JPH1185057A - カラー液晶パネル及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高開口率の液晶パネルを実現する貼り合せ精
度の向上を図ることができるカラー液晶パネル及びその
製造方法を提供する。 【解決手段】 液晶を封止するためのシール材と交差す
る走査線及び信号線を含む電極線が、シール材と交差す
る部分に開口部を有する。または、電極線がシール材と
交差する部分において電極線が透明導電層で形成されて
いる。または、電極線が、シール材と交差する部分に開
口部を有すると共に、開口部を含む領域に透明導電層が
積層されている。そして、アクティブマトリクス基板の
外面からの紫外線照射によってシール樹脂をほぼ完全に
硬化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラー画像表示機
能を有する液晶パネル及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年の微細加工技術、液晶材料技術及び
実装技術等の進歩により、５〜５０ｃｍ対角の液晶パネ
ルで実用上支障の無いテレビジョン画像や各種の画像表
示が商用ベースで提供されている。また、液晶パネルを
構成する２枚のガラス基板の一方にＲＧＢの着色層を形
成しておくことにより、カラー表示も容易に実現してい
る。特にスイッチング素子を画素毎に内蔵させたアクテ
ィブマトリクス型の液晶パネルは、クロストークが少な
く、高速応答で、しかも高いコントラスト比を有する画
像を保証している。このような液晶パネルのマトリクス
構成は、走査線数１００〜１０００本、信号線数２００
〜２０００本程度が一般的であるが、最近では大画面化
と高精細化が同時に進行している。

【０００３】図６は、液晶パネルの概略構造を示す概念
図である。液晶パネル１を構成する一方の透明絶縁基
板、例えばガラス基板２上に走査線の電極端子群６が形
成されている。駆動信号から操作信号を生成する半導体
集積回路チップ３がガラス基板２上に搭載されたＣＯＧ
(Chip-On-Glass)方式もある。図６には両方の実装方式
が図示されているが、実際にはいずれか一方の方式が選
択される。

【０００４】信号電極に関しては、信号線端子群５がガ
ラス基板２上に形成され、例えばポリイミド系樹脂薄膜
のベースに銅線と金メッキ端子が形成された接続フィル
ム４が導電性接着剤を介して信号線端子群５に接続さ
れ、固定されている（ＴＣＰ方式）。この信号電極につ
いても、上記のＣＯＧ方式を採用できる。このようにし
て、走査信号及び表示データ信号が画像表示部に供給さ
れる。図６において、液晶パネル１の画像表示部と信号
線及び走査線の電極端子群５，６との間を接続する配線
路７、８は、必ずしも電極端子群５，６と同一の材料で
形成する必要はない。

【０００５】また、ガラス基板２と平行に配置された透
明絶縁基板であるガラス基板９は、全ての液晶セルに共
通の透明導電性の対向電極を有する。液晶パネル１を構
成する２枚のガラス基板２，９は樹脂性のファイバやビ
ーズ等のスペーサ材によって数μｍ程度の距離を隔てて
平行に配置され、その間隙（ギャップ）は、小さいほう
のガラス基板９の周縁部において、有機性樹脂からなる
シール材と封口材とで封止され、閉空間が形成される。
この閉空間に液晶が充填されている。

【０００６】カラー表示を行う液晶表示パネルでは、ガ
ラス基板９の閉空間側に染料及び顔料のいずれか又は両
方を含む厚さ１〜２μｍ程度の有機薄膜が形成されてい
る。この有機薄膜は着色層と称され、着色層を含むガラ
ス基板９はカラーフィルタ基板と呼ばれる。また、液晶
材料の種類（性質）によってはガラス基板９の上面及び
ガラス基板２の下面のいずれか一方又は両方に偏光板が
貼付される。

【０００７】図７は、スイッチング素子である絶縁ゲー
ト型の薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）を画素
毎に配置したアクティブマトリクス型液晶パネルの等価
回路図である。実線で描かれた素子及び配線は一方のガ
ラス基板（アクティブマトリクス基板）２上に配置さ
れ、破線で描かれた素子で及び配線は他方のガラス基板
（カラーフィルタ基板）９上に形成されている。ＴＦＴ
１０は、例えば非晶質シリコンを半導体層とし、シリコ
ン窒化層をゲート絶縁層として、アクティブマトリクス
基板２上に形成され、同時に走査線１１及び信号線１２
もアクティブマトリクス基板２上に形成される。

