JPH1195414A - マスク及び露光装置 - Google Patents
マスク及び露光装置Info
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- JPH1195414A JPH1195414A JP26937097A JP26937097A JPH1195414A JP H1195414 A JPH1195414 A JP H1195414A JP 26937097 A JP26937097 A JP 26937097A JP 26937097 A JP26937097 A JP 26937097A JP H1195414 A JPH1195414 A JP H1195414A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/66—Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
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- G—PHYSICS
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
- G03F1/84—Inspecting
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、半導体装置、あるいは液晶表示装置
を製造する際のフォトリソグラフィ工程で用いられるマ
スクおよび露光装置に関し、マスク搬送系と露光装置の
マスクテーブルとの間のマスクの受け渡しが高速に安定
して行うことができるマスクを提供することにある。ま
た、高速に安定してマスクの受け渡しが行うことができ
る露光装置を提供することを目的とする。 【解決手段】マスクテーブル５はコの字状のキャリッジ
７の一方の側面に取り付けられている。マスク３は、パ
ターン面３ａ側の周辺部をマスクテーブル５に設けられ
た６個の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの基準面に接触さ
せ、マスク３の磁性体部材１６ａ〜１６ｆを磁気的に吸
引する電磁石が設けられた吸着パッド１２ａ〜１２ｆで
吸着されて、マスクテーブル５の基準ピン５６上方に固
定されている。
を製造する際のフォトリソグラフィ工程で用いられるマ
スクおよび露光装置に関し、マスク搬送系と露光装置の
マスクテーブルとの間のマスクの受け渡しが高速に安定
して行うことができるマスクを提供することにある。ま
た、高速に安定してマスクの受け渡しが行うことができ
る露光装置を提供することを目的とする。 【解決手段】マスクテーブル５はコの字状のキャリッジ
７の一方の側面に取り付けられている。マスク３は、パ
ターン面３ａ側の周辺部をマスクテーブル５に設けられ
た６個の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの基準面に接触さ
せ、マスク３の磁性体部材１６ａ〜１６ｆを磁気的に吸
引する電磁石が設けられた吸着パッド１２ａ〜１２ｆで
吸着されて、マスクテーブル５の基準ピン５６上方に固
定されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、ある
いは液晶表示装置を製造する際のフォトリソグラフィ工
程で用いられるマスクおよび露光装置に関する。
いは液晶表示装置を製造する際のフォトリソグラフィ工
程で用いられるマスクおよび露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置や液晶表示装置等の製造工程
におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるい
は、マスク（以下、マスクという）に形成された回路パ
ターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレ
ート（以下、プレートという）上に投影露光する投影露
光装置が用いられている。この投影露光装置としては種
々の方式のものがあるが、例えば液晶表示装置の製造の
場合、マスク面およびプレート面をほぼ平行にしてマス
クとプレートとを対向させ、マスクとプレートとの間に
マスクパターンの一部の像を正立等倍でプレート面に投
影する投影光学系を配置し、マスクおよびプレートを当
該投影光学系に対して同期して１次元に走査させて露光
するいわゆる走査型露光装置がある。
におけるフォトリソグラフィ工程では、レチクルあるい
は、マスク（以下、マスクという）に形成された回路パ
ターンを投影光学系を介して半導体ウェハやガラスプレ
ート（以下、プレートという）上に投影露光する投影露
光装置が用いられている。この投影露光装置としては種
々の方式のものがあるが、例えば液晶表示装置の製造の
場合、マスク面およびプレート面をほぼ平行にしてマス
クとプレートとを対向させ、マスクとプレートとの間に
マスクパターンの一部の像を正立等倍でプレート面に投
影する投影光学系を配置し、マスクおよびプレートを当
該投影光学系に対して同期して１次元に走査させて露光
するいわゆる走査型露光装置がある。
【０００３】この走査型露光装置で用いられるマスクに
は、低膨張ガラスや石英などからなるガラス基板が使用
される。近年、この走査型露光装置で製造される液晶表
示パネルの大型化に伴ってマスクも大型化してきてお
り、マスクのガラス基板は、約５００ｍｍ×６００ｍｍ
程度の長方形形状で厚さが８ｍｍ程度あり重量が５〜１
０Ｋｇ程度になってきている。
は、低膨張ガラスや石英などからなるガラス基板が使用
される。近年、この走査型露光装置で製造される液晶表
示パネルの大型化に伴ってマスクも大型化してきてお
り、マスクのガラス基板は、約５００ｍｍ×６００ｍｍ
程度の長方形形状で厚さが８ｍｍ程度あり重量が５〜１
０Ｋｇ程度になってきている。
【０００４】通常マスクは、専用のマスクケースに収納
されて保管されており、使用の際にはマスク搬送系によ
りマスクケースから取り出して搬送し、走査型露光装置
のマスクテーブルに載置される。マスク搬送系での搬
送、およびマスクテーブルへの載置は、マスクのパター
ン形成領域外のマスク周辺部の数ヶ所を真空吸着した
り、機械的にクランプしたりして行われる。
されて保管されており、使用の際にはマスク搬送系によ
りマスクケースから取り出して搬送し、走査型露光装置
のマスクテーブルに載置される。マスク搬送系での搬
送、およびマスクテーブルへの載置は、マスクのパター
ン形成領域外のマスク周辺部の数ヶ所を真空吸着した
り、機械的にクランプしたりして行われる。
【０００５】図９は、マスク搬送系におけるマスク搬送
ロボットに真空吸着されたマスクが露光装置のマスクテ
ーブルに受け渡される状態を簡略的に示している。図９
において、マスク搬送ロボット１０２の複数のアームの
先端部に設けられたマスク吸着機構１０４、１０６によ
りマスク１００は真空吸着され、マスク搬送ロボット１
０２の移動と共に移動するようになっている。図９では
代表的に２つのマスク吸着機構１０４、１０６を示して
いるが、実際にはマスク１００の周辺部の例えば６ヶ所
が６個のマスク吸着機構で真空吸着されている。マスク
１００を吸着固定して移動するマスク搬送ロボット１０
２は、露光装置のマスクテーブル１０８上から図中Ａ方
向に移動してマスクテーブル１０８の吸着パッド１１
０、１１２にマスク１００を押しつける。なお、吸着パ
ッド１１０、１１２も代表的に示したものであり、実際
にはマスク吸着機構に対応して６個設けられている。マ
スクテーブル１０８の吸着パッド１１０、１１２により
マスク１００が真空吸着されると、マスク吸着機構１０
４、１０６はマスク１００の真空吸着による保持を解除
して図中Ａ方向と逆方向に移動し、マスク１００の受け
渡しが完了する。マスクテーブル１０８からマスク搬送
ロボット１０２にマスク１００を受け渡す場合には、上
記の動作を逆の順序で行うようにする。
ロボットに真空吸着されたマスクが露光装置のマスクテ
ーブルに受け渡される状態を簡略的に示している。図９
