JPH1173622A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性が格段に改
良されかつ優れた耐久性を併せ持ち、特に高密度記録領
域でのエラーレートが格段に改良された磁気記録媒体、
特にディスク状磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体上に実質的に非磁性である下層と強
磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト粉末である
強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に
設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体は面記
録密度が０．１７〜２Ｇbit/inch²の信号を記録する磁
気記録媒体であり、前記磁性層の抗磁力が１８００エル
ステッド以上であり、かつ前記支持体の厚みムラが該支
持体の厚みに対して５％以下であることを特徴とする磁
気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の大容量、高
記録密度の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的
に非磁性の下層を有し、最上層に強磁性金属粉末または
六方晶フェライト粉末を含む大容量、高密度記録用の磁
気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】また磁気テープの分野においても近年、ミ
ニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワーク
ステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴
って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録
するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）
の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テ
ープの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、
小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求さ
れる。

【０００４】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗
設したものが広く用いられる。この中でも強磁性金属粉
末と六方晶系フェライト粉末は高密度記録特性に優れて
いることが知られている。デイスクの場合、高密度記録
特性に優れる強磁性金属粉末を用いた大容量ディスクと
しては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２Ｓ
Ｄまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディスクとし
ては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルな
どがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかった。こ
のような状況に対し、高密度記録特性を向上させる試み
が多くなされている。以下にその例を示す。

【０００５】ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させ
るために、特開昭６４−８４４１８には酸性基とエポキ
シ基と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いることが提
案され、特公平３−１２３７４にはＨｃ１０００エルス
テッド以上、比表面積２５〜７０m²/g の金属粉末を用
いることが提案され、特公平６ー２８１０６には磁性体
の比表面積と磁化量を定め、研磨剤を含ませることが提
案されている。

【０００６】ディスク状磁気記録媒体の耐久性を改善さ
せるために、特公平７−８５３０４には不飽和脂肪酸エ
ステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用いる
ことが提案され、特公平７ー７００４５には分岐脂肪酸
エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特開昭５４−１２４７１６にはモー
ス硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステルを含ま
せることが提案され、特公平７−８９４０７には潤滑剤
を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜０．０２５
μmとすることが提案され、特開昭６１−２９４６３７
には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用いることが提
案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚みに対し１
／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特開平３−２０３０１８には
Ａｌを含むメタル磁性体と酸化クロム用いることが提案
されている。

【０００７】非磁性の下層や中間層を有するディスク状
磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３に
は導電層と金属粉末を含む磁性層を有する構成が提案さ
れ、特開平６−２９０４４６には１μm以下の磁性層と
非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６２−１５９
３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層からな
る構成が提案され、特開平５−２９０３５８にはカーボ
ンサイズを規定した非磁性層を有する構成が提案されて
いる。

【０００８】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００エルステッド以上で厚さ０．５μm
以下の磁性層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成
が提案され、特開平５−１９７９４６には磁性層厚より
大きい研磨剤を含む構成が提案され、特開平５−２９０
３５４には磁性層厚が０．５μm以下で、磁性層厚の厚
み変動を±１５％以内とし、表面電気抵抗を規定した構
成が、特開平６−６８４５３には粒径の異なる２種の研
磨剤を含ませ、表面の研磨剤量を規定した構成が提案さ
れている。

【０００９】又テープ状の磁気記録媒体においても、近
年、ミニコンピュータ、パーソナルコンピュータなどの
オフィスコンピュータの普及に伴って、外部記憶媒体と
してコンピュータデータを記録するための磁気テープ
（所謂、バックアップテープ）の研究が盛んに行われて
いる。このような用途の磁気テープの実用化に際して
は、特にコンピュータの小型化、情報処理能力の増大と
相まって、記録の大容量化、小型化を達成するために記
録容量の向上が強く要求される。また磁気テープの使用
環境の広がりによる幅広い環境条件下（特に、変動の激
しい温湿度条件下など）での使用、データ保存に対する
信頼性、更に高速での繰り返し使用による多数回走行に
おけるデータの安定した記録、読み出し等の性能に対す
る信頼性なども従来に増して要求される。

【００１０】従来から、デジタル信号記録システムにお
いて使用される磁気テープは、システム毎に決められて
おり、所謂ＤＬＴ型、３４８０、３４９０、３５９０、
ＱＩＣ、Ｄ８型、あるいはＤＤＳ型対応の磁気テープが
知られている。そしてどのシステムにおいても、用いら
れる磁気テープは、非磁性支持体上の一方の側に、膜厚
が２．０〜３．０μｍと比較的厚い単層構造の強磁性粉
末、結合剤、及び研磨剤を含む磁性層が設けられてお
り、また他方の側には、巻き乱れの防止や良好な走行耐
久性を保つために、バックコート層が設けられている。
しかし一般に上記のように比較的厚い単層構造の磁性層
においては、出力が低下するという厚み損失の問題があ
る。

【００１１】磁性層の厚み損失による再生出力の低下を
改良するために、磁性層を薄層化することが知られてお
り、例えば、特開平５ー１８２１７８号公報には非磁性
支持体上に無機質粉末を含み、結合剤に分散してなる下
層非磁性層と該非磁性層が湿潤状態にある内に強磁性粉
末を結合剤に分散してなる１．０μｍ以下の厚みの上層
磁性層を設けた磁気記録媒体が開示されている。

【００１２】しかしながら、急速なディスク状やテープ
状の磁気記録媒体の大容量化、高密度化にともない、こ
のような技術をもってしても満足な特性を得ることが難
しくなってきていた。また耐久性と両立させることも困
難な状況になってきている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良されかつ優れた耐
久性を併せ持ち、特に高密度記録領域でのエラーレート
が格段に改良された磁気記録媒体を提供することを目的
としている。特に記録容量が、０．１７〜２Ｇbit/inch
² 、好ましくは０．２〜２Ｇbit/inch² 、特に好ましく
は０．３５〜２Ｇbit/inch² という大容量の磁気記録媒
体、特にディスク状磁気記録媒体を提供することを目的
としている。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは電磁変換特
性と耐久性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレー
トが格段に改良された大容量の磁気記録媒体を得るため
に鋭意検討した結果、以下のような媒体とすることで、
本発明の目的である大容量で優れた高密度記録特性と優
れた耐久性を有する磁気記録媒体が得られることを見い
だし、本発明に至ったものである。

【００１５】すなわち、本発明は支持体上に実質的に非
磁性である下層と強磁性金属粉末または強磁性六方晶フ
ェライト粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順
に設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体は面
記録密度が０．１７〜２Ｇbit/inch²の信号を記録する
磁気記録媒体であり、前記磁性層の抗磁力が１８００エ
ルステッド以上であり、且つ前記支持体の厚みムラが該
支持体の厚みに対して５％以下であることを特徴とする
磁気記録媒体、好ましくは前記支持体の厚みムラが該支
持体の厚みに対して２％以下であることを特徴とする磁
気記録媒体、また好ましくは前記磁性層の表面粗さの１
０〜２μｍの長波長の空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁
性層の表面粗さの１〜０．５μｍの短波長の空間周波数
強度（Ｉs）の比（Ｉ_L／Ｉs）が1.5よりも小さいことを
特徴とする磁気記録媒体によって達成できる。また、好
ましくは前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．３０μ
ｍであり、さらに好ましくは０．０５〜０．２５μｍで
あり、また好ましくはΦｍが１０．０×１０^-3〜１．０
×１０^-3emu/cm² であり、さらに好ましくは８．０×１
０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² であることを特徴とする
磁気記録媒体、さらには前記磁気記録媒体は面記録密度
が０．２０〜２Ｇbit/inch²の信号を記録する磁気記録
媒体であることを特徴とする磁気記録媒体とすること
で、従来の技術では得ることができなかった大容量で、
優れた高密度特性と優れた耐久性を併せ持ち高密度記録
領域でのエラーレートが格段に改良された磁気記録媒体
を得ることができることを見いだしたものである。

【００１６】ここで実質的に非磁性である下層とは記録
に関与しない程度に磁性を持っていても良いという意味
であり、以降単に下層または非磁性層という。下層に磁
性粉を含む場合は無機粉末の１／２未満含むことが好ま
しい。尚、磁性層を上層又は上層磁性層ともいう。ま
た、面記録密度とは、線記録密度とトラック密度を掛け
合わせたものである。

【００１７】Φｍとは片側の単位面積当たりの磁性層か
ら振動試料型磁束計（ＶＳＭ：東英工業社製）を用い、
Ｈｍ１０キロエルステッド（ｋＯｅ）で直接測定できる
磁気モ−メント量（ｅｍｕ／ｃｍ²）であり、ＶＳＭで
求められる磁束密度Ｂｍ（単位Ｇ＝４πｅｍｕ／ｃ
ｍ³）に厚み（ｃｍ）を掛けたものに等しい。従ってΦ
ｍの単位はｅｍｕ／ｃｍ²またはＧ・ｃｍで表される。
さらに支持体の厚みムラとは以下のようにして測定した
ものである。

【００１８】支持体の厚みを電子マイクロメターを用い
てその長手方向と幅方向各々を記録計に記録し、指定測
定長（２ｍ以内）の長手方向での最大の山と最深の谷と
の標高差と幅方向での最大の山と最深の谷との標高差と
を読み取り、標高差の大きい値をとり、この標高差を支
持体の厚みで除して１００倍した値を厚みムラ（Δｔと
も記す）とする。

【００１９】支持体の厚みは、支持体を１０枚重ね合わ
せて任意の位置をマイクロメーターで３点測定する。３
点の平均値を求めてこれを１０で割り支持体の厚みとす
る。

【００２０】線記録密度とは記録方向１インチ当たりに
記録する信号のビット数である。これら線記録密度、ト
ラック密度、面記録密度はシステムによって決まる値で
ある。また磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の
空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜
０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉs）とは、磁
性層の表面粗さプロファイルデータに２次元のフーリエ
変換処理を施し、各波長ごとの粗さ成分を分解した後、
該当する波長成分の範囲を積分して得られる強度のこと
である。これらは原子間力顕微鏡（AFM）（米国デジタ
ルインスツルメンツ社製）を用い、100μｍ×100μｍの
範囲を512X512画素のデータとして取り込み、算出した
値である。

【００２１】即ち本発明は面記録密度の向上に対しては
線記録密度の点で磁性層厚み、磁性層Ｈｃ、中心面平均
表面粗さで改良を図り、トラック密度の点でΦｍの最適
化を図ったものである。即ち、従来より平滑な支持体を
用いることが好ましいことは知られているが、それは支
持体の厚みが厚くなると、Δｔも大きくなり、塗布が良
好に行うことができないと言う問題に対処するためであ
った。

【００２２】しかし、本発明においてはΔｔを５％以
下、好ましくは２％以下とすることによって顕著にヘッ
ド当たりが改良され、出力変動が抑制され、引いては高
密度記録におけるエラーレートの低減に寄与することを
見いだしたものである。Δｔが５％以下、好ましくは２
％以下である支持体は以下のような方法で製造すること
ができる。尚、支持体の素材は特に制限されるべきもの
ではないが、本発明においては樹脂を主体とする可撓性
支持体が生産性、コスト面等で好ましい。

【００２３】本発明において、Δｔを５％以下とするた
めの手段としては、以下の方法が挙げられるが、特にこ
れらに制限されるべきものではない。 溶融ポリマー（例えば、ＰＥＴ、ＰＥＮ等）、ポリマ
ー溶液（アラミド等）のダイからの幅方向吐出量分布を
小さくする。これは幅方向厚みムラの低減に寄与する。 溶融ポリマー（例えば、ＰＥＴ、ＰＥＮ等）、ポリマ
ー溶液（アラミド等）のダイからの吐出量変動を小さく
する。これは長手方向厚みムラの低減に寄与する。 縦横延伸倍率を大きくする。

【００２４】従来の磁気記録媒体、特にフロッピ−ディ
スクは磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の空間
周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜０．
５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉs）の比（Ｉ_L／Ｉ
s）が1.5よりも大きいのが普通であった。このことは、
従来の磁性層表面はうねりが微小突起にくらべて、はる
かに大きかった。このうねり成分により電磁変換特性や
耐久性が決まっていたと考えることができる。

【００２５】しかしながら本発明では（Ｉ_L／Ｉs）が1.
5よりも小さい。本発明は、このような表面性の磁性層
を有した磁気記録媒体とすることにより、優れた高密度
特性と優れた耐久性を併せ持ち、高密度領域でのエラー
レートが顕著に改良された磁気記録媒体が得られること
がわかった。尚、後述されるようにＲａで定義される粗
さは、波長（うねりや突起の分布に強く相関する）を特
に限定せず、特定範囲での平均的粗さを数値化したもの
であり、本発明の範囲はこの波長を明確に定義すること
で、単なる平均値で管理するのではなく、うねりを抑制
し、突起の分布を特定化して走行耐久性を確保すること
を狙ったものである。従って、Ｒａ値が同じでも、うね
り成分が大きいものは本発明の効果は得られず、上記比
（Ｉ_L／Ｉs）を満足するようにうねり成分をある程度小
さくすると本発明の効果が発揮されるのである。

【００２６】前述したようにＩ_LとＩsは、磁性層の表面
粗さプロファイルデータに２次元のフーリエ変換処理を
施し、各波長ごとの粗さ成分を分解した後、該当する波
長成分の範囲を積分して得られる強度のことであるか
ら、本発明では従来に比べて長波長成分が大幅に減少
し、むしろ短波長成分の方が多いのである。本発明にお
いて、磁性層の表面性を上記（Ｉ_L／Ｉs）を１．５より
小とするための手段としては、詳細は後述されるよう
に、特に非常に平滑な支持体を用いることが有効である
が、下層及び上層に含まれる各種粉体の形状・サイズを
制御すること、塗布条件（Ｗ／ＷかＷ／Ｄ）及び塗布後
の配向条件の組み合わせを適宜選定すること、あるいは
カレンダー処理、バーニッシュ処理などの表面処理条件
を適宜選定する等の手段等が挙げられる。