【０００８】液晶セル１３はアクティブマトリクス基板
２上に形成された透明導電性の画素電極１４と、カラー
フィルタ基板９上に形成された透明導電性の対向電極１
５と、２枚のガラス基板２，９で挟まれた閉空間を満た
す液晶１６とで構成され、所定の静電容量（画素容量）
を有する。液晶セル１３の時定数を大きくするために画
素容量に付加される蓄積容量（補助容量）の構成にはい
くつかのバリエーションがある。図７の例では、全画素
に共通の共通電極１８と各画素電極１４とがＴＦＴのゲ
ート絶縁層等の絶縁層を介して対向する部分に蓄積容量
１７が形成される。

【０００９】最近開発された広視野角のＩＰＳ(In-Plai
n-Switching)方式の液晶パネルにあっては、図８に示す
ように、液晶セルを構成する画素電極４２及び対向電極
４１がアクティブマトリクス基板２上に所定の間隔で配
置されている。通常、画素電極４２及び対向電極４１は
一対の櫛形状に形成される。画素電極４２を絶縁ゲート
型トランジスタのドレインに接続してアクティブマトリ
クス化することができるが、詳細は省略する。４３は液
晶セル内の液晶分子の配列状態を示しており、図８
（ａ）は画素電極４２と対向電極４１との間に電圧が印
加されていない状態、図８（ｂ）は電圧が印加されてい
る状態をそれぞれ示す。

【００１０】図９はカラー表示用液晶パネルの要部断面
図である。染色された感光性ゼラチン又は着色感光性樹
脂等からなる着色層１９は、画素電極１４に対応するよ
うに、ＲＧＢ三原色の所定の配列にしたがってカラーフ
ィルタ基板９の閉空間側に配置されている。全ての画素
電極１４に共通の対向電極１５は、着色層１９の介在に
よる液晶セル内での電圧配分損失を回避するために着色
層１９上に形成される。液晶１６に接するように２枚の
ガラス基板２，９上に配向膜２０が形成されている。こ
れは、例えば０．１μｍ程度の膜厚のポリイミド系樹脂
層であり、液晶分子を所定の方向に揃える働きを有す
る。また、液晶１６としてツイスト・ネマティック（Ｔ
Ｎ）型のものを用いる場合は上下２枚の偏光板２１を必
要とする。

【００１１】ＲＧＢの着色層１９の境界に、ブラックマ
トリクス（ＢＭ）と呼ばれる光を反射させにくい不透明
膜２２が配置されている。このブラックマトリクス２２
は、アクティブマトリクス基板２上の信号線１２等の配
線層からの反射光を遮って画像のコントラストを向上す
ると共に、スイッチング素子であるＴＦＴの外部光によ
るリーク電流の増大を防いで強い外光の下でも液晶パネ
ルを動作させることを可能とする働きを有する。

【００１２】ブラックマトリクスは種々の構成がある
が、隣り合う着色層の境界における段差の発生と光の透
過率を考慮すると、コスト面では不利であるが、０．１
μｍ程度の膜厚のＣｒ薄膜を用いるのが簡便かつ合理的
である。

【００１３】なお、図９において、ＴＦＴ、走査線、蓄
積容量、裏面光源、スペーサ等の構成要素については図
示を省略している。２３は画素電極１４とＴＦＴ１０の
ドレインとを接続するための導電性薄膜であり、通常は
信号線１２と同一材料で同時に形成されドレイン配線と
称される。対向電極１５は画像表示部の外で導電性ペー
ストを介してアクティブマトリクス基板２上の適当な導
電性パターンに接続され、図６の電極端子群５，６の一
つに接続されている。

【００１４】図１０は液晶パネルの周縁部における走査
線の端部周辺の平面図（ガラスパネル２側から見た図）
を示す。また、図１０のＡ−Ａ´線に対応する断面図を
図１１に示す。アクティブマトリクス基板２とカラーフ
ィルタ基板９とが接着性のシール材（樹脂）２４によっ
て封止されている。シール材２４の幅は０．５〜１．２
ｍｍ程度であり、高さは液晶セルのギャツプに相当する
数μｍである。このようなシール材は、小型の液晶パネ
ルではスクリーン印刷で効率良く形成することができ
る。また、大型の液晶パネルではシール描画機を用いて
異物の転写がないように形成される。

【００１５】液晶パネルの周縁部のシール材が配置され
た箇所の周辺を示す図１０及び１１において、走査線１
１の端子電極６は、膜厚０．３μｍ程度のゲート絶縁層
であるシリコン窒化層（ＳｉＮｘ）２５に形成された開
口部２６に、ソース・ドレイン配線１２，２３と同時に
形成される。この端子電極６は、膜厚０．３μｍ程度の
シリコン窒化層からなるパシベーション絶縁層２７に形
成された開口部２８により露出している。また、画像表
示部の周辺には、液晶パネルを斜めから見たときに裏面
からの不要な光が漏洩しないように、所定の配列数以上
の着色層１９´とブラックマトリクス２２´とが配置さ
れている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】最新の液晶パネルでは
狭額縁化が図られることが多い。すなわち、画像表示部
外の領域ができるだけ小さくなるように設計して、表示
装置の軽量化と小型化が図られる。そのため、シール材
２４はできるだけ画像表示部に近づけて配置される。こ
の結果、図１１に示すように、シール材２４の上にブラ
ックマトリクス２２´を配置せざるを得なくなる。

【００１７】また、対角２５ｃｍ以上の大型パネルにお
いても表示容量と表示画質の向上のために高精細化が図
られており、開口率の確保も要求される。その結果、ブ
ラックマトリクスの幅を細くすると同時に、液晶パネル
を構成する２枚の基板２，９の貼り合せ精度を向上する
ことが重要になってきた。つまり、従来は数μｍ程度の
貼り合せ精度で十分であったが、開口率を８０％以上に
高めるためには２μｍ下の高精度が要求されるようにな
ってきた。

【００１８】液晶パネルの貼り合せ精度は、アクティブ
マトリクス基板とカラーフィルタ基板との加工精度及び
貼り合せ工程における二つの基板の貼り合せ精度の総和
で決まる。したがって、液晶パネルが大きい程、つまり
ガラス基板が大きい程、ガラス基板の反りやうねりが大
きくなるので精度は低下する。

【００１９】貼り合せの精度を１〜２μｍに収めること
は、大型基板の高精度露光機の機構や実力から考えると
さほど困難なことではない。しかし、シール２４の硬化
工程におけるガラス基板の反りも相俟って、実用上確保
できる精度は数μｍに低下してしまうのが現状である。

【００２０】硬化工程の中で特に重要なことは温度の均
一性である。ガラス基板の膨張係数は１℃当たり数ｐｐ
ｍもあるので、例えば１０℃の温度差があると、３０ｃ
ｍの大きさのガラス基板の場合、１０〜２０μｍの伸縮
差が生じてしまうことになる。このため、硬化工程にお
ける加熱・冷却は徐熱・徐冷が必須であるが、生産性の
向上のためには加熱・冷却に要する時間を短縮する必要
がある。

【００２１】そこで、シール材の熱硬化を１００℃程度
の低温で行うことが検討されているが、一般的に硬化温
度が低くなると気密性と密着性の低下が免れない。また
シール材中の残留溶剤が液晶に溶け込んで、液晶セルの
保持率が低下し、高温動作及び長時間動作における液晶
パネルの表示特性が劣化することが避けられない。

【００２２】一方、加熱が不要な紫外線硬化性のシール
樹脂を採用した場合、図１０及び１１に示すように、カ
ラーフィルタ基板９とシール樹脂２４との間には遮光性
のブラックマトリクス２２´が介在しているので、シー
ル樹脂２４を硬化するための紫外線をカラーフィルタ基
板９の外面から照射することはできず、アクティブマト
リクス基板２の外面から照射せざるを得ない。

【００２３】しかし、アクティブマトリクス基板２とシ
ール樹脂２４との間には走査線１１及び信号線１２の電
極線が部分的に介在する。これらの電極線は、抵抗値を
下げるために金属薄膜を用いるのが一般的であり、紫外
線に対して不透明である。電極線のパターン幅は少なく
とも２０μｍはあるので、電極線の周辺部から紫外線が
回り込むことを考慮に入れても、電極線が遮る部分のシ
ール樹脂２４を完全に硬化させることは不可能である。
この場合、貼り合せ精度は高くてもシールの信頼性が低
い液晶パネルになってしまう。一方、紫外線硬化型のシ
ール樹脂と熱硬化型のシール樹脂とを併用すれば、シー
ルの信頼性は高くなるが、従来と同様に加熱による貼り
合せ精度の低下が生ずる。