において、マスク搬送ロボット１０２の複数のアームの
先端部に設けられたマスク吸着機構１０４、１０６によ
りマスク１００は真空吸着され、マスク搬送ロボット１
０２の移動と共に移動するようになっている。図９では
代表的に２つのマスク吸着機構１０４、１０６を示して
いるが、実際にはマスク１００の周辺部の例えば６ヶ所
が６個のマスク吸着機構で真空吸着されている。マスク
１００を吸着固定して移動するマスク搬送ロボット１０
２は、露光装置のマスクテーブル１０８上から図中Ａ方
向に移動してマスクテーブル１０８の吸着パッド１１
０、１１２にマスク１００を押しつける。なお、吸着パ
ッド１１０、１１２も代表的に示したものであり、実際
にはマスク吸着機構に対応して６個設けられている。マ
スクテーブル１０８の吸着パッド１１０、１１２により
マスク１００が真空吸着されると、マスク吸着機構１０
４、１０６はマスク１００の真空吸着による保持を解除
して図中Ａ方向と逆方向に移動し、マスク１００の受け
渡しが完了する。マスクテーブル１０８からマスク搬送
ロボット１０２にマスク１００を受け渡す場合には、上
記の動作を逆の順序で行うようにする。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、以上のよう
な真空吸着方式や機械的クランプ方式によるマスク保持
では、マスク搬送ロボットからマスクテーブルへマスク
を受け渡す場合、あるいは逆にマスクテーブルからマス
ク搬送ロボットへマスクを受け渡す場合には、マスクの
両面からマスク吸着機構と吸着パッドが接触してマスク
を押圧することになる。このため、マスクの押圧部には
種々の応力が作用することになり、特にマスクの受け渡
し動作を高速化させた場合にはマスクの押圧部に大きな
圧力がかかってしまい、マスクが破損することがある。
また、上記従来のマスク保持方式では、受け渡し動作を
高速にするとマスクを真空吸着保持する際にバキューム
のリークが発生してマスクの受け渡しに失敗するおそれ
もある。
な真空吸着方式や機械的クランプ方式によるマスク保持
では、マスク搬送ロボットからマスクテーブルへマスク
を受け渡す場合、あるいは逆にマスクテーブルからマス
ク搬送ロボットへマスクを受け渡す場合には、マスクの
両面からマスク吸着機構と吸着パッドが接触してマスク
を押圧することになる。このため、マスクの押圧部には
種々の応力が作用することになり、特にマスクの受け渡
し動作を高速化させた場合にはマスクの押圧部に大きな
圧力がかかってしまい、マスクが破損することがある。
また、上記従来のマスク保持方式では、受け渡し動作を
高速にするとマスクを真空吸着保持する際にバキューム
のリークが発生してマスクの受け渡しに失敗するおそれ
もある。
【０００７】本発明は、従来の技術が有している上記技
術的課題を解決するためになされたものであり、その目
的は、マスク搬送系と露光装置のマスクテーブルとの間
のマスクの受け渡しが高速に安定して行うことができる
マスクを提供することにある。また、本発明の目的は、
高速に安定してマスクの受け渡しが行うことができる露
光装置を提供することにある。
術的課題を解決するためになされたものであり、その目
的は、マスク搬送系と露光装置のマスクテーブルとの間
のマスクの受け渡しが高速に安定して行うことができる
マスクを提供することにある。また、本発明の目的は、
高速に安定してマスクの受け渡しが行うことができる露
光装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の実施の形態を表
す図１乃至図８に対応付けて説明すると上記目的は、基
板の表面の所定領域（５８）にパターンが形成されたマ
スク（３）において、パターンが形成されている所定領
域（５８）外に、磁性体からなる磁性体部材（１６）を
設けたことを特徴とするマスクによって達成される。本
発明のマスク（３）において、磁性体部材（１６）は、
パターンが形成された基板の表面（３ａ）と、基板の裏
面（３ｂ）との少なくとも一方に設けたことを特徴とす
る。また、本発明のマスク（３）において、磁性体部材
（４０）は、基板の側面に設けられていることを特徴と
する。
す図１乃至図８に対応付けて説明すると上記目的は、基
板の表面の所定領域（５８）にパターンが形成されたマ
スク（３）において、パターンが形成されている所定領
域（５８）外に、磁性体からなる磁性体部材（１６）を
設けたことを特徴とするマスクによって達成される。本
発明のマスク（３）において、磁性体部材（１６）は、
パターンが形成された基板の表面（３ａ）と、基板の裏
面（３ｂ）との少なくとも一方に設けたことを特徴とす
る。また、本発明のマスク（３）において、磁性体部材
（４０）は、基板の側面に設けられていることを特徴と
する。
【０００９】また上記目的は、基板の表面の所定領域
（５８）にパターンが形成されたマスク（３）におい
て、基板の表面（３ａ）には、ペリクル（５２）が張設
されたペリクルフレーム（５０）が貼り付けられてお
り、ペリクルフレーム（５０）の少なくとも一部を磁性
体からなる磁性体部材にしたことを特徴とするマスクに
よって達成される。
（５８）にパターンが形成されたマスク（３）におい
て、基板の表面（３ａ）には、ペリクル（５２）が張設
されたペリクルフレーム（５０）が貼り付けられてお
り、ペリクルフレーム（５０）の少なくとも一部を磁性
体からなる磁性体部材にしたことを特徴とするマスクに
よって達成される。
【００１０】さらに上記目的は、マスクテーブル（５）
に載置されたマスク（３）に形成されたパターンの像を
感光基板（４）に露光する露光装置（１）において、マ
スク（３）として上記のいずれかのマスク（３）が用い
られ、マスクテーブル（５）は、磁性体部材（１６、４
０、５０）に対応した位置にマスク（３）を吸着する吸
着装置（１２）を有していることを特徴とする露光装置
（１）によって達成される。この露光装置（１）におい
て、吸着装置（１２）は、電磁石（３４、３６）と、当
該電磁石（３４、３６）を制御する制御部（２６）とを
有している。
に載置されたマスク（３）に形成されたパターンの像を
感光基板（４）に露光する露光装置（１）において、マ
スク（３）として上記のいずれかのマスク（３）が用い
られ、マスクテーブル（５）は、磁性体部材（１６、４
０、５０）に対応した位置にマスク（３）を吸着する吸
着装置（１２）を有していることを特徴とする露光装置
（１）によって達成される。この露光装置（１）におい
て、吸着装置（１２）は、電磁石（３４、３６）と、当
該電磁石（３４、３６）を制御する制御部（２６）とを
有している。
【００１１】本発明においては、マスク（３）を吸着し
て保持するために、マスク（３）に磁性体部材（１６、
４０）を設け、この磁性体部材（１６、４０）を電磁石
（３４、３６）を備えた吸着装置（１２）で磁気的に吸
引させることにより、マスクテーブル（５）にマスク
（３）を吸着固定させるようにしている。従って、従来
の真空吸着方式のような真空もれ等による吸着力の低下
を引き起こすことがなく、高速に安定してマスク（３）
の吸着固定および開放の動作を切り替えることができる
ようになる。
て保持するために、マスク（３）に磁性体部材（１６、
４０）を設け、この磁性体部材（１６、４０）を電磁石
（３４、３６）を備えた吸着装置（１２）で磁気的に吸
引させることにより、マスクテーブル（５）にマスク
（３）を吸着固定させるようにしている。従って、従来
の真空吸着方式のような真空もれ等による吸着力の低下
を引き起こすことがなく、高速に安定してマスク（３）
の吸着固定および開放の動作を切り替えることができる
ようになる。
【００１２】また、電磁石（３４、３６）による磁気的
吸引力は所定距離に及ぶので、マスク搬送系からマスク
テーブル（５）にマスク（３）を受け渡す動作におい
て、真空吸着より高速で安定した受け渡しを行うことが
でき、装置の信頼性を向上させることができるようにな
る。
吸引力は所定距離に及ぶので、マスク搬送系からマスク
テーブル（５）にマスク（３）を受け渡す動作におい
て、真空吸着より高速で安定した受け渡しを行うことが