【００２７】本発明において、（Ｉ_L／Ｉs）は、好まし
くは0.5≦Ｉ_L／Ｉs≦1.3、更に好ましくは0.8≦Ｉ_L／Ｉ
s≦1.1の範囲である。

【００２８】本発明の好ましい態様は次の通りである。
磁気記録媒体の全体に対するものとして （１）前記磁性層の表面粗さが３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法によ
る中心面平均表面粗さで０．５〜４．０ｎｍであること
を特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記磁性層の抗磁力が２１００〜３０００エルス
テッドであり、前記強磁性金属粉末は平均長軸長が０．
０３〜０．１２μｍであり、または前記強磁性六方晶フ
ェライト粉末は平均板径が０．０１〜０．１０μｍであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 （３）前記磁気記録媒体は面記録密度が０．２０〜２Ｇ
bit/inch²の信号を記録する磁気記録媒体であることを
特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記磁気記録媒体は、１．０ＭＢ／ｓｅｃ以上の
高速転送速度のシステム用の磁気記録媒体であることを
特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記磁気記録媒体は、デイスク回転数が２０００
ｒｐｍ以上の大容量フロッピ−デイスクシステム用の磁
気記録媒体であることを特徴とする磁気記録媒体。磁性
体の改良に関するものとして （１）前記強磁性金属粉末はＦｅを主体とし、平均長軸
長が０．０３〜０．１２μｍ、針状比は４．０〜９．０
であることを特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記強磁性金属粉末はＦｅを主体とし、平均長軸
長が０．０３〜０．１０μｍ、結晶子サイズは８０〜１
８０Åであることを特徴とする磁気記録媒体。支持体の
改良に関するものとして （１）前記支持体の３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法による中心面平
均表面粗さが４．０ｎｍ以下であることを特徴とする磁
気記録媒体。 （２）前記支持体の面内各方向に対し、１００℃３０分
での熱収縮率及び８０℃３０分での熱収縮率が共に０．
５％以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 （３）前記支持体の面内各方向に対し、温度膨張係数が
１０^-4〜１０^-8／℃であることを特徴とする磁気記録媒
体。 （４）前記支持体のＦ−５値が４９〜４９０ＭＰａであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記支持体の破断強度が４９〜９８０ＭＰａであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。潤滑剤の改良に関す
るものとして （１）前記下層及び／又は磁性層には少なくとも合わせ
て３種類の脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルを含むこと
を特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記脂肪酸及び前記脂肪酸エステルは脂肪酸残基
同士が互いに同一であることを特徴とする磁気記録媒
体。 （３）前記脂肪酸は少なくとも飽和脂肪酸を含み、前記
脂肪酸エステルは少なくとも飽和脂肪酸エステル又は不
飽和脂肪酸エステルを含むことを特徴とする磁気記録媒
体。 （４）前記脂肪酸エステルはモノエステル及びジエステ
ルを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記脂肪酸エステルは飽和脂肪酸エステル及び不
飽和脂肪酸エステルを含むことを特徴とする磁気記録媒
体。 （６）前記磁性層の表面をオ−ジェ電子分光法で測定し
たときのＣ／Ｆｅピ−ク比が５〜１２０であることを特
徴とする磁気記録媒体。下層非磁性粉の改良に関するも
のとして （１）前記下層は粒子径が５ｎｍ〜８０ｎｍのカ−ボン
ブラックを含み、前記磁性層は平均粒子径が５ｎｍ〜３
００ｎｍのカ−ボンブラックを含むことを特徴とする磁
気記録媒体。 （２）前記下層は平均粒子径が５ｎｍ〜８０ｎｍのカ−
ボンブラックと平均粒子径が８０ｎｍより大のカ−ボン
ブラックとを含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （３）前記下層及び前記磁性層はいずれも平均粒子径が
５ｎｍ〜８０ｎｍのカ−ボンブラックを含むことを特徴
とする磁気記録媒体。 （４）前記下層は平均長軸長が０．００５〜０．２０μ
ｍであり、針状比が４．０〜９．０の針状無機粉末を含
むことを特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記下層は針状無機粉末を含み、前記磁性層は針
状強磁性金属粉末を含み、前記針状無機粉末の平均長軸
長が前記針状強磁性金属粉末の平均長軸長の１．１倍〜
３．０倍であることを特徴とする磁気記録媒体。 （６）前記下層及び／又は前記磁性層は燐化合物を含
み、かつ前記下層は針状又は球状の無機粉末を含むこと
を特徴とする磁気記録媒体。磁性層研磨剤の改良に関す
るものとして （１）前記磁性層は少なくとも平均粒子径が０．０１〜
０．３０μｍの研磨剤を含むことを特徴とする磁気記録
媒体。 （２）前記磁性層は少なくとも平均粒子径が０．０１〜
１．０μｍのダイアモンドを含むことを特徴とする磁気
記録媒体。 （３）前記磁性層はモ−ス硬度が９以上の２種類の研磨
剤を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記磁性層はαアルミナとダイアモンドを含むこ
とを特徴とする磁気記録媒体。結合剤の改良に関するも
のとして （１）前記下層及び／又は前記磁性層は少なくともガラ
ス転移温度が０℃〜１００℃のポリウレタンを含むこと
を特徴とする磁気記録媒体。 （２）前記下層及び／又は前記磁性層は少なくとも破断
応力が０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²のポリウレタンを含
むことを特徴とする磁気記録媒体。磁気記録媒体全体の
改良に関するものとして （１）前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２０μｍ
であり、かつ前記磁性層中に平均粒子径が０．０１〜
０．４μｍの研磨剤を含むことを特徴とする磁気記録媒
体。 （２）前記磁気記録媒体がデイスクであることを特徴と
する磁気記録媒体。 （３）前記磁気記録媒体は、デイスク回転数が３０００
ｒｐｍ以上の大容量フロッピ−デイスクシステム用の磁
気記録媒体であることを特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記磁気記録媒体は、２．０ＭＢ／ｓｅｃ以上の
高速転送速度のシステム用の磁気記録媒体であることを
特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記磁気記録媒体は、現行の３．５型フロッピ−
デイスクとの記録・再生が可能な下位互換を実現した、
大容量フロッピ−デイスクシステム用の磁気記録媒体で
あることを特徴とする磁気記録媒体。 （６）前記磁気記録媒体は、高密度記録用の狭いギャッ
プと現行の３．５型フロッピ−デイスク用の広いギャッ
プの両方を備えたデユアルデイスクリ−トギャップヘッ
ドを採用した大容量フロッピ−デイスクシステム用の磁
気記録媒体であることを特徴とする磁気記録媒体。 （７）前記磁気記録媒体は、デイスクの回転によりヘッ
ドが浮上する大容量フロッピ−デイスクシステム用の磁
気記録媒体であることを特徴とする磁気記録媒体。 （８）前記磁気記録媒体は、デイスクの回転によりヘッ
ドが浮上し、かつヘッドの駆動にはリニアタイプのボイ
スコイルモ−タ−を用いる大容量フロッピ−デイスクシ
ステム用の磁気記録媒体であることを特徴とする磁気記
録媒体。

【００２９】本発明は、上記構成とすることで、従来の
技術では得ることができなかった面記録密度が０．１７
〜２Ｇbit/inch² である磁気記録媒体であって、優れた
高密度特性と優れた耐久性を併せ持ち、特に高密度領域
でのエラーレートが顕著に改良された磁気記録媒体、特
にディスク状磁気記録媒体を得ることができることを見
いだしたものである。

【００３０】本発明がかかる優れた面記録密度が０．１
７〜２Ｇbit/inch²、好ましくは０．２〜２Ｇbit/inch
² 更には面記録密度が０．３５〜２Ｇbit/inch² という
かって塗布型の磁気記録媒体では世の中に知られた製品
では達成されたことのない高密度特性と優れた耐久性を
併せ持つ磁気記録媒体、特にディスク状磁気記録媒体が
得られたのは以下のようなポイントを有機的に結合し、
総合した結果である。

【００３１】本発明のポイントは高Ｈｃ、超平滑化、
複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良、高
硬度研磨剤使用による耐久性確保、磁性層の超薄層化
と下層との界面の変動減、粉体（強磁性粉末、非磁性
粉末）の高充填化、粉体（強磁性粉末、非磁性粉末）
の超微粒子化、ヘッドタッチの安定化、寸法安定性
とサーボ、磁性層、支持体の熱収縮率改良、高温、
低温での潤滑剤の作用、等が挙げられ、これらを結合
し、総合した結果本発明に至った。

【００３２】まず上記の高Ｈｃ、超平滑化について述
べる。高Ｈｃの強磁性粉末を用いることにより、磁性層
のＨｃを１８００エルステッド以上、好ましくは２１０
０エルステッド以上にすることができ、大容量、高密度
を達成できる。超平滑化については支持体の中心面表面
粗さを好ましくは４．０ｎｍ以下にすることにより、ま
たＡＴＯＭＭ構成により平滑な磁性層が得られ、好まし
くは磁性層の中心面表面粗さを好ましくは４．０ｎｍ以
下にすることにより、大容量、高密度を達成できる。次
に上記複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改
良、高硬度研磨剤使用による耐久性確保について述べ
る。まず複合潤滑剤については潤滑能力を高めるための
基本的な考え方は次の通りである。 （１）機能・性能の異なる複数の潤滑剤を組み合わせて
使用する。 （２）機能・性能の類似した複数の潤滑剤を組み合わせ
て使用する。 上記（１）により、幅広い条件下での、幅広い機能・性
能を達成できる。また上記（２）により潤滑剤同士の親
和性・相溶性が確保され、スム−スな潤滑機能の発揮が
できる。上記（１）の機能・性能の異なる複数の潤滑剤
を組み合わせの例を挙げると以下のようになる。

【００３３】１）流体潤滑機能を示す潤滑剤と境界潤滑
機能を示す潤滑剤を組み合わせて使用する。 ２）極性潤滑剤と非極性潤滑剤を組み合わせて使用す
る。 ３）液体潤滑剤と固体潤滑剤を組み合わせて使用する。 ４）極性の異なる潤滑剤、特に脂肪酸及び／又は脂肪酸
エステルを組み合わせて使用する。例えば脂肪酸エステ
ルのモノエステルとジエステルを組み合わせて使用す
る。

【００３４】５）融点や沸点の異なる潤滑剤、特に脂肪
酸及び／又は脂肪酸エステルを組み合わせて使用する。 ６）炭素数の長さの異なる潤滑剤、特に脂肪酸及び／又
は脂肪酸エステルを組み合わせて使用する。 ７）直鎖と分岐の潤滑剤、特に脂肪酸及び／又は脂肪酸
エステルを組み合わせて使用する。例えば直鎖脂肪酸エ
ステルと分岐脂肪酸エステルを組み合わせて使用する。

【００３５】８）飽和と不飽和の炭素鎖の潤滑剤、特に
脂肪酸及び／又は脂肪酸エステルを組み合わせて使用す
る。例えば飽和脂肪酸エステルと不飽和脂肪酸エステル
を組み合わせて使用する。 ９）結合剤との親和性の異なる潤滑剤を組み合わせて使
用する。 １０）無機粉末との親和性の異なる潤滑剤を組み合わせ
て使用する。

【００３６】このような上記（１）のそれぞれの潤滑剤
の組み合わせにより、幅広い条件下での、幅広い機能・
性能を達成できる。上記（２）の機能・性能の類似する
複数の潤滑剤を組み合わせの例を挙げると以下のように
なる。 １）脂肪酸と脂肪酸エステルの脂肪酸残基同士を同一に
する。

【００３７】２）脂肪酸エステルの脂肪酸残基同士、及
び／又はアルコ−ル残基同士が同一な脂肪酸エステルを
組み合わせて使用する ３）２種以上の飽和脂肪酸を組み合わせて使用する。 ４）脂肪酸と脂肪酸エステルの脂肪酸残基部分に飽和脂
肪酸同士を使用する。 ５）脂肪酸と脂肪酸エステルの脂肪酸残基部分に不飽和
脂肪酸同士を使用する。

【００３８】６）３種類以上の脂肪酸エステルのみを組
み合わせて使用する。 ７）脂肪酸と脂肪酸アミドの脂肪酸部分同士を同一にす
る。 上記（２）の潤滑剤の組み合わせにより潤滑剤同士の親
和性・相溶性が確保され、良好な潤滑機能の発揮ができ
る。上記（１）の潤滑剤と（２）の潤滑剤は種々組み合
わせて使用することにより、幅広い条件下での、幅広い
機能・性能を達成できるとともに、潤滑剤同士の親和性
・相溶性が確保され、良好な潤滑機能の発揮ができる。

