JPH117657A

JPH117657A - 光記録媒体、光ヘッド及び光記録装置

Info

Publication number: JPH117657A
Application number: JP10125414A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Maro; 毅麿; Hideo Daimon; 英夫大門; Osamu Ishizaki; 修石崎; Tatsuo Araki; 立夫荒木; Takeshi Onuki; 健大貫
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Holdings Ltd
Priority date: 1997-04-21
Filing date: 1998-04-21
Publication date: 1999-01-12

Abstract

(57)【要約】【課題】固体イマージョンレンズを装着した浮上型光
ヘッドと記録媒体との衝突で記録媒体表面に傷が発生す
ることを防止する。【解決手段】光磁気記録媒体４００は、基板５６上
に、反射層５５、第１誘電体層５４、記録層５３、第２
誘電体層５２を順次有し且つ第２誘電体層５２側から記
録または再生光が照射される。第２誘電体膜５２上に自
己潤滑性を有するダイヤモンドライクカーボン層５１が
形成されている。光ヘッドは、固体イマージョンレンズ
を装着した浮上型スライダから構成される。スライダ底
面の光記録媒体と対向する面にも自己潤滑性を有する保
護膜を形成することができる。光ヘッドの浮動位置が変
動して光ヘッドが光記録媒体表面上に接触しても、光ヘ
ッドが記録媒体表面上を滑るため摺動傷が生じにくくな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、固体イマージョン
レンズを用いた光ヘッド及それを用いて記録再生が行わ
れる光記録媒体に関し、さらに詳細には、特に固体イマ
ージョンレンズを用いた光ヘッドと光記録媒体との耐摺
動性が向上した光ヘッド及び光記録媒体並びに該光ヘッ
ドを装着した光記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、情報記録装置のマルチメディア化
に対応して、大容量のデータを高密度で記録し、迅速に
再生ができる情報記録装置として光記録装置が使用され
ている。この光記録装置には、ＣＤ、レーザーディスク
のようにディスク作製時に情報をディスク上にスタンピ
ングしてあり情報再生だけが可能な再生専用ディスクを
用いたもの、ＣＤ−Ｒのように一度だけ記録が可能な追
記型ディスクを用いたもの、光磁気記録方式や相変化記
録方式を用いて何度でもデータの書き換え消去が可能な
書換え型ディスクを記録媒体として用いたものがある。
これら、光記録装置では、データの記録・再生はレーザ
ー光をレンズで回折限界にまで絞り込んだ光スポットを
用いて行われる。この光スポットのサイズｄは、レーザ
ーの波長をλ、レンズの開口数をＮＡとすると、ｄ＝λ
／ＮＡとなる（角田義人監修、「光ディスクストレージ
の基礎と応用」：社団法人電子情報通信学会（（１９９
５）、Ｐ６５）。

【０００３】光記録媒体に情報を一層高密度に記録する
には、記録用のレーザースポットサイズを小さくして微
小なピットや磁気マークを形成する必要がある。光スポ
ットを小さくするするためには、上式よりレーザー波長
（λ）を小さくするか、あるいはレンズの開口数（Ｎ
Ａ）を大きくすればよい。現在用いられている光ディス
ク再生用の半導体レーザーの波長は主に７８０〜６８０
ｎｍであり、これより短波長の６５０ｎｍの橙色レーザ
ーは、デジタルバーサタイルディスク（ＤＶＤ−ＲＯ
Ｍ）等において使用され始めている。しかしながら、橙
色レーザーより短波長の緑、青色発光の短波長レーザー
については未だ開発途上であり、レーザー波長を小さく
することでスポットサイズを小さくすることには限界が
ある。

【０００４】一方、レンズの開口数（ＮＡ）は、図１に
示すようにレンズの絞り半角をθとするとＮＡ＝ｓｉｎ
θとあらわされ、１より小さい値となる。現在使用され
ているレンズのＮＡが０．５程度であり、理論上限界に
近いＮＡ＝０．９を達成したとしてもレーザースポット
サイズはせいぜい１／１．８にしか縮小することができ
ない。一方、ＮＡを大きくするとレンズ系の焦点深度が
浅くなり、記録面上で焦点を維持するための制御系が複
雑になるという問題が生じるため、ＮＡをむやみに大き
くすることはできず、通常の光記録装置では最大でＮＡ
＝０．６程度のレンズが用いられている。

【０００５】レーザー光のスポットサイズを小さくする
ため固体イマージョンレンズ（Solid Immersion Lens）
を使用して実効的にレンズのＮＡを上げる方法が提案さ
れている（日経エレクトロニクス、６８６号、13〜14ペ
ージ、１９９７．４．７）。図２(a) に示すように半球
状の固体イマージョンレンズを用いレーザー光をレンズ
表面に対し垂直に入射させた場合、光学系の等価なＮＡ
は固体イマージョンレンズの屈折率をｎとするとｎ×Ｎ
Ａとなる。また、図２(b) に示したように超半球状(Sup
er Spherical) 固体イマージョンレンズを用いレーザー
ビームを超半球レンズの底面で焦点を結ばせるように入
射した場合は、等価のＮＡはｎ² ×ＮＡになる。固体イ
マージョンレンズをガラスで作成した場合、ガラスの屈
折率は約１．８程度であることから、半球状の固体イマ
ージョンレンズを用いたときには、スポットサイズは１
／１．８に、また超半球状の固体イマージョンレンズで
は１／３．２に、それぞれ、通常の対物レンズを用いた
場合に比べて小さくすることができる。

【０００６】固体イマージョンレンズを用いる場合に
は、この技術では、記録再生には固体イマージョンレン
ズから浸み出る近接場(Near Field)光を用いるため、固
体イマージョンレンズと記録膜との間隔は、広くてもレ
ーザー波長の１／４程度にする必要がある。この値は、
波長６８０ｎｍの赤色レーザーを用いた場合で１７０ｎ
ｍとなり、通常の光記録装置の光ヘッドと光記録媒体間
の間隔数ｍｍに比べはるかに小さい。このため、固体イ
マージョンレンズと近接場光を組み合わせて用いる場合
には、固定型磁気ディスク（ハードディスク）の磁気ヘ
ッドで用いられているような浮上型のスライダーを用い
ることが必要となる。

【０００７】図３にかかる浮上型のスライダーを用いた
光磁気記録媒体用の光ヘッドの構造の一例を示す。光ヘ
ッドは、浮上型スライダー１０２に、対物レンズ７１、
固体イマージョンレンズ１００、及び記録用の磁界発生
コイル１０４が組み込まれて構成されている。通常の光
磁気記録装置では光磁気記録媒体の透明基板を通じて光
が記録層に照射される。しかしながら、固体イマージョ
ンレンズを用いた光ヘッドでは、前述のように固体イマ
ージョンレンズと記録層との間隔が制限されることか
ら、光磁気記録媒体は基板上に反射層、第１誘電体層、
光磁気記録層及び第２誘電体層の順に積層した構造を採
用するとともに、第２誘電体層側から記録及び再生光を
照射する必要がある。さらに、浮上型スライダは、磁気
ヘッドと同様にＣＳＳ（Contact Start and Stop）方式
を採用しているために、光磁気記録媒体表面はＣＳＳに
耐え得る保護及び潤滑層が必要となる。

【０００８】また、通常の光ディスクでは、基板と反対
側の記録膜表面側は記録膜を保護するため紫外線硬化型
樹脂や大気中で硬化するＳｉ樹脂を塗布して保護膜を数
μｍ〜数十μｍ形成しているが、固体イマージョンレン
ズと近接場光を用いる方式では、この樹脂保護膜が近接
場光の滲み出し距離より厚くなるため樹脂保護膜を第２
誘電体層上に形成することはできない。そのため、この
方式では、固定型磁気ディスク装置と同様に、最上層で
ある第２誘電体膜上約１００ｎｍのところを記録再生光
ヘッドが移動するため、光ヘッドが移動中に浮上姿勢を
変動すると第２誘電体膜と接触してその表面に傷をつけ
る場合がある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】光磁気記録媒体の最上
層の第２誘電体膜は、窒化シリコン、酸化シリコン、窒
化アルミ、炭化シリコンなどの硬質な材料から形成さ
れ、その膜厚は５０〜１００ｎｍと磁気ディスクに比べ
２〜５倍厚く、また記録再生光ヘッドの浮上高さは、固
体イマージョンレンズと近接場光を用いる場合には１０
０〜１５０ｎｍと磁気ディスクに比べ２〜３倍程度高く
できることから、光ヘッドの姿勢変動で起こるイレギュ
ラーな摺動で誘電体膜の表面に入る傷は記録膜に達する
ほど深い傷とはならず、光ヘッド走行方向に、数μｍか
ら数百μｍ程度の幅で、深さ数十ｎｍ程度の擦ったよう
なすじ状の傷となって入る場合が主である。通常の光磁
気ディスク等の光ディスクでは、透明基板を通して再生
を行うため基板表面でのレーザースポットサイズは小さ
くとも１ｍｍ程度あり、基板表面についた数μｍ〜数十
μｍ程度の傷は記録再生には殆ど問題とならない。しか
しながら、固体イマージョンレンズと近接場光を用いる
方式では、回折限界にまで絞り込んだレーザー光の滲み
出しを利用するため、誘電体膜表面上に生じた数μｍ幅
の傷でも、その傷のエッジ部分での干渉により反射光量
すなわち再生光量が変動し再生エラーとなりやすいとい
う問題があった。