でき、装置の信頼性を向上させることができるようにな
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態による
マスクおよび露光装置を図１乃至図４を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置は、図１の斜
視図に示すように走査型投影露光装置である。まず、本
実施の形態による走査型投影露光装置の概略の構成を図
１を用いて説明する。図１に示す走査型投影露光装置１
は、等倍正立系の投影光学系２を挟んで対向するように
マスク３および感光基板４が配置されている。このマス
ク３および感光基板４をＸ方向に同期して投影光学系２
に対して走査させることにより、マスク３上の原画パタ
ーンの等倍かつ正立像を感光基板４に投影露光する。投
影光学系２は例えばダイソン光学系を用いて構成されて
いる。投影光学系２は、何れも等倍正立系の投影レンズ
を複数内蔵しており、この結果得られる感光基板４上の
投影領域は、隣合う投影領域同士がＸ方向に所定量変位
するように、かつ隣合う領域の端部同士がＹ方向に重複
するように配置される。これに応じて複数の投影レンズ
も各投影領域の配置に応じて光学的にＸ方向に所定量変
位すると共にＹ方向に重複して配置されている。
マスクおよび露光装置を図１乃至図４を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置は、図１の斜
視図に示すように走査型投影露光装置である。まず、本
実施の形態による走査型投影露光装置の概略の構成を図
１を用いて説明する。図１に示す走査型投影露光装置１
は、等倍正立系の投影光学系２を挟んで対向するように
マスク３および感光基板４が配置されている。このマス
ク３および感光基板４をＸ方向に同期して投影光学系２
に対して走査させることにより、マスク３上の原画パタ
ーンの等倍かつ正立像を感光基板４に投影露光する。投
影光学系２は例えばダイソン光学系を用いて構成されて
いる。投影光学系２は、何れも等倍正立系の投影レンズ
を複数内蔵しており、この結果得られる感光基板４上の
投影領域は、隣合う投影領域同士がＸ方向に所定量変位
するように、かつ隣合う領域の端部同士がＹ方向に重複
するように配置される。これに応じて複数の投影レンズ
も各投影領域の配置に応じて光学的にＸ方向に所定量変
位すると共にＹ方向に重複して配置されている。
【００１４】すなわちこの走査型投影露光装置１におい
て、マスク３および感光基板４はそれぞれマスクテーブ
ル５および感光基板テーブル６を介して、Ｘ方向から見
た断面が上方向に開口を有するコ字状のキャリッジ７に
取り付けられている。マスクテーブル５はマスク３を吸
着固定すると共に、それぞれＸ方向、Ｙ方向、θZ方向
に駆動できるようになっており、感光基板テーブル６は
感光基板４を吸着固定し、感光基板４の露光面を投影光
学系２のフォーカス位置に合致させるために、それぞれ
Ｚ方向、θX方向、θY方向に駆動できるようになってい
る。
て、マスク３および感光基板４はそれぞれマスクテーブ
ル５および感光基板テーブル６を介して、Ｘ方向から見
た断面が上方向に開口を有するコ字状のキャリッジ７に
取り付けられている。マスクテーブル５はマスク３を吸
着固定すると共に、それぞれＸ方向、Ｙ方向、θZ方向
に駆動できるようになっており、感光基板テーブル６は
感光基板４を吸着固定し、感光基板４の露光面を投影光
学系２のフォーカス位置に合致させるために、それぞれ
Ｚ方向、θX方向、θY方向に駆動できるようになってい
る。
【００１５】キャリッジ７は、マスク３と感光基板４と
を一体的に移送するようになっており、底面部に形成さ
れたエアーベアリング（図示せず）によって、Ｘ方向に
伸長したエアーベアリングガイド８上を浮遊移動する。
実際上このキャリッジ７は、両側面に形成されたリニア
モータ９によって駆動される。なお投影光学系２、エア
ーベアリングガイド８、リニアモータ９の固定子は、除
振装置上に形成された装置定盤１０上に形成されてい
る。
を一体的に移送するようになっており、底面部に形成さ
れたエアーベアリング（図示せず）によって、Ｘ方向に
伸長したエアーベアリングガイド８上を浮遊移動する。
実際上このキャリッジ７は、両側面に形成されたリニア
モータ９によって駆動される。なお投影光学系２、エア
ーベアリングガイド８、リニアモータ９の固定子は、除
振装置上に形成された装置定盤１０上に形成されてい
る。
【００１６】以上の構成において、まずマスク３と感光
基板４の位置合わせを行なうため、マスクテーブル５を
Ｘ方向、Ｙ方向、θZ方向に動かしてマスク３に形成さ
れたマスク側アライメントパターンと感光基板４に形成
される感光基板側アライメントパターンを合致させる。
そしてキャリッジ７を、Ｘ方向にスキャン移動させ、投
影光学系２を等速にて通過させる。これによりマスク５
上のパターン領域がすべて感光基板４上に転写され、焼
付が完了する。
基板４の位置合わせを行なうため、マスクテーブル５を
Ｘ方向、Ｙ方向、θZ方向に動かしてマスク３に形成さ
れたマスク側アライメントパターンと感光基板４に形成
される感光基板側アライメントパターンを合致させる。
そしてキャリッジ７を、Ｘ方向にスキャン移動させ、投
影光学系２を等速にて通過させる。これによりマスク５
上のパターン領域がすべて感光基板４上に転写され、焼
付が完了する。
【００１７】次に、図２を用いて本実施の形態によるマ
スク３の構造について説明する。図２（ａ）はマスク３
の平面図であり、図２（ｂ）は同側面図である。本実施
の形態におけるマスク３は、従来と同様に透明ガラス基
板の表面３ａの回路パターン形成領域５８に所望の回路
パターンが形成されている。このガラス基板の裏面３ｂ
側であってパターン形成領域５８外側周囲の図中上下の
辺部に３個ずつ計６個の磁性体からなる磁性体部材１６
ａ〜１６ｆが所定の間隔で設けられている。なお、本実
施の形態における磁性体部材１６ａ〜１６ｆは、接着材
によりマスク３に固定されている。この磁性体部材１６
ａ〜１６ｆは、後述するマスク搬送系のマスク搬送ロボ
ットの６個の吸着機構、および走査型投影露光装置１の
マスクテーブル５に設けられた６個の吸着パッドに吸引
されるように、それらに対向するように配置されてい
る。
スク３の構造について説明する。図２（ａ）はマスク３
の平面図であり、図２（ｂ）は同側面図である。本実施
の形態におけるマスク３は、従来と同様に透明ガラス基
板の表面３ａの回路パターン形成領域５８に所望の回路
パターンが形成されている。このガラス基板の裏面３ｂ
側であってパターン形成領域５８外側周囲の図中上下の
辺部に３個ずつ計６個の磁性体からなる磁性体部材１６
ａ〜１６ｆが所定の間隔で設けられている。なお、本実
施の形態における磁性体部材１６ａ〜１６ｆは、接着材
によりマスク３に固定されている。この磁性体部材１６
ａ〜１６ｆは、後述するマスク搬送系のマスク搬送ロボ
ットの６個の吸着機構、および走査型投影露光装置１の
マスクテーブル５に設けられた６個の吸着パッドに吸引
されるように、それらに対向するように配置されてい
る。
【００１８】なお、本実施の形態ではマスク３におい
て、磁性体部材１６ａ〜１６ｆは、パターンが形成され
た基板表面３ａに対する裏面３ｂ側に設けているが、図
２（ｂ）において破線で示すように基板のパターン面３
ａ側に磁性体部材１８ａ〜１８ｆを設けるようにしても
よく、また、両面３ａ、３ｂに磁性体部材１６ａ〜１６
ｆ、１８ａ〜１８ｆを設けるようにしてもよい。磁性体
部材１６ａ〜１６ｆとしては、鉄やフェライトなどを用
いることができる。なお、磁性体部材として鉄などの錆
びるおそれのある材質を使用する場合はメッキなどの表
面処理を防錆のため施せば防塵対策にもなる。
て、磁性体部材１６ａ〜１６ｆは、パターンが形成され
た基板表面３ａに対する裏面３ｂ側に設けているが、図
２（ｂ）において破線で示すように基板のパターン面３
ａ側に磁性体部材１８ａ〜１８ｆを設けるようにしても
よく、また、両面３ａ、３ｂに磁性体部材１６ａ〜１６
