
円状のトラックを省電つけた後溶媒などKよシ現像して
トラック6(側光部分)を形成させる(B工1り。
第3図について説明すると、基体1にフォトレジストを
適用してフォトレジスト層5を形成させる(ム工程)、
次に7オトレジスト層5にアルゴンレーザを用いて同心
円状のトラックを省電つけた後溶媒などKよシ現像して
トラック6(側光部分)を形成させる(B工1り。
次にクロム酸混箪などに浸して親木処理を行なう(0工
@)、次にトラック状の7オトレジスト層6を溶媒など
により除去すると親水処理された部分7が残存する(D
工程)、次いで記録層形成液を塗布して加熱処理を行う
(1工11)と第1図に示した本発明の配置媒体が得ら
れる。
@)、次にトラック状の7オトレジスト層6を溶媒など
により除去すると親水処理された部分7が残存する(D
工程)、次いで記録層形成液を塗布して加熱処理を行う
(1工11)と第1図に示した本発明の配置媒体が得ら
れる。
情報の記鍮社レーザなどの高エネルギービームのスポッ
トをあそることによルなされるが、金属反射層は、光吸
収性も持っておシ、吸収しえ熱によp反射層に大7bX
あき、記鎌がなされる。
トをあそることによルなされるが、金属反射層は、光吸
収性も持っておシ、吸収しえ熱によp反射層に大7bX
あき、記鎌がなされる。
情報の読出しは情報記―媒体に−いレーザビームをあて
てその反射光量の変化によって行なうことができる。
てその反射光量の変化によって行なうことができる。
以下に実施例によって本発明をさらに説明するがこれに
限定されるものではない。
限定されるものではない。
実施例 1
アクリル基板に7オトレジストを0.3μmの厚さにコ
ーティングしアルゴンレーザでうす巻状に露光し現像し
た。これをクロム酸混箪に10分間浸し先後、水洗し、
溶剤でフォトレジストを溶解させ丸。次いで、このよう
にして処理し九基板に ポリビニルアルコール 1p水
9P硝酸@
l15p 28%アンモニア水 (L5s135
−ホルマりン α2dンリングプル
ーBY α2p上記成分よシなる記録
層形成液を回転塗布したvk%80℃で5分間加熱させ
てうず巻状の反射層を有する記録層を得た。
ーティングしアルゴンレーザでうす巻状に露光し現像し
た。これをクロム酸混箪に10分間浸し先後、水洗し、
溶剤でフォトレジストを溶解させ丸。次いで、このよう
にして処理し九基板に ポリビニルアルコール 1p水
9P硝酸@
l15p 28%アンモニア水 (L5s135
−ホルマりン α2dンリングプル
ーBY α2p上記成分よシなる記録
層形成液を回転塗布したvk%80℃で5分間加熱させ
てうず巻状の反射層を有する記録層を得た。
実施例 2
実施例1と同様にして処理した基板に。
ポリビニルピロリドン 1P水
9P塩化金酸カ
リウム 1P酒石酸ナトリウム
α1p上記成分よシなる記録層形成
液を回転塗布した後、100℃で10分間加熱乾燥して
うす巻状の反射層を有する記録層を得え。
9P塩化金酸カ
リウム 1P酒石酸ナトリウム
α1p上記成分よシなる記録層形成
液を回転塗布した後、100℃で10分間加熱乾燥して
うす巻状の反射層を有する記録層を得え。
近赤外部におけゐ反射層部の反射率は2711それ以外
の部分反射率は8−であった。
の部分反射率は8−であった。
実施例1と同様にして記鍮を行ない、五1)rJ/pi
tのエネルギーで直@1aμ冨のスポットが得られた。
tのエネルギーで直@1aμ冨のスポットが得られた。
スポット部の反射率は15−に低下した。
実施例 6
実施例1と同様にしてアルゴンレーザを同心円状に廊光
し処理した基板に、 ポリビニルアルコール 1F水
9Pm酸銅
α8P28−アンモニア水
1d次亜リン酸カリウム
cL2PO,1,7シツドプルー23(o、
z、61125) (Up上記成分よpなる記録
層形成液を回転塗布した後、100℃で10分間加熱乾
燥して同心円状の反射層を有する記録層を得た。
し処理した基板に、 ポリビニルアルコール 1F水
9Pm酸銅
α8P28−アンモニア水
1d次亜リン酸カリウム
cL2PO,1,7シツドプルー23(o、
z、61125) (Up上記成分よpなる記録
層形成液を回転塗布した後、100℃で10分間加熱乾
燥して同心円状の反射層を有する記録層を得た。
近赤外部における反射層部の反射率は25−1それ以外
の部分の反射率は7−であった。
の部分の反射率は7−であった。
実施例1と同様にして記鍮を行ないs 5−5 rsX
/pitの書込エネルギーで直径t1趨のスポットが得
られた。スポット部の反射率は12−に低下し九。
/pitの書込エネルギーで直径t1趨のスポットが得
られた。スポット部の反射率は12−に低下し九。
このようにして製造され九本発明の光情報記鐘媒体は反
射層(鏡面)が形成されなかっ九部分唸光吸収層となっ
ておりトラッキング信号がより検出しやすいという利点
を有する。まえ、本発明の方法によれば塗布方式である
丸め製造が容易であシかつ平板な状態で塗布を行なうた
めム2が生じないという製造上の利点も得られる。 ・
射層(鏡面)が形成されなかっ九部分唸光吸収層となっ
ておりトラッキング信号がより検出しやすいという利点
を有する。まえ、本発明の方法によれば塗布方式である
丸め製造が容易であシかつ平板な状態で塗布を行なうた
めム2が生じないという製造上の利点も得られる。 ・
添付図面において、第1図は本発明の光情報記録媒体の
一例を示す断面図であり、K2図は本発明の光情報記碌
媒体の一例を示す部分断面斜視図で617そして第6図
は本実HID光情報記―媒体の製造上1を示す断面図で
ある。 1・・・基板、2・・・記録層、3・・・反射層、4・
・・光吸収層、5・・・フォトレジスト層、6・・・ト
ラック(ml光部分)、7・・・親木島壇され九部分。
一例を示す断面図であり、K2図は本発明の光情報記碌
媒体の一例を示す部分断面斜視図で617そして第6図