【００１０】本発明は、前記従来技術の欠点を解消する
ためになされたものであり、その目的は、光ヘッドと記
録媒体との衝突で記録媒体表面に傷が入りにくくすると
ともに、たとえ媒体表面に傷が入ったとしても再生時に
エラーとならない程度の傷となるようにした光記録媒体
を提供することを目的とする。

【００１１】また、本発明は、光ヘッドと記録媒体との
衝突で記録媒体表面に傷が入りにくくするとともに、た
とえ媒体表面に傷が入ったとしても再生時にエラーとな
らない程度の傷となるようにした光ヘッド及びそれを用
いた光記録媒体のための記録再生装置を提供することに
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の態様に従
えば、基板上に、反射層、記録層及び誘電体層を有し且
つ誘電体側から情報記録または再生光が照射される光記
録媒体において、上記誘電体層上に自己潤滑性を有する
固体保護層が形成されてなることを特徴とする光記録媒
体が提供される。

【００１３】本発明の光記録媒体は光ヘッドと対向する
誘電体層上に自己潤滑性を有する固体保護層を有する。
これにより、光ヘッドの浮動位置が変動して光記録媒体
表面上を摺動しても、光ヘッドが記録媒体表面上を滑る
ため該表面で引っかかることがなくなり摺動傷が生じに
くくなる。また、自己潤滑性を有する保護膜は層状に剥
離しやすいため、光ヘッドが記録媒体と激しく衝突（摺
動）しても、まず保護膜が層状に剥離することで光ヘッ
ドや誘電体層に鋭利な傷が発生することが防止される。
従って、光記録媒体の再生光照射側表面の傷が原因とな
る再生信号のエラー、欠陥を抑制することができる。本
発明の光記録媒体は、更に、反射層と記録層間に誘電体
層を設けてもよい。

【００１４】本発明の第２の態様に従えば、浮上型スラ
イダ内に固体イマージョンレンズを装着し且つ光記録媒
体を記録または再生するための光ヘッドにおいて、少な
くとも上記浮上型スライダの光記録媒体と対向する面
に、自己潤滑性を有する固体保護層が形成されてなるこ
とを特徴とする光ヘッドが提供される。

【００１５】本発明の光ヘッドは、少なくとも浮上型ス
ライダの光記録媒体と対向する面上に自己潤滑性を有す
る固体保護層を有する。これにより、光ヘッドの浮動位
置が変動して光ヘッドが光記録媒体表面上に接触して
も、光ヘッドが記録媒体表面上を滑るため該表面で引っ
かかることがなくなり光記録媒体表面または光ヘッドの
摺動面に摺動傷が生じにくくなる。また、自己潤滑性を
有する保護膜は層状に剥離しやすいため、激しく光ヘッ
ドと記録媒体が摺動しても、まず保護膜が層状に剥離す
ることで光ヘッドや光記録媒体表面に鋭利な傷が発生す
ることが抑制される。従って、光ヘッドや光記録媒体の
再生光照射側表面の傷が原因となる再生信号のエラー、
欠陥が減少する。

【００１６】本発明において「自己潤滑性を有する」と
は、例えば、グラファイトや二硫化モリブデンのよう
に、材料自体が単独で潤滑性を有することを意味する。
本発明の光記録媒体及び光ヘッドに形成される自己潤滑
性を有する保護膜を構成する物質としては、カーボン
膜、二硫化モリブデン、酸化鉛、酸化カドニウム、酸化
ボロン等の無機物、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ
エチレン、ナイロンなどの高分子化合物等を用いること
ができる。このうち、光記録媒体の記録膜が通常スパッ
タなどの物理的真空成膜法で形成されることから、保護
膜も同様に物理的真空成膜法で成膜しやすいものが望ま
しい。また、保護膜は記録再生時にレーザー光を減衰さ
せることなく透過させることが望ましいことから、消衰
係数が小さいカーボン膜またはダイヤモンドライクカー
ボン膜が好ましい。

【００１７】また、本発明の光記録媒体においては、自
己潤滑性を有する保護膜とこの保護膜に接する誘電体層
の屈折率が大きく異なると、両者の界面でレーザー光が
反射されて有効にレーザー光が利用されないため、保護
膜の屈折率は誘電体層の屈折率との差の絶対値が０．５
以内にすることが望ましい。また、保護膜の消衰係数
は、レーザー光の減衰を抑制するため誘電体層の消衰係
数との差の絶対値が０．２以内にすることが望ましい。

【００１８】本発明の光記録媒体及び光ヘッドにおいて
は、自己潤滑性を有する保護膜としてカーボン膜を用い
る場合には、カーボン膜に水素、窒素、フッ素、珪素な
どを含有させることによって膜質の硬度及び光学特性を
制御してもよい。自己潤滑性を有する保護膜の膜厚は、
５ｎｍ以上５０ｎｍ以内とすることが望ましい、５ｎｍ
未満では十分な摺動特性を得ることが困難である。摺動
特性に関して保護膜の膜厚の上限はないが、厚いと光学
的な損失の原因となり、また近接場光を用いる関係から
光ヘッド上の固体イマージョンレンズと記録媒体の記録
層との間隔は概ね使用するレーザー波長の１／４程度以
内とする必要があることから、自己潤滑性を有する保護
膜の膜厚の上限は５０ｎｍとすることが望ましい。

【００１９】光ヘッドに自己潤滑性を有する保護膜を設
ける場合には、光記録媒体と対向し且つ摺動する可能性
のある部分にのみ形成すれば十分である。固体イマージ
ョンレンズ部に保護膜が形成されないならば、光ヘッド
に設ける自己潤滑性を有する保護膜は、光透過性は問わ
ない。逆に、固体イマージョンレンズ部にも自己潤滑性
を有する保護膜を形成する場合には、前記記録媒体の最
上層に形成される自己潤滑性を有する保護膜と同様に光
透過性材料を用いることが望ましい。

【００２０】上記自己潤滑性を有する固体保護層上にさ
らに潤滑層が形成されていてもよい。上記潤滑層は、分
子末端の少なくとも一方の末端にヒドロキシル基、カル
ボキシル基、エステル基、アミノ基及びピペロニル基の
少なくとも一種から選ばれた基を有し且つ分子量１００
０〜８０００のパーフルオロポリエーテルを含み得る。
パーフルオロポリエーテルの潤滑性を一層向上するには
その分子量は１０００以上が好ましく、粘度の増加を抑
制するために分子量は８０００以下が好ましい。ＣＳＳ
耐久性を一層高めるために、パーフルオロポリエーテル
潤滑剤を保護層上に塗布した後、光記録媒体を、例え
ば、５０〜１２０℃の温度で熱処理することによってパ
ーフルオロポリエーテル潤滑剤を保護層上に固着させる
ことができる。熱処理の代わりにまたは熱処理に加え
て、紫外線、例えば、波長＝２５４ｎｍの紫外線を照射
しても良い。両者を併用することによりパーフルオロポ
リエーテル潤滑剤の保護層上への固着を一層促進するこ
とができる。固着した潤滑剤成分により、浮上型スライ
ダがＣＳＳモードで摺動しても、スライダは保護層に直
接接触することはなく、光記録媒体の耐久性を高めるこ
とができる。また、熱処理及び／または紫外線照射によ
る熱エネルギーにより潤滑剤はカーボンなどの保護層表
面を拡散して潤滑剤の被覆性が高められるとともに、保
護層の表面に存在していた水と潤滑剤分子が交換吸着
し、潤滑剤の付着力が高まり、その結果、潤滑効果が向
上する。

【００２１】また、上記潤滑層は、分子末端にアミド基
を有する潤滑剤と常温で液体である潤滑剤とを含む混合
潤滑剤（二成分潤滑剤）より形成し得る。この混合潤滑
剤を使用する場合、上記自己潤滑性を有する固体保護層
は、その表面にカルボキシル基を有するのが有利であ
る。保護層表面に形成されたカルボキシル基と潤滑剤の
アミド基が酸塩基結合して強固な潤滑層を形成するから
である。また、常温で液体である潤滑剤を含ませること
により、高温での潤滑性が向上する。また、この混合潤
滑剤は、エタノール、イソプロピルアルコール、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン等の安価で汎用
性の高い溶媒に可溶であるため有利である。上記自己潤
滑性を有する固体保護層の表面にカルボキシル基を導入
するには、固体保護層を、紫外線、例えば、λ＝１８５
ｎｍ及び２５４ｎｍの紫外線を照射するかまたは酸素雰
囲気中でプラズマ処理し得る。カルボキシル基を導入す
る際、自己潤滑性を有する固体保護層の表面における酸
素／炭素の組成比（Ｏ／Ｃ）が０．１以上になるように
するのが、ＣＳＳ耐久性を向上する上で一層好ましい。