ｆ、１８ａ〜１８ｆを設けるようにしてもよい。磁性体
部材１６ａ〜１６ｆとしては、鉄やフェライトなどを用
いることができる。なお、磁性体部材として鉄などの錆
びるおそれのある材質を使用する場合はメッキなどの表
面処理を防錆のため施せば防塵対策にもなる。
【００１９】次に、図２に示したマスク３が走査型投影
露光装置１のマスクテーブル５に載置された状態での走
査型投影露光装置１のマスクテーブル５近傍の構成を図
３を用いて説明する。図３（ａ）は、走査型投影露光装
置１をマスク３の搬入、搬出方向Ａから見た図である。
図３（ｂ）は、走査型投影露光装置１のマスクテーブル
５近傍をマスク３および感光基板４が走査される走査方
向から見た図である。図３（ａ）、（ｂ）において、照
明光学系や投影光学系２の図示は省略している。マスク
テーブル５はコの字状のキャリッジ７の一方の側面に取
り付けられている。マスク３は、パターン面３ａ側の周
辺部をマスクテーブル５に設けられた６個の吸着パッド
１２ａ〜１２ｆの基準面に接触させ、マスク３の磁性体
部材１６ａ〜１６ｆを磁気的に吸引する電磁石が設けら
れた吸着パッド１２ａ〜１２ｆで吸着されて、マスクテ
ーブル５の基準ピン５６上方に固定されている。また、
マスク３の落下／転倒防止のため、キャリッジ７側面に
はエアシリンダにより移動可能な落下／転倒防止金具１
４が設けられている。
露光装置１のマスクテーブル５に載置された状態での走
査型投影露光装置１のマスクテーブル５近傍の構成を図
３を用いて説明する。図３（ａ）は、走査型投影露光装
置１をマスク３の搬入、搬出方向Ａから見た図である。
図３（ｂ）は、走査型投影露光装置１のマスクテーブル
５近傍をマスク３および感光基板４が走査される走査方
向から見た図である。図３（ａ）、（ｂ）において、照
明光学系や投影光学系２の図示は省略している。マスク
テーブル５はコの字状のキャリッジ７の一方の側面に取
り付けられている。マスク３は、パターン面３ａ側の周
辺部をマスクテーブル５に設けられた６個の吸着パッド
１２ａ〜１２ｆの基準面に接触させ、マスク３の磁性体
部材１６ａ〜１６ｆを磁気的に吸引する電磁石が設けら
れた吸着パッド１２ａ〜１２ｆで吸着されて、マスクテ
ーブル５の基準ピン５６上方に固定されている。また、
マスク３の落下／転倒防止のため、キャリッジ７側面に
はエアシリンダにより移動可能な落下／転倒防止金具１
４が設けられている。
【００２０】次に、図４を用いて本実施の形態による走
査型投影露光装置１のマスクテーブル５およびマスク搬
送ロボットの構成とこれらによるマスク３を磁気的吸引
力により吸着する動作について説明する。図４（ａ）
は、マスク搬送ロボットからマスク３を受け渡す状態で
のマスクテーブル５を走査方向から見た概略図を示して
いる。図４（ａ）において、マスク搬送ロボット２０の
６個のアーム２２ａ〜２２ｆの先端部にそれぞれ設けら
れた吸着機構２４ａ〜２４ｆには後程図４（ｂ）を用い
て説明する電磁石が設けられており、これによりマスク
３の裏面３ｂ周辺部に設けられた磁性体部材１６ａ〜１
６ｆを磁気的吸引力により吸着している。この吸着によ
りマスク３はマスク搬送ロボット２０に固定されてマス
ク搬送ロボット２０の移動と共に移動する。吸着機構２
４ａ〜２４ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁
気的吸引力の発生、消滅が制御されるようになってい
る。
査型投影露光装置１のマスクテーブル５およびマスク搬
送ロボットの構成とこれらによるマスク３を磁気的吸引
力により吸着する動作について説明する。図４（ａ）
は、マスク搬送ロボットからマスク３を受け渡す状態で
のマスクテーブル５を走査方向から見た概略図を示して
いる。図４（ａ）において、マスク搬送ロボット２０の
６個のアーム２２ａ〜２２ｆの先端部にそれぞれ設けら
れた吸着機構２４ａ〜２４ｆには後程図４（ｂ）を用い
て説明する電磁石が設けられており、これによりマスク
３の裏面３ｂ周辺部に設けられた磁性体部材１６ａ〜１
６ｆを磁気的吸引力により吸着している。この吸着によ
りマスク３はマスク搬送ロボット２０に固定されてマス
ク搬送ロボット２０の移動と共に移動する。吸着機構２
４ａ〜２４ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁
気的吸引力の発生、消滅が制御されるようになってい
る。
【００２１】図４（ａ）では、マスク搬送ロボット２０
が移動して、マスク３がマスクテーブル５の吸着パッド
１２ａ〜１２ｆに接触した状態を示している。このとき
吸着パッド１２ａ〜１２ｆは、マスク３のガラス基板の
表面３ａ側から磁性体部材１６ａ〜１６ｆに対向してい
る。
が移動して、マスク３がマスクテーブル５の吸着パッド
１２ａ〜１２ｆに接触した状態を示している。このとき
吸着パッド１２ａ〜１２ｆは、マスク３のガラス基板の
表面３ａ側から磁性体部材１６ａ〜１６ｆに対向してい
る。
【００２２】マスクテーブル５の吸着パッド１２ａ〜１
２ｆには後程図４（ｃ）を用いて説明する電磁石が設け
られており、これによりマスク３の裏面３ｂ周辺部に設
けられた磁性体部材１６ａ〜１６ｆを表面３ａ側から磁
気的吸引力を作用させて吸引し、マスク３を吸着できる
ようになっている。吸着パッド１２ａ〜１２ｆは制御装
置２６にそれぞれ接続されて、磁気的吸引力の発生、消
滅が制御されるようになっている。
２ｆには後程図４（ｃ）を用いて説明する電磁石が設け
られており、これによりマスク３の裏面３ｂ周辺部に設
けられた磁性体部材１６ａ〜１６ｆを表面３ａ側から磁
気的吸引力を作用させて吸引し、マスク３を吸着できる
ようになっている。吸着パッド１２ａ〜１２ｆは制御装
置２６にそれぞれ接続されて、磁気的吸引力の発生、消
滅が制御されるようになっている。
【００２３】従って、図４（ａ）に示した状態で、制御
装置２６によりマスク搬送ロボット２０の吸着機構２４
ａ〜２４ｆに設けられた電磁石への通電を切って、吸着
機構２４ａ〜２４ｆからの磁性体部材１６ａ〜１６ｆに
対する磁気的吸引力を消滅させるのとほぼ同時に、マス
クテーブル５の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの電磁石への
通電を開始して吸着パッド１２ａ〜１２ｆからの磁性体
部材１６ａ〜１６ｆに対する磁気的吸引力を発生させる
ことにより高速に安定してマスク３を受け渡すことがで
きるようになる。このように、磁気的吸引力を用いてマ
スクを吸着するので、マスク受け渡しの際、マスク３と
吸着パッド１２ａ〜１２ｆとの間に多少の空隙が生じて
いたとしても、真空吸着方式の場合に生じるような吸着
力の低下は生じずに、確実にマスク３を吸着固定するこ
とができるようになる。
装置２６によりマスク搬送ロボット２０の吸着機構２４
ａ〜２４ｆに設けられた電磁石への通電を切って、吸着
機構２４ａ〜２４ｆからの磁性体部材１６ａ〜１６ｆに
対する磁気的吸引力を消滅させるのとほぼ同時に、マス
クテーブル５の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの電磁石への
通電を開始して吸着パッド１２ａ〜１２ｆからの磁性体
部材１６ａ〜１６ｆに対する磁気的吸引力を発生させる
ことにより高速に安定してマスク３を受け渡すことがで
きるようになる。このように、磁気的吸引力を用いてマ
スクを吸着するので、マスク受け渡しの際、マスク３と
吸着パッド１２ａ〜１２ｆとの間に多少の空隙が生じて
いたとしても、真空吸着方式の場合に生じるような吸着
力の低下は生じずに、確実にマスク３を吸着固定するこ
とができるようになる。
【００２４】さて、図４（ｂ）を用いてマスク搬送ロボ
ット２０の吸着機構２４ａの概略の構造を説明する。他
の吸着機構２４ｂ〜２４ｆも同様の構成である。図４
（ｂ）は、吸着機構２４ａの内部構造を示しており、ま
た吸着機構２４ａでマスク３の磁性体部材１６ａを吸着
している状態を示している。図４（ｂ）に示すように、
吸着機構２４ａには、鉄心３０にコイル３２が巻回され
た電磁石が内蔵されている。鉄心３０の吸着機構２４ａ
開口端部側は、磁性体部材１６ａとの接触面となってい