は本実HID光情報記―媒体の製造上1を示す断面図で
ある。 1・・・基板、2・・・記録層、3・・・反射層、4・
・・光吸収層、5・・・フォトレジスト層、6・・・ト
ラック(ml光部分)、7・・・親木島壇され九部分。
Claims (1)
- 基板と記脅層とからな)、前記記鎌層のトラックが反射
層であ〕そして前記記脅層のトラック以外の部分が光甑
収層であることをIl#黴とする、光情@配fIA媒体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56201711A JPS58102795A (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 光情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56201711A JPS58102795A (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 光情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58102795A true JPS58102795A (ja) | 1983-06-18 |
Family
ID=16445656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56201711A Pending JPS58102795A (ja) | 1981-12-16 | 1981-12-16 | 光情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58102795A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0155000A2 (en) * | 1984-03-16 | 1985-09-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing optical memory element |
EP0214824A2 (en) * | 1985-08-30 | 1987-03-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Manufacturing method for an optical memory element |
JPH01208737A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規な光記録媒体及びその製造方法 |
JPH01298542A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-12-01 | Canon Inc | 光記録媒体およびその製造方法 |
US4984232A (en) * | 1988-04-08 | 1991-01-08 | Fujitsu Limited | Compatible optical disk |
JPH0337839A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Brother Ind Ltd | 大容量光ディスク |
JPH0337838A (ja) * | 1989-07-05 | 1991-02-19 | Brother Ind Ltd | 光ディスク |
JPH0378131A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-04-03 | Brother Ind Ltd | 光記録媒体 |
EP0936606A3 (en) * | 1998-02-13 | 2001-09-19 | International Business Machines Corporation | A laser-writable information recording blank |
-
1981
- 1981-12-16 JP JP56201711A patent/JPS58102795A/ja active Pending
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0214824A2 (en) * | 1985-08-30 | 1987-03-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Manufacturing method for an optical memory element |
US4925776A (en) * | 1985-08-30 | 1990-05-15 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical memory element and manufacturing method thereof |
JPH01208737A (ja) * | 1988-02-16 | 1989-08-22 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 新規な光記録媒体及びその製造方法 |
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EP0936606A3 (en) * | 1998-02-13 | 2001-09-19 | International Business Machines Corporation | A laser-writable information recording blank |
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