【００２２】本発明の光記録媒体の内周部または外周部
に浮上型スライダのランディングゾーンを備え得る。上
記ランディングゾーン内に高さ１０〜１００ｎｍのドッ
ト状突起を０．１％〜５．０％の面積比率で有するのが
有利である。ドットの高さを１０ｎｍ以上にすれば、静
止摩擦力を低減させることができ、１００ｎｍ以下にす
れば、ドットの機械的強度の減少を抑えられる。また、
ドットの面積比率を０．１％以上にすれば、ドットにか
かる圧力を低下することができ、ＣＳＳによるドットの
摩耗が少なくなる。ドットの面積比率を５．０％以下に
すれば、スライダと光記録媒体の接触面積が小さくなり
静止摩擦力が低減される。

【００２３】本発明の光記録媒体は、ＣＤ、ＣＤ−ＲＯ
Ｍ、ＤＶＤ−ＲＯＭのように、凹凸ピットや穴の有無、
結晶層とアモルファス相との反射率の違いから情報を再
生する再生専用の光記録媒体や、ＣＤ−Ｒのように有機
色素層やＴｅ化合物などの無機物層にレーザーで穴を空
け記録する追記型光記録媒体や、ＴｂＦｅＣｏやＤｙＦ
ｅＣｏなどの希土類金属と遷移金属の合金層を記録層と
する光磁気記録媒体及び、Ｇｅ合金やＩｎ合金等の記録
膜を光照射により結晶相と非晶質相との間で可逆的に変
化させることができる相変化型光記録媒体のような書換
え型光記録媒体など何れの光記録媒体をも対象とする。

【００２４】本発明の光記録媒体で用いられる基板は、
ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリメチルアクリ
レート、ポリスチレン、ナイロンなどの樹脂のほかに、
ガラス、シリコン、熱酸化シリコン、Ａｌ、Ｔｉなどの
金属製ディスク基板を用いることができる。

【００２５】本発明では自己潤滑性を有する保護層を、
少なくとも光ヘッドの光記録媒体と対向する面かあるい
は光記録媒体の光ヘッドと対向する面のいずれかに形成
することにより本発明の効果を奏することができるが、
自己潤滑性を有する保護膜を光ヘッド及び記録媒体の互
いに対向する面に形成することが一層好ましい。

【００２６】本発明の第３の態様に従えば、光ヘッドを
備え、光記録媒体に情報を記録または再生するための光
記録装置において、上記光ヘッドが、浮上型スライダと
該浮上型スライダに装着された固体イマージョンレンズ
とを有し、少なくとも上記浮上型スライダの光記録媒体
と対向する面に自己潤滑性を有する固体保護層が形成さ
れてなることを特徴とする光記録装置が提供される。

【００２７】本発明の光記録装置は、少なくとも浮上型
スライダの光記録媒体と対向する面に自己潤滑性を有す
る固体保護層が形成された光ヘッドを備えるため、光ヘ
ッドの浮動位置が変動して光ヘッドが光記録媒体表面上
で摺動しても、光記録媒体表面または光ヘッドの摺動面
に摺動傷が生じにくい。従って、本発明の光記録装置を
用いて光記録媒体を再生すれば、再生信号のエラーが極
めて少なく、良好なＣ／Ｎが得られる。

【００２８】本発明の光記録装置は、光磁気記録媒体を
記録再生するための装置にすることができ、この場合、
上記光ヘッドが磁気コイル等の磁界印加手段を備える。

【００２９】本発明の光ヘッド及び光記録装置におい
て、上記固体イマージョンレンズは、半球状の固体イマ
ージョンレンズまたは超半球状の固体イマージョンレン
ズにすることができる。本発明の光記録装置で記録また
は再生される光記録媒体としては、基板上に、反射層、
第１誘電体層、記録層、第２誘電体層を順次有し且つ誘
電体側から情報記録または再生光が照射される光記録媒
体であって、上記第２誘電体層上に自己潤滑性を有する
固体保護層が形成されてなる光記録媒体であることが好
ましい。これにより、光ヘッドの浮動位置が変動して光
ヘッドが光記録媒体表面上で摺動しても、光記録媒体表
面または光ヘッドの摺動面に摺動傷が生じることが一層
抑制される。前述の潤滑層を保護層上に適用しても良
い。

【００３０】本発明の第４の態様に従えば、基板上に、
反射層、記録層、誘電体層、保護層及び潤滑層を有し且
つ潤滑層側から記録光または再生光が照射される光記録
媒体であって、上記潤滑層は、分子末端の少なくとも一
方の末端にヒドロキシル基、カルボキシル基、エステル
基、アミノ基及びピペロニル基の少なくとも一種から選
ばれた基を有し且つ分子量１０００〜８０００のパーフ
ルオロポリエーテルを含むことを特徴とする光記録媒体
が提供される。上記潤滑剤を設けることにより、ＣＳＳ
耐久性を向上し、光記録媒体上を光ヘッドが摺動すると
きの摩擦を低下し、傷の発生を抑制することができる。
反射層と記録層間に更に誘電体層を設けてもよい。

【００３１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の光記録媒体、光ヘ
ッド及び光記録装置の実施の形態及び実施例を図面を用
いて具体的に説明する。

【００３２】実施例１図４は、本発明の光記録媒体の一具体例を示す光磁気記
録媒体４００の断面図である。この構造の光磁気記録媒
体４００は、以下に示した方法で作製した。最初に、射
出圧縮成形機でポリカーボネイトを射出成形してポリカ
ーボネイト樹脂ディスク基板５６を作製した。基板５６
は、直径９５ｍｍ、厚さ１．２ｍｍ、内径２５ｍｍであ
った。次いで、基板５６上に、インライン式ＤＣマグネ
トロンスパッタ装置を用いて、ＡｌＴｉ合金反射層５５
を５０ｎｍ、窒化シリコン層５４（第１誘電体層）を３
０ｎｍ、ＴｂＦｅＣｏ合金層５３（記録層）を２５ｎ
ｍ、再度、窒化シリコン層５２（第２誘電体層）を８０
ｎｍの膜厚でそれぞれ成膜した。次いで、同マグネトロ
ンスパッタ装置にて、自己潤滑性を有する保護膜として
ダイヤモンドライクカーボン層５１を２０ｎｍの膜厚で
成膜した。

【００３３】上記スパッタリングにおいて、ＡｌＴｉ反
射膜５５は、Ｔｉ含有量が２ａｔ％のＡｌＴｉ合金ター
ゲットを用い、スパッタガスとしてのＡｒガスを流量８
０ｓｃｃｍ（真空度１．２Ｐａ）で流し、投入パワー２
ｋＷで成膜した。窒化シリコン層５４，５２（第１及び
第２誘電体層）は、シリコンターゲットを用い、Ａｒ−
Ｎ₂ 混合ガス (混合比１：１）を８０ｓｃｃｍ（真空度
１．２Ｐａ）の流量で用いて、投入パワー２ｋＷで成膜
した。ＴｂＦｅＣｏ合金層５３は、Ｔｂ₂₃Ｆｅ₆₇Ｃｏ₁₀
（ａｔ％）合金ターゲットを用い、Ａｒガスを流量１０
０ｓｃｃｍ（真空度１．５Ｐａ）で流して、投入パワー
５００Ｗの条件で成膜した。ダイヤモンドライクカーボ
ン層５１は、アモルファスカーボンターゲットを用い、
Ａｒ−メタン混合ガス（混合比１：１）をガス流量３０
０ｓｃｃｍ（真空度５Ｐａ）で流し、投入パワー２ｋＷ
で成膜した。このとき、基板側に２００ＷのＲＦ電力を
印加して基板側にも負のバイアス電圧が印加され、バイ
アススパッタとなるようにした。

【００３４】実施例２図５に本発明の光ヘッド５００の一具体例の要部構成断
面図を示す。光ヘッド５００は、浮上型スライダ１０
２、固体イマージョンレンズ１００、磁気コイル１０４
及び浮上型スライダ１０２の光記録媒体との対向面（摺
動面）に形成された保護膜１０５から主に構成されてい
る。光ヘッド５００は、以下に示したような方法で作製
することができる。最初に、浮上型スライダ１０２を作
製するために、Ａｌ₂ Ｏ₃ −ＴｉＣ複合セラミックウェ
ハを用意し、その片方の面に、図６に示すような凹凸パ
ターンの摺動面を形成する。このパターンは機械加工も
しくはエッチングで形成される。

【００３５】パターン形成後、余分な部分を切断して光
ヘッドのスライダ１０２を切り出し、パターン形成面に
光磁気記録媒体上に保護膜を形成したのと同様にスパッ
タリングによりダイヤモンドライクカーボン保護膜１０
５を１０ｎｍの厚みで成膜する。次に、固体イマージョ
ンレンズ１００と記録磁界発生用コイル１０４を設置す
るための穴を機械加工もしくはエッチングで形成し、そ
こに固体イマージョンレンズ１００と磁気コイル１０４
を図５に示すように設置する。ここに、固体イマージョ
ンレンズ１００は超半球状の固体イマージョンレンズで
ある。