る。コイル３２の配線端はアーム２２ａ内を通って制御
装置２６に接続されている。制御装置２６から所定の電
流をコイル３２に流すことにより、鉄心３０内を通過す
る磁束を発生させ、磁気的吸引力によりマスク３の磁性
体部材１６ａを吸着することができる。またコイル３２
に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力を消滅さ
せて吸着を解除することができる。さらに、コイル３２
に流す電流の値を変化させることにより磁気的吸引力を
変化させることも可能である。
ット２０の吸着機構２４ａの概略の構造を説明する。他
の吸着機構２４ｂ〜２４ｆも同様の構成である。図４
（ｂ）は、吸着機構２４ａの内部構造を示しており、ま
た吸着機構２４ａでマスク３の磁性体部材１６ａを吸着
している状態を示している。図４（ｂ）に示すように、
吸着機構２４ａには、鉄心３０にコイル３２が巻回され
た電磁石が内蔵されている。鉄心３０の吸着機構２４ａ
開口端部側は、磁性体部材１６ａとの接触面となってい
る。コイル３２の配線端はアーム２２ａ内を通って制御
装置２６に接続されている。制御装置２６から所定の電
流をコイル３２に流すことにより、鉄心３０内を通過す
る磁束を発生させ、磁気的吸引力によりマスク３の磁性
体部材１６ａを吸着することができる。またコイル３２
に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力を消滅さ
せて吸着を解除することができる。さらに、コイル３２
に流す電流の値を変化させることにより磁気的吸引力を
変化させることも可能である。
【００２５】次に、図４（ｃ）を用いてマスクテーブル
５の吸着パッド１２ａの概略の構造を説明する。他の吸
着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構成である。図４
（ｃ）は、吸着パッド１２ａの内部構造を示しており、
また吸着パッド１２ａでマスク３の磁性体部材１６ａを
マスク３の表面３ａ側から吸引している状態を示してい
る。図４（ｃ）に示すように、吸着パッド１２ａには、
鉄心３４にコイル３６が巻回された電磁石が内蔵されて
いる。鉄心３４の吸着パッド１２ａ開口端部側は、マス
ク３のガラス基板を介して磁性体部材１６ａと対向して
いる。また、吸着パッド１２ａ開口端部側はマスク３の
基準面を規定するマスク接触面３８となっている。コイ
ル３６の配線端はマスクテーブル５内を通って制御装置
２６に接続されている。制御装置２６から所定の電流を
コイル３６に流すことにより、鉄心３４内を通過する磁
束を発生させ、磁性体部材１６ａに磁気的吸引力を作用
させてマスク３を吸着することができる。またコイル３
６に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力を消滅
させて吸着を解除することができる。さらに、コイル３
６に流す電流の値を変化させることにより磁気的吸引力
を変化させることも可能である。
５の吸着パッド１２ａの概略の構造を説明する。他の吸
着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構成である。図４
（ｃ）は、吸着パッド１２ａの内部構造を示しており、
また吸着パッド１２ａでマスク３の磁性体部材１６ａを
マスク３の表面３ａ側から吸引している状態を示してい
る。図４（ｃ）に示すように、吸着パッド１２ａには、
鉄心３４にコイル３６が巻回された電磁石が内蔵されて
いる。鉄心３４の吸着パッド１２ａ開口端部側は、マス
ク３のガラス基板を介して磁性体部材１６ａと対向して
いる。また、吸着パッド１２ａ開口端部側はマスク３の
基準面を規定するマスク接触面３８となっている。コイ
ル３６の配線端はマスクテーブル５内を通って制御装置
２６に接続されている。制御装置２６から所定の電流を
コイル３６に流すことにより、鉄心３４内を通過する磁
束を発生させ、磁性体部材１６ａに磁気的吸引力を作用
させてマスク３を吸着することができる。またコイル３
６に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力を消滅
させて吸着を解除することができる。さらに、コイル３
６に流す電流の値を変化させることにより磁気的吸引力
を変化させることも可能である。
【００２６】次に、本発明の第２の実施の形態によるマ
スクおよび露光装置を図５および図６を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置の全体構成
は、図１を用いて説明した第１の実施の形態におけるも
のと同様である。まず、図５を用いて本実施の形態によ
るマスクの構造について説明する。図５（ａ）はマスク
の平面図であり、図５（ｂ）は同側面図である。
スクおよび露光装置を図５および図６を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置の全体構成
は、図１を用いて説明した第１の実施の形態におけるも
のと同様である。まず、図５を用いて本実施の形態によ
るマスクの構造について説明する。図５（ａ）はマスク
の平面図であり、図５（ｂ）は同側面図である。
【００２７】本実施の形態におけるマスク３は、従来と
同様に透明ガラス基板の表面３ａの回路パターン形成領
域５８に所望の回路パターンが形成されている。このガ
ラス基板の図中上下の側面に３個ずつ計６個の磁性体か
らなる磁性体部材４０ａ〜４０ｆが所定の間隔で設けら
れている。この磁性体部材４０ａ〜４０ｆは、マスク３
のガラス基板の厚さ方向において、ガラス基板裏面３ｂ
側に偏って設けられている。また磁性体部材４０ａ〜４
０ｆは、後述するマスク搬送系のマスク搬送ロボットの
６個の吸着機構、および走査型投影露光装置１のマスク
テーブル５に設けられた６個の吸着パッドに吸着される
ように、それらに対向するように配置されている。
同様に透明ガラス基板の表面３ａの回路パターン形成領
域５８に所望の回路パターンが形成されている。このガ
ラス基板の図中上下の側面に３個ずつ計６個の磁性体か
らなる磁性体部材４０ａ〜４０ｆが所定の間隔で設けら
れている。この磁性体部材４０ａ〜４０ｆは、マスク３
のガラス基板の厚さ方向において、ガラス基板裏面３ｂ
側に偏って設けられている。また磁性体部材４０ａ〜４
０ｆは、後述するマスク搬送系のマスク搬送ロボットの
６個の吸着機構、および走査型投影露光装置１のマスク
テーブル５に設けられた６個の吸着パッドに吸着される
ように、それらに対向するように配置されている。
【００２８】次に、図６を用いて本実施の形態による走
査型投影露光装置１のマスクテーブル５およびマスク搬
送ロボットの構成とこれらによるマスク３を磁気的吸引
力により吸着する動作について説明する。図６（ａ）
は、マスク搬送ロボットからマスク３を受け渡す状態で
のマスクテーブル５を走査方向から見た概略図を示して
いる。図６（ａ）において、マスク搬送ロボット２０の
６個のアーム２２ａ〜２２ｆの先端部にそれぞれ設けら
れた吸着機構２４ａ〜２４ｆには後程図６（ｂ）を用い
て説明する電磁石が設けられており、これによりマスク
３の側面周辺部に設けられた磁性体部材４０ａ〜４０ｆ
を磁気的吸引力により吸着している。この吸着によりマ
スク３はマスク搬送ロボット２０に固定されてマスク搬
送ロボット２０の移動と共に移動する。吸着機構２４ａ
〜２４ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁気的
吸引力の発生、消滅が制御されるようになっている。
査型投影露光装置１のマスクテーブル５およびマスク搬
送ロボットの構成とこれらによるマスク３を磁気的吸引
力により吸着する動作について説明する。図６（ａ）
は、マスク搬送ロボットからマスク３を受け渡す状態で
のマスクテーブル５を走査方向から見た概略図を示して
いる。図６（ａ）において、マスク搬送ロボット２０の
６個のアーム２２ａ〜２２ｆの先端部にそれぞれ設けら
れた吸着機構２４ａ〜２４ｆには後程図６（ｂ）を用い
て説明する電磁石が設けられており、これによりマスク