【００３９】つぎに高耐久性結合剤について述べる。極
性基を有することにより分散性能の高く、ガラス転移温
度が高く、破断応力の高いことにより耐久性の高い結合
剤、特にポリウレタン樹脂を用いることにより耐久性を
向上できる。またポリウレタンの分子末端に２個以上の
ＯＨ基を有することが好ましく、特に分子末端に３個以
上、特に４個以上のＯＨ基を有することが、多官能硬化
剤である、ポリイソシアネ−トとの反応性が高く、硬化
して３次元網目状の塗膜を形成できるので好ましい。つ
ぎに強磁性粉末の改良については強磁性粉末の硬度を大
きくできる、Ａｌ成分を増加させることにより耐久性を
向上できる。さらに高硬度研磨剤使用による耐久性確保
について述べる。従来の研磨剤例えばαアルミナのよう
なモ−ス硬度９程度の研磨剤だけではなく、モ−ス硬度
１０の微粒子のダイアモンドを組み合わせて使用するこ
とにより、更に耐久性を確保できる。次にの磁性層の
超薄層化と下層との界面の変動減について述べる。磁性
層を好ましくは０．０５〜０．３０μｍ、更に好ましく
は０．０５〜０．２５μｍという超薄層化を行い、かつ
下層との界面の変動減を行うことによって、均一・平滑
・薄層の磁性層が得られ、大容量、高密度化が達成され
る。更にの粉体（強磁性粉末、非磁性粉末）の高充填
化について述べる。強磁性粉末、具体的には強磁性金属
粉末は平均長軸長が好ましくは０．１５μｍ以下、更に
好ましくは０．１２μｍ以下であり、強磁性六方晶フェ
ライト粉末は平均板径が０．１０μｍ以下の微粒子の強
磁性粉末を高度に充填することによって、大きいΦｍが
得られ、大容量、高密度化が達成される。非磁性粉末の
高充填化によって耐久性改良が図れる。次にの粉体
（強磁性粉末、非磁性粉末）の超微粒子化について述べ
る。強磁性粉末、具体的には強磁性金属粉末は平均長軸
長が好ましくは０．１５μｍ以下、更に好ましくは０．
１２μｍ以下であり、強磁性六方晶フェライト粉末は好
ましくは、平均板径が０．１２μｍ以下の微粒子の強磁
性粉末を用いること、特に強磁性金属粉末の場合、平均
長軸長が０．１０μｍ以下、針状比が好ましくは４．０
〜９．０、結晶子サイズが好ましくは８０〜１８０Åと
いう超微粒子化によって、高充填、磁性層の超平滑化が
達成され、大容量・高密度化が図れる。次にのヘッド
タッチの安定化について述べる。磁気記録媒体全体の適
度な強度、しなやかさ、平滑性によってヘッドタッチの
安定化が図れ、高速走行・高速回転によっても安定に大
容量・高密度化が図れる。次にの寸法安定性とサーボ
について述べる。例えば支持体の面内各方向に対し、１
００℃３０分での熱収縮率及び８０℃３０分での熱収縮
率が共に０．５％以下であること、支持体の面内各方向
に対し、温度膨張係数が１０^-4〜１０^-8／℃であること
などにより、寸法安定性が図れ、高速走行・高速回転に
よっても安定に大容量・高密度化が図れる。同様にの
磁性層、支持体の熱収縮率改良も図れる。またの高
温、低温での潤滑剤の作用については前述の種々の潤滑
剤を一定の考え方の基に選択、組み合わせることによ
り、高温と低温のいずれでも、良好な潤滑性能が得られ
る。

【００４０】マルチメデイア化が進むパソコンの分野で
はこれまでのフロッピーデイスクに代わる大容量の記録
メデイアが注目され始め、米国ＩＯＭＥＧＡ（アイオメ
ガ）社からＺＩＰデイスクとして販売された。これは本
件出願人が開発したＡＴＯＭＭ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓ
ｕｐｅｒ Ｔｈｉｎ Ｌａｙｅｒ ＆ Ｈｉｇｈ Ｏｕ
ｔｐｕｔ Ｍｅｔａｌ Ｍｅｄｉａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏ
ｇｙ）を用いた下層と薄層磁性層を有する記録媒体であ
り、3.7インチで１００ＭＢ以上の記録容量を持った製
品が販売されている。１００〜１２０ＭＢの容量はＭＯ
（3.5インチ）とほぼ同じ容量であり、１枚で新聞記事
なら７〜８月分収まるものである。データ（情報）の書
き込み・読み出し時間を示す転送レートは、１秒当たり
２ＭＢ以上とハードデイスク並であり、これまでのＦＤ
の２０倍、ＭＯの２倍以上の早さを有し非常に大きな利
点を持つ。さらに下層と薄層磁性層を有するこの記録媒
体は現在のＦＤと同じ塗布型メデイアで大量生産が可能
であり、ＭＯやハードデイスクに比べて低価格で有ると
いうメリットを有する。

【００４１】本発明者らは、この様な媒体の知見をもと
に鋭意研究を行った結果、前記ＺＩＰデイスクやＭＯ
（3.5インチ）よりも格段に記録容量の大きい面記録密
度が０．１７〜２Ｇbit/inch²、好ましくは０．２〜２
Ｇbit/inch² 更には面記録密度が０．３５〜２Ｇbit/in
ch²であって、好ましくはΦｍが１０．０×１０^-3〜
１．０×１０^-3emu/cm² であり、特にΦｍが８．０×１
０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² というかって世の中に知
られた製品では達成されたことのない大容量で高密度特
性と優れた耐久性を併せ持ち特に高密度記録領域でのエ
ラーレートが格段に改良された磁気記録媒体、特にディ
スク状磁気記録媒体が得られたものであり、これは磁気
テープ例えばコンピューターテープにも適用できる発明
である。

【００４２】本発明の磁気記録媒体は超薄層の磁性層に
高出力、高分散性に優れた超微粒子の強磁性粉末を含
み、下層に球状又は針状などの無機粉末を含み、磁性層
を薄くすることで磁性層内の磁力相殺を低減し、高周波
領域での出力を大幅に高め、更に重ね書き特性も向上さ
せたものである。磁気ヘッドの改良により、狭ギャップ
ヘッドとの組合せにより超薄層磁性層の効果が一層発揮
でき、デジタル記録特性の向上が図れる。

【００４３】上層磁性層の厚みは高密度記録の磁気記録
方式や磁気ヘッドから要求される性能にマッチするよう
に好ましくは０．０５〜０．３０μｍであり、更に好ま
しくは０．０５〜０．２５μｍの薄層に選択される。均
一でかつ薄層にしたこのような超薄層磁性層は微粒子の
磁性粉や非磁性粉を分散剤の使用と分散性の高い結合剤
の組み合わせにより高度に分散させ、高充填化を図っ
た。使用される磁性体は大容量ＦＤやコンピューターテ
ープの適性を最大限に引き出すために、高出力、高分散
性、高ランダマイズ性に優れた磁性体を使用している。
即ち非常に微粒子で且つ高出力を達成できる平均長軸長
が、好ましくは０．１２μｍ以下の強磁性金属粉末また
は平均板径が好ましくは０．１０μｍ以下の強磁性六方
晶フェライト粉末を用いることで、特に平均長軸長が
０．１０μｍ以下で、結晶子サイズが８０〜１８０Åで
ある強磁性金属粉末を用いることにより、更にＣｏを多
く含み、焼結防止剤としてＡｌ、Ｓｉ、Ｙ、Ｎｄなどを
含むことにより高出力、高耐久性が達成できる。高転送
レートを実現するために超薄層磁性層に適した３次元ネ
ットワークバインダーシステムを用い、高速回転時にお
ける走行の安定性、耐久性を確保している。また広範囲
な温湿度条件下での使用や高速回転使用時でも、その効
力を維持できる複合潤滑剤を上下２層に配し、更に下層
には潤滑剤のタンクとしての役割を持たせ、上層磁性層
に常に適量の潤滑剤を供給できるようにし、上層磁性層
の耐久性を高め、信頼性を向上させることができる。ま
た下層のクッション効果は良好なヘッドタッチと安定し
た走行性をもたらすことができる。

【００４４】大容量記録システムでは高転送レートが求
められる。例えばＺｉｐでは転送速度が１．４ＭＢ／秒
であり、ＨｉＦＤでは最大３．６ＭＢ／秒である。この
ためには磁気デイスクの回転数を、従来のＦＤシステム
に比べて１桁以上上げる必要がある。具体的には磁気デ
イスク回転数は１８００ｒｐｍ以上が好ましく、３００
０ｒｐｍ以上が更に好ましい。例えばＺｉｐでは磁気デ
イスク回転数は２９６８ｒｐｍであり、ＨｉＦＤでは磁
気デイスク回転数は３６００ｒｐｍである。また別のシ
ステムでは記録容量が６５０ＭＢ（０．６５ＧＢ）では
磁気デイスク回転数は５４００ｒｐｍ、転送速度は７．
５ＭＢ／秒と予測されている。磁気記録の大容量化／高
密度化に伴い、記録トラック密度が向上する。一般には
媒体上にサーボ記録エリアを設け、記録トラックに対す
る磁気ヘッドのトレーサビリテイ確保を図っている。本
発明の磁気記録媒体では支持体として等方的寸度安定性
を高めた支持体を使用することが好ましく、トレーサビ
リテイの一層の安定化を図ることができる。そして超平
滑な支持体を用いることによって、磁性層の平滑性を更
に向上できる。

【００４５】デイスク形態の磁気記録の高密度化には、
線記録密度とトラック密度の向上が必要である。このう
ちトラック密度の向上には、支持体の特性が重要であ
る。本発明の媒体では支持体の寸度安定性、特に等方性
に配慮している。高トラック密度における記録再生で
は、サーボ記録は不可欠な技術であるが、支持体を出来
るだけ等方化することで媒体サイドからもこの改良が図
れる。

【００４６】本発明は磁性層を単層からＡＴＯＭＭ構成
にするメリットは次のように考えられる。 （１）磁性層の薄層構造化による電磁変換特性の向上 （２）潤滑剤の安定供給による耐久性の向上 （３）上層磁性層の平滑化による高出力 （４）磁性層の機能分離による要求機能付与が容易 これらの機能は、単に磁性層を重層化するだけでは達成
できない。重層構造を構成するには、層を順次構成する
「逐次重層方式」が一般的である。この方式は先ず、下
層を塗布し、硬化、又は乾燥させた後、上層磁性層を同
様に塗布し、硬化、表面処理を行う。ＦＤは磁気テープ
と異なり、両面に同様な処理を施す。塗布工程後スリッ
ト工程、パンチ工程、シェル組み込み工程、サーテファ
イ工程を経て最終製品として完成する。生産得率の点か
らは、下層が未だ湿潤状態の内に、上層磁性層を塗布す
る同時、又は逐次湿潤塗布が好ましい。

【００４７】磁性層薄層構造化により以下のような電磁
変換特性の大幅な向上が出来る。 （１）記録減磁時特性の改良による高周波領域での出力
向上 （２）重ね書き（オーバーライト）特性の改良 （３）ウインドウマージンの確保 耐久性は磁気デイスクにとって重要な要素である。特に
高転送レートを実現するために磁気デイスクの回転数
を、従来のＦＤシステムに比べて１桁以上上げる必要が
あり、磁気ヘッド／カートリッジ内部品と媒体とが高速
摺動する場合の媒体耐久性の確保は重要な課題である。
媒体の耐久性を向上させる手段には、デイスク自身の膜
強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドとの滑り性
を維持する潤滑剤処方がある。本発明の媒体ではバイン
ダー処方に現行のＦＤシステムで実績のある３次元ネッ
トワークバインダーシステムを改良している。

【００４８】潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿
度（低湿、高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。また上下２層の構造を活用し、下層に潤滑剤のタ
ンク効果を持たせることで上層磁性層に常に適量の潤滑
剤が供給されるようにし、上層磁性層の耐久性を向上で
きる。超薄層の磁性層に含ませることが出来る潤滑剤量
には限度があり、単純に磁性層をうすくすることは潤滑
剤の絶対量が減少し、走行耐久性の劣化につながる。こ
の場合、両者のバランスを得ることは困難であった。上
下２層に別々の機能を持たせ、互いに補完することで電
磁変換特性の向上と耐久性の向上を両立させた。この機
能分化は磁気ヘッドとメデイアを高速摺動させるシステ
ムでは特に有効であった。

【００４９】下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充
填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層に
なるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材
料を加えることによってこれらの欠点を除くことができ
る。

【００５０】マルチメデイア社会になり、画像記録への
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能／コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。

【００５１】本発明は以上のような種々の要因を積み重
ね、相乗的、有機的に作用させ、初めて達成されるもの
であると同時に前述の全ての技術を取捨選択して組み合
わせ、総合することによって得られた磁気記録媒体は例
えば、ソニ−（株）と富士フィルム（株）の共同開発し
たＨｉＦＤに適用できる能力を持つものである。ＨｉＦ
Ｄは近年のパ−ソナルコンピュ−タ−の処理能力の急速
な発達や、扱う情報量の大幅な増大に伴い、大容量且つ
高速なデ−タ転送速度を備えたより高性能な新しいデ−
タ記録システムに対する要望と、一方現在の３．５型フ
ロッピ−デイスクは手軽に使える記録メデイアとして世
界中に普及しており、これらのデイスクを今後も利用
し、蓄積された膨大なデ−タを読み出して再利用できる
新システムとして開発されたものである。３．５型フロ
ッピ−デイスク「ＨｉＦＤ」は２００ＭＢの大容量、
３．６ＭＢ／ｓｅｃの高速転送速度の、現行の３．５型
フロッピ−デイスクとの記録・再生が可能な下位互換を
実現できる、次世代の大容量フロッピ−デイスクシステ
ムである。新たに開発した超薄層塗布型メタルデイスク
と、高密度記録用の狭いギャップと現行の３．５型フロ
ッピ−デイスク用の広いギャップの両方を備えたデユア
ルデイスクリ−トギャップヘッドの採用により２００Ｍ
Ｂの大容量が実現でき、画像や音声のような大容量のデ
−タファイルを容易に取り扱うことができるものであ
る。また高い線記録密度と３６００ｒｐｍの高速デイス
ク回転により、従来の３．５型フロッピ−デイスク（２
ＨＤ）の転送速度が約０．０６ＭＢ／ｓｅｃに対し、最
大３．６ＭＢ／ｓｅｃの高速転送速度を実現したもので
ある。これは従来に比べ約６０倍の高速処理を可能とす
るものである。またデユアルデイスクリ−トギャップヘ
ッドをハ−ドデイスクと同様なデイスクの回転によりヘ
ッドが浮上するため、記録・再生時にヘッドが接触しな
いため、高寿命・高信頼性のある浮上型にし、同時にヘ
ッドの駆動にはリニアタイプのボイスコイルモ−タ−を
用いることにより高速ランダムアクセスを従来の３．５
型フロッピ−デイスクドライブに比べ、３〜４倍程度の
高速化を可能にしている。またデユアルデイスクリ−ト
ギャップヘッドにより、現行の３．５型フロッピ−デイ
スクとの記録・再生が可能な下位互換を実現している。
さらにヘッドロ−デイングをソフトに行う新機構を組み
込むことにより、デイスクの磨耗を低減することがで
き、更にエラ−訂正機能の搭載により高い信頼性を確保
するものである。このような２００ＭＢの大容量、３．
６ＭＢ／ｓｅｃの高速転送速度の、現行の３．５型フロ
ッピ−デイスクとの記録・再生が可能な下位互換を実現
した、次世代の大容量フロッピ−デイスクシステムに本
発明の磁気記録媒体は適用できるように開発されたもの
である。