【００２４】本発明は上記のような従来の問題点に鑑み
てなされたものであり、高開口率の液晶パネルを実現す
る貼り合せ精度の向上を図ることができるカラー液晶パ
ネル及びその製造方法を提供することを目的とする。

【００２５】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶パネル
の第１の構成は、液晶を封止するためのシール材と交差
する走査線及び信号線を含む電極線が、シール材と交差
する部分に開口部を有することを特徴とする。このよう
な構成によれば、アクティブマトリクス基板の外面から
紫外線を照射したとき、遮光性の電極線に設けられた開
口部を通過する紫外線及び開口部から回り込む紫外線に
よって、電極線と交差する部分のシール材についてもほ
ぼ完全に硬化させることができる。したがって、シール
硬化工程を低温化して貼り合せ精度の向上を図ることが
できる。

【００２６】本発明による液晶パネルの第２の構成は、
液晶を封止するためのシール材と交差する走査線及び信
号線を含む電極線が、シール材と交差する部分において
透明導電層で形成されていることを特徴とする。このよ
うな構成によれば、アクティブマトリクス基板の外面か
ら紫外線を照射したとき、電極線の透明導電層で形成さ
れた部分を通過する紫外線紫外線によって、電極線と交
差する部分のシール材についてもほぼ完全に硬化させる
ことができる。

【００２７】本発明による液晶パネルの第３の構成は、
液晶を封止するためのシール材と交差する走査線及び信
号線を含む電極線が、シール材と交差する部分に開口部
を有すると共に、開口部を含む領域に透明導電層が積層
されていることを特徴とする。このような構成によれ
ば、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
したとき、電極線の開口部及び透明導電層で形成された
部分を通過する紫外線紫外線によって、電極線と交差す
る部分のシール材についてもほぼ完全に硬化させること
ができる。また、電極線に開口部を設けることによる電
気抵抗の増大を透明導電層の積層によって補償しなが
ら、シール硬化工程の低温化を実現することができる。

【００２８】上記の第１の構成、すなわち、シール材と
交差する部分の電極線に開口部を設ける構成はＩＰＳ(I
n-Plain-Switching)方式の液晶パネルにも適用できる。
第２又は第３の構成、すなわち、シール材と交差する部
分の電極線を透明導電層で形成する構成、又は電極線に
開口部を設け、かつ、透明導電層を積層する構成につい
ても、ＩＰＳ方式の液晶パネルに適用することは可能で
あるが、専用の透明導電層を形成する工程が増えるので
実用的ではない。

【００２９】上記のような各構成の液晶パネルを製造す
るための本発明による方法は、アクティブマトリクス基
板とカラーフィルタ基板とをシール材を用いて貼り合わ
せるに際して、紫外線硬化型の樹脂をシール材として用
い、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
してシール材を硬化させることを特徴とする。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に係る液
晶パネルの構造を、従来技術で説明した液晶パネルの構
造と相違する点に絞って説明する。

【００３１】まず、図１に示す第１の実施形態では、電
極線である走査線１１がシール樹脂２４と交差する領域
において、走査線１１のパターンに開口部３０が形成さ
れている。このようにして、透明のガラス基板（アクテ
ィブマトリクス基板）２の外面から見ると、シール樹脂
２４のほとんどの領域が走査線１１のパターンに遮られ
ることなく見えている。したがって、アクティブマトリ
クス基板２の外面より紫外線を照射すると、開口部３０
を通過する紫外線及び開口部３０の周辺から回り込んだ
紫外線により、走査線パターンと交差する部分について
もシール樹脂２４をほぼ完全に硬化させることができ
る。

【００３２】信号線パターンとシール樹脂２４とが交差
する部分においても同様に、信号線パターンに開口部を
形成することにより、アクティブマトリクス基板２の外
面から照射される紫外線によってシール樹脂２４をほぼ
完全に硬化させることができる。