３の側面周辺部に設けられた磁性体部材４０ａ〜４０ｆ
を磁気的吸引力により吸着している。この吸着によりマ
スク３はマスク搬送ロボット２０に固定されてマスク搬
送ロボット２０の移動と共に移動する。吸着機構２４ａ
〜２４ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁気的
吸引力の発生、消滅が制御されるようになっている。
【００２９】図６（ａ）では、マスク搬送ロボット２０
の移動により、マスク３がマスクテーブル５の吸着パッ
ド１２ａ〜１２ｆに接触した状態を示している。このと
き吸着パッド１２ａ〜１２ｆは、磁性体部材４０ａ〜４
０ｆに対して所定の空隙を介して対向している。
の移動により、マスク３がマスクテーブル５の吸着パッ
ド１２ａ〜１２ｆに接触した状態を示している。このと
き吸着パッド１２ａ〜１２ｆは、磁性体部材４０ａ〜４
０ｆに対して所定の空隙を介して対向している。
【００３０】マスクテーブル５の吸着パッド１２ａ〜１
２ｆには後程図６（ｃ）を用いて説明する電磁石が設け
られており、これによりマスク３の側面に設けられた磁
性体部材４０ａ〜４０ｆをマスク３の表面３ａ側から所
定の空隙を介して磁気的吸引力を作用させて吸引し、マ
スク３を吸着できるようになっている。吸着パッド１２
ａ〜１２ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁気
的吸引力の発生、消滅が制御されるようになっている。
２ｆには後程図６（ｃ）を用いて説明する電磁石が設け
られており、これによりマスク３の側面に設けられた磁
性体部材４０ａ〜４０ｆをマスク３の表面３ａ側から所
定の空隙を介して磁気的吸引力を作用させて吸引し、マ
スク３を吸着できるようになっている。吸着パッド１２
ａ〜１２ｆは制御装置２６にそれぞれ接続されて、磁気
的吸引力の発生、消滅が制御されるようになっている。
【００３１】従って、図６（ａ）に示した状態で、制御
装置２６によりマスク搬送ロボット２０の吸着機構２４
ａ〜２４ｆに設けられた電磁石への通電を切って、吸着
機構２４ａ〜２４ｆからの磁性体部材４０ａ〜４０ｆに
対する磁気的吸引力を消滅させるとほぼ同時に、マスク
テーブル５の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの電磁石への通
電を開始して吸着パッド１２ａ〜１２ｆからの磁性体部
材４０ａ〜４０ｆに対する磁気的吸引力を発生させるこ
とにより高速に安定してマスク３を受け渡すことができ
るようになる。このように、磁気的吸引力を用いてマス
クを吸着するので、マスク受け渡しの際、マスク３と吸
着パッド１２ａ〜１２ｆとの間に多少の空隙が生じてい
たとしても、真空吸着方式の場合に生じるような吸着力
の低下は生じずに、確実にマスク３を吸着固定すること
ができるようになる。
装置２６によりマスク搬送ロボット２０の吸着機構２４
ａ〜２４ｆに設けられた電磁石への通電を切って、吸着
機構２４ａ〜２４ｆからの磁性体部材４０ａ〜４０ｆに
対する磁気的吸引力を消滅させるとほぼ同時に、マスク
テーブル５の吸着パッド１２ａ〜１２ｆの電磁石への通
電を開始して吸着パッド１２ａ〜１２ｆからの磁性体部
材４０ａ〜４０ｆに対する磁気的吸引力を発生させるこ
とにより高速に安定してマスク３を受け渡すことができ
るようになる。このように、磁気的吸引力を用いてマス
クを吸着するので、マスク受け渡しの際、マスク３と吸
着パッド１２ａ〜１２ｆとの間に多少の空隙が生じてい
たとしても、真空吸着方式の場合に生じるような吸着力
の低下は生じずに、確実にマスク３を吸着固定すること
ができるようになる。
【００３２】図６（ｂ）に示すマスク搬送ロボット２０
の吸着機構２４ａは、第１の実施の形態における図４
（ｂ）に示したものと同様であるので説明は省略する。
他の吸着機構２４ｂ〜２４ｆも同様の構成である。
の吸着機構２４ａは、第１の実施の形態における図４
（ｂ）に示したものと同様であるので説明は省略する。
他の吸着機構２４ｂ〜２４ｆも同様の構成である。
【００３３】次に、図６（ｃ）を用いてマスクテーブル
５の吸着パッド１２ａの概略の構造を説明する。他の吸
着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構成である。図６
（ｃ）は、吸着パッド１２ａの内部構造を示しており、
また吸着パッド１２ａでマスク３の磁性体部材４０ａを
マスク３の表面３ａ側から吸引している状態を示してい
る。図６（ｃ）に示すように、吸着パッド１２ａには、
鉄心３４にコイル３６が巻回された電磁石が内蔵されて
いる。コイル３６の配線端はマスクテーブル５内を通っ
て制御装置２６に接続されている。制御装置２６から所
定の電流をコイル３６に流すことにより鉄心３４内に磁
束が発生して電磁石として機能し、磁性体部材１６ａに
磁気的吸引力を作用させてマスク３を吸着できること等
については第１の実施の形態と同様であるので説明を省
略する。
５の吸着パッド１２ａの概略の構造を説明する。他の吸
着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構成である。図６
（ｃ）は、吸着パッド１２ａの内部構造を示しており、
また吸着パッド１２ａでマスク３の磁性体部材４０ａを
マスク３の表面３ａ側から吸引している状態を示してい
る。図６（ｃ）に示すように、吸着パッド１２ａには、
鉄心３４にコイル３６が巻回された電磁石が内蔵されて
いる。コイル３６の配線端はマスクテーブル５内を通っ
て制御装置２６に接続されている。制御装置２６から所
定の電流をコイル３６に流すことにより鉄心３４内に磁
束が発生して電磁石として機能し、磁性体部材１６ａに
磁気的吸引力を作用させてマスク３を吸着できること等
については第１の実施の形態と同様であるので説明を省
略する。
【００３４】鉄心３４の吸着パッド１２ａ開口端部側
は、マスク３側面の磁性体部材４０ａと所定の空隙を介
して対向している。また、吸着パッド１２ａは、マスク
３の基準面を規定するマスク接触面３８を吸着パッド１
２ａ開口端部とは別領域に有している。そのため本実施
の形態における吸着パッド１２ａは、マスク接触面３８
を比較的容易に所定の精度に作製することができるとい
う利点を有している。
は、マスク３側面の磁性体部材４０ａと所定の空隙を介
して対向している。また、吸着パッド１２ａは、マスク
３の基準面を規定するマスク接触面３８を吸着パッド１
２ａ開口端部とは別領域に有している。そのため本実施
の形態における吸着パッド１２ａは、マスク接触面３８
を比較的容易に所定の精度に作製することができるとい
う利点を有している。
【００３５】次に、本発明の第３の実施の形態によるマ
スクおよび露光装置を図７および図８を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置の全体構成
は、図１を用いて説明した第１の実施の形態におけるも
のと同様である。本実施の形態では、少なくとも一部が
磁性体で構成されるペリクルフレームを貼付したマスク
を用いた点に特徴を有している。ペリクルフレームは、
マスク表面（特にパターン形成面）に異物が付着しない
ように、マスクの表面から一定の高さに光学的に安定し
た透明な高分子薄膜（ペリクル）を張り渡したものであ
る。このペリクルを片面に張り渡したペリクルフレーム
を図７に示す。図７において、ペリクル５２は矩形形状
の磁性体であるペリクルフレーム５０の表面全面に均一
に張り渡されている。ペリクルフレーム５０の裏面側の
各辺には、マスク３に貼り付けるための接着剤層５４が
形成されている。
スクおよび露光装置を図７および図８を用いて説明す
る。本実施の形態において用いる露光装置の全体構成
は、図１を用いて説明した第１の実施の形態におけるも
のと同様である。本実施の形態では、少なくとも一部が
磁性体で構成されるペリクルフレームを貼付したマスク
を用いた点に特徴を有している。ペリクルフレームは、
マスク表面（特にパターン形成面）に異物が付着しない
ように、マスクの表面から一定の高さに光学的に安定し