【００３６】図６に示した摺動面のパターンは光ヘッド
の浮上特性が安定するよう、空気流を制御するために設
ける。このようなパターンは種々検討されており、光ヘ
ッドの大きさと浮上量にあわせて設計可能である。この
実施例では、スライダ１０２が負圧正圧併用型スライダ
となるようにした。図６のスライダ１０２の底面図、左
側側面図及びＡＡ線断面図からわかるように、スライダ
１０２の底面８１には底面８１からわずかに突出し（図
６では紙面前方に突出）且つ図中矢印で示したディスク
（光磁気記録媒体）進行方向に延在する凸部８０が形成
されている。凸部８０はディスク進行方向に沿ってその
幅（ディスク進行方向と直交する方向の長さ）が変化す
るように形成されている。スライダ１０２に対してディ
スク（光磁気記録媒体）がターンテーブル等により回転
駆動したときに発生する気流は矢印Ｂに示すように凸部
８０の間を通り抜ける。この際、気流は凸部８０の幅広
（ＡＡ線上）部分８０ａに挟まれた狭い領域で圧縮され
た後、幅狭部分８０ｂに挟まれた幅の広い領域に拡散す
るためにその圧力が低下する。この低下した圧力（負
圧）によりスライダ１０２にディスクからの吸引力が働
き、一方で、スライダ１０２には原盤の回転による浮力
が作用し、これらの力がバランスすることによりスライ
ダ１０２はディスクとの間で一定の間隔を維持すること
ができる。負圧正圧併用型スライダの詳細は、例えば、
「ＭＲ／ＧＭＲヘッド技術」、第１１２頁（トリケップ
ス出版）に記載の磁気ディスクへの適用例の欄を参照す
ることができる。

【００３７】実施例１及び実施例２で作製した光磁気記
録媒体４００及び光ヘッド５００は、図７に示すように
光記録装置に組み込まれる。光ヘッド５００は、ロータ
リーアクチュエータ３７に取り付けられたスウィングア
ーム３５の先端に組み込まれる。光ヘッド５００内の固
体イマージョンレンズにレーザー光を絞り込む対物レン
ズ３４は、同じロータリーアクチュエータ３７に組み込
まれ、且つスウィングアーム３５と機械的に固定され一
緒に動くアーム３６上に固定されている。スウィングア
ーム３５及びアーム３６は磁気ディスク装置の場合と同
様に板バネ等により構成することができる。対物レンズ
３４は、図８に示すように、常に、固体イマージョンレ
ンズ１００の底面上に焦点を結ぶよう、対物レンズ３４
と固体イマージョンレンズ１００の間隔を一定に維持す
るためのコイル４４と磁石４５を用いた駆動機構（ボイ
スコイル型アクチュエータ）が設けられている。レーザ
ー光４６を常に固体イマージョンレンズの底面上で焦点
を結ばせるためのフォーカシングサーボは、通常の光記
憶装置で常にレーザー光を光ディスク面上に焦点を合わ
せ続けるために用いるフォーカシングサーボと同じ方法
を用いて、固体イマージョンレンズからの戻り光に対し
て、非点収差法、ナイフエッジ法などでフォーカスエラ
ー信号を作り出し、この信号を元にフォーカシングサー
ボをかければ良い。

【００３８】記録または再生時に固体イマージョンレン
ズ１００を光磁気記録媒体４００の表面に対して所定の
間隔すなわち４０ｎｍ〜６０ｎｍで隔離させて、近接場
の光の滲み出しにより記録または再生を行わせるために
は、浮上型スライダ５００の底面（８１）の高さ位置を
制御すればよい。この制御は、例えば、磁気ディスク装
置の場合と同様に、浮上型スライダ５００の底面に形成
されたパターン（図６参照）及びディスクの回転数、デ
ィスクとスライダのなす角（スキュー）等をスライダが
ディスク表面に対して上記所定の間隔（浮上量）になる
ように設計または調整することによって実現することが
できる。

【００３９】本発明の光記録装置の全体の光学系の具体
例を図９に示す。図９は光磁気記録装置の場合の光学系
である。図９中、固定光学系については通常の光磁気記
録媒体を記録・再生するためのドライブの同様の光学系
を使用することができる。すなわち、レーザ光源５７か
ら射出されたレーザ光は、レンズ５８、プリズム５９
ａ，５９ｂ、ビームスプリッタ６０を通過し、ミラー７
０，６９で反射された後、対物レンズ７１に入射し、さ
らに固体イマージョンレンズ１００で集光されて固体イ
マージョンレンズ１００の底面に焦点を結ぶ。固体イマ
ージョンレンズ１００の底面から滲み出した光は光磁気
記録媒体４００の記録層に達して記録信号に応じた磁気
マークを形成する。なお、記録の際、光磁気記録媒体４
００には記録用磁界が印加されており、光変調方式、、
磁界変調方式、光磁界変調方式のいずれの方式でも記録
は可能である。

【００４０】再生時に、光磁気記録媒体４００からの反
射光は、ミラー６９，７０で反射された後、ビームスプ
リッタ６０で反射されてビームスプリッタ６１で２つの
ビームスプリッタ６４，６５に向かう光に分割される。
ビームスプリッタ６５に入射した反射光はさらにそこで
分割されてフォーカシング検出用検出器６８ｃとトラッ
キング信号検出用検出器６８ｄにそれぞれ入射する。ま
た、１／２波長板６３及びレンズ６７を通過してビーム
スプリッタ６４に入射した反射光は、互いに直交する偏
光成分の光を検出する光検出器６８ａ，６８ｂに入射
し、再生信号を検出する。

【００４１】相変化方式、追記方式を用いる場合は、相
変化型光記録媒体及びＣＤ−Ｒ等の追記型光記録媒体を
それぞれ記録・再生するためのドライブの同様の光学系
を使用することができ、これらの光学系では信号検出の
ための検出器が１個で足り、検出器の直前のビームスプ
リッター６４も不要となる。

【００４２】比較例１実施例１において窒化珪素膜５２上に保護膜５１を形成
しなかった以外は、実施例１と同様にして光磁気記録媒
体を作製した。

【００４３】比較例２実施例２において浮上型スライダ１０２の底面、すなわ
ち、光記録媒体と対向する面には保護膜１０５を形成し
なかった以外は、実施例２と同様にして光ヘッドを作製
した。

【００４４】光磁気記録媒体の窒化珪素膜５２（第２誘
電体層）及び光ヘッドのスライダ底面上に形成した自己
潤滑性を有する保護膜の効果を以下に示す方法で調べ
た。光記録装置に、表１に示す組み合わせで光磁気記録
媒体と光ヘッドを上述した光記録装置に組み込み、半径
２５ｍｍから半径４５ｍｍの間でランダムに１００，０
００回光ヘッドをシークさせた。表１中、実施例１で作
製した光磁気記録媒体をＭ１、比較例２で作製した光ヘ
ッドをＨ１でそれぞれ表し、比較例１で作製した光磁気
記録媒体をＭ２、実施例２で作製した光ヘッドをＨ２で
それぞれ表した。光記録媒体上には、予めレーザー測長
儀とフォーマッタを組み合わせて、使用する光ヘッドで
位置決めのためのアドレス信号用パターンとトラッキン
グサーボを行うためのサンプルサーボ用パターンをトラ
ックピッチ０．８μｍ、最短マーク長０．４μｍで書き
込んでおいた。光磁気記録媒体の回転数は４５００ｒｐ
ｍとした。この時の光ヘッドの浮上量は光磁気記録媒体
表面から５０ｎｍとなった。

【００４５】

【表１】光記録媒体光ヘッド実施例３Ｍ１Ｈ１実施例４Ｍ１Ｈ２実施例５Ｍ２Ｈ１実施例６Ｍ２Ｈ２

【００４６】各光ヘッドと媒体の組み合わせについて、
光ヘッドの１００，０００回ランダムシーク前後での欠
陥個数を測定した。欠陥は、半径３０から４０ｍｍのあ
いだの全トラック（１２５００トラック）、マーク長１
μｍの比較的長いパターンを書き込み、再生したときの
光磁気信号で振幅が６５％以下となる部分を欠陥とし
た。測定中の周りの環境からの塵埃が媒体上に付着する
欠陥となることを防ぐため、測定はクリーン度１００の
測定室の中で、さらに測定に使用した光記録装置自体を
クリーンブースで覆い欠陥測定を行った。

【００４７】

【表２】欠陥の個数ランダムシーク前ランダムシーク後欠陥の増加率実施例３１２５０１５００１．２０実施例４１４００１８５０１．３２実施例５１１５０１７８０１．５４実施例６１２５０３２４０２．５９