【００５２】

【発明の実施の形態】

［磁性層］本発明の磁気記録媒体は下層と超薄層磁性層
を支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層
は下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、
下層が乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも下層上に上層磁性層
を設けることが出来る。生産得率の点から同時、又は逐
次湿潤塗布が好ましいが、ディスクの場合は乾燥後塗布
も十分使用できる。本発明の重層構成で同時、又は逐次
湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成できる
ため、、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活
用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化でき
る。磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は１８００エルステッド以
上であることが必要であり、強磁性金属粉末では最大磁
束密度（Ｂｍ）は２０００〜５０００ガウス（Ｇ）、バ
リウムフェライト粉末では１０００〜３０００Ｇで有る
ことが好ましい。

【００５３】［強磁性金属粉末］本発明の上層磁性層に
使用する強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅを主成分と
する強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉
末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかま
わない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎ
ｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に
含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つ
を含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対
して０原子％以上４０原子％以下が好ましく、さらに好
ましくは１５原子％以上３５原子％以下、より好ましく
は２０原子％以上３５原子％以下である。Ｙの含有量は
１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、さらに好
ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましくは
４原子％以上９原子％以下である。Ａｌは１．５原子％
以上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原
子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上
９原子％以下である。これらの強磁性金属粉末にはあと
で述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤など
で分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体
的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８
３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２
２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−
３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−
１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７
−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３
９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特
許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１０
０１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号
などに記載されている。

【００５４】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシ
ュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸
化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦ
ｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を
熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナ
トリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元
剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中
で蒸発させて粉末を得る方法などである。このようにし
て得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわ
ち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に
浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を
形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガ
スと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成
する方法のいずれを施したものでも用いることができ
る。

【００５５】本発明の磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ² ／ｇであり、
好ましくは５０〜７０ｍ² ／ｇである。４５ｍ² ／ｇ未
満ではノイズが高くなり、８０ｍ² ／ｇを越えると表面
性が得にくくなる傾向にあり、好ましくない。本発明の
磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは好ましくは８０〜
１８０Åであり、更に好ましくは１００〜１８０Å、特
に好ましくは１１０〜１７５Åである。強磁性金属粉末
の平均長軸長は、好ましくは０．０３μm以上０．１２
μm以下であり、さらに好ましくは０．０３μm以上０．
１０μm以下である。強磁性金属粉末の針状比は、好ま
しくは４．０〜９．０である。強磁性金属粉末の飽和磁
化（σs ）は通常、１００〜１８０emu/gであり、好ま
しくは１１０emu/g 〜１７０emu/g 、更に好ましくは１
２５〜１６０emu/g である。強磁性粉末の抗磁力は１７
００エルステッド以上３５００エルステッド以下が好ま
しく、更に好ましくは１，８００エルステッド以上３０
００エルステッド以下である。

【００５６】強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２重
量％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性
金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金
属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化
することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好
ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要に応
じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処
理が施されてもかまわない。その量は強磁性金属粉末に
対し０．１〜１０重量％であり表面処理を施すと脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ² 以下になり好ま
しい。強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、
Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これら
無機イオンは、本質的に無い方が好ましいが、２００pp
m以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少な
いほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ま
しくは５容量％以下である。また形状については針状、
米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉
末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好
ましい。強磁性金属粉末のＨｃの分布を小さくする必要
がある。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特
性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープで
ピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に
好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性
金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、
焼結を防止するなどの方法がある。

【００５７】［強磁性六方晶フェライト粉末］本発明の
磁性層に含まれる強磁性六方晶フェライトとしてバリウ
ムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライ
ト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等が
ある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフ
ェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒
子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、
更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型
のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等
が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，
Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａ
ｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，
Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの
原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ
−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−
Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎ
ｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができ
る。原料・製法によっては特有の不純物を含有するもの
もある。

【００５８】強磁性六方晶フェライト粉末の粉体サイズ
は、六角板の最大長径の平均（以下、「平均板径」とい
う）で、好ましくは１０〜１００ｎｍ、更に好ましくは
１０〜８０ｎｍである。

【００５９】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径
は４０nm以下が好ましいが、１０nm未満では熱揺らぎの
ため安定な磁化が望めない。１００nmを越えるとノイズ
が高くなる傾向があり、いずれも高密度磁気記録には向
かない。板状比（平均板径／平均板厚）は１〜１５が望
ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小さいと磁
性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が
得られない。１５より大きいと粒子間のスタッキングに
よりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ
法による比表面積は通常、１０〜２００ｍ² ／ｇを示
す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と
符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好まし
い。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒
子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布
ではない場合が多いが、計算して平均サイズ（平均板径
及び平均板厚）に対する標準偏差で表すとσ／平均サイ
ズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープ
にするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共
に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われて
いる。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解す
る方法等も知られている。強磁性粉末で測定されるＨｃ
は５００エルステッド〜５０００エルステッド程度まで
作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利である
が、記録ヘッドの能力で制限される。本発明ではＨｃは
１７００エルステッドから４０００エルステッド程度で
あるが、好ましくは１８００エルステッド以上、３５０
０エルステッド以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４
テスラを越える場合は、２０００エルステッド以上にす
ることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、
含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応
条件等により制御できる。σｓは４０emu/g〜８０emu/g
である。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小
さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバ
イトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、
含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。
またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。
強磁性粉末を分散する際に強磁性粉末粒子表面を分散溶
媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われてい
る。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用され
る。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物ま
たは水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタン
カップリング剤が代表例である。表面処理材の量は強磁
性粉末に対して０．１〜１０重量％である。強磁性粉末
のｐＨも分散に重要である。通常、ｐＨ４〜１２程度で
分散溶媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学
的安定性、保存性からｐＨ６〜１１程度が選択される。
強磁性粉末に含まれる水分も分散に影響し、分散溶媒、
ポリマーにより最適値があるが通常、水分は強磁性粉末
に対して通常、０．０１〜２．０重量％が選ばれる。六
方晶フェライトの製法としては、酸化バリウム・酸化
鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸
化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合し
た後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理
した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を
得るガラス結晶化法、バリウムフェライト組成金属塩
溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００
℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウム
フェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフェ
ライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を
除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバ
リウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本
発明は製法を選ばない。

【００６０】［非磁性層］次に下層に関する詳細な内容
について説明する。本発明の下層に用いられる無機粉末
は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸
塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化
物、等の無機化合物から選択することができる。無機化
合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、
β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、、ヘマタ
イト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグ
ネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化
ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、
硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合
せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小さ
さ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、
酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましい
のは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら無機粉末の
平均粒子径は０．００５〜２μmが好ましいが、必要に
応じて粒子サイズの異なる無機粉末を組み合わせたり、
単独の無機粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をも
たせることもできる。とりわけ好ましいのは無機粉末の
平均粒子径は０．０１μm〜０．２μmである。特に、無
機粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．
０８μm以下が好ましく、針状無機粉末である場合は、
平均長軸長が、０．２０μm以下が好ましい。タップ密
度は０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５g/ml
である。無機粉末の含水率は０．１〜５重量％、好まし
くは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５
重量％である。無機粉末のｐＨは通常、２〜１１である
が、ｐＨは３〜６の間が特に好ましい。無機粉末の比表
面積は１〜１００m² /g、好ましくは５〜８０m² /g、更
に好ましくは１０〜７０m² /gである。無機粉末の結晶
子サイズは０．００４μm〜１μmが好ましく、０．０４
μm〜０．１μmが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタ
レート）を用いた吸油量は通常、５〜１００ml/100g、
好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜
６０ml/100gである。比重は通常、１〜１２、好ましく
は３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状の
いずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のもの
が好ましい。無機粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は
通常、１〜２０μmol／m² 、好ましくは２〜１５μmol/
m² 、さらに好ましくは３〜８μmol/m² である。これら
の無機粉末の表面は、表面処理が施されて、Ａｌ
₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ ₂ 、Ｓ
ｂ₂ Ｏ₃ 、ＺｎＯ、Ｙ₂ Ｏ₃ が存在するすることが好ま
しい。特に分散性に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、Ｓｉ
Ｏ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂であるが、更に好ましいのは
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂である。これらは組み
合わせて使用しても良いし、単独で用いることもでき
る。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いて
も良いし、先ずアルミナを存在させた後にその表層にシ
リカを存在させる方法、またはその逆の方法を採ること
もできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層に
しても構わないが、均質で密である方が一般には好まし
い。

【００６１】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、アルミナとして住友化学製ＨＩＴ−
１００（平均粒子径0.11μｍ），ＺＡ−Ｇ１、酸化鉄と
して昭和電工製ナノタイト（平均粒子径０．０６μ
ｍ）、酸化鉄として戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−
２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰＮ
−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５５０ＢＸ（平均長軸径０．１
６μｍ、平均短軸径０．０２μｍ、軸比７．４５），Ｄ
ＰＮ−５５０ＲＸ（平均長軸径０．１６μｍ、平均短軸
径０．０２μｍ、軸比７．４５），ＤＰＮ−６５０Ｒ
Ｘ、チタン工業製αヘマタイトα−４０、石原産業製α
ヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０３、
酸化チタンとして石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ
（平均粒子径０．０１〜０．０３μｍ），ＴＴＯ−５５
Ａ（平均粒子径０．０３〜０．０５μｍ），ＴＴＯ−５
５Ｂ（平均粒子径０．０３〜０．０５μｍ），ＴＴＯ−
５５Ｃ（平均粒子径０．０３〜０．０５μｍ），ＴＴＯ
−５５Ｓ（平均粒子径０．０３〜０．０５μｍ），ＴＴ
Ｏ−５５Ｄ（平均粒子径０．０３〜０．０５μｍ），Ｓ
Ｎ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ（平
均粒子径０．０１３μｍ），ＳＴＴ−３０Ｄ（平均粒子
径０．０９μｍ），ＳＴＴ−３０（平均粒子径０．１２
μｍ），ＳＴＴ−６５Ｃ（平均粒子径０．１２μｍ）、
テイカ製酸化チタンＭＴ−１００Ｓ（平均粒子径０．０
１５μｍ），ＭＴ−１００Ｔ（平均粒子径０．０１５μ
ｍ），ＭＴ−１５０Ｗ（平均粒子径０．０１５μｍ），
ＭＴ−５００Ｂ（平均粒子径０．０３５μｍ），ＭＴ−
６００Ｂ（平均粒子径０．０５０μｍ），ＭＴ−１００
Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製酸化亜鉛としてＦＩＮ
ＥＸ−２５（平均粒子径０．５μｍ），堺化学製硫酸バ
リウムとしてＢＦ−１（平均粒子径０．０５μｍ），Ｂ
Ｆ−１０（平均粒子径０．０６μｍ），ＢＦ−２０（平
均粒子径０．０３μｍ），ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦ
ＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、
及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非
磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

【００６２】α−酸化鉄（ヘマタイト）は以下のような
諸条件の基で実施される。即ち、本発明におけるα−Ｆ
ｅ₂ Ｏ₃ 粒子粉末の製造は、針状ゲータイト粒子を前駆
体粒子とする。針状ゲータイト粒子は例えば次のような
方法で製造できる。 第一鉄水溶液に等量以上の水酸化アルカリ水溶液を加
え、水酸化第一鉄コロイドを含むｐＨ１１以上の懸濁液
を調製し、８０℃以下の温度でこれに酸素含有ガスを通
気して第一鉄イオンに酸化反応を行わさせ、針状ゲータ
イト粒子を生成させる方法。

【００６３】第一鉄塩水溶液と炭酸アルカリ水溶液と
を反応させ、得られるＦｅＣＯ₃ を含む懸濁液に酸素含
有ガスを通気して鉄イオンに酸化反応を行わさせ、紡錘
状を呈した針状ゲータイト粒子を生成させる方法。 第一鉄塩水溶液に等量未満の水酸化アルカリ水溶液ま
たは炭酸アルカリ水溶液を添加し、得られる水酸化第一
鉄コロイドを含む第一鉄塩水溶液に酸素含有ガスを通気
して鉄イオンに酸化反応を行わさせ、針状ゲータイト核
粒子を生成する。

【００６４】次いで、該針状ゲータイト核粒子を含む第
一鉄塩水溶液に、該第一鉄塩水溶液中のＦｅ²⁺に対し等
量以上の水酸化アルカリ水溶液を添加し、その後、酸素
含有ガスを通気して前記針状ゲータイト核粒子を成長さ
せる方法。 第一鉄水溶液に等量未満の水酸化アルカリまたは炭
酸アルカリ水溶液を添加して水酸化第一鉄コロイドを含
む第一鉄塩水溶液を調製し、得られた水溶液に酸素含有
ガスを通気して鉄イオンに酸化反応を行わさせ、これに
よって針状ゲータイト核粒子を生成させ、次いで、酸性
乃至中性領域で前記針状ゲータイト核粒子を成長させる
方法。

【００６５】尚、ゲータイト粒子の生成反応中に粒子粉
末の特性向上等の為に通常添加されているＮｉ、Ｚｎ、
Ｐ、Ｓｉ等の異種元素が添加されていても支障はない。
前駆体粒子である針状ゲータイト粒子を２００〜５００
℃の温度範囲で脱水するか、必要に応じて、更に３５０
〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍しをして
針状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子を得る。尚、脱水または焼き鈍
しされる針状ゲータイト粒子の表面にＰ、Ｓｉ、Ｂ、Ｚ
ｒ、Ｓｂ等の焼結防止剤が付着していても支障はない。
３５０〜８００℃の温度範囲で加熱処理により焼き鈍し
をするのは、脱水されて得られた針状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒
子の粒子表面に生じている空孔を焼き鈍しにより、粒子
の極表面を溶融させて空孔をふさいで平滑な表面形態と
させる事が好ましいからである。

【００６６】本発明において用いられるα−Ｆｅ₂ Ｏ₃
粒子粉末は、前記脱水または焼き鈍しをして得られた針
状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子から次のようにして製造する。針
状α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子を水溶液中に分散して懸濁液を得
る。得られた懸濁液にＡｌ化合物を添加し、懸濁液のｐ
Ｈを調整するとともにα−Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子の表面にその
Ａｌ化合物で被覆し、次いで、濾過、水洗、乾燥、粉
砕、必要により更に脱気・圧密処理等を施す。用いられ
るＡｌ化合物は酢酸アルミニウム、硫酸アルミニウム、
塩化アルミニウム、硝酸アルミニウム等のアルミニウム
塩やアルミン酸ソーダ等のアルミン酸アルカリ塩を使用
することができる。この場合のＡｌ化合物添加量はα−
Ｆｅ₂ Ｏ₃ 粒子粉末に対してＡｌ換算で０．０１〜５０
重量％である。０．０１重量％未満である場合には、結
合剤樹脂中における分散が不十分であり、５０重量％を
超える場合には粒子表面に浮遊するＡｌ化合物同士が相
互作用するために好ましくない。本発明における下層の
非磁性粉末においては、Ａｌ化合物とともにＳｉ化合物
を始めとして、Ｐ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｓ
ｎ、Ｓｂから選ばれる化合物の１種または２種以上を用
いて被覆することもできる。Ａｌ化合物とともに用いる
これらの化合物の添加量はそれぞれα−Ｆｅ₂Ｏ₃ 粒子
粉末に対して０．０１〜５０重量％の範囲である。０．
０１重量％未満である場合には添加による分散性向上の
効果が殆どなく、５０重量％を超える場合には、粒子表
面以外に浮遊する化合物同士が相互作用をする為に好ま
しくない。

【００６７】二酸化チタンの製法に関しては以下の通り
である。これらの酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素
法がある。硫酸法はイルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸解
し、Ｔｉ，Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行なって、含水酸化チタンを沈澱させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑不純物を洗浄除去し、粒径
調節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれ
ば粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水
分解の時に添加される核剤の種類によりわけられる。こ
の粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作
成する。塩素法の原鉱石は天然ルチルや合成ルチルが用
いられる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴ
ｉＣｌ₄にＦｅはＦｅＣｌ₂ となり、冷却により固体と
なった酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄と分離される。得られ
た粗ＴｉＣｌ₄ は精留により精製した後、核生成剤を添
加し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応さ
せ、粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した
粗酸化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は
硫酸法と同じである。

【００６８】表面処理は上記酸化チタン素材を乾式粉砕
後、水と分散剤を加え、湿式粉砕、遠心分離により粗粒
分級が行なわれる。その後、微粒スラリーは表面処理槽
に移され、ここで金属水酸化物の表面被覆が行なわれ
る。まず、所定量のＡｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｂ、Ｓ
ｎ、Ｚｎなどの塩類水溶液を加え、これを中和する酸、
またはアルカリを加えて、生成する含水酸化物で酸化チ
タン粒子表面を被覆する。副生する水溶性塩類はデカン
テーション、濾過、洗浄により除去し、最終的にスラリ
ーｐＨを調節して濾過し、純水により洗浄する。洗浄済
みケーキはスプレードライヤーまたはバンドドライヤー
で乾燥される。最後にこの乾燥物はジェットミルで粉砕
され、製品になる。

【００６９】また、水系ばかりでなく酸化チタン粉体に
ＡｌＣｌ₃ 、ＳｉＣｌ₄ の蒸気を通じその後水蒸気を流
入してＡｌ、Ｓｉ表面処理を施すことも可能である。

【００７０】下層にカ−ボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。

【００７１】下層のカ−ボンブラックの比表面積は通
常、１００〜５００m²／ｇ、好ましくは１５０〜４００
m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好まし
くは３０〜４００ml/100gである。カ−ボンブラックの
平均粒子径は好ましくは５〜８０ｎｍ、更に好ましく１
０〜５０ｎｍ、特に好ましくは１０〜４０ｎｍである。
平均粒子径が８０ｎｍより大きいカ−ボンブラックを少
量含んでもかまわない。カ−ボンブラックのｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜
１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラ
ックの具体的な例としてはキャボット社製 ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００（平均粒子径15nm），１４００
（平均粒子径13nm）、１３００（平均粒子径13nm），１
１００（平均粒子径14nm），１０００，９００（平均粒
子径15nm），８００，８８０，７００、Ｌ（平均粒子径
24nm），ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２（平均粒子径30n
m）、Ｐ（平均粒子径19nm）、三菱化成工業社製 ＃３
０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ（平均粒子径30
nm），＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ（平均粒子径16n
m），＃９５０（平均粒子径16nm），＃６５０Ｂ，＃９
７０Ｂ，＃８５０Ｂ（平均粒子径18nm），ＭＡ−６００
（平均粒子径18nm），ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４
０１０、コロンビアンカ−ボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥ
Ｘ ＳＣ（平均粒子径17nm）、ＳＣ−Ｕ（平均粒子径20
nm）、９７５（平均粒子径20nm）、ＲＡＶＥＮ８８００
（平均粒子径13nm），８０００（平均粒子径13nm），７
０００（平均粒子径14nm），５７５０（平均粒子径17n
m），５２５０（平均粒子径19nm），５０００（平均粒
子径12nm）、３５００（平均粒子径16nm），２１００
（平均粒子径17nm），２０００（平均粒子径18nm），１
８００（平均粒子径18nm），１５００（平均粒子径18n
m），１２５５（平均粒子径23nm），１２５０（平均粒
子径21nm），１０３５（平均粒子径27nm）、アクゾー社
製ケッチェンブラックＥＣ（平均粒子径30nm）、旭カ−
ボンブラック社製 ＃８０（平均粒子径20nm）、＃７０
（平均粒子径27nm）、＃６０（平均粒子径49nm）、＃５
５（平均粒子径68nm）、アサヒサ−マル（平均粒子径72
nm）などがあげられる。下層に用いられる平均粒子径が
８０ｎｍより大きいカ−ボンブラックとしては旭カ−ボ
ンブラック社製 ＃５０（平均粒子径94nm）、＃３５
（平均粒子径82nm）などが挙げられる。カ−ボンブラッ
クを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化し
て使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを
使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは上記無機粉末に対して
５０重量％を越えない範囲、非磁性層総重量の４０％を
越えない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラック
は単独、または組合せで使用することができる。本発明
で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラ
ック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。

【００７２】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００７３】［結合剤］本発明の磁性層と非磁性層、あ
るいはバック層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は、互いに磁性層、非磁性
層、バック層の公知技術が適宜適用できる。特に、バイ
ンダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関し
ては磁性層に関する公知技術が適宜適用できる。

【００７４】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０
００〜２００,０００、好ましくは１０,０００〜１０
０,０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。

【００７５】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。

【００７６】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺Ｒ₃ （Ｒ
は炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、などか
ら選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合また
は付加反応で導入したものを用いることが好ましい。こ
のような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好
ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。これら極性基以
外にポリウレタン分子末端に少なくとも１個ずつ、合計
２個以上のＯＨ基を有することが好ましい。ＯＨ基は硬
化剤であるポリイソシアネ−トと架橋して３次元の網状
構造を形成するので、分子中に多数含むほど好ましい。
特にＯＨ基は分子末端にある方が硬化剤との反応性が高
いので好ましい。ポリウレタンは分子末端にＯＨ基を３
個以上有することが好ましく、４個以上有することが特
に好ましい。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応
力は０．０５〜１０Kg/mm² 、降伏点は０．０５〜１０K
g/m m²が好ましい。このような物性を有することによ
り、好ましくはデイスク回転数が１８００ｒｐｍ以上、
更に好ましくはデイスク回転数が３０００ｒｐｍ以上の
高速回転数でも良好な機械的特性を有する塗膜が得られ
る。

【００７７】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としては塩化ビニル系共重合体としてユニオンカ
−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧ
Ｆ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣ
Ｃ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨ
Ｃ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰ
Ｒ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ
−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｏ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，Ｄ
Ｘ８２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−
１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ
５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、ポリウレタン樹脂として
日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０
２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５
１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ
−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７
２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３０
０、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精
化社製ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ダイフェラミン
４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，
９０２２、７０２０，三菱化成社製ポリウレタン、ＭＸ
５００４，三洋化成社製ポリウレタン、サンプレンＳＰ
−１５０、旭化成社製ポリウレタン、サランＦ３１０，
Ｆ２１０などが挙げられる。

【００７８】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０重
量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用い
られる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量
％、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０重量
％、ポリイソシアネ−トは２〜２０重量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。

【００７９】本発明の磁気記録媒体は少なくとも二層か
らなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニ
ル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あ
るいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性
などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはも
ちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、
多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各
層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を
減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが
有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にする
ためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を
持たせることができる。

【００８０】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ，ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ，デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００８１】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカ−ボンブラックはゴム用ファ−ネ
ス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００
ｇ、平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０重量％、タップ密度は０．１
〜１ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカ−ボン
ブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡ
ＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００（平均粒子径15nm）、１３
００（平均粒子径13nm）、１０００（平均粒子径16n
m）、９００（平均粒子径15nm）、９０５、８００（平
均粒子径17nm），７００（平均粒子径18nm）、ＶＵＬＣ
ＡＮ ＸＣ−７２（平均粒子径30nm）、ＳＴＥＲＬＩＮ
Ｇ ＦＴ（平均粒子径180nm）、旭カ−ボン社製、＃８
０（平均粒子径20nm）、＃６０（平均粒子径49nm），＃
５５（平均粒子径68nm）、＃５０（平均粒子径94nm）、
＃３５（平均粒子径94nm）、三菱化成工業社製、＃２４
００Ｂ（平均粒子径15nm）、＃２３００（平均粒子径15
nm）、＃９００（平均粒子径16nm），＃１０００（平均
粒子径18nm）、＃３０（平均粒子径30nm），＃４０（平
均粒子径20nm）、＃１０Ｂ（平均粒子径84nm）、コロン
ビアンカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ（平均
粒子径17nm）、ＲＡＶＥＮ １５０（平均粒子径18n
m）、５０（平均粒子径21nm），４０（平均粒子径24n
m），１５（平均粒子径27nm）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ
（平均粒子径２７５ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐビ−
ズ（平均粒子径330nm）、日本ＥＣ社製、ケッチェンブ
ラックＥＣ４０（平均粒子径30nm）、カーンカルブ社
製、サーマルブラック（平均粒子径２７０ｎｍ）、など
があげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処
理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一
部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。
また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボ
ンブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カ−ボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の０．１〜３０重量％で用いることが好ましい。カ−
ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光
性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いる
カ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用さ
れるこれらのカ−ボンブラックは上層、下層でその種
類、量、組合せを変え、粒子径、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべ
きものである。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブ
ラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラ
ック協会編を参考にすることができる。

【００８２】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカ−
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の平均粒子径は好
ましくは０．０１〜０．４μｍ、特に０．０１〜０．３
μｍが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、
その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上さ
せるには必要に応じて粒子径の異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２g/cc、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表
面積は１〜３０m²/gが好ましい。本発明に用いられる研
磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良
いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ま
しい。具体的にはα−アルミナの例として住友化学社製
ＡＫＰ−１２（平均粒子径0.50μｍ）、ＡＫＰ−１５
（平均粒子径0.45μｍ）、ＡＫＰ−２０（平均粒子径0.
39μｍ）、ＡＫＰ−３０（平均粒子径0.23μｍ）、ＡＫ
Ｐ−５０（平均粒子径0.16μｍ）、ＨＩＴ−２０、ＨＩ
Ｔ−３０、ＨＩＴ−５５（平均粒子径0.20μｍ）、ＨＩ
Ｔ−６０、ＨＩＴ−７０（平均粒子径0.15μｍ）、ＨＩ
Ｔ−８０、ＨＩＴ−１００（平均粒子径0.11μｍ）、レ
イノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ（平均粒子径0.22μ
ｍ）、ＨＰ−ＤＢＭ（平均粒子径0.22μｍ）、ＨＰＳ−
ＤＢＭ（平均粒子径0.19μｍ）、不二見研磨剤社製、Ｗ
Ａ１００００（平均粒子径0.29μｍ）、上村工業社製、
ＵＢ２０（平均粒子径0.13μｍ）、酸化クロムの例とし
て日本化学工業社製、Ｇ−５（平均粒子径0.32μｍ）、
クロメックスＵ２（平均粒子径0.18μｍ）、クロメック
スＵ１（平均粒子径0.17μｍ）、α−酸化鉄の例として
戸田工業社製、ＴＦ１００（平均粒子径0.14μｍ）、Ｔ
Ｆ１４０（平均粒子径0.17μｍ）、炭化ケイ素の例とし
てイビデン社製、ベータランダムウルトラファイン（平
均粒子径0.16μｍ）、二酸化珪素の例として昭和鉱業社
製、Ｂ−３（平均粒子径0.17μｍ）などが挙げられる。
これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することも
できる。非磁性層に添加することで表面形状を制御した
り、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。
これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量は
むろん最適値に設定すべきものである。

【００８３】また回転数が１８００rpm以上、特に３０
００rpm以上の大容量ＦＤの場合は、研磨剤として微粒
子ダイアモンドを使用することが好ましい。本発明に使
用し得るダイアモンド微粒子は、平均粒子径が好ましく
は０．０１〜１．０μｍで、更に好ましくは０．１０〜
０．８μｍである。平均粒子径が０．０１μｍ未満では
添加量に対する耐久性向上の効果が低くなる。１．０μ
ｍより大きいと耐久性は優れるもののノイズが高くな
り、本発明の目的は達成され難くなる。

【００８４】本発明においては、各ダイアモンド微粒子
の最大径をもって粒径とし、平均粒子径とは電子顕微鏡
から無作為に抽出される５００ケの粒子の測定値の平均
値を指す。ダイアモンド微粒子の添加量は、強磁性粉末
に対して通常、０．０１〜５重量％、好ましくは０．０
３〜３．００重量％の範囲である。０．０１重量％未満
では、耐久性の確保が困難になり、５重量％を越えると
ダイアモンド添加によるノイズ低減効果が少なくなる。

【００８５】ノイズ、耐久性の観点からダイアモンド微
粒子の添加量及び平均粒子径は、上記範囲に規定される
が、ノイズの観点からは、ダイアモンドの添加量はでき
るだけ少ない方が好ましく、本発明の磁気記録媒体は、
磁気記録再生装置にあったダイアモンドの添加量、その
平均粒径を上記範囲から適宜選定することが好ましい。

【００８６】また、ダイアモンド微粒子の粒度分布とし
ては、粒子径が平均粒子径の２００％以上の粒子個数が
ダイアモンド全個数中の５％以下であり、粒子径が平均
粒子径の５０％以下の粒子個数がダイアモンド全個数中
の２０％以下であることが好ましい。本発明に使用され
るダイアモンド微粒子の粒子径の最大値は、３．００μ
ｍ、好ましくは２．００μｍ程度であり、その最小径は
０．０１μｍ、好ましくは０．０２μｍ程度である。

【００８７】粒度分布の測定は、上記の粒子径の測定の
際に平均粒子径を基準にその個数を計数して求める。ダ
イアモンド微粒子は、その粒度分布も耐久性とノイズに
影響する。粒度分布が上記範囲より広いと前述したよう
に本発明において設定した平均粒子径に相当する効果が
ずれる。即ち、粒子径が大きすぎるものが多いとノイズ
を増大させたり、ヘッドを傷つけたりする。また、微小
なものが多いと研磨効果が不充分となる。また、極端に
粒度分布の狭いものはダイアモンド微粒子の価格が高く
なり、上記範囲とすることがコスト的にも有利である。

【００８８】更に、本発明はダイアモンド微粒子に、従
来使用されている研磨剤、例えば、アルミナ研磨剤と併
用することもできる。耐久性とＳＮ比への効果は、少量
のダイアモンド微粒子のみの方が良好だが、コスト他の
理由でアルミナを磁性体に対して好ましくは１〜３０重
量％、更に好ましくは３〜２５重量％加えることもでき
る。この場合もダイアモンド微粒子を含むためにアルミ
ナ単独で耐久性に必要な添加量よりもかなり減量するこ
とができ、耐久性の確保及びノイズの低減の観点からも
好ましい。

【００８９】ミクロンサイズダイアモンドパウダ−の製
法としては静的高圧法、爆発法、気相法の三つが
ある。の静的高圧法は始めに数１０μｍより大きい結
晶を造り、その結晶を粉砕してサブミクロンまでのダイ
アモンド微粉を造る。の爆発法は火薬を爆発させるこ
とによって発生する衝撃波で超高圧を発生させ、黒煙を
ダイアモンドに変換させる方法である。この方法で造ら
れるダイアモンドは一次粒子が２０Åとも５０Åともい
われる多結晶体のダイアモンドである。の気相法は炭
化水素のような炭素を含む気体状の化合物を水素ガスと
共に常圧以下の密閉容器に送り込み、プラズマ等によっ
て高温ゾ−ンを形成させ、原料化合物を分解させて、Ｓ
ｉやＭｏの様な基板上にダイヤモンドを析出させる方法
である。

【００９０】ダイアモンド微粒子の具体例としてはラン
ズス−パ−アブレッシブ社（LANDSSuperabrasives, C
o）のＬＳ６００Ｆ、ＬＳ６００Ｔ、ＬＳ６００Ｆコ−
ト品（ニッケル３０重量％または５６重量％コ−ト品）、Ｌ
Ｓ−ＮＰＭ、ＢＮ２６００、などがある。これらは０〜
１００μｍの任意のサイズのダイアモンド微粒子が得ら
れ、好ましい。その他、東名ダイヤモンド工業社のＩＲ
Ｍ ０−１／４（平均粒子径０．１２μｍ）、ＩＲＭ
０−１（平均粒子径０．６０μｍ）などが使用できる。

【００９１】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用され、組み合
わせることにより総合的な性能向上が図れる。潤滑効果
を示すものとしては物質の表面同士の摩擦の際、生じる
凝着を著しく低減させる作用を示す潤滑剤が使用され
る。潤滑剤には２つの型のものがある。磁気記録媒体に
使用される潤滑剤は完全に流体潤滑か境界潤滑であるか
判定することはできないが、一般的概念で分類すれば流
体潤滑を示す脂肪酸エステル、流動パラフィン、シリコ
ン誘導体などや境界潤滑を示す脂肪酸、フッ素系界面活
性剤、含フッ素系高分子などに分類される。塗布型媒体
では潤滑剤は結合剤に溶解した状態また一部は強磁性粉
末表面に吸着した状態で存在するものであり、磁性層表
面に潤滑剤が移行してくるが、その移行速度は結合剤と
潤滑剤との相溶性の良否によって決まる。結合剤と潤滑
剤との相溶性が高いときは移行速度が小さく、相溶性の
低いときには早くなる。相溶性の良否に対する一つの考
え方として両者の溶解パラメ−タ−の比較がある。流体
潤滑には非極性潤滑剤が有効であり、境界潤滑には極性
潤滑剤が有効である。本発明においてはこれら特性の異
なる流体潤滑を示す脂肪酸エステルと境界潤滑を示す脂
肪酸とを合わせて、少なくとも３種組み合わせることに
より、大容量、高密度、高耐久性を発揮することができ
るのである。これらに組み合わせて固体潤滑剤を使用す
ることもできる。

【００９２】固体潤滑剤としては例えば二硫化モリブデ
ン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フ
ッ化黒鉛などが使用される。境界潤滑を示す脂肪酸とし
ては、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、およ
び、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）が挙
げられる。フッ素系界面活性剤、含フッ素系高分子とし
てはフッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フ
ッ素含有エステル、フッ素含有アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩などが挙げられる。流体潤滑を
示す脂肪酸エステルとしては、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、
四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽和結
合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とから
なるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたは
トリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノ
アルキルエ−テルの脂肪酸エステルなどが挙げられる。
また流動パラフィン、そしてシリコン誘導体としてジア
ルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）、
ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭素数１〜
４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン
（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素数１〜
４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリ
シロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などのシリコ
−ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリ
コ−ン、フッ素含有シリコ−ンなどが挙げられる。

【００９３】その他の潤滑剤として炭素数１２〜２２の
一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、フッ素
含有アルコ−ルなどのアルコ−ル、ポリエチレンワック
ス、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチレング
リコ−ル、ポリエチレンオキシドワックスなどのポリグ
リコ−ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金
属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、ポリフェニルエ−テル、炭素数８〜２２の脂肪酸ア
ミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミンなどが挙げられ
る。帯電防止効果、分散効果、可塑効果などを示すもの
としてフェニルホスホン酸、具体的には日産化学（株）
社の「ＰＰＡ」など、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、
ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェ
ニルホスフィン酸等の燐化合物、アミノキノン類、各種
シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素
含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
などが使用できる。

【００９４】本発明において使用される潤滑剤は特に脂
肪酸と脂肪酸エステルが好ましく、更にこれらに加えて
別異の潤滑剤、添加剤も組み合わせて使用することがで
きる。これらの具体例を以下に挙げる。まず脂肪酸で
は、飽和脂肪酸としてカプリル酸（Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯＨ、
融点１６℃）、ペラルゴン酸（Ｃ₈Ｈ₁₇ＣＯＯＨ、融点
１５℃）、カプリン酸（Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯＨ、融点３１．
５℃）、ウンデシル酸（Ｃ₁₀Ｈ₂₁ＣＯＯＨ、融点２８．
６℃）、ラウリン酸（Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯＨ、融点４４℃）
具体的には日本油脂（株）社の「ＮＡＡ−１２２」な
ど、トリデシル酸（Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＣＯＯＨ、融点４５．５
℃）、ミリスチン酸（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＨ、融点５８℃）
具体的には日本油脂（株）社の「ＮＡＡ−１４２」な
ど、ペンタデシル酸（Ｃ₁₄Ｈ₂₉ＣＯＯＨ、融点５３〜５
４℃）、パルミチン酸（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＨ、融点６３〜
６４℃）具体的には日本油脂（株）社の「ＮＡＡ−１６
０」など、ヘプタデシル酸（Ｃ₁₆Ｈ₃₃ＣＯＯＨ、融点６
０〜６１℃）、ステアリン酸（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＨ、融点
７１．５〜７２℃）具体的には日本油脂（株）社の「Ｎ
ＡＡ−１７３Ｋ」など、ノナデカン酸（Ｃ₁₈Ｈ₃₇ＣＯＯ
Ｈ、融点６８．７℃）、アラキン酸（Ｃ₁₉Ｈ₃₉ＣＯＯ
Ｈ、融点７７℃）、ベヘン酸（Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＨ、融点
８１〜８２℃）などが挙げられる。不飽和脂肪酸として
オレイン酸（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＨ（cis）、融点１６℃）
具体的には関東化学（株）社の「オレイン酸」など、エ
ライジン酸（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＨ（trans）、融点４４〜
４５℃）具体的には和光純薬（株）社の「エライジン
酸」など、セトレイン酸（Ｃ₂₁Ｈ₄₁ＣＯＯＨ、融点３
３．７℃）、エルカ酸（Ｃ₂₁Ｈ₄₁ＣＯＯＨ、融点３３．
４〜３４℃）具体的には日本油脂（株）社の「エルカ
酸」など、ブラシジン酸（Ｃ₂₁Ｈ₄₁ＣＯＯＨ（tran
s）、融点６１．５℃）、リノール酸（Ｃ₁₇Ｈ₃₁ＣＯＯ
Ｈ、沸点２２８℃（１４ｍｍ））、リノレン酸（Ｃ₁₇Ｈ
₂₉ＣＯＯＨ、沸点１９７℃（４ｍｍ））などが挙げられ
る。分岐飽和脂肪酸としてはイソステアリン酸（ＣＨ₃
ＣＨ（ＣＨ₃）（ＣＨ₂）₁₄ＣＯＯＨ、融点６７．６〜６
８．１℃）などが挙げられる。

【００９５】エステル類ではラウリン酸エステルとして
イソセチルラウレート（Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₆
Ｈ₁₃）Ｃ₈Ｈ₁₇）、オレイルラウレート（Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯ
ＯＣ_{1 8}Ｈ₃₅）、ステアリルラウレート（Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯ
Ｃ₁₈Ｈ₃₇）、ミリスチン酸エステルとしてイソプロピル
ミリステート（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＣＨ（ＣＨ₃）₂）具体的
には新日本理化（株）社の「エヌジェルブＩＰＭ」な
ど、ブチルミリステート（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＣ₄Ｈ₉）な
ど、イソブチルミリステート（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯiso−Ｃ₄
Ｈ₉）具体的には新日本理化（株）社の「エヌジェルブ
ＩＢＭ」など、ヘプチルミリステート（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯ
Ｃ₇Ｈ₁₅）、オクチルミリステート（Ｃ₁₃Ｈ_{2 7}ＣＯＯＣ₈
Ｈ₁₇）、イソオクチルミリステート（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ₄Ｈ₉）、イソセチルミリステート
（Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₈Ｈ₁₇）など
が挙げられる。

【００９６】パルミチン酸エステルとしてオクチルパル
ミテート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）、デシルパルミテ
ート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣ₁₀Ｈ₂₁）、イソオクチルパルミ
テート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ
₄Ｈ₉）、イソセチルパルミテート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣＨ
₂ＣＨ（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₈Ｈ₁₇）、２ーオクチルドデシルパ
ルミテート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₈Ｈ₁₇）Ｃ₁₂
Ｈ₂₅）、２ーヘキシルドデシルパルミテート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁
ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₁₂Ｈ₂₅）、オレイルパル
ミテート（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₅）などが挙げられ
る。

【００９７】ステアリン酸エステルとしてプロピルステ
アレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₃Ｈ₇）、イソプロピルステ
アレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ（ＣＨ₃）₂）、ブチルス
テアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₄Ｈ₉）具体的には日本油
脂（株）社の「ブチルステアレ−ト」など、sec−ブチ
ルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ（ＣＨ₃）Ｃ
₂Ｈ₅）、tert−ブチルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ
（ＣＨ₃）₃）、アミルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ
₅Ｈ₁₁）、イソアミルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＨ₂ＣＨ（ＣＨ₃）₂）など、ヘキシルステアレート
（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₆Ｈ₁₃）、ヘプチルステアレート
（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₇Ｈ₁₅）具体的には松本油脂（株）
社の「ＭＹＢ−１８５」など、オクチルステアレート
（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ ₈Ｈ₁₇）具体的には日本油脂（株）
社の「Ｎ−オクチルステアレ−ト」など、イソオクチル
ステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯisoＣ₈Ｈ₁₇）具体的には
竹本油脂（株）社の「ＦＡＬ−１２３」など、デシルス
テアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₀Ｈ₂₁）、イソデシルス
テアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯiso−Ｃ₁₀Ｈ₂₁）、ドデシ
ルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₂Ｈ₂₅）、イソトリ
デシルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯiso−Ｃ
₁₃Ｈ₂₇）、２ーエチルヘキシルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅
ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ₄Ｈ₉）、イソヘキサデシ
ルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）
Ｃ₄Ｈ₉）、イソセチルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＨ（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₈Ｈ₁₇）具体的には新日本理化
（株）社の「エヌジェルブＨＤＳ」など、イソステアリ
ルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯisoＣ₁₈Ｈ₃₇）、オレ
イルステアレ−ト（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇）などが挙
げられる。

【００９８】ベヘン酸エステルとしてイソテトラコシル
ベヘネ−ト（Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₁₂
Ｈ₂₅）具体的には新日本理化（株）社の「エヌジェルブ
ＤＴＢ」など）が挙げられる。グリコ−ルタイプのエス
テルとしてブトキシエチルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯ
ＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ₄Ｈ₉）、ブトキシエチルオレエート
（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ₄Ｈ₉）、ジエチレング
リコ−ルモノブチルエ−テルステアレートまたはブトキ
シエトキシエチルステアレ−ト（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ）₂Ｃ₄Ｈ₉）、テトラエチレングリコ−ルモノ
ブチルエ−テルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂
ＣＨ₂Ｏ）₄Ｃ₄Ｈ₉）、ジエチレングリコ−ルモノフェニ
ルエ−テルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｏ）₂Ｃ₆Ｈ₆）、ジエチレングリコ−ルモノ２ーエチル
ヘキシルエ−テルステアレート（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ
₂ＣＨ₂Ｏ）₂ＣＨ₂ＣＨ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ₄Ｈ₉）、など特開昭
５９−２２７０３０号、特開昭５９−６５９３１号に記
載のエステルが使用できる。

【００９９】イソステアリン酸エステルとしてイソセチ
ルイソステアレート（ isoＣ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ
（Ｃ₆Ｈ₁₃）Ｃ₈Ｈ₁₇）具体的には高級アルコ−ル社の
「Ｉ．Ｃ．Ｉ．Ｓ」など、オレイルイソステアレ−ト
（ isoＣ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇）、ステアリルイソステ
アレート（isoＣ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇）、イソステア
リルイソステアレート（isoＣ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯiso−Ｃ₁₈Ｈ
₃₇）、エイコセニルイソステアレート（isoＣ₁₇Ｈ₃₅Ｃ
ＯＯＣ₂₂Ｈ₄₃）などが挙げられる。

【０１００】オレイン酸エステルとしてブチルオレエー
ト（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣ₄Ｈ₉）、新日本理化（株）社の
「エヌジェルブＢＯ」など、オレイルオレエート（Ｃ₁₇
Ｈ₃₃ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₅）、エチレングリコールジオレイル
（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃）などが挙
げられる。エルカ酸エステルとしてエルカ酸オレイル
（Ｃ₂₁Ｈ₄₁ＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₅）が挙げられる。ジエステル
としてジオレイルマレエート（Ｃ₁₈Ｈ₃₅ＯＣＯＣＨ＝Ｃ
ＨＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₅）、ネオペンチルグリコールジデカノ
エート（Ｃ₁₀Ｈ₂₁ＣＯＯＣＨ ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯ
Ｃ₁₀Ｈ₂₁）、エチレングリコ−ルジラウレ−ト（Ｃ₁₁Ｈ
₂₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）、エチレングリコ
−ルジオレイル（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₇
Ｈ₃₃）、１,４−ブタンジオ−ルジステアレ−ト（Ｃ₁₇
Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₅）、１,４−ブタ
ンジオ−ルジベヘネ−ト（Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄Ｏ
ＣＯＣ₂₁Ｈ₄₃）、１,１０−デカンジオ−ルジオレイル
（Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₀ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃）、２−
ブテン−1,４−ジオ−ルセトレイル（Ｃ₂₁Ｈ₄₁ＣＯＯＣ
Ｈ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＯＣＯＣ₂₁Ｈ_{4 1}）などが挙げられ
る。

【０１０１】トリエステルとしてカプリル酸トリグリセ
ライド（Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ（ＯＣＯＣ₇Ｈ₁₅）Ｃ
Ｈ₂ＯＣＯＣ₇Ｈ₁₅）が挙げられる。これら脂肪酸エステ
ルや脂肪酸の他にアルコール類ではオレイルアルコ−ル
（Ｃ ₁₈Ｈ₃₅ＯＨ）、ステアリルアルコール（Ｃ₁₈Ｈ₃₇Ｏ
Ｈ）、ラウリルアルコ−ル（Ｃ₁₂Ｈ₂₅ＯＨ）などがあげ
られる。

【０１０２】脂肪酸アミドとしてラウリン酸アミド（Ｃ
₁₁Ｈ₂₃ＣＯＮＨ₂）具体的には東京化成（株）社の「ラ
ウリン酸アミド」など、ミリスチン酸アミド（Ｃ₁₃Ｈ₂₇
ＣＯＮＨ₂）、パルミチン酸アミド（Ｃ₁₅Ｈ₃₁ＣＯＮ
Ｈ₂）、オレイン酸アミド（ cis-Ｃ₈Ｈ₁₇ＣＨ＝ＣＨ
（ＣＨ₂）₇ＣＯＮＨ₂）具体的にはライオンアクゾ
（株）社の「ア−モスリップＣＰ−Ｐ」など、エルカ酸
アミド（ cis-Ｃ₈Ｈ₁₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₁₁ＣＯＮ
Ｈ₂）具体的にはライオンアクゾ（株）社の「ア−モス
リップＥ」など、ステアリン酸アミド（Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＮ
Ｈ₂）具体的にはライオンアクゾ（株）社の「ア−マイ
ドＨＴ」などが挙げられる。

【０１０３】シリコン化合物として信越化学（株）社の
「ＴＡＶ−３６３０」、「ＴＡ−３」、「ＫＦ−６９」
が挙げられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセ
リン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレン
オキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフ
ォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、など
の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミ
ノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エ
ステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等
も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面
活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載さ
れている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１
００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、
副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかま
わない。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、
さらに好ましくは１０重量％以下である。

【０１０４】本発明は実施例３５に記載の如く脂肪酸エ
ステルとしてモノエステルとジエステルの潤滑剤を組み
合わせて使用すると特に好ましい結果が得られる。以下
に詳細に説明する。尚、脂肪酸モノエステルを単に「モ
ノエステル」、脂肪酸ジエステルを単に「ジエステル」
とも言う。即ち本発明は超平滑な磁性層が求められる高
密度、大容量の磁気記録媒体において、走行初期も、走
行後も安定した走行耐久性が得られる磁気記録媒体であ
る。従来潤滑剤としてはモノエステルやジエステルなど
の潤滑剤が使用されている。本発明者らはこれら潤滑剤
の特性について鋭意、検討した結果エステル基に着目し
て、下層や磁性層における挙動を綿密に検討した結果、
モノエステルの潤滑剤は極性基であるエステル基が分子
中に一つであるため、結合剤との親和性もそれほど高く
なく、層中にとどまらずに磁性層表面に出やすいと言う
特性があり、またジエステルの潤滑剤は極性基であるエ
ステル基が分子中に二つであるため、結合剤との親和性
が高く、層中にとどまりやすいため磁性層表面に出にい
と言う特性がある。そのため走行初期においてはモノエ
ステルの潤滑剤が寄与すると共に、走行後においてはジ
エステルの潤滑剤が寄与するために極めて良好な走行耐
久性が得られるものと考えられる。またジエステルの潤
滑剤は低温耐久性が極めて良好であり、高温耐久性が良
好なモノエステルの潤滑剤と併用することにより、低温
から高温まで極めて優れた走行耐久性が得られるもので
ある。そしてこれらの効果は単にモノエステルの潤滑剤
の効果とジエステルの潤滑剤の効果を加えた効果以上の
いわゆる相乗効果が見られる。

【０１０５】本発明において使用し得るジエステルの潤
滑剤は下記一般式（１）で示される化合物であることが
好ましい。 Ｒ1−ＣＯＯ−Ｒ2−ＯＣＯ−Ｒ3 ……（１） （式中、Ｒ2は−（ＣＨ₂）n −あるいはこの−（Ｃ
Ｈ₂ ）n −（ｎは１〜１２の整数）から誘導される不飽
和結合を含んでいても良い２価の基を示すか、−〔ＣＨ
₂ ＣＨ（ＣＨ₃ ）〕−、あるいは−〔ＣＨ₂ Ｃ（Ｃ
Ｈ₃ ）₂ ＣＨ₂ 〕−を示し、Ｒ1、Ｒ3 は炭素数１２〜
３０の鎖状飽和または不飽和炭化水素基で互いに同一で
も異なってもよい。）該鎖状炭化水素基の該鎖状とは、
直鎖でも分岐でも構わないが、Ｒ1 およびＲ3 の両方が
直鎖不飽和であることが好ましく、その際Ｒ1 およびＲ
3 の構造が同じであるものが特に好ましい。更に、不飽
和結合としては２重結合、３重結合いずれでも構わない
が、２重結合が好ましく、各１個以上であれば良く、２
個または３個でも良い。また、２重結合はシスまたはト
ランスどちらでも構わない。

【０１０６】Ｒ1 およびＲ3 の炭素数は各々１２〜３
０、好ましくは１４〜２６、更に好ましくは、１４〜２
０である。炭素数が１２未満であると揮発性が高いため
走行時に磁性層表面から揮散してしまい走行停止となる
傾向がある。炭素数が３０より大きいと分子のモビリテ
ィが低くなるため潤滑剤が磁性層表面に浸出しにくく耐
久性が不良となる傾向がある。

【０１０７】また後述するＣ／Ｆｅピ−ク比を好ましく
は、５〜１２０にするにはＲ1 、Ｒ３は、以下のような
条件であることが好ましい。即ちＲ1 、Ｒ３はアルキル
又はアルケニル基で、これらは分岐でも直鎖でもかまわ
ないが、Ｃ＝Ｃで表すことのできる不飽和結合が含まれ
る基の方が好ましい。また、その両者は構造が同一であ
る方がさらに好ましい。Ｒ1 、Ｒ３の炭素数は５〜２
１、好ましくは７〜１７、さらに好ましくは９〜１３が
望ましい。Ｒ1 、Ｒ３の炭素鎖の長さが短か過ぎると余
り好ましくない。短か過ぎると揮発しやすくなること。
揮発しやすくなれば、磁気ヘッドとの間で生じる摩擦熱
などで磁性層が高温になった際、それが揮発して磁性層
における潤滑剤の表面量が減り、耐久性が低下する結果
にもなるからである。炭素鎖の長さが長過ぎると粘度が
高くなり、流体潤滑性能が低下して耐久性が低下するお
それもあり、余り好ましくない。

【０１０８】Ｒ2は直鎖で両末端にＯＨを有する２価ア
ルコール残基が好ましく、ｎは３〜１２が好ましい。ｎ
が小さいと繰り返し走行耐久性が悪く、大きすぎると粘
度が高くなったりして使いにくくまた耐久性も不良にな
る傾向がある。具体的にはエチレングリコール、ネオペ
ンチルグリコール、プロパンジオール、プロピレングリ
コール、ブタンジオールなどの残基などが好ましい。

【０１０９】前記一般式（１）で表される化合物は、Ｈ
Ｏ−Ｒ2−ＯＨで表されるジオールとＲ1 −ＣＯＯＨお
よびＲ3 −ＣＯＯＨで表される好ましくは不飽和脂肪酸
とのジエステルである。該不飽和脂肪酸としては、４−
ドデセン酸、５−ドデセン酸、１１−ドデセン酸、ｃｉ
ｓ−９−トリデセン酸、ミリストレイン酸、５−ミリス
トレイン酸、６−ペンタデセン酸、７−パルミトレイン
酸、ｃｉｓ−９−パルミトレイン酸、７−ヘプタデセン
酸、オレイン酸、エラジン酸、ｃｉｓ−６−オクタデセ
ン酸、ｔｒａｎｓ−１１−オクタデセン酸、ｃｉｓ−１
１−エイコセン酸、ｃｉｓ−１３−ドコセン酸、１５−
テトラコセン酸、１７−ヘキサコセン酸、ｃｉｓ−９，
ｃｉｓ−１２−オクタジエン酸、ｔｒａｎｓ−９，ｔｒ
ａｎｓ−１２−オクタジエン酸、ｃｉｓ−９，ｔｒａｎ
ｓ−１１，ｔｒａｎｓ−１３−オクタデカトリエン酸、
ｃｉｓ−９，ｃｉｓ−１２，ｃｉｓ−１５−オクタデカ
トリエン酸、ステアロール酸などの直鎖不飽和脂肪酸、
５−メチル−２−トリデセン酸、２−メチル−９−オク
タデセン酸、２−メチル−２−エイコセン酸、２，２−
ジメチル−１１−エイコセン酸などの分岐不飽和脂肪酸
が挙げられる。