た透明な高分子薄膜（ペリクル）を張り渡したものであ
る。このペリクルを片面に張り渡したペリクルフレーム
を図７に示す。図７において、ペリクル５２は矩形形状
の磁性体であるペリクルフレーム５０の表面全面に均一
に張り渡されている。ペリクルフレーム５０の裏面側の
各辺には、マスク３に貼り付けるための接着剤層５４が
形成されている。
【００３６】ペリクルフレーム５０および接着剤層５４
の高さを所定の長さにすることにより、ペリクルフレー
ム５０をマスク３に貼付した際、仮にペリクル５２上に
異物が付着したとしても異物の像が感光基板上で焦点を
結ばないようにすることができる。本実施の形態におい
ては、磁性体のペリクルフレーム５０を第１および第２
の実施の形態における磁性体部材（１６ａ〜１６ｆ、４
０ａ〜４０ｆ）の代わりに用いるので、ペリクルフレー
ム５０を貼付したマスク３は従来の形状、構成のもので
かまわない。
の高さを所定の長さにすることにより、ペリクルフレー
ム５０をマスク３に貼付した際、仮にペリクル５２上に
異物が付着したとしても異物の像が感光基板上で焦点を
結ばないようにすることができる。本実施の形態におい
ては、磁性体のペリクルフレーム５０を第１および第２
の実施の形態における磁性体部材（１６ａ〜１６ｆ、４
０ａ〜４０ｆ）の代わりに用いるので、ペリクルフレー
ム５０を貼付したマスク３は従来の形状、構成のもので
かまわない。
【００３７】次に、図８を用いてマスクテーブル５の吸
着パッド１２ａ近傍の概略の構造を説明する。本実施の
形態における他の吸着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構
成である。図８は、吸着パッド１２ａ近傍の内部構造を
示しており、また吸着パッド１２ａでペリクルフレーム
５０を吸引している状態を示している。図８に示すよう
に、吸着パッド１２ａは、マスクテーブル５に設けられ
たマスク保持部材６０のマスク接触面３８の反対側から
ペリクルフレーム５０の下方に延びて設けられている。
吸着パッド１２ａには、鉄心３４にコイル３６が巻回さ
れた電磁石が内蔵されている。鉄心３４の吸着パッド１
２ａ開口端部側は、所定の空隙を介してペリクルフレー
ム５０と対向している。コイル３６の配線端はマスクテ
ーブル５内を通って制御装置２６に接続されている。制
御装置２６から所定の電流をコイル３６に流すことによ
り、鉄心３４内を通る磁束を発生させて電磁石として機
能させ、磁性体のペリクルフレーム５０に磁気的吸引力
を作用させてマスク３を吸着することができる。またコ
イル３６に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力
を消滅させて吸着を解除することができる。さらに、コ
イル３６に流す電流の値を変化させることにより磁気的
吸引力を変化させることも可能である。また、ペリクル
フレーム５０と吸着パッド１２ａ開口端部側との所定の
空隙を狭くすることにより小型の電磁石を用いることが
可能である。
着パッド１２ａ近傍の概略の構造を説明する。本実施の
形態における他の吸着パッド１２ｂ〜１２ｆも同様の構
成である。図８は、吸着パッド１２ａ近傍の内部構造を
示しており、また吸着パッド１２ａでペリクルフレーム
５０を吸引している状態を示している。図８に示すよう
に、吸着パッド１２ａは、マスクテーブル５に設けられ
たマスク保持部材６０のマスク接触面３８の反対側から
ペリクルフレーム５０の下方に延びて設けられている。
吸着パッド１２ａには、鉄心３４にコイル３６が巻回さ
れた電磁石が内蔵されている。鉄心３４の吸着パッド１
２ａ開口端部側は、所定の空隙を介してペリクルフレー
ム５０と対向している。コイル３６の配線端はマスクテ
ーブル５内を通って制御装置２６に接続されている。制
御装置２６から所定の電流をコイル３６に流すことによ
り、鉄心３４内を通る磁束を発生させて電磁石として機
能させ、磁性体のペリクルフレーム５０に磁気的吸引力
を作用させてマスク３を吸着することができる。またコ
イル３６に流す電流を遮断することにより磁気的吸引力
を消滅させて吸着を解除することができる。さらに、コ
イル３６に流す電流の値を変化させることにより磁気的
吸引力を変化させることも可能である。また、ペリクル
フレーム５０と吸着パッド１２ａ開口端部側との所定の
空隙を狭くすることにより小型の電磁石を用いることが
可能である。
【００３８】また、本実施の形態による吸着パッド１２
ａにおいても、マスク３の基準面を規定するマスク接触
面３８を吸着パッド１２ａ開口端部とは別領域に有して
いる。そのため本実施の形態における吸着パッド１２ａ
は、マスク接触面３８を比較的容易に所定の精度に作製
することができる点にも利点を有している。
ａにおいても、マスク３の基準面を規定するマスク接触
面３８を吸着パッド１２ａ開口端部とは別領域に有して
いる。そのため本実施の形態における吸着パッド１２ａ
は、マスク接触面３８を比較的容易に所定の精度に作製
することができる点にも利点を有している。
【００３９】以上説明したように、上述の第１乃至第３
の実施の形態によれば、マスク３を吸着して保持するた
めに、マスク３に磁性体部材１６、４０を設け、この磁
性体部材１６、４０を鉄心３４とコイル３６とで構成す
る電磁石を備えた吸着パッド１２で磁気的に吸引させる
ことにより、マスクテーブル５にマスク３を吸着固定さ
せるようにしている。従って、従来の真空吸着方式のよ
うな真空もれ等による吸着力の低下を引き起こすことが
なく、高速に安定してマスク３の吸着固定および開放の
動作を切り替えることができるようになる。
の実施の形態によれば、マスク３を吸着して保持するた
めに、マスク３に磁性体部材１６、４０を設け、この磁
性体部材１６、４０を鉄心３４とコイル３６とで構成す
る電磁石を備えた吸着パッド１２で磁気的に吸引させる
ことにより、マスクテーブル５にマスク３を吸着固定さ
せるようにしている。従って、従来の真空吸着方式のよ
うな真空もれ等による吸着力の低下を引き起こすことが
なく、高速に安定してマスク３の吸着固定および開放の
動作を切り替えることができるようになる。
【００４０】また、吸着パッド１２の電磁石による磁気
的吸引力は所定距離に及ぶので、マスク搬送系からマス
クテーブル５にマスク３を受け渡す動作において、真空
吸着より高速で安定した受け渡しを行うことができ、ま
た、真空吸着方式等で必要な配管の引き回しも不要であ
り、吸着固定のための可動部分も無いので装置の信頼性
を向上させることができるようになる。
的吸引力は所定距離に及ぶので、マスク搬送系からマス
クテーブル５にマスク３を受け渡す動作において、真空
吸着より高速で安定した受け渡しを行うことができ、ま
た、真空吸着方式等で必要な配管の引き回しも不要であ
り、吸着固定のための可動部分も無いので装置の信頼性
を向上させることができるようになる。
【００４１】本発明は、上記実施の形態に限らず種々の
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、磁気的吸引力のみを作用させてマスクの吸着固定を
行ったが、従来の真空吸着方式を併用してももちろんよ
い。また、上記実施の形態では本発明を主としてマスク
の吸着固定および受け渡し時の高速動作の実現のために
用いたが、マスクを鉛直方向に立てて搬送するような場
合にあっては、マスクの転倒防止のために本発明を適用
することも可能である。この転倒防止の場合には、吸着
固定よりも比較的小さな磁気的吸引力を作用させればよ
いので小型の電磁石を用いることができる。そして小型
の電磁石は、マスクを立てて搬送する搬送系のアームに
容易に取り付けることができる。
変形が可能である。例えば、上記実施の形態において
は、磁気的吸引力のみを作用させてマスクの吸着固定を
行ったが、従来の真空吸着方式を併用してももちろんよ
い。また、上記実施の形態では本発明を主としてマスク
の吸着固定および受け渡し時の高速動作の実現のために
用いたが、マスクを鉛直方向に立てて搬送するような場
合にあっては、マスクの転倒防止のために本発明を適用
