JPS58102095A - 反射炉用電磁撹拌装置 - Google Patents
反射炉用電磁撹拌装置Info
- Publication number
- JPS58102095A JPS58102095A JP19956981A JP19956981A JPS58102095A JP S58102095 A JPS58102095 A JP S58102095A JP 19956981 A JP19956981 A JP 19956981A JP 19956981 A JP19956981 A JP 19956981A JP S58102095 A JPS58102095 A JP S58102095A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molten metal
- induction coil
- reverberatory furnace
- furnace
- phase induction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、反射炉内の溶湯を電磁力によって攪拌させ
る電磁攪拌装置に関するものである。
る電磁攪拌装置に関するものである。
従来、反射炉内の溶湯を電磁力によって攪拌させる装置
として、反射炉の底部外側あるいは側壁部外側に多相形
の誘導コイルを設け、この誘導コイルに多相交流電流を
流すことによって、反射炉の底部または側壁に沿って一
方向に進行する移動磁界を発生させて、この移動磁界に
よって反射炉内の溶湯を一定方向に循環させるようにし
たものが知られている。
として、反射炉の底部外側あるいは側壁部外側に多相形
の誘導コイルを設け、この誘導コイルに多相交流電流を
流すことによって、反射炉の底部または側壁に沿って一
方向に進行する移動磁界を発生させて、この移動磁界に
よって反射炉内の溶湯を一定方向に循環させるようにし
たものが知られている。
ところで、溶湯を攪拌する目的は1反射炉内の溶湯中の
温度分布を均一化すること1および溶湯中に混合物を均
暗に分散させて、溶湯の品質、成分を調整することが主
たる目的である。これらの目的を達成するためには、溶
湯中に溶湯を流動させるための誘導磁界が得られればよ
く、移動磁界によってlII湯を一定方向に循環させる
こ2は必ずしも必要ではない。
温度分布を均一化すること1および溶湯中に混合物を均
暗に分散させて、溶湯の品質、成分を調整することが主
たる目的である。これらの目的を達成するためには、溶
湯中に溶湯を流動させるための誘導磁界が得られればよ
く、移動磁界によってlII湯を一定方向に循環させる
こ2は必ずしも必要ではない。
本発明は、前記背景のもとに提案されたもので、溶湯を
流動させるための誘導磁界を発生させる誘導コイルに単
相形のものを使用することによって、誘導コイルの構造
を簡単にし、製造コストが安価で済む電磁攪拌装置を提
供することを目的とする。
流動させるための誘導磁界を発生させる誘導コイルに単
相形のものを使用することによって、誘導コイルの構造
を簡単にし、製造コストが安価で済む電磁攪拌装置を提
供することを目的とする。
以下、この発明を第1図および#12図に示す一実施例
に基づいて説明する。
に基づいて説明する。
図中、符号lで示すものは、反射炉の炉本体であって、
この炉本体lは、炉底壁1麿および側壁1bが耐火材料
で形成されている。前記炉底81111には、誘導磁界
を発生させて炉本体l内の溶湯2を攪拌させる単相形誘
導コイル8が埋設されてぃる。この単相形誘導コイル8
は、単相交流電流を流すコイルが炉底壁la内に大きな
0字形を描くように巻かれて形成されたもので、コイル
の中心線が炉底111mに直交するように埋設されてお
り、コイルから発生される磁束は、コイルの中心から出
て溶湯2内を通過する。
この炉本体lは、炉底壁1麿および側壁1bが耐火材料
で形成されている。前記炉底81111には、誘導磁界
を発生させて炉本体l内の溶湯2を攪拌させる単相形誘
導コイル8が埋設されてぃる。この単相形誘導コイル8
は、単相交流電流を流すコイルが炉底壁la内に大きな
0字形を描くように巻かれて形成されたもので、コイル
の中心線が炉底111mに直交するように埋設されてお
り、コイルから発生される磁束は、コイルの中心から出
て溶湯2内を通過する。
以下、前述のように構成された攪拌装置の作用について
説明する。
説明する。
炉底壁1mに埋設された単相形誘導コイル8に単相交流
電流を流すと、単相形誘導コイル8から発生して溶湯2
内を通る磁束の変化によって、単相形誘導コイル8の上
方に位置する溶湯2内に誘導磁界が発生する。そ・して
、この誘導磁界によって、単相形誘導コイル8上に位置
する溶湯は1第1図に矢印で示すように、単相形誘導コ
イル8による磁力線に沿って拡散し、この拡散によって
単相形誘導コイル8から離れた位置にある溶湯との攪拌
がなされる〇 なお、前述の一実施例においては、1個の大きな単相形
誘導コイル8で溶湯を攪拌するようにしているが、溶湯
2の攪拌を効率よく行うためには、溶湯2内に発生され
る誘導磁界の範囲が広くなるほうが好ましく、場合によ
っては、複数個の単相形誘導コイルを使用し、それぞれ
の単相形誘導コイルを炉底に分散して配置するようにし
てもよい。
電流を流すと、単相形誘導コイル8から発生して溶湯2
内を通る磁束の変化によって、単相形誘導コイル8の上
方に位置する溶湯2内に誘導磁界が発生する。そ・して
、この誘導磁界によって、単相形誘導コイル8上に位置
する溶湯は1第1図に矢印で示すように、単相形誘導コ
イル8による磁力線に沿って拡散し、この拡散によって
単相形誘導コイル8から離れた位置にある溶湯との攪拌
がなされる〇 なお、前述の一実施例においては、1個の大きな単相形
誘導コイル8で溶湯を攪拌するようにしているが、溶湯
2の攪拌を効率よく行うためには、溶湯2内に発生され
る誘導磁界の範囲が広くなるほうが好ましく、場合によ
っては、複数個の単相形誘導コイルを使用し、それぞれ
の単相形誘導コイルを炉底に分散して配置するようにし
てもよい。
また、単相形誘導コイルのコイルの巻き方は、前述の一
実施例のように0字形に限るものではなく、蚊取線香の
ようなうず春秋にしてもよい。
実施例のように0字形に限るものではなく、蚊取線香の
ようなうず春秋にしてもよい。
以上説明したように、この発明の攪拌装置は、反射炉内
の溶湯の攪拌を、反射炉の炉本体の炉底壁に埋設した単
相形の誘導コイルで行なうものであり、誘導コイルの構
造が、従来の電磁攪拌装置に使用されていた多相形の誘
導コイルに比べて非常に簡単になり、誘導コイルの製作
が容易に行えるようになるので、装置の製造コストを安
価にすることができる◎
の溶湯の攪拌を、反射炉の炉本体の炉底壁に埋設した単
相形の誘導コイルで行なうものであり、誘導コイルの構
造が、従来の電磁攪拌装置に使用されていた多相形の誘
導コイルに比べて非常に簡単になり、誘導コイルの製作
が容易に行えるようになるので、装置の製造コストを安
価にすることができる◎
第1図および第2図は、この発明を適用した反射炉の一
実施例を示すもので、第1v4は側面側から見た断面図
、第2図は第1図の■−■線に沿う断面図である。 1・・・・・・炉本体、11・旧・・炉底壁、2・・・
・・・溶湯、8・・・・・・単相形誘導コイル。
実施例を示すもので、第1v4は側面側から見た断面図
、第2図は第1図の■−■線に沿う断面図である。 1・・・・・・炉本体、11・旧・・炉底壁、2・・・
・・・溶湯、8・・・・・・単相形誘導コイル。
Claims (1)
- 反射炉の炉底に1個または複数個の単相形誘導コイルを
、当該誘導コイルに単相交流電力を与えた時にコイルか
ら発生する磁束が反射炉内の港湯内を通るように配置し
た反射炉用電磁攪拌装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19956981A JPS58102095A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 反射炉用電磁撹拌装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19956981A JPS58102095A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 反射炉用電磁撹拌装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58102095A true JPS58102095A (ja) | 1983-06-17 |
Family
ID=16410005
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19956981A Pending JPS58102095A (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 反射炉用電磁撹拌装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58102095A (ja) |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP19956981A patent/JPS58102095A/ja active Pending
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