【００４８】表中、欠陥の増加率は、次の式に従って求
めた。欠陥の増加率＝（ランダムシーク後の欠陥の個
数）／（ランダムシーク前の欠陥の個数）。表２から分
かるように保護膜を設けなかった光ヘッドと光磁気記録
媒体の組み合わせで欠陥の増加率が最も高い。欠陥が発
生した箇所に相当する光磁気記録媒体の光照射側表面部
分を光学顕微鏡及び走査形電子顕微鏡（ＳＥＭ）で調べ
たところ、欠陥個所の９０％以上で幅数μｍから数十μ
ｍに擦ったような跡が観察された。また、実施例６の光
ヘッドと光磁気記録媒体の組合せで記録再生した場合
に、発生した傷が最も角が鋭利で鋭かった。また、１０
０，０００回シーク後の光ヘッドの摺動面を光学顕微鏡
で観察したところ、実施例６で用いた光ヘッドでは極め
て多くの傷が観察された。それに対し、他の実施例３，
４，５では傷はほとんど観察されなかった。

【００４９】この結果より、光磁気記録媒体あるいは光
ヘッドの光磁気記録媒体に対向する面の何れか少なくと
も一方にカ−ボン等の自己潤滑性を有する保護膜を設け
ることで、光ヘッドのシーク時の移動にともなうヘッド
の姿勢変動によるヘッドと光磁気記録媒体のイレギュラ
ーな摺動で生じる傷の発生を抑制し、傷の発生に伴う欠
陥を低減することができることが分かる。

【００５０】実施例７予め、溝及びピットを形成したＮｉスタンパと射出圧縮
成形機を用いて、アモルファスポリオレフィン樹脂ディ
スク基板(外径130ｍｍ、センターホール径15ｍｍ、板厚
1.2ｍｍ)を作製し、その上に静止対向型のＤＣマグネト
ロンスパッタ装置を用いて、AlTi合金反射層55を50ｎ
ｍ、窒化シリコン層を20ｎｍ、TbFeCo合金層を20ｎｍ、再
度窒化シリコン層を150ｎｍの厚さでそれぞれ成膜し、
窒化シリコン層上に、イオンビームスパッタ装置を用い
てダイアモンドライクカーボン（ＤＣＬ）層を自己潤滑
性膜として10ｎｍ成膜した。

【００５１】上記スパッタリングにおいて、AlTi反射膜
55は、Ti含有量が２at％のAlTi合金ターゲットを、Arガ
スを用いて流量３０sccm(真空度1.0Pa)、投入パワー４
ｋＷでスパッタし成膜した。窒化シリコン層54,52は、
シリコンターゲットをAr-N₂混合ガス (混合比1:1)を用
いて、流量８０sccm(真空度２．５Pa)、投入パワー４ｋ
Ｗでスパッタし成膜した。TbFeCo合金層53はTb₂₃Fe₆₇Co
₁₀(at%)合金ターゲットをArガスを用いて流量８０sccm
(真空度２．５Pa)投入パワー２ｋＷの条件でスパッタし
成膜した。ＤＬＣ層は、５００Ｖの加速電圧で引き出し
たArイオンをカーボンターゲットに照射し、かつ別のイ
オン銃で１００Ｖの加速電圧で引き出したArとメタンの
混合ガス(混合比３：１)を基板に照射しながら成膜し
た。

【００５２】ＤＣＬ膜まで成膜後、このディスク表面上
に４０００番台のラッピングテープを空気圧で押し当て
ながらディスクを回転させ、ディスク表面の微少な突起
を削り落とすテープクリーニング(TC)処理を行い、大気
中で波長１８５ｎｍと２５４ｎｍを発生させる低圧水銀
ランプで９０秒間照射処理した後、パーフルオロオクタ
ン溶媒に、主鎖が(F((CF₂)₃-O))_nであり（ここで、ｎは
１０から１４の整数である）且つ片方の末端にヒドロキ
シル基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を濃
度０．０２重量％で溶解した溶液を用いてスピンコート
法によりＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００５３】実施例８実施例７と同様にＤＣＬ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタタン溶媒に、主鎖が(F((CF₂)₃-O))_n
であり（ここで、ｎは１０から１４の整数である）且つ
分子片末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリ
エーテル系潤滑剤を０．０２重量％の濃度で溶解した溶
液を用いて、スピンコート法でＤＬＣ膜上に潤滑層を形
成した。

【００５４】実施例９実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(F((CF₂)₃-O))_nで
あり（ここで、ｎは１０から１４の整数である）且つ分
子片末端にエステル基を有するパーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤を０．０２重量％で溶解した溶液を用いて、
スピンコート法でＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００５５】実施例１０実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(F((CF₂)₃-O))_nで
あり（ここで、ｎは１０から１４の整数である）且つ分
子片末端にピペロニル基を有するパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤を０．０２重量％で溶解した溶液を用い
て、スピンコート法でＤＬＣ膜上に潤滑層を形成し
た。

【００５６】実施例１１実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂
-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１３の整数であり、
ｍは９から１３の整数である）且つ分子両末端にヒドロ
キシル基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を
０．０２重量％で溶解した溶液を用いて、スピンコート
法でＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００５７】実施例１２実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂
-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１３の整数であり、
ｍは９から１３の整数である）分子両末端にカルボキシ
ル基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を０．
０２重量％で溶解した溶液を用いて、スピンコート法で
ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００５８】実施例１３実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂
-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１３の整数であり、
ｍは９から１３の整数である）分子両末端にエステル基
を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を０．０２
重量％で溶解した溶液を用いて、スピンコート法でＤＬ
Ｃ膜上に潤滑層を形成した。

【００５９】実施例１４実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
パーフルオロオクタン溶媒に、主鎖が(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂
-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１３の整数であり、
ｍは９から１３の整数である）分子両末端にピペロニル
基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を０．０
２重量％で溶解した溶液を用いて、スピンコート法でＤ
ＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００６０】実施例１５実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル(C₁₇H
₃₁COOC₂H₄C₆F₁₃)をそれぞれ０．０４重量％で溶解した
溶液を用いてディップ法により、ＤＬＣ膜上に潤滑層を
形成した。

【００６１】実施例１６実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル(C₁₇H
₃₁COOC₂H₄C₆F₁₃)をそれぞれ０．０４重量％で溶解した
溶液を用いてディップ法により、ＤＬＣ膜上に潤滑層を
形成した。潤滑剤形成後、紫外線ランプを用いてディス
ク表面を１００℃まで加熱して、３０秒間キュアした。

【００６２】実施例１７実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、Ｎ，Ｎ―ジメチルステ
アリルアミン(C₁₈H₃₇-N(CH₃)₂)と常温で液体である部分
フッ化エステル(C₁₇H₃₁COOC₂H₄C₆F₁₃)をそれぞれ０．０
４重量％で溶解した溶液を用いてディップ法により、Ｄ
ＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００６３】実施例１８実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル((CF₃)
₂CF(CF₂)₁₀CH₂CH[OCOC（CH₃）₂(C₆H₁₃)]CH₂[OCOC(CH₃)₂
(C₆H₁₃)]) それぞれ０．０４重量％で溶解した溶液を用
いてディップ法により、ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成し
た。

【００６４】実施例１９実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル((CF₃)
₂CF(CF₂)₁₀CH₂CH(OCOC₁₇H₃₁)CH₂(OCOC₁₇H₃₁))をそれぞ
れ０．０４重量%で溶解した溶液を用いてディップ法に
より、ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００６５】実施例２０実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル([(C
H₃)₂CH(CH₃)CH]₂C(CH₃)COOCH₂C₆F₁₂CH₂0COC(CH₃)[(CH₃)
HCH(CH₃)₂]₂)をそれぞれ０．０４重量％で溶解した溶液
を用いてディップ法により、ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成
した。

【００６６】実施例２１実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ化エステル([(C
H₃)₂CH(CH₃)CH]₂C(CH₃)COOCH₂C₆F₁₃をそれぞれ０．０４
重量％で溶解した溶液を用いてディップ法により、ＤＬ
Ｃ膜上に潤滑層を形成した。

【００６７】実施例２２実施例７と同様にＤＬＣ膜まで成膜したディスク上に、
メチルイソブチルケトン溶媒に、ステアリルアミン(C₁₈
H₃₇-NH₂)と常温で液体であるCH₃(CH₂)₁₁₀(CH₂)₃NHCOCF₂
(OC₂F₄)₁₀(OCF₂)₁₀CF₂CONH(CH₂)₃₀(CH₂)₁₁CH₃をそれぞ
れ０．０４重量%で溶解した溶液を用いてディップ法に
より、ＤＬＣ膜上に潤滑層を形成した。

【００６８】光記録媒体上に自己潤滑性を有する保護膜
を形成し、且つその上に潤滑剤層を形成した場合の効果
を、実施例３から６で用いたのと同様の方法で調べた。
光ヘッドには実施例２で作製した光ヘッドＨ１および比
較例１で作製した光ヘッドＨ２を用いた。サーボ信号
は、基板に射出成形時にスタンパから転写させた溝（ト
ラックピッチ０．４μｍ、溝幅０．１μｍ、溝深さ６０
ｎｍ）からのプッシュプル信号を用い、アドレス情報は
同様の方法で予め基板上に形成したピット部から得た。
光記録媒体の回転数は３６００ rpmとした。この時の光
ヘッド浮上量は７０〜８０ｎｍとなった。実施例７〜２
０と光ヘッドＨ１及びＨ２の組み合わせについて、光ヘ
ッド１００、０００回ランダムシーク前後での欠陥個数
の増減を測定した。欠陥はトラッキングをかけた状態で
のランド部からの反射信号が６５％以下となる部分と
し、半径３０〜４０ｍｍの間（２５０００トラック）で
測定した。

【００６９】表３に光ヘッドＨ１を用いた場合、表４に
光ヘッドＨ２を用いた場合の結果をまとめて示す。

【００７０】

【表３】

【００７１】

【表４】

【００７２】表中、欠陥の増加率は次の式に従って求め
た。欠陥の増加率＝（ランダムシーク後の欠陥の個数）
／（ランダムシーク前の欠陥の個数）。表３および４か
ら分かるように光記録媒体の自己潤滑性保護膜層上に潤
滑層を設けることによっても欠陥の増加を抑えることが
できる。表３及び４中の光記録媒体についてランダムシ
ーク後の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡で調べ
たところ、傷はほとんど観察されなかった。

【００７３】実施例２３〜３４実施例１と同様の方法で、予めフォトマスクでパターニ
ングした後ドライエッチングで溝とピットを形成したガ
ラス基板（外径９５ｍｍ、センターホール径２５ｍｍ、
板厚１ｍｍ、トラックピッチ０．５μm、溝幅０．２μm、
溝深さ７０ｎｍ）上に静止対向型のＤＣマグネトロンス
パッタ装置を用いて、AlTi合金反射層55を５０ｎｍ、窒
化シリコン層を２０ｎｍ、TbFeCo合金層を２０ｎｍ、再
度窒化シリコン層を１２０ｎｍ成膜し、その上に、カー
ボンおよびSi含有カーボンターゲットをArと CH₄の混合
ガスでスパッタすると同時に、基板側にRF電力を加えて
負のバイアス電圧が印加される状態で、Arと CH₄の混合
比、Si含有量およびバイアス電圧をコントロールして、
屈折率が１．９〜２．５、消衰係数０．０１〜１．０の
自己潤滑性膜を１０ｎｍ成膜した。

【００７４】最上層の窒化シリコン膜も、成膜時のArと
窒素の混合比をコントロールする事で、屈折率１．９〜
２．１の窒化シリコン層とした。

【００７５】保護膜成膜後、このディスク表面上に４０
００番台のラッピングテープを空気圧で押し当てながら
ディスクを回転させ、ディスク表面の微少な突起を削り
落とすテープクリーニング(TC)処理を行い、大気中で波
長１８５ｎｍと２５４ｎｍを発生させる低圧水銀ランプ
で９０秒間照射処理した後、パーフルオロオクタン溶媒
に、主鎖が(F((CF₂)₃-O))nで片末端にヒドロキシル基を
有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を濃度０．０
２重量％からなる溶液を用いてスピンコート法により、
保護膜膜上に潤滑層を形成した。

【００７６】実施例２３〜３４の光記録媒体の記録再生
特性を実施例３〜２２の欠陥評価で使用したのと同一の
測定装置で評価した。評価は、線速１４ m/s、マーク長
０．８μｍの比較的長いマークを記録し、そのキャリア
レベルとノイズレベルを測定した。また、溝部での反射
信号レベルも同時に測定した。

【００７７】

【表５】

【００７８】実施例３５ランド、グルーブおよびディスク内周に幅4mmのCSSゾー
ン内に高さ35nm、面積割合1.5%のドットテクスチャを有
する3.5インチサイズのポリカーボネイト基板をNiスタ
ンパを使用した射出成形法で作製した。この基板上に50n
mのAlTi 反射層、30nmの第一SiNx層（第一誘電体層）、
20nmのTbFeCo記録層（光磁気記録層）、80nmの第二SiNx
層（第二誘電体層）を順次スパッタした。

【００７９】次に、メタンをモノマーガスとし、水素を
キャリヤガスに用い、13.56MHzの高周波を用いたプラズ
マ CVD法により、第二SiNx層上に20nmの水素含有カーボ
ン保護膜(ダイヤモンドライクカーボン)を成膜した。

【００８０】その後、溶媒にパーフルオロオクタンを用
い、保護膜上に主鎖が(F((CF₂)₃-O))_nであり（ここで、
ｎは１０から１４の整数である）且つ分子片末端にアル
コール基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤
を濃度0.02wt.%でスピンコートして光磁気記録媒体を作
製した。また、光ヘッド側には、図５及び図８に示した
のと同様にして、ソリッドイマージョンレンズ磁界変調
用コイルを有する浮上型スライダの表面にメタンガスを
モノマーガスとし、水素ガスをキャリヤガスに用い、プ
ラズマCVD法により水素含有ダイヤモンドライクカーボ
ン保護膜を10nm成膜した。

【００８１】実施例３６溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(F((CF₂)₃-O))_nであり（ここで、ｎは１０から１４の整
数である）且つ分子片末端にカルボキシル基を有するパ
ーフルオロポリエーテル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピ
ンコートした以外は、実施例３５と同様にして光磁気記
録媒体を作製した。

【００８２】実施例３７溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(F((CF₂)₃-O))_nであり（ここで、ｎは１０から１４の整
数である）且つ分子片末端にエステル基を有するパーフ
ルオロポリエーテル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコ
ートした以外は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒
体を作製した。

【００８３】実施例３８溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(F((CF₂)₃-O))_nであり（ここで、ｎは１０から１４の整
数である）且つ分子片末端にピペロニル基を有するパー
フルオロポリエーテル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピン
コートした以外は実施例３５と同様にして光磁気記録媒
体を作製した。

【００８４】実施例３９溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１
３の整数であり、ｍは９から１３の整数である）且つ分
子両末端にヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエ
ーテル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコートした以外
は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。

【００８５】実施例４０溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１
３の整数であり、ｍは９から１３の整数である）且つ分
子両末端にカルボキシル基を有するパーフルオロポリエ
ーテル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコートした以外
は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。

【００８６】実施例４１溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１
３の整数であり、ｍは９から１３の整数である）且つ分
子両末端にエステル基を有するパーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコートした以外は、
実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作製した。

【００８７】実施例４２溶媒にパーフルオロオクタンを用い、保護膜上に主鎖が
(-(CF₂)₂-O)_n(CF₂-O)_m-)であり（ここで、ｎは９から１
３の整数であり、ｍは９から１３の整数である）且つ分
子両末端にピペロニル基を有するパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコートした以外
は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。

【００８８】実施例４３保護膜表面を大気中で波長185nmと254nmを発生させる低
圧水銀ランプで90秒間照射処理し、その後、保護膜上に
溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、ステアリル
アミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ素化エ
ステル(C₁₇H₃₁COOC₂H₄C₆F₁₃)をそれぞれ0.04wt.%の濃度
でスピンコートを行い、光ヘッド側にはソリッドイマー
ジョンレンズ磁界変調用コイルを有する浮上型スライダ
の表面上にメタンガスをモノマーガスとし、水素ガスと
窒素ガスを入キャリヤガスに用い、プラズマCVD法によ
り水素および窒素含有ダイヤモンドライクカーボン保
護膜を10nm成膜した以外は、実施例３５と同様にして光
磁気記録媒体を作製した。潤滑剤をスピンコートで塗布
する前の保護膜表面の酸素と炭素の組成比をＸ線光電子
分光分析法で測定した結果、O/C比は0.35であった。

【００８９】実施例４４保護膜表面を酸素圧力5mTorr雰囲気中で13.56MHzの高周
波を用い、プラズマ処理し、その後、保護膜上に溶媒と
してメチルイソブチルケトンを用い、ステアリルアミン
(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分フッ素化エステル
(C₁₇H₃₁COOC₂H₄C₆F₁₃)をそれぞれ0.04wt.%の濃度でスピ
ンコートした以外は、実施例４３と同様にして光磁気記
録媒体を作製した。潤滑剤をスピンコートで塗布する前
の保護膜表面の酸素と炭素の組成比をX線光電子分光分
析法で測定した結果、O/C比は0.39であった。

【００９０】実施例４５保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
Ｎ，Ｎ―ジメチルステアリアルアミン(C₁₈H₃₇-N(CH₃)₂)
と常温で液体である部分フッ化エステル(C₁₇H₃ ₁COOC₂H₄
C₆F₁₃)をそれぞれ0.04wt.%の濃度でスピンコートした以
外は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。潤滑剤をスピンコートで塗布する前の保護膜表面の
酸素と炭素の組成比をX線光電子分光分析法で測定した
結果、O/C比は0.35であった。

【００９１】実施例４６保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
ステアリルアミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分
フッ化エステル ((CF₃)₂CF(CF₂)₁₀CH₂CH［OCOC（CH₃）₂
(C₆H₁₃)］CH₂［OCOC(CH₃)₂(C₆H₁₃)］)をそれぞれ0.04w
t.%の濃度でスピンコートした以外は、実施例４３と同
様にして光磁気記録媒体を作製した。潤滑剤をスピンコ
ートで塗布する前の保護膜表面の酸素と炭素の組成比を
Ｘ線光電子分光分析法で測定した結果、O/C比は0.35で
あった。

【００９２】実施例４７保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
ステアリルアミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分
フッ化エステル((CF₃)₂CF(CF₂)₁₀CH₂CH(OCOC₁₇H₃₁)CH
₂(OCOC₁₇H₃₁))をそれぞれ0.04wt.%の濃度でスピンコー
トした以外は、実施例４３と同様にして光磁気記録媒体
を作製した。潤滑剤をスピンコートで塗布する前の保護
膜表面の酸素と炭素の組成比をＸ線光電子分光分析法で
測定した結果、O/C比は0.35であった。

【００９３】実施例４８保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
ステアリルアミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分
フッ化エステル([(CH₃)₂CH(CH₃)CH]₂C(CH₃)COOCH₂C₆F₁₂
CH₂0COC(CH₃)[(CH₃)HCH(CH₃)₂]₂)をそれぞれ0.04wt.%の
濃度でスピンコートした以外は、実施例４３と同様にし
て光磁気記録媒体を作製した。潤滑剤をスピンコートで
塗布する前の保護膜表面の酸素と炭素の組成比をＸ線光
電子分光分析法で測定した結果、O/C比は0.35であっ
た。

【００９４】実施例４９保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
ステアリルアミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体である部分
フッ化エステル([(CH₃)₂CH(CH₃)CH]₂C(CH₃)COOCH₂C
₆F₁₃)をそれぞれ0.04wt.％の濃度でスピンコートした以
外は、実施例４３と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。潤滑剤をスピンコートで塗布する前の保護膜表面の
酸素と炭素の組成比をX線光電子分光分析法で測定した
結果、O/C比は0.35であった。

【００９５】実施例５０保護膜上に溶媒としてメチルイソブチルケトンを用い、
ステアリルアミン(C₁₈H₃₇-NH₂)と常温で液体であるCH
₃(CH₂)₁₁₀(CH₂)₃NHCOCF₂(OC₂F₄)₁₀(OCF₂)₁₀CF₂CONH(C
H₂)₃₀(CH₂)₁₁CH₃をそれぞれ0.04wt.％の濃度でスピンコ
ートした以外は、実施例４３と同様にして光磁気記録媒
体を作製した。この保護膜表面の酸素と炭素の組成比を
X線光電子分光分析法で測定した結果、O/C比は0.35であ
った。

【００９６】実施例５１スライダ表面に保護膜の無いソリッドイマージョンレン
ズと磁界変調用コイルを有する浮上型スライダを作製し
た以外は、実施例３５と同様にして光磁気記録媒体を作
製した。

【００９７】実施例５２スライダ表面に保護膜の無いソリッドイマージョンレン
ズと磁界変調用コイルを有する浮上型スライダを作製し
た以外は、実施例４７と同様にして光磁気記録媒体を作
製した。

【００９８】比較例３ランド、グルーブを有し、ＣＳＳゾーン持たない3.5"サ
イズのポリカーボネイト基板をNiスタンパを使用した射
出成形法で作製した。この基板上に50nmのAlTi反射層、
30nmの第一SiNx層、20nmのTbFeCo記録層、80nmの第二Si
Nx層を順次スパッタした。その後、溶媒にパーフルオロ
オクタンを用い、保護膜上に主鎖が(F((CF₂)₃-O))_nであ
り（ここで、ｎは１０から１４の整数である）且つ分子
片末端にヒドロキシル基を有するパーフルオロポリエー
テル系潤滑剤を濃度0.02wt.%でスピンコートした。

【００９９】光ヘッドとして、ソリッドイマージョンレ
ンズ磁界変調用コイルを有する浮上型スライダの表面に
メタンガスをモノマーガスとし、水素ガスを入キャリヤ
ガスに用い、プラズマCVD法により水素含有ダイヤモン
ドライクカーボン保護膜を10nm成膜した。

【０１００】比較例４スライダ表面に保護膜の無いソリッドイマージョンレン
ズと磁界変調用コイルを有する浮上型スライダを作製し
た以外は比較例３と同様にして光磁気記録媒体を作製し
た。

【０１０１】以上得られた試料の耐久性をLotus社製CSS
Tester Model 7000を用い、以下の条件でCSS試験を行
った。CSS試験結果を表６に示す。ディスク回転数：３６００rpm, 測定半径：２２mm 相対速度：８．２９m/sec ヘッド浮上高さ：６０nm ヘッド垂直荷重：３．５g 測定環境：２０℃、４０％RH

【０１０２】

【表６】

【０１０３】表６から明らかなように、本発明の媒体と
スライダ表面に保護膜を有する浮上型スライダの組み合
わせの系では、静止摩擦係数が0.60未満であり、CSS耐
久性は20,000サイクル以上である。また、本発明の媒体
とスライダ表面に保護膜が無い浮上型スライダの組み
合わせの系では、静止摩擦係数が0.60を超えるが、CSS
耐久性は20,000サイクル以上である。一方、媒体上にド
ット状テクスチャ及び保護膜の無い比較例３の媒体とス
ライダ表面に保護膜を有する浮上型スライダの組み合わ
せの系、並びに媒体上にドット状テクスチャ及び保護膜
の無い比較例３の媒体とスライダ表面に保護膜の無い浮
上型スライダ（比較例４）の組み合わせでは、静止摩擦
係数が5.0以上と高く、CSS耐久性も1,000未満であり、
耐久性に劣っている事が分る。

【０１０４】以上、本発明の光記録媒体及び光ヘッド並
びに光記録装置を、光磁気記録媒体を記録再生する場合
を例に挙げて具体的に説明してきたが、本発明の光記録
媒体は光磁気記録媒体に限定されず、相変化型の光記録
媒体や有機色素を記録層に持つ追記型の光記録媒体、あ
るいは再生専用光記録媒体等、任意の光記録媒体とする
ことができる。すなわち、本発明の対象とする光記録媒
体は、光照射により情報が記録または再生される光記録
媒体において、光記録媒体の光が照射される側の最上層
に自己潤滑性を有する固体保護層が形成されてなること
を特徴とする光記録媒体である。通常の光記録媒体は基
板上に保護層等を介してあるいは直接記録層を備えた構
造を有し、基板側から記録または再生光が照射される
が、本発明に従う光記録媒体では基板と反対側の最上層
に自己潤滑性を有する固体保護層が形成され、該固体保
護層の側から記録または再生層の光が照射される。

【０１０５】また、上記実施例では、光ヘッドとして光
磁気記録媒体を記録再生ための光ヘッドを例を挙げて説
明してきたが、光ヘッドの構成は図に示した構造に限定
されず種々の構造を採用し得る。例えば、相変化型光記
録媒体、色素を記録層に含む追記型光記録媒体及びＣ
Ｄ、ＤＶＤ−ＲＯＭを記録または再生する場合には、磁
界印加手段として磁気コイルは不要となる。

【０１０６】

【発明の効果】本発明では、光記録媒体もしくは光ヘッ
ドの光記録媒体に対向する面の何れか少なくとも一方に
カ−ボン等の自己潤滑性を有する保護膜を設けること
で、光ヘッドのシーク時の移動にともなうヘッドの姿勢
変動によるヘッドと媒体のイレギュラーな摺動で生じる
傷の発生を抑制し、傷の発生に伴う再生エラーを低減す
ることができる。また、自己潤滑性を有する保護膜の代
わりに、あるいは自己潤滑性を有する保護膜とともに分
子末端にヒドロキシル基、カルボキシル基、エステル
基、アミノ基、ピペロニル基の少なくとも一種から選ば
れた分子量１０００から８０００のパーフルオロポリエ
ーテルを含む潤滑剤を用いることによっても、光記録媒
体の傷の発生を抑制し、傷の発生に伴う再生エラーを低
減することができる。それゆえ、本発明の光ヘッドを組
み込んだ光記録装置は、光記録媒体の高密度記録及びそ
の再生に好適である。

【図面の簡単な説明】

【図１】レンズによるレーザー光の絞り込みの様子を説
明する図である。

【図２】固体イマージョンレンズを使用したときの光路
を説明する図であり、（ａ）は半球状固体イマージョン
レンズを、（ｂ）は超半球状固体イマージョンレンズを
それぞれ示す。

【図３】固体イマージョンレンズと近接場光を利用した
記録再生方式で用いるスライダー型光ヘッドの構造を説
明する概略断面図である。

【図４】本発明の光記録媒体の一具体例の概略断面であ
る。

【図５】本発明の実施例２で作製した光磁気ヘッドの概
略断面図である。

【図６】実施例２で作製した光ヘッドのスライダ底面に
形成する凹凸パターンを示す図である。

【図７】本発明の光記録装置の概略構造を示す図であ
る。

【図８】図７の光記録装置の対物レンズ部分の構造を拡
大した図である。

【図９】本発明の実施例の光記録装置で使用した光学系
を説明する図である。

【符号の説明】

１半球状固体イマージョンレンズ、２超半球状固体
イマージョンレンズ３レーザー光、４光記録媒体、３３，６９ミラー３４，７１対物レンズ、３５，３６スイングアーム３７ロータリーアクチュエータ、３８光学系３９ディスク回転軸、４０モータ４１光磁気ディスク、４３対物レンズ支持体４４アクチュエータコイル、４５アクチュエータ用
永久磁石４６レーザ光、５７レーザー光源５９ａ，ｂプリズム、６０，６１，６４ビームスプ
リッタ６３１／２λ板、６８ａ，ｂ光磁気信号検出器６９，７０ミラー、８０スライダ底面７１対物レンズ、７２，１００固体イマージョンレ
ンズ１０２スライダ、１０４磁気コイル、１０５保護
膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ１１Ｂ 11/10 ５２１Ｇ１１Ｂ 11/10 ５２１Ｅ５２１Ｆ５６６５６６Ｂ (72)発明者荒木立夫大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内 (72)発明者大貫健大阪府茨木市丑寅一丁目１番88号日立マクセル株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、反射層、記録層及び誘電体層
を有し且つ誘電体側から記録光または再生光が照射され
る光記録媒体において、上記誘電体層上に自己潤滑性を有する固体保護層が形成
されてなることを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】上記自己潤滑性を有する固体保護層は、
誘電体層の屈折率に対して差の絶対値が０．５以内であ
る屈折率及び誘電体層の消衰係数に対して差の絶対値が
０．２以内である消衰係数を有することを特徴とする請
求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】上記自己潤滑性を有する固体保護層の膜
厚が、５ｎｍ〜５０ｎｍであることを特徴とする請求項
１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】上記自己潤滑性を有する固体保護層が、
カーボンを主体とする材料から構成されていることを特
徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光記録媒
体。
【請求項５】上記カーボンを主体とする材料から構成
された自己潤滑性を有する固体保護層が、窒素、水素及
びフッ素からなる群から選ばれた少なくとも一種を含む
ことを特徴とする請求項４に記載の光記録媒体。
【請求項６】上記自己潤滑性を有する固体保護層が、
ダイヤモンドライクカーボン膜であることを特徴とする
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項７】上記自己潤滑性を有する固体保護層上に
さらに潤滑層が形成されてなることを特徴とする請求項
１〜６のいずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項８】上記潤滑層は、分子末端の少なくとも一
方の末端にヒドロキシル基、カルボキシル基、エステル
基、アミノ基及びピペロニル基の少なくとも一種から選
ばれた基を有し且つ分子量１０００〜８０００のパーフ
ルオロポリエーテルを含むことを特徴とする請求項７に
記載の光記録媒体。
【請求項９】上記潤滑層は、分子末端にアミド基を有
する潤滑剤と常温で液体である潤滑剤とを含む混合潤滑
剤から形成されていることを特徴とする請求項７に記載
の光記録媒体。
【請求項１０】上記自己潤滑性を有する固体保護層
は、その表面にカルボキシル基を有することを特徴とす
る請求項９に記載の光記録媒体。
【請求項１１】上記自己潤滑性を有する固体保護層の
表面における酸素／炭素の組成比（Ｏ／Ｃ）が０．１以
上であることを特徴とする請求項１０に記載の光記録媒
体。
【請求項１２】上記潤滑剤は、上記自己潤滑性を有す
る固体保護層上に塗布された後、５０〜１２０℃の温度
で熱処理されてなる請求項７〜１１のいずれか一項に記
載の光記録媒体。
【請求項１３】上記潤滑剤は、上記固体保護層上に塗
布された後、紫外線を照射されてなる請求項７〜１２の
いずれか一項に記載の光記録媒体。
【請求項１４】上記自己潤滑性を有する固体保護層を
紫外線照射するかまたは酸素雰囲気中でプラズマ処理す
ることによって該固体保護層の表面にカルボキシル基を
形成させることを特徴とする請求項１０〜１３のいずれ
か一項に記載の光記録媒体。
【請求項１５】上記自己潤滑性を有する固体保護層
が、スパッタリング及びプラズマＣＶＤの一方により形
成されていることを特徴とする請求項１〜１４のいずれ
か一項に記載の光記録媒体。
【請求項１６】上記光記録媒体の内周部または外周部
に浮上型スライダのランディングゾーンを備えることを
特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の光記
録媒体。
【請求項１７】上記ランディングゾーン内に高さ１０
〜１００ｎｍのドット状突起を０．１％〜５．０％の面
積比率で有することを特徴とする請求項１６に記載の光
記録媒体。
【請求項１８】光磁気記録媒体及び相変化型光記録媒
体の一方である請求項１〜１７のいずれか一項に記載の
光記録媒体。
【請求項１９】更に、反射層と記録層間に誘電体層を
備えることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか一項
に記載の光記録媒体。
【請求項２０】基板上に、反射層、記録層、誘電体
層、保護層及び潤滑層を有し且つ潤滑層側から記録光ま
たは再生光が照射される光記録媒体であって、上記潤滑層は、分子末端の少なくとも一方の末端にヒド
ロキシル基、カルボキシル基、エステル基、アミノ基及
びピペロニル基の少なくとも一種から選ばれた基を有し
且つ分子量１０００〜８０００のパーフルオロポリエー
テルを含むことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２１】更に、反射層と記録層間に誘電体層を
備えることを特徴とする請求項２０に記載の光記録媒
体。
【請求項２２】浮上型スライダ内に固体イマージョン
レンズを装着し且つ光記録媒体を記録または再生するた
めの光ヘッドにおいて、少なくとも上記浮上型スライダの光記録媒体と対向する
面に、自己潤滑性を有する固体保護層が形成されてなる
ことを特徴とする光ヘッド。
【請求項２３】上記自己潤滑性を有する固体保護層の
膜厚が、５ｎｍ〜５０ｎｍであることを特徴とする請求
項２２に記載の光ヘッド。
【請求項２４】上記自己潤滑性を有する固体保護層
が、カーボンを主体とする材料から構成されていること
を特徴とする請求項２２または２３に記載の光ヘッド。
【請求項２５】上記カーボンを主体とする材料から構
成された自己潤滑性を有する固体保護層が、窒素、水素
及びフッ素からなる群から選ばれた少なくとも一種を含
むことを特徴とする請求項２４に記載の光ヘッド。
【請求項２６】上記自己潤滑性を有する固体保護層
が、ダイヤモンドライクカーボン膜であることを特徴と
する請求項２２〜２５のいずれか一項に記載の光ヘッ
ド。
【請求項２７】上記自己潤滑性を有する固体保護層上
にさらに潤滑層が形成されてなることを特徴とする請求
項２２〜２６のいずれか一項に記載の光ヘッド。
【請求項２８】上記潤滑層は、分子末端の少なくとも
一方の末端にヒドロキシル基、カルボキシル基、エステ
ル基、アミノ基及びピペロニル基の少なくとも一種から
選ばれた基を有し且つ分子量１０００〜８０００のパー
フルオロポリエーテルを含むことを特徴とする請求項２
７に記載の光ヘッド。
【請求項２９】上記固体保護層は、その表面にカルボ
キシル基を有し且つ酸素／炭素の組成比（Ｏ／Ｃ）が
０．１以上であることを特徴とする請求項２８に記載の
光ヘッド。
【請求項３０】さらに、記録または再生用の磁界を印
加するための磁気コイルを備えた請求項２２〜２９のい
ずれか一項に記載の光ヘッド。
【請求項３１】光ヘッドを備え、光記録媒体に情報を
記録または再生するための光記録装置において、上記光ヘッドが、浮上型スライダと該浮上型スライダに
装着された固体イマージョンレンズとを有し、少なくと
も上記浮上型スライダの光記録媒体と対向する面に自己
潤滑性を有する固体保護層が形成されてなることを特徴
とする光記録装置。
【請求項３２】上記光ヘッドが磁界印加装置を備え
て、光磁気記録媒体を記録再生することが可能であるこ
とを特徴とする請求項３１に記載の光記録装置。
【請求項３３】上記固体イマージョンレンズが、半球
状の固体イマージョンレンズ及び超半球状の固体イマー
ジョンレンズの一方であることを特徴とする請求項３１
または３２に記載の光記録装置。
【請求項３４】上記光記録媒体が、基板上に、反射
層、第１誘電体層、記録層、第２誘電体層を順次有し且
つ第２誘電体側から情報記録または再生光が照射される
光記録媒体であって、上記第２誘電体層上に自己潤滑性
を有する固体保護層が形成されてなる光記録媒体である
ことを特徴とする請求項３１〜３３のいずれか一項に記
載の光記録装置。