【００３３】電極線のパターンに開口部を設けると、そ
の領域における電極線の電気抵抗が増大する。したがっ
て、開口部の大きさには十分な配慮が必要である。図１
に示すように、複数の開口部を設け、又はその部分のパ
ターン幅を広げる等の工夫によって、電気抵抗の増大を
回避することができる。また、紫外線照射時間を長く設
定し、開口部の周縁からの回折光を有効利用することに
より、開口部が小さいことを補ってシール樹脂２４をほ
ぼ完全に硬化させることができる。

【００３４】つぎに、本発明の第２の実施形態を図２及
び図３に示す。図２はアクティブマトリクス基板２の外
面から見た平面図であり、図３は図２のＡ−Ａ’線に対
応する断面図である。この実施形態では、電極線である
信号線１２がシール樹脂２４と交差する領域において、
信号線１２の形成に先立ち、画素電極の形成と同時に透
明導電性の接続パターン３１を透明な絶縁層２５上に形
成する。そして、分断された信号線１２を接続パターン
３１の両端部分と接続するように形成する。

【００３５】シール樹脂２４と交差する領域の信号線は
透明導電性の接続パターン３１で形成されているので、
アクティブマトリクス基板２の裏面より紫外線を照射し
たとき、透明の接続パターン３１を透過した紫外線によ
って、信号線と交差する部分についてもシール樹脂をほ
ぼ完全に硬化させることができる。

【００３６】走査線パターンとシール樹脂２４とが交差
する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線
を部分的に透明導電層で形成することにより、アクティ
ブマトリクス基板２の外面から照射される紫外線によっ
てシール樹脂２４をほぼ完全に硬化させることができ
る。もちろん、透明導電性の接続パターンと走査線とが
電気的に接続されるように、例えば端子電極６の形成と
同様に、透明導電性の接続パターンの形成に先立ち、絶
縁層２５に開口部を形成して走査線の一部を露出させて
おく必要がある。

【００３７】つぎに、本発明の第３の実施形態を図４及
び図５に示す。図４はアクティブマトリクス基板２の外
面から見た平面図であり、図５は図４のＡ−Ａ’線に対
応する断面図である。この実施形態では、電極線である
信号線１２がシール樹脂２４と交差する領域において、
信号線１２の形成に先立ち、画素電極１４の形成と同時
に透明導電性の接続パターン３１を透明な下地の透明な
絶縁層２５上に形成する。その後、接続パターン３１上
を含むように開口部３０を有する信号線１２を形成す
る。

【００３８】シール樹脂２４と交差する領域において、
信号線１２は透明導電性の接続パターン３１と開口部を
有する信号線１２とで積層されているので、アクティブ
マトリクス基板２の裏面から紫外線を照射したとき、透
明の接続パターン３１を透過した紫外線、開口部３０を
透過した紫外線及び開口部３０の周辺から回り込んだ紫
外線により、信号線と交差する部分についてもシール樹
脂を完全にほぼ硬化させることができる。

【００３９】走査線パターンとシール樹脂２４とが交差
する部分においても同様に、遮光性材料からなる走査線
に開口部を設けると共に部分的に透明導電層を併用する
ことにより、アクティブマトリクス基板２の外面から照
射される紫外線によってシール樹脂を完全に硬化させる
ことができる。この実施形態では、電極線に開口部を設
けることによる電気抵抗の増大を、透明導電性接続パタ
ーンの併用（積層）によって補償することができるの
で、大型の液晶パネルに適している。

【００４０】第４の実施形態として、本発明をＩＰＳ(I
n-Plain-Switching)型のカラー液晶パネルに適用するこ
ともできる。前述のように、ＩＰＳ型の液晶パネルでは
液晶セルを構成する画素電極及び対向電極が共にアクテ
ィブマトリクス基板上に形成されており、透明導電層が
不要である。したがって、前述の第２及び第３の実施形
態をＩＰＳ型の液晶パネルに適用することは、透明導電
層を形成する工程をわざわざ追加することになるので、
コスト上望ましくない。しかし、前述の第１の実施形態
と同様に、紫外線硬化性シール樹脂と交差する部分の電
極線に開口部を形成する構成は、ＩＰＳ型の液晶パネル
にも容易に適用することができ、この場合も同様の効果
が得られる。