することも可能である。この転倒防止の場合には、吸着
固定よりも比較的小さな磁気的吸引力を作用させればよ
いので小型の電磁石を用いることができる。そして小型
の電磁石は、マスクを立てて搬送する搬送系のアームに
容易に取り付けることができる。
【００４２】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、マスク搬
送系と露光装置のマスクテーブルとの間のマスクの受け
渡しが高速に安定して行うことができるマスクを実現で
きる。また、高速に安定してマスクの受け渡しを行うこ
とができる露光装置を実現できる。
送系と露光装置のマスクテーブルとの間のマスクの受け
渡しが高速に安定して行うことができるマスクを実現で
きる。また、高速に安定してマスクの受け渡しを行うこ
とができる露光装置を実現できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態による走査型露光装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態によるマスクの構造
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態による走査型露光装
置のマスクテーブル近傍の構成を示す図である。
置のマスクテーブル近傍の構成を示す図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態による走査型露光装
置のマスクテーブルおよびマスク搬送ロボットを示す図
である。
置のマスクテーブルおよびマスク搬送ロボットを示す図
である。
【図５】本発明の第２の実施の形態によるマスクの構造
を示す図である。
を示す図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態による走査型露光装
置のマスクテーブルおよびマスク搬送ロボットを示す図
である。
置のマスクテーブルおよびマスク搬送ロボットを示す図
である。
【図７】本発明の第３の実施の形態に用いたペリクルフ
レームを説明する図である。
レームを説明する図である。
【図８】本発明の第３の実施の形態による走査型露光装
置のマスクテーブルを示す図である。
置のマスクテーブルを示す図である。
【図９】従来の露光装置のマスクテーブルおよびマスク
搬送ロボットを示す図である。
搬送ロボットを示す図である。
１ 走査型露光装置 ２ 投影光学系 ３、１００ マスク ４ 感光基板 ５、１０８ マスクテーブル ６ 感光基板テーブル ７ キャリッジ ８ エアーベアリングガイド ９ リニアモータ １０ 装置定盤 １２ａ〜１２ｆ、１１０、１１２ 吸着パッド １４ 基準ピン １６ａ〜１６ｆ、１８ａ〜１８ｆ、４０ａ〜４０ｆ 磁
性体部材 ２０、１０２ マスク搬送ロボット ２２ａ〜２０ｆ アーム ２４ａ〜２４ｆ、１０４、１０６ 吸着機構 ２６ 制御装置 ３０、３４ 鉄心 ３２、３６ コイル ３８ マスク接触面 ５０ ペリクルフレーム ５２ ペリクル ５４ 接着剤層 ５６ 基準ピン ５８ パターン形成領域 ６０ マスク保持部材
性体部材 ２０、１０２ マスク搬送ロボット ２２ａ〜２０ｆ アーム ２４ａ〜２４ｆ、１０４、１０６ 吸着機構 ２６ 制御装置 ３０、３４ 鉄心 ３２、３６ コイル ３８ マスク接触面 ５０ ペリクルフレーム ５２ ペリクル ５４ 接着剤層 ５６ 基準ピン ５８ パターン形成領域 ６０ マスク保持部材
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１８
Claims (6)
- 【請求項１】基板の表面の所定領域にパターンが形成さ
れたマスクにおいて、 前記パターンが形成されている所定領域外に、磁性体か
らなる磁性体部材を設けたことを特徴とするマスク。 - 【請求項２】請求項１記載のマスクにおいて、 前記磁性体部材は、前記パターンが形成された前記基板
の表面と、前記基板の裏面との少なくとも一方に設けら
れていることを特徴とするマスク。 - 【請求項３】請求項１記載のマスクにおいて、 前記磁性体部材は、前記基板の側面に設けられているこ
とを特徴とするマスク。 - 【請求項４】基板の表面の所定領域にパターンが形成さ
れたマスクにおいて、 前記基板の表面には、ペリクルが張設されたペリクルフ
レームが貼り付けられており、前記ペリクルフレームの
少なくとも一部を磁性体からなる磁性体部材にしたこと
を特徴とするマスク。 - 【請求項５】マスクテーブルに載置されたマスクに形成
されたパターンの像を感光基板に露光する露光装置にお
いて、 前記マスクとして請求項１乃至４のいずれかに記載のマ
スクが用いられ、 前記マスクテーブルは、前記磁性体部材に対応した位置
に前記マスクを吸着する吸着装置を有していることを特
徴とする露光装置。 - 【請求項６】請求項５記載の露光装置において、 前記吸着装置は、電磁石と、当該電磁石を制御する制御
部とを有していることを特徴とする露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26937097A JPH1195414A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスク及び露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26937097A JPH1195414A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスク及び露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1195414A true JPH1195414A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17471457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26937097A Withdrawn JPH1195414A (ja) | 1997-09-16 | 1997-09-16 | マスク及び露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1195414A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100422487B1 (ko) * | 2001-12-10 | 2004-03-11 | 에이엔 에스 주식회사 | 전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및그를 이용한 증착방법 |
| CN102540779A (zh) * | 2010-12-31 | 2012-07-04 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 |
| JP2013156353A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
-
1997
- 1997-09-16 JP JP26937097A patent/JPH1195414A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100422487B1 (ko) * | 2001-12-10 | 2004-03-11 | 에이엔 에스 주식회사 | 전자석을 이용한 유기전계발광소자 제작용 증착장치 및그를 이용한 증착방법 |
| CN102540779A (zh) * | 2010-12-31 | 2012-07-04 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 |
| JP2013156353A (ja) * | 2012-01-27 | 2013-08-15 | V Technology Co Ltd | 露光装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |