JPH1176898A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH1176898A JPH1176898A JP26496897A JP26496897A JPH1176898A JP H1176898 A JPH1176898 A JP H1176898A JP 26496897 A JP26496897 A JP 26496897A JP 26496897 A JP26496897 A JP 26496897A JP H1176898 A JPH1176898 A JP H1176898A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lip
- doctor
- coating
- edge
- upstream
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 下層膜の十分なスム−ジング効果及びドクタ
−リップにおける異物トラップの防止効果が、容易かつ
安価な設備で得られ、塗布欠陥の少ない良好な多層塗布
膜を同時重層塗布可能な塗布装置を提供すること。 【解決手段】 第一ドクタ−リップ5のエッジDから第
二ドクタ−リップ6のリップ面6aに接する様に(接点
G)引いた直線L1と、第一ドクタ−リップ5のエッジ
Dにおけるリップ面5aの接線L2とのなす角度θが、
接線L2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲となる様
に構成され、かつ、第一のドクタ−リップ5の曲率半径
R1と第二のドクタ−リップ6の曲率半径R2との関係
が0.2R1≦R2<0.8R1となるように構成され
ている。
−リップにおける異物トラップの防止効果が、容易かつ
安価な設備で得られ、塗布欠陥の少ない良好な多層塗布
膜を同時重層塗布可能な塗布装置を提供すること。 【解決手段】 第一ドクタ−リップ5のエッジDから第
二ドクタ−リップ6のリップ面6aに接する様に(接点
G)引いた直線L1と、第一ドクタ−リップ5のエッジ
Dにおけるリップ面5aの接線L2とのなす角度θが、
接線L2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲となる様
に構成され、かつ、第一のドクタ−リップ5の曲率半径
R1と第二のドクタ−リップ6の曲率半径R2との関係
が0.2R1≦R2<0.8R1となるように構成され
ている。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、可撓性支持体の表
面に塗布液を連続的に押し出して塗布膜を形成するエク
ストル−ジョン型塗布装置に関し、特に磁気記録媒体の
製造における同時重層塗布装置に関する。
面に塗布液を連続的に押し出して塗布膜を形成するエク
ストル−ジョン型塗布装置に関し、特に磁気記録媒体の
製造における同時重層塗布装置に関する。
【0002】
【従来の技術】塗布型磁気記録媒体の塗布方式として
は、グラビアロ−ル方式やリバ−スロ−ル方式等のロ−
ルコ−ト方式が一般的であったが、近年、これらの塗布
方式よりも塗布厚が均一で、且つ薄膜塗布が可能なエク
ストル−ジョン型塗布方式が実用化されている。更に、
この種のエクストル−ジョン型塗布方式では、可撓性支
持体(媒体のベースフィルム)の走行最上流側に位置す
るフロントリップと下流側に位置する複数のドクタ−リ
ップとによって形成される複数のスロットを有し、各々
のスロットから塗布液を吐出して走行する可撓性支持体
の表面に塗布液を塗布することによって同時重層塗布も
実用化されている。(特公平6−77712号、特開平
2−251265号、特開平3−258368号、特開
平5−104054号等)
は、グラビアロ−ル方式やリバ−スロ−ル方式等のロ−
ルコ−ト方式が一般的であったが、近年、これらの塗布
方式よりも塗布厚が均一で、且つ薄膜塗布が可能なエク
ストル−ジョン型塗布方式が実用化されている。更に、
この種のエクストル−ジョン型塗布方式では、可撓性支
持体(媒体のベースフィルム)の走行最上流側に位置す
るフロントリップと下流側に位置する複数のドクタ−リ
ップとによって形成される複数のスロットを有し、各々
のスロットから塗布液を吐出して走行する可撓性支持体
の表面に塗布液を塗布することによって同時重層塗布も
実用化されている。(特公平6−77712号、特開平
2−251265号、特開平3−258368号、特開
平5−104054号等)
【0003】近年の磁気記録媒体は高密度化と薄膜化が
更に促進されており、高BET値の酸化磁性粉やメタル
粉等を分散した高粘度磁性塗料を薄膜・高速塗布の条件
下で長時間良好に塗布することが求められている。前記
のエクストル−ジョン型同時重層塗布方式においても、
従来の課題を解決すべく種々の改善がなされている。例
えば、特開平5−104054号においては、図4に示
すように各ドクタ−リップの位置関係について改善を行
っている。上流側ドクタ−リップ30のエッジから下流
側ドクタ−リップ31のリップ面に接する様に引いた直
線と下流側ドクタ−リップ31の上流端より上方に延ば