【００４１】なお、上記の各実施形態において、絶縁ゲ
ート型トランジスタ等のスイッチング素子の構成又は材
料、電極線である走査線及び信号線の構成又は材料につ
いては特に限定する必要はない。また、実施形態２又は
３において、透明導電層と電極線との形成順序を逆にし
てもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上に説明したように、本発明によれ
ば、アクティブマトリクス基板とカラーフィルタ基板と
を封止するシール材として、紫外線硬化型の樹脂を用
い、アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
することによってシール材をほぼ完全に硬化させること
ができる。この結果、パネル化工程の低温化による貼り
合せ精度の向上とシール品質の向上とを両立させること
ができ、開口率及び信頼性の高い液晶パネルが得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態によるアクティブマト
リクスマトリックス基板の走査線側の電極パターンの配
置図

【図２】本発明の第２の実施形態によるアクティブマト
リクス基板の信号線側の電極パターンの配置図

【図３】図２のＡ−Ａ´線に対応する断面図

【図４】本発明の第３の実施形態によるアクティブマト
リクス基板の信号線側の電極パターンの配置図

【図５】図４のＡ−Ａ´線に対応する断面図

【図６】従来の液晶パネルの実装状態を示す斜視図

【図７】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの等
価回路図

【図８】従来のＩＰＳ方式の液晶セルの概念図を示す斜
視図

【図９】従来のアクティブマトリクス型液晶パネルの要
部断面図

【図１０】従来の液晶パネルによるアクティブマトリク
ス基板の走査線側の電極パターンの配置図

【図１１】図１０のＡ−Ａ´線に対応する断面図

【符号の説明】

２ アクティブマトリクス基板 ９ カラーフィルタ基板 １１ 走査線 １２ 信号線 ２４ シール材 ２５ 絶縁層 ２６ 絶縁層に形成された開口部 ２７ パシベーション絶縁層 ２８ パシベーション絶縁層に形成された開口部 ３０ 電極線に形成された開口部 ３１ 電極線を部分的に構成する透明導電性の接続パタ
ーン

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
   層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
   設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
   グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
   クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
   するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
   の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
   線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
   部分に開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネ
   ル。
2. 【請求項２】 請求項１記載の液晶パネルの製造方法で
   あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
   ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
   して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
   前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
   して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
   ネルの製造方法。
3. 【請求項３】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
   層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
   設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
   グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
   クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
   するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及と前記カラーフィルタ
   基板との間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにお
   いて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
   線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
   部分において透明導電層で形成されていることを特徴と
   するカラー液晶パネル。
4. 【請求項４】 請求項３記載の液晶パネルの製造方法で
   あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
   ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
   して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
   前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
   して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
   ネルの製造方法。
5. 【請求項５】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
   層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
   設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
   グ素子及び透明画素電極が設けられたアクティブマトリ
   クス基板と、 透明導電層を有し前記アクティブマトリクス基板と対向
   するカラーフィルタ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
   の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
   線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
   部分に開口部を有すると共に、前記開口部を含む領域に
   透明導電層が積層されていることを特徴とするカラー液
   晶パネル。
6. 【請求項６】 請求項５記載の液晶パネルの製造方法で
   あって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラーフ
   ィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに際
   して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用い、
   前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を照射
   して前記シール材を硬化させることを特徴とする液晶パ
   ネルの製造方法。
7. 【請求項７】 透明絶縁基板上に複数の走査線と、絶縁
   層を介して前記走査線とほぼ直交する複数の信号線とが
   設けられ、前記走査線及び信号線の各交点にスイッチン
   グ素子と、所定の間隔で配置された画素電極及び対向電
   極とを有するアクティブマトリクス基板と、 前記アクティブマトリクス基板と対向するカラーフィル
   タ基板と、 前記アクティブマトリクス基板及びカラーフィルタ基板
   の間に充填された液晶とを備えた液晶パネルにおいて、 前記液晶を封止するためのシール材と交差する前記走査
   線及び信号線を含む電極線が、前記シール材と交差する
   部分に開口部を有することを特徴とするカラー液晶パネ
   ル。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の液晶パネルの製造方法
   であって、前記アクティブマトリクス基板と前記カラー
   フィルタ基板とを前記シール材を用いて貼り合わせるに
   際して、紫外線硬化型の樹脂を前記シール材として用
   い、前記アクティブマトリクス基板の外面から紫外線を
   照射して前記シール材を硬化させることを特徴とする液
   晶パネルの製造方法。