した垂線との交点が、前記上流端との間に有する距離を
tとした時に、この距離tを5μm≦t≦30μmと規
定している。距離tがこの範囲より狭い場合は塗布液中
の異物がドクタ−リップの上流端にトラップされて塗布
層にスジが多発し、距離tがこの範囲より広いと同時重
層塗布される上下層の合流部界面が乱れて塗布量が10
cc/m2 以下の薄膜上層は塗布不能となることが開示さ
れている。
更に促進されており、高BET値の酸化磁性粉やメタル
粉等を分散した高粘度磁性塗料を薄膜・高速塗布の条件
下で長時間良好に塗布することが求められている。前記
のエクストル−ジョン型同時重層塗布方式においても、
従来の課題を解決すべく種々の改善がなされている。例
えば、特開平5−104054号においては、図4に示
すように各ドクタ−リップの位置関係について改善を行
っている。上流側ドクタ−リップ30のエッジから下流
側ドクタ−リップ31のリップ面に接する様に引いた直
線と下流側ドクタ−リップ31の上流端より上方に延ば
した垂線との交点が、前記上流端との間に有する距離を
tとした時に、この距離tを5μm≦t≦30μmと規
定している。距離tがこの範囲より狭い場合は塗布液中
の異物がドクタ−リップの上流端にトラップされて塗布
層にスジが多発し、距離tがこの範囲より広いと同時重
層塗布される上下層の合流部界面が乱れて塗布量が10
cc/m2 以下の薄膜上層は塗布不能となることが開示さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな塗布ヘッドを用いて塗布すると、上下層の塗料性状
(粘度差、混合性等)や塗布ヘッドリップ形状(曲率半
径、円弧長等)によっては、異物のトラップに起因する
ものではない塗布スジが発生する場合がある。これは、
上層塗布液がスロットの吐出口付近で下層膜を押し上
げ、上流側ドクタ−リップのエッジ部に下層塗膜が接触
しなくなり下層塗膜のスム−ジング効果が損なわれ、下
層膜表面にスジが発生し、この下層膜表面スジが上層膜
表面にまで影響しているものと考えられる。従って、特
開平5−104054号公報に開示された塗布ヘッドを
用いて良好な塗布状態を得るには、非常に高い加工精度
の塗布ヘッドが必要であり、また、供給塗料の吐出圧力
や吐出量の変動を極力抑えるために、高精度かつ高額な
塗布液供給設備と厳密な塗布条件管理が必要である。塗
布設備は安価なものが望ましいし、塗布条件としても、
上記のような厳密な管理を緩和しても良好な塗布状態が
得られることが望ましい。
うな塗布ヘッドを用いて塗布すると、上下層の塗料性状
(粘度差、混合性等)や塗布ヘッドリップ形状(曲率半
径、円弧長等)によっては、異物のトラップに起因する
ものではない塗布スジが発生する場合がある。これは、
上層塗布液がスロットの吐出口付近で下層膜を押し上
げ、上流側ドクタ−リップのエッジ部に下層塗膜が接触
しなくなり下層塗膜のスム−ジング効果が損なわれ、下
層膜表面にスジが発生し、この下層膜表面スジが上層膜
表面にまで影響しているものと考えられる。従って、特
開平5−104054号公報に開示された塗布ヘッドを
用いて良好な塗布状態を得るには、非常に高い加工精度
の塗布ヘッドが必要であり、また、供給塗料の吐出圧力
や吐出量の変動を極力抑えるために、高精度かつ高額な
塗布液供給設備と厳密な塗布条件管理が必要である。塗
布設備は安価なものが望ましいし、塗布条件としても、
上記のような厳密な管理を緩和しても良好な塗布状態が
得られることが望ましい。
【0005】従って、本発明の目的は、下層膜の十分な
スム−ジング効果及びドクタ−リップにおける異物トラ
ップの防止効果が、容易かつ安価な設備で得られ、ス
ジ、ムラ等の塗布欠陥の少ない良好な多層塗布膜を同時
重層塗布可能な塗布装置を提供することにある。
スム−ジング効果及びドクタ−リップにおける異物トラ
ップの防止効果が、容易かつ安価な設備で得られ、ス
ジ、ムラ等の塗布欠陥の少ない良好な多層塗布膜を同時
重層塗布可能な塗布装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】そこで、上記課題を解決
するため本発明は、可撓性支持体の移動方向に対して最
上流側に位置し、前記可撓性支持体と対向するフロント
リップ面及びエッジを備えたフロントリップと、前記支
持体の移動方向に対して下流側に位置する複数のスロッ
ト及び複数のドクタ−リップとを有し、前記複数のスロ
ット先端部から各々塗布液を連続的に吐出して、前記可
撓性支持体表面に塗布液を同時に重層塗布するエクスト
ル−ジョン型同時重層塗布装置において、最下層を含む
塗布層を塗布する前記複数のドクタ−リップのリップ面
は断面円弧形状に形成されると共に、前記複数のドクタ
−リップの各リップ面の下流端にはエッジが設けられ、
一の上流側ドクタ−リップとその下流側に隣接する下流
側ドクタ−リップとの関係を、前記上流側ドクタ−リッ
プのエッジから前記下流側ドクタ−リップのリップ面に
接する様に引いた直線L1と、前記上流側ドクタ−リッ
プのエッジにおける接線L2とのなす角度θが、接線L
2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲となるように
し、かつ、前記上流側ドクタ−リップのリップ面の曲率
半径R1と前記下流側ドクタ−リップのリップ面の曲率
半径R2とが0.2R1≦R2<0.8R1となるよう
にしたことを特徴とする塗布装置を提供するものであ
る。
するため本発明は、可撓性支持体の移動方向に対して最
上流側に位置し、前記可撓性支持体と対向するフロント
リップ面及びエッジを備えたフロントリップと、前記支
持体の移動方向に対して下流側に位置する複数のスロッ
ト及び複数のドクタ−リップとを有し、前記複数のスロ
ット先端部から各々塗布液を連続的に吐出して、前記可
撓性支持体表面に塗布液を同時に重層塗布するエクスト
ル−ジョン型同時重層塗布装置において、最下層を含む
塗布層を塗布する前記複数のドクタ−リップのリップ面
は断面円弧形状に形成されると共に、前記複数のドクタ
−リップの各リップ面の下流端にはエッジが設けられ、
一の上流側ドクタ−リップとその下流側に隣接する下流
側ドクタ−リップとの関係を、前記上流側ドクタ−リッ
プのエッジから前記下流側ドクタ−リップのリップ面に
接する様に引いた直線L1と、前記上流側ドクタ−リッ
プのエッジにおける接線L2とのなす角度θが、接線L
2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲となるように
し、かつ、前記上流側ドクタ−リップのリップ面の曲率
半径R1と前記下流側ドクタ−リップのリップ面の曲率
半径R2とが0.2R1≦R2<0.8R1となるよう
にしたことを特徴とする塗布装置を提供するものであ
る。
【0007】
【発明の実施の形態】以下に本発明の塗布装置について
図面を参照しながら説明する。ここでは2層同時塗布の
例に従って順次詳細に説明する。図1は本発明の一実施
例の塗布ヘッド(エクストル−ジョン型同時重層塗布ヘ
ッド)の斜視図である。図2は一実施例の塗布ヘッドに
よる塗布状態を説明するための塗布ヘッドの断面図であ
り、図3は一実施例の塗布ヘッドの先端形状を示す図で
ある。
図面を参照しながら説明する。ここでは2層同時塗布の
例に従って順次詳細に説明する。図1は本発明の一実施
例の塗布ヘッド(エクストル−ジョン型同時重層塗布ヘ
ッド)の斜視図である。図2は一実施例の塗布ヘッドに
よる塗布状態を説明するための塗布ヘッドの断面図であ
り、図3は一実施例の塗布ヘッドの先端形状を示す図で
ある。
【0008】図1に示す様に、塗布ヘッド1は下層塗布
液9が供給される第一のポケット2と、上層塗布液10
が供給される第二のポケット3を有し、可撓性支持体
(以下ウェブと称す)の走行方向最上流側に位置するフ
ロントリップ4と、その下流側に順次位置する第一のド
クタ−リップ5、及び第二のドクタ−リップ6と、前記
ポケット2に連通するスロット7及び前記ポケット3に
連通するスロット8等から構成されている。尚、ポケッ
ト2及びポケット3は所定の直径の貫通穴であり、スロ
ット7及びスロット8の開口長は、その両端に適当な幅
のスペ−サ−(図示せず)を挟み込んでほぼ塗布幅に等
しい長さに調整してある。続いて塗布状態について図2
及び図3に基づいて詳細に説明する。実際の塗布は、ス
ロット7から下層塗布液9が、スロット8からは上層塗
布液10が同時に吐出され、速度Vで矢印方向に走行す
るウェブWの表面に塗布される。この時、下層塗布膜9
aは図3に示す第一のドクタ−リップ5のエッジDによ
って平滑にスム−ジングされ、スロット8の吐出口付近
で上層塗布液と合流する。上層塗布膜10aの表面は第
二のドクタ−リップ6のエッジFのスム−ジング効果に
よって平滑に形成される。
液9が供給される第一のポケット2と、上層塗布液10
が供給される第二のポケット3を有し、可撓性支持体
(以下ウェブと称す)の走行方向最上流側に位置するフ
ロントリップ4と、その下流側に順次位置する第一のド
クタ−リップ5、及び第二のドクタ−リップ6と、前記
ポケット2に連通するスロット7及び前記ポケット3に
連通するスロット8等から構成されている。尚、ポケッ
ト2及びポケット3は所定の直径の貫通穴であり、スロ
ット7及びスロット8の開口長は、その両端に適当な幅
のスペ−サ−(図示せず)を挟み込んでほぼ塗布幅に等
しい長さに調整してある。続いて塗布状態について図2
及び図3に基づいて詳細に説明する。実際の塗布は、ス
ロット7から下層塗布液9が、スロット8からは上層塗
布液10が同時に吐出され、速度Vで矢印方向に走行す
るウェブWの表面に塗布される。この時、下層塗布膜9
aは図3に示す第一のドクタ−リップ5のエッジDによ
って平滑にスム−ジングされ、スロット8の吐出口付近
で上層塗布液と合流する。上層塗布膜10aの表面は第
二のドクタ−リップ6のエッジFのスム−ジング効果に
よって平滑に形成される。
【0009】ここで、フロントリップ4はウェブWの走
行方向に対して最上流に位置し、上流端A及びエッジB
を含むリップ面4aは断面円弧形状でも斜線形状でも良
い。第一ドクタ−リップ5はスロット7を挟んでフロン
トリップ4の下流側に位置し、そのリップ面5aは上流
端C及びエッジDを含む曲率半径R1の断面円弧形状に
形成されている。同様にスロット8を挟んで第一ドクタ
−リップ5の下流側に位置する第二ドクタ−リップ6の
リップ面6aも、上流端E及びエッジFを含む曲率半径
R2の断面円弧形状に形成されている。
行方向に対して最上流に位置し、上流端A及びエッジB
を含むリップ面4aは断面円弧形状でも斜線形状でも良
い。第一ドクタ−リップ5はスロット7を挟んでフロン
トリップ4の下流側に位置し、そのリップ面5aは上流
端C及びエッジDを含む曲率半径R1の断面円弧形状に
形成されている。同様にスロット8を挟んで第一ドクタ
−リップ5の下流側に位置する第二ドクタ−リップ6の
リップ面6aも、上流端E及びエッジFを含む曲率半径
R2の断面円弧形状に形成されている。
【0010】また、第一ドクタ−リップ5と第二ドクタ
−リップ6の高さ方向の位置関係は、第一ドクタ−リッ
プ5のエッジDから第二ドクタ−リップ6のリップ面6
aに接する様に(接点G)引いた直線L1と、第一ドク
タ−リップ5のエッジDにおけるリップ面5aの接線L
2とのなす角度θが、接線L2より下方向に0゜≦θ≦
10゜の範囲となる様に構成され、かつ、第一のドクタ
−リップ5の曲率半径R1と第二のドクタ−リップ6の
曲率半径R2との関係が0.2R1≦R2<0.8R1
となるように構成されている。尚、角度θの設定方法は
図示しないが、第二ドクタ−リップをアジャスト・ボル
トにより上下させるか、適度な板厚のスペ−サ−を第二
ドクタ−リップの下に挿入することにより高さを調整し
て設定することができる。
−リップ6の高さ方向の位置関係は、第一ドクタ−リッ
プ5のエッジDから第二ドクタ−リップ6のリップ面6
aに接する様に(接点G)引いた直線L1と、第一ドク
タ−リップ5のエッジDにおけるリップ面5aの接線L
2とのなす角度θが、接線L2より下方向に0゜≦θ≦
10゜の範囲となる様に構成され、かつ、第一のドクタ
−リップ5の曲率半径R1と第二のドクタ−リップ6の
曲率半径R2との関係が0.2R1≦R2<0.8R1
となるように構成されている。尚、角度θの設定方法は
図示しないが、第二ドクタ−リップをアジャスト・ボル
トにより上下させるか、適度な板厚のスペ−サ−を第二
ドクタ−リップの下に挿入することにより高さを調整し
て設定することができる。
【0011】次に、パラメータを種々変更した場合の実
施例について説明する。以下の各実施例は、磁気テ−プ
の製造において磁性塗料を同時重層塗布により、第一層
である下層は30cc/m2 (wet) 以下、第二層である
上層は20cc/m2 (wet)以下の塗布量を塗布するも
のである。各実施例では下層塗布液9として次に示す組
成成分の塗布液を共通して使用し、上層塗布液10とし
て次に示す組成成分の塗布液を共通して使用した。ま
た、基本的な塗布条件も共通要素として実施した。
施例について説明する。以下の各実施例は、磁気テ−プ
の製造において磁性塗料を同時重層塗布により、第一層
である下層は30cc/m2 (wet) 以下、第二層である
上層は20cc/m2 (wet)以下の塗布量を塗布するも
のである。各実施例では下層塗布液9として次に示す組
成成分の塗布液を共通して使用し、上層塗布液10とし
て次に示す組成成分の塗布液を共通して使用した。ま
た、基本的な塗布条件も共通要素として実施した。
【0012】 [下層の塗布液組成成分] *コバルト被着γ−Fe2 O3 (磁性粉) 100重量部 (BET値28m2 /g) *塩化ビニル・アクリル共重合体 15重量部 *ポリウレタン樹脂 15重量部 *粒状Al2 O3 3重量部 *カ−ボンブラック 5重量部 *ミリスチン酸 1重量部 *トルエン 100重量部 *メチルエチルケトン 100重量部 *メチルイソブチルケトン 100重量部 *イソシアネ−ト系硬化剤 15重量部 *粘度(B型粘度計No.3) 1500cps
【0013】 [上層の塗布液組成成分] *コバルト被着Fe3 O4 (磁性粉) 100重量部 (BET値35m2 /g) *塩化ビニル・アクリル共重合体 15重量部 *ポリウレタン樹脂 15重量部 *粒状Al2 O3 3重量部 *カ−ボンブラック 5重量部 *ミリスチン酸 1重量部 *トルエン 100重量部 *メチルエチルケトン 100重量部 *メチルイソブチルケトン 100重量部 *イソシアネ−ト系硬化剤 15重量部 *粘度(B型粘度計No.3) 2000cps
【0014】また、他の基本的な塗布条件は以下のよう
である。 支持体(ウェブ):ポリエステルテレフタレ−トフィルム (幅320mm、厚さ15.0μm) 塗布速度 :200m/min 塗布張力 :適宜対応(所定塗布厚を確保できる値) 塗布厚 :乾燥後 下層 2.5μm±0.1μm :乾燥後 上層 0.7μm±0.05μm 塗布ヘッド条件 : ・フロントリップ曲率半径5mm (図3参照) ・スロット7のギャップ(下層用)0.15mm ・スロット8のギャップ(上層用)0.10mm
である。 支持体(ウェブ):ポリエステルテレフタレ−トフィルム (幅320mm、厚さ15.0μm) 塗布速度 :200m/min 塗布張力 :適宜対応(所定塗布厚を確保できる値) 塗布厚 :乾燥後 下層 2.5μm±0.1μm :乾燥後 上層 0.7μm±0.05μm 塗布ヘッド条件 : ・フロントリップ曲率半径5mm (図3参照) ・スロット7のギャップ(下層用)0.15mm ・スロット8のギャップ(上層用)0.10mm
【0015】図3に示す第一ドクタ−リップ5の曲率半
径R1をそれぞれ一定として、第二ドクタ−リップの曲
率半径R2及び角度θを適宜変更して得られた磁気テー
プの塗布状態を目視観察した。その結果を図5(R1=
5mm)、図6(R1=10mm)、図7(R1=15
mm)、図8(R1=20mm)、図9(R1=30m
m)に示す。
径R1をそれぞれ一定として、第二ドクタ−リップの曲
率半径R2及び角度θを適宜変更して得られた磁気テー
プの塗布状態を目視観察した。その結果を図5(R1=
5mm)、図6(R1=10mm)、図7(R1=15
mm)、図8(R1=20mm)、図9(R1=30m
m)に示す。
【0016】図5〜図9において、共通して観られる塗
布状態について以下に述べる。○印は、スジ、ムラ、ヌ
ケ等の無い良好な塗布面の状態が得られたことを示す。
●印は、重層塗布膜表面にレコ−ド盤溝の様な等間隔の
スジ状厚みムラが塗布長手方向に観られる塗布欠陥を示
す。この塗布欠陥は角度θが第一ドクタ−リップ5のエ
ッジDにおける接線L2よりも上方に形成されるような
条件(角度θがマイナス表示側)の時に現れている。こ
の発生原因は、角度θがマイナス側にあるとウェブのお
およその走行位置として第一ドクタ−リップ5のエッジ
Dに接すること無く走行する。このために下層膜9aの
形成において下層塗料9がエッジD以前に第一ドクタ−
リップ5のリップ面5aから離れることになり、エッジ
Dでのスム−ジング作用を受けないために等間隔のスジ
状厚みムラが発生し、この影響が上層表面に現れたもの
と考えられる。
布状態について以下に述べる。○印は、スジ、ムラ、ヌ
ケ等の無い良好な塗布面の状態が得られたことを示す。
●印は、重層塗布膜表面にレコ−ド盤溝の様な等間隔の
スジ状厚みムラが塗布長手方向に観られる塗布欠陥を示
す。この塗布欠陥は角度θが第一ドクタ−リップ5のエ
ッジDにおける接線L2よりも上方に形成されるような
条件(角度θがマイナス表示側)の時に現れている。こ
の発生原因は、角度θがマイナス側にあるとウェブのお
およその走行位置として第一ドクタ−リップ5のエッジ
Dに接すること無く走行する。このために下層膜9aの
形成において下層塗料9がエッジD以前に第一ドクタ−
リップ5のリップ面5aから離れることになり、エッジ
Dでのスム−ジング作用を受けないために等間隔のスジ
状厚みムラが発生し、この影響が上層表面に現れたもの
と考えられる。
【0017】黒塗りの△印は、第二ドクタ−リップ6の
リップ面6a及びエッジFにおいて重層塗布膜が掻き落
とされてしまう塗布欠陥を示す。この現象は第二ドクタ
−リップ6の曲率半径R2が比較的小さく、また、角度
θが小さいか、マイナス側にある場合に多く発生してい
る。この原因は、角度θが小さいと所定の下層膜厚を得
るためには比較的大きなウェブの張力(塗布張力)を必
要とする。従って、第二ドクタ−リップ6の曲率半径R
2が小さいと第二ドクタ−リップ6のリップ面6a及び
エッジFにかかる張力から受ける単位面積当たりの荷重
が大きくなり、ウェブとリップ面6a及びエッジFとの
間隙が所定の重層塗布厚を形成出来る量より狭くなり、
塗布液が掻き落とされるものと考えられる。
リップ面6a及びエッジFにおいて重層塗布膜が掻き落
とされてしまう塗布欠陥を示す。この現象は第二ドクタ
−リップ6の曲率半径R2が比較的小さく、また、角度
θが小さいか、マイナス側にある場合に多く発生してい
る。この原因は、角度θが小さいと所定の下層膜厚を得
るためには比較的大きなウェブの張力(塗布張力)を必
要とする。従って、第二ドクタ−リップ6の曲率半径R
2が小さいと第二ドクタ−リップ6のリップ面6a及び
エッジFにかかる張力から受ける単位面積当たりの荷重
が大きくなり、ウェブとリップ面6a及びエッジFとの
間隙が所定の重層塗布厚を形成出来る量より狭くなり、
塗布液が掻き落とされるものと考えられる。
【0018】■印は、上層膜10aに塗布ヌケが発生し
た塗布欠陥を示す。この塗布欠陥は角度θと第二ドクタ
−リップ6の曲率半径R2が比較的大きい時に観られ
た。この原因は、角度θが大きい場合、ウェブは第一ド
クタ−リップ5のエッジDに強く当たるようになるため
に所定の下層膜厚を得るには比較的低い張力での塗布と
なる。この時、第二ドクタ−リップ6の曲率半径R2が
比較的大きいと第二ドクタ−リップ6のリップ面6aと
エッジFがウェブ張力から受ける単位面積当たりの荷重
が小さくなり、ウェブとリップ面6a及びエッジFとの
間隙が所定重層塗布膜厚に必要な量より大きくなり、結
果、所定の上層塗布液供給量に対して間隙が余剰となり
上層膜10aに塗布ヌケが発生するものと考えられる。
た塗布欠陥を示す。この塗布欠陥は角度θと第二ドクタ
−リップ6の曲率半径R2が比較的大きい時に観られ
た。この原因は、角度θが大きい場合、ウェブは第一ド
クタ−リップ5のエッジDに強く当たるようになるため
に所定の下層膜厚を得るには比較的低い張力での塗布と
なる。この時、第二ドクタ−リップ6の曲率半径R2が
比較的大きいと第二ドクタ−リップ6のリップ面6aと
エッジFがウェブ張力から受ける単位面積当たりの荷重
が小さくなり、ウェブとリップ面6a及びエッジFとの
間隙が所定重層塗布膜厚に必要な量より大きくなり、結
果、所定の上層塗布液供給量に対して間隙が余剰となり
上層膜10aに塗布ヌケが発生するものと考えられる。
【0019】×印は、第一ドクタ−リップ5のリップ面
5a及びエッジDで吐出された下層塗布液9を掻き落と
す塗布欠陥を示す。また、ここでは異物トラップによる
スジの発生も多く観られた。この塗布欠陥は角度θが比
較的大きい場合と第二ドクタ−リップ6の曲率半径R2
が大きい場合に特に発生している。この原因は、角度θ
が大きいと第一ドクタ−リップ5のリップ面5aとエッ
ジDにウェブWが強く当たるようになり、下層塗布液9
がエッジDを通過出来なくなり、掻き落としとなる。ま
た、第二ドクタ−リップ6の曲率半径が大きくなるとウ
ェブ張力を比較的高めにして塗布しなければならず、こ
れによってエッジDでのウェブWの当たりは更に強い方
向に助長され下層塗布液が掻き落とされやすくなるもの
と思われる。
5a及びエッジDで吐出された下層塗布液9を掻き落と
す塗布欠陥を示す。また、ここでは異物トラップによる
スジの発生も多く観られた。この塗布欠陥は角度θが比
較的大きい場合と第二ドクタ−リップ6の曲率半径R2
が大きい場合に特に発生している。この原因は、角度θ
が大きいと第一ドクタ−リップ5のリップ面5aとエッ
ジDにウェブWが強く当たるようになり、下層塗布液9
がエッジDを通過出来なくなり、掻き落としとなる。ま
た、第二ドクタ−リップ6の曲率半径が大きくなるとウ
ェブ張力を比較的高めにして塗布しなければならず、こ
れによってエッジDでのウェブWの当たりは更に強い方
向に助長され下層塗布液が掻き落とされやすくなるもの
と思われる。
【0020】図5〜図9に示す塗布状態を観ると、
(A)第一ドクタ−リップ5のエッジDから第二ドクタ
−リップ6のリップ面6aに接するように(接点G)引
いた直線L1と、第一ドクタ−リップ5のエッジDにお
けるリップ面5aの接線L2とのなす角度θが、接線L
2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲にあり、かつ、
(B)第一ドクタ−リップ5のリップ面5aの曲率半径
R1と第二ドクタ−リップ6のリップ面6aの曲率半径
R2との関係が0.2R1≦R2<0.8R1の範囲に
ある時に、塗布面にスジ、ムラ、塗布液掻き落とし等の
塗布欠陥の無い良好な塗布状態が得られることが分かっ
た。
(A)第一ドクタ−リップ5のエッジDから第二ドクタ
−リップ6のリップ面6aに接するように(接点G)引
いた直線L1と、第一ドクタ−リップ5のエッジDにお
けるリップ面5aの接線L2とのなす角度θが、接線L
2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲にあり、かつ、
(B)第一ドクタ−リップ5のリップ面5aの曲率半径
R1と第二ドクタ−リップ6のリップ面6aの曲率半径
R2との関係が0.2R1≦R2<0.8R1の範囲に
ある時に、塗布面にスジ、ムラ、塗布液掻き落とし等の
塗布欠陥の無い良好な塗布状態が得られることが分かっ
た。
【0021】尚、上記の実施例は2層同時塗布の例であ
るが、もちろん、スロットとドクタ−リップの数を増や
し、より多層の同時重層塗布可能な塗布装置としてもよ
い。この場合、少なくとも一組の上流側ドクタ−リップ
とその下流側に隣接する下流側ドクタ−リップとの関係
を、前記上流側ドクタ−リップのエッジから前記下流側
ドクタ−リップのリップ面に接する様に引いた直線L1
と、前記上流側ドクタ−リップのエッジにおける接線L
2とのなす角度θが、接線L2より下方向に0゜≦θ≦
10゜の範囲となるようにし、かつ、前記上流側ドクタ
−リップのリップ面の曲率半径R1と前記下流側ドクタ
−リップのリップ面の曲率半径R2との関係が0.2R
1≦R2<0.8R1となるようにする。
るが、もちろん、スロットとドクタ−リップの数を増や
し、より多層の同時重層塗布可能な塗布装置としてもよ
い。この場合、少なくとも一組の上流側ドクタ−リップ
とその下流側に隣接する下流側ドクタ−リップとの関係
を、前記上流側ドクタ−リップのエッジから前記下流側
ドクタ−リップのリップ面に接する様に引いた直線L1
と、前記上流側ドクタ−リップのエッジにおける接線L
2とのなす角度θが、接線L2より下方向に0゜≦θ≦
10゜の範囲となるようにし、かつ、前記上流側ドクタ
−リップのリップ面の曲率半径R1と前記下流側ドクタ
−リップのリップ面の曲率半径R2との関係が0.2R
1≦R2<0.8R1となるようにする。
【0022】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、同時重層
塗布によってスジ、ムラ等のない良好な塗布状態が得ら
れる塗布条件範囲が広いために、塗布条件管理が容易で
あり、塗布ヘッドや塗布液供給設備を比較的容易に、か
つ、安価に製作することができる。
塗布によってスジ、ムラ等のない良好な塗布状態が得ら
れる塗布条件範囲が広いために、塗布条件管理が容易で
あり、塗布ヘッドや塗布液供給設備を比較的容易に、か
つ、安価に製作することができる。
【図1】一実施例の塗布ヘッド部分の斜視図である。
【図2】一実施例の塗布ヘッドの断面概略図である。
【図3】一実施例の塗布ヘッドの先端形状を示す図であ
る。
る。
【図4】従来例を示す図である。
【図5】磁気テープの塗布状態の目視観察結果を示す図
である。
である。
【図6】磁気テープの塗布状態の目視観察結果を示す図
である。
である。
【図7】磁気テープの塗布状態の目視観察結果を示す図
である。
である。
【図8】磁気テープの塗布状態の目視観察結果を示す図
である。
である。
【図9】磁気テープの塗布状態の目視観察結果を示す図
である。
である。
1 塗布ヘッド 2 第一ポケット 3 第二ポケット 4 フロントリップ 5 第一ドクタ−リップ 6 第二ドクタ−リップ 7 第一スロット 8 第二スロット 9 第一層(下層)塗布液 9a 下層塗布膜 10 第二層(上層)塗布液 10a 上層塗布膜 W ウェブ
Claims (1)
- 【請求項1】可撓性支持体の移動方向に対して最上流側
に位置し、前記可撓性支持体と対向するフロントリップ
面及びエッジを備えたフロントリップと、前記支持体の
移動方向に対して下流側に位置する複数のスロット及び
複数のドクタ−リップとを有し、前記複数のスロット先
端部から各々塗布液を連続的に吐出して、前記可撓性支
持体表面に塗布液を同時に重層塗布するエクストル−ジ
ョン型同時重層塗布装置において、 最下層を含む塗布層を塗布する前記複数のドクタ−リッ
プのリップ面は断面円弧形状に形成されると共に、前記
複数のドクタ−リップの各リップ面の下流端にはエッジ
が設けられ、一の上流側ドクタ−リップとその下流側に
隣接する下流側ドクタ−リップとの関係を、前記上流側
ドクタ−リップのエッジから前記下流側ドクタ−リップ
のリップ面に接する様に引いた直線L1と、前記上流側
ドクタ−リップのエッジにおける接線L2とのなす角度
θが、接線L2より下方向に0゜≦θ≦10゜の範囲と
なるようにし、かつ、前記上流側ドクタ−リップのリッ
プ面の曲率半径R1と前記下流側ドクタ−リップのリッ
プ面の曲率半径R2とが0.2R1≦R2<0.8R1
となるようにしたことを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26496897A JPH1176898A (ja) | 1997-09-11 | 1997-09-11 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26496897A JPH1176898A (ja) | 1997-09-11 | 1997-09-11 | 塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1176898A true JPH1176898A (ja) | 1999-03-23 |
Family
ID=17410718
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26496897A Pending JPH1176898A (ja) | 1997-09-11 | 1997-09-11 | 塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1176898A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007136454A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Palo Alto Research Center Inc | 押出加工/供給システム及び方法 |
JP2007160304A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-28 | Palo Alto Research Center Inc | 押出加工/供給システム及び方法 |
JP2007194636A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Palo Alto Research Center Inc | 光起電装置の製造方法、光起電装置を製造するシステム及び光起電装置 |
US8399283B2 (en) | 2005-11-17 | 2013-03-19 | Solarworld Innovations Gmbh | Bifacial cell with extruded gridline metallization |
-
1997
- 1997-09-11 JP JP26496897A patent/JPH1176898A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007136454A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-07 | Palo Alto Research Center Inc | 押出加工/供給システム及び方法 |
JP2007160304A (ja) * | 2005-11-17 | 2007-06-28 | Palo Alto Research Center Inc | 押出加工/供給システム及び方法 |
US8399283B2 (en) | 2005-11-17 | 2013-03-19 | Solarworld Innovations Gmbh | Bifacial cell with extruded gridline metallization |
KR101298504B1 (ko) * | 2005-11-17 | 2013-08-21 | 솔라월드 이노베이션즈 게엠베하 | 압출/분배 장치 및 방법 |
US9102084B2 (en) | 2005-11-17 | 2015-08-11 | Solarworld Innovations Gmbh | Solar cell with high aspect ratio gridlines supported between co-extruded support structures |
JP2007194636A (ja) * | 2006-01-20 | 2007-08-02 | Palo Alto Research Center Inc | 光起電装置の製造方法、光起電装置を製造するシステム及び光起電装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2581975B2 (ja) | 塗布装置 | |
US5318804A (en) | Extrusion type coater and coating method | |
US6033723A (en) | Method and apparatus for coating plurality of wet layers on flexible elongated web | |
US5597615A (en) | Extrusion coating method and coating apparatus for coating both sides of a web | |
EP0329424B1 (en) | Coating apparatus | |
US5348768A (en) | Method of applying a liquid coating to a flexible web | |
US4577362A (en) | Apparatus for removing foreign matter from flexible support | |
JP2630522B2 (ja) | 塗布方法及び装置 | |
US5099786A (en) | Application device | |
US4038442A (en) | Method for coating | |
EP0649053B1 (en) | Extrusion-type coating equipment for uniformly applying a coating fluid to a support surface | |
US6548117B2 (en) | Method for coating a running web using a plurality of coating liquids | |
JPH1176898A (ja) | 塗布装置 | |
JP2691443B2 (ja) | 2層塗布方法とその装置 | |
EP0776521B1 (en) | Differential-speed gravure coating apparatus of magnetizable layers in the manufacture of magnetic recording media | |
US5114753A (en) | Method and apparatus for coating web while preventing contact of edge portions thereof with coating head | |
JP2002086050A (ja) | 塗布方法及び塗布製品 | |
JPH10290946A (ja) | 塗布方法及び塗布装置 | |
US5203922A (en) | Application device | |
JP2000167474A (ja) | 塗布方法 | |
JPH03161A (ja) | 塗布方法 | |
JP2003190855A (ja) | グラビア塗布装置 | |
US20050019482A1 (en) | Method of deciding coating condition in manufacturing magnetic recording medium and magnetic recording medium | |
JPH0235959A (ja) | 塗布装置 | |
JP2558139B2 (ja) | 塗布装置 |