【０１１０】該ジオールとしては、エチレングリコー
ル、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオー
ル、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオ
ール、１，７−ペンタンジオール、１，８−オクタンジ
オール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジ
オールなどの直鎖飽和両末端ジオール、 プロピレング
リコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジ
オール、２，４−ペンタンジオール、２，２−ジメチル
−１，３−プロパンジオール、２，５−ヘキサンジオー
ル、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、３−メチ
ル−１，６−ヘキサンジオール、１−メチル−１，７−
ペンタンジオール、２，６−ジメチル−１，７−ペンタ
ンジオール、１−メチル−１，８−ノナンジオールなど
の分岐飽和ジオール、２−ブテン−１，４−ジオール、
２，４−ヘキサジエン−１，６−ジエンジオール、３−
ペンテン−１，７−ジオールなどの直鎖不飽和ジオー
ル、 ２−メチル−２−ブテン−１，４−ジオール、
２，３−ジメチル−２−ブテン−１，４−ジオール、
２，６−ジメチル−３−ヘキセン−１，６−ジオールな
どの分岐不飽和ジオールが例示される。

【０１１１】これらのうち特に好ましい化合物は、直鎖
不飽和脂肪酸のエステルである。具体的には、ミリスト
レイン酸、５−ミリストレイン酸、７−パルミトレイン
酸、ｃｉｓ−９−パルミトレイン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、ｃｉｓ−６−オクタデセン酸（ペトロセリン
酸）、ｔｒａｎｓ−６−オクタデセン酸（ペトロセエラ
イジン酸）、ｔｒａｎｓ−１１−オクタデセン酸（バセ
ニン酸）、ｃｉｓ−１１−エイコセン酸、ｃｉｓ−１３
−ドコセン酸（エルカ酸）、ｃｉｓ−９，ｃｉｓ−１２
−オクタジエン酸（リノール酸）などの直鎖不飽和脂肪
酸とジエチレングリコール、トリメチレングリコール、
１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、
１，６−ヘキサンジオール、１，７−ペンタンジオー
ル、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオー
ル、１，１０−デカンジオールなどとのエステルが好ま
しく、より好ましくは該直鎖不飽和脂肪酸と１，４−ブ
タンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘ
キサンジオール、１，７−ペンタンジオール、１，８−
オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０
−デカンジオールなどとのエステルである。

【０１１２】ジエステルの例としては、具体的にはネオ
ペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコ−
ルジオレイルなどや後述するものが挙げられる。ジエス
テルの例は以下の通りである。 Ｌ−ａ１ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₅ Ｌ−ａ２ Ｃ₁₁Ｈ₂₁ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₁ Ｌ−ａ３ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ４ Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃ Ｌ−ａ５ Ｃ₂₇Ｈ₅₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₂₇Ｈ₅₃ Ｌ−ａ６ Ｃ₁₁Ｈ₂₁ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ７ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₁ＯＣＯＣ₁₇Ｈ
₃₃ Ｌ−ａ８ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＯＣ
ＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ９ Ｃ₁₄Ｈ₂₇ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＯＣ
ＯＣ₁₄Ｈ₂₇ Ｌ−ａ１０ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₈ＯＣＯＣ₁₄Ｈ₂₇ また、ジエステルとして、ジカルボン酸と、鎖状不飽和
アルコールとのジエステルも使用することができる。

【０１１３】ジカルボン酸としては、マロン酸、コハク
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、メチルマロン酸、エチ
ルマロン酸、プロピルマロン酸、ブチルマロン酸等の飽
和ジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、グルタコン
酸、イタコン酸、ムコン酸等の不飽和ジカルボン酸が具
体例として挙げられる。

【０１１４】鎖状不飽和アルコールとしては、ｃｉｓ−
９−オクタデセン−１−オール（オレイルアルコー
ル）、ｔｒｎｓ−９−オクタデセン−１−オール（エラ
イジルアルコール）、９，１０−オクタデセジエン−１
−オール（リノレイルアルコール）、９，１２，１５−
オクタデセトリエン−１−オール（リノレニルアルコー
ル）、ｃｉｓ−９−ｔｒｎｓ−１１，１３−オクタデセ
トリエン−１−オール（エレオステアリルアルコー
ル）、２−ペンタデセン−１−オール、２−ヘキサデセ
ン−１−オール、２−ヘプタデセン−１−オール、２−
オクタデセン−１−オール、１５−ヘキサデセン−１−
オール等が具体例として挙げられる。

【０１１５】これらのうち特に好ましい本発明の化合物
は、直鎖不飽和アルコールと、飽和ジカルボン酸とのエ
ステルである。具体的には、アルコール成分としては、
オレイルアルコール、エライジルアルコール、リノレイ
ルアルコール、リノレニルアルコール、エレオステアリ
ルアルコール等であり、ジカルボン酸成分としては、マ
ロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、メチルマ
ロン酸、エチルマロン酸、プロピルマロン酸、ブチルマ
ロン酸等であり、これら間のジエステルである。更に好
ましくは、マロン酸、コハク酸と、オレイルアルコー
ル、エライジルアルコール、リノレイルアルコール、リ
ノレニルアルコールとの間のジエステルである。

【０１１６】後述するＣ／Ｆｅピ−ク比が好ましくは５
〜１２０を達成するのに好ましいジエステルとしては、
次のような例を挙げることができる。即ちネオペンチル
グリコ−ルジオレ−ト（L-a11）、エチレングリコ−ル
ジオレ−ト（L-a3）、ネオペンチルグリコ−ルジデカノ
エ−ト（L-a12）、プロパンジオ−ルジミリステ−ト（L
-a13）などを挙げることができる。その他にも次のよう
な例を挙げることができる。 Ｃ₅Ｈ₁₁ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₅Ｈ₁₁ Ｃ₇Ｈ₁₅ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₇Ｈ₁₅ Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₉Ｈ₁₉ Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃ Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₃Ｈ₂₇ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₅ Ｃ₂₁Ｈ₄₃ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₂₁Ｈ₄₃ Ｃ₄Ｈ₇ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₄Ｈ₇ Ｃ₂₂Ｈ₄₅ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₂₂Ｈ₄₅ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂ＯＣＯＣ₁₃Ｈ₂₇ またモノエステルの潤滑剤は下記一般式（２）と（３）
が挙げられる。 Ｒ4−ＣＯＯ−（Ｒ5−Ｏ）ｍ −Ｒ6 ……（２） Ｒ7−ＣＯＯ−Ｒ8 ……（３） （式中、ｍは１〜１０の整数、Ｒ5は−（ＣＨ₂）n −あ
るいはこの−（ＣＨ₂ ）n −（ｎは１〜１０の整数）か
ら誘導される不飽和結合を含んでいても良い２価の基を
示し、Ｒ4、Ｒ7 は炭素数１２〜２６の鎖状飽和または
不飽和炭化水素基で互いに同一でも異なってもよい。Ｒ
6、Ｒ8 は炭素数１〜２６の鎖状または分岐、飽和また
は不飽和炭化水素基で互いに同一でも異なってもよ
い。） また炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２
〜２４の一価アルコ−ル（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エス
テルが使用できる。

【０１１７】これらの具体例としてはブチルステアレー
ト、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソ
オクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチル
ミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシ
ジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレー
ト、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシル
ドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイルなどが好まし
い。

【０１１８】このほかにも特公昭５１−３９０８１号公
報をはじめ周知のように飽和及び不飽和の脂肪酸とアル
コールのモノエステルやまた、不飽和結合を有する脂肪
酸モノエステルとしては、特公平４−４９１７号公報記
載のオレイン酸オレイルなども使用できる。モノエステ
ルの具体例は以下の通りである。 Ｌ−ｂ１ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅ Ｌ−ｂ２ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₄Ｈ₉ Ｌ−ｂ３ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ₄Ｈ₉ Ｌ−ｂ４ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂Ｃ₄Ｈ₉ モノエステルの使用量は、上層においては上層の強磁性
粉末１００重量部に対し通常、１重量部以上、好ましく
は３重量部以上、更に好ましくは、５重量部以上であ
り、下層においては、非磁性粉末１００重量部に対し通
常、１重量部以上、好ましくは３重量部以上、更に好ま
しくは、５重量部以上であり、上層下層とも添加するの
が好ましい。各層とも上限は通常、２０重量％であり、
多すぎると磁性層表面が粗くなって磁気特性が低下し、
少ないと耐久性が不良となる傾向がある。ジエステル及
びモノエステルは、磁性層に含まれる強磁性粉末１００
重量部又は下層中に含まれる非磁性粉末１００重量部に
対し、好ましくは１０〜３０重量部、更に好ましくは１
２〜２０部重量含む。ジエステルとモノエステルは混合
して用いても良い。この場合、ジエステルはジエステル
とモノエステルの全体量に対して３０重量％以上である
ことが好ましい。ここで、非磁性粉末とは、カーボンブ
ラック以外の無機粉末を指す。

【０１１９】また本発明において、上層及び下層が、強
磁性粉末１００重量部又は前記下層に含まれる非磁性粉
末１００重量部に対し、脂肪酸エステルを１０〜３０重
量部含み、前記磁性層の表面をオ−ジェ電子分光法で測
定したときのＣ／Ｆｅピ−ク比が好ましくは、５〜１２
０であり、且つデイスク状であることが好ましく、従来
のフロッピーディスクに比べ磁性層、下層中のモノエス
テル又はジエステル量がほぼ同等であるにも関わらず、
磁性層表面に存在する潤滑剤を低い値に抑えることによ
って、極めて高度な耐久性を達成し且つ、磁性層表面の
硬度を高く保ち、高い耐傷性を付与することができた。
とりわけ回転数が１８００rpm 以上（例えばＺＩＰ
等）、特に３０００rpm 以上の高速回転の記録システム
（例えばＨｉＦＤ等）で抜群の耐久性を達成できること
が分かった。

【０１２０】本発明でいう磁性層表面のオージェ電子分
光法によるＣ／Ｆｅピーク比とは、磁性層表面の潤滑剤
の存在量を示す指標となるものである。これは、試料に
電子線を当てて試料から出てくるオージェ電子の運動エ
ネルギーから元素の種類を判定し、オージェ電子線量か
ら元素の量を測定する原理を利用したものである。

【０１２１】磁性層表面をオージェ分光分析すると磁性
体由来の鉄原子のピーク及びバインダーと潤滑剤由来の
炭素のピークが現れる。しかし、炭素のピークのほとん
どは潤滑剤由来のものである。その根拠は、本発明の磁
気ディスクをヘキサン処理して本発明に係わる潤滑剤を
除いてオージェ電子分光法により磁性層表面を測定する
とＦｅピークが強くでるが結合剤が寄与するＣピークは
弱く、逆にヘキサン処理しないとＣピークが強くでるた
めである。即ち、磁性層表面をオージェ分光分析すると
磁性体由来の鉄原子のピーク及び結合剤と潤滑剤由来の
炭素のピークが現れるが、炭素のピークのほとんどは本
発明に係わる潤滑剤由来のものとみなすことができるか
らである。

【０１２２】本発明において、オージェ電子分光法によ
るＣ／Ｆｅの測定は、以下により求められる値を指す。 上記条件で、運動エネルギ−（Kinetic Energy）130 eV
から730eV の範囲を３回積算し、炭素のKLL ピークと鉄
のLMM ピークの強度を微分形で求め、Ｃ／Ｆｅの比をと
ることで求める。

【０１２３】本発明の磁気記録媒体の磁性層表面のオー
ジェ電子分光法によるＣ／Ｆｅピーク比は、好ましく
は、５〜１２０、更に好ましくは、５〜１００、特に好
ましくは、５〜８０であるが、これに対し、従来のフロ
ッピーディスク等では１００以上である。このことか
ら、本発明の磁気記録媒体は、従来のフロッピーディス
ク等よりも、その磁性層表面に存在する潤滑剤量が顕著
に少ないことがわかる。

【０１２４】一方、本発明の磁気記録媒体の磁性層及び
下層の各層に含まれる潤滑剤量は、それぞれ強磁性粉末
又は非磁性粉末１００重量部に対し好ましくは１０〜３
０重量部である。これは従来のフロッピーディスク等が
含む量とほぼ同等である。よって、本発明の磁気記録媒
体は、その磁性層及び下層に含む潤滑剤量が従来のフロ
ッピーディスク等とほぼ同量であるにも関わらず、磁性
層表面に存在する潤滑剤量が従来のフロッピーディスク
等に比して顕著に少ないものである。

【０１２５】従来のフロッピーディスクの欠点として、
耐久性を向上させるために潤滑剤量を多くすると、表面
に、潤滑剤量が多くなりその結果、静止時に磁性層表面
と磁気ヘッドとの張りつきが生じ、起動時トルクが大き
くなる欠点がある。また、起動時トルクを下げるため、
潤滑剤量を少なくすると、摩擦係数が高くなり耐久性が
悪くなる。これらの欠点は、高密度記録等によって高速
回転を行う場合、より顕著に表れる。

【０１２６】本発明の磁気記録媒体は従来のフロッピー
ディスク等に比べ磁性層、下層中の潤滑剤量がほぼ同等
であるにも関わらず、磁性層表面に存在する潤滑剤を低
い値に抑えることによって、極めて高度な耐久性を達成
し且つ、磁性層表面の硬度を高く保ち、高い耐傷性を付
与することができた。とりわけ回転数が７００rpm 以
上、更に１８００rpm 以上（例えばＺＩＰ等）、特に３
０００rpm 以上の高速回転の記録システム（例えばＨｉ
ＦＤ等）で抜群の耐久性を達成できることが分かった。

【０１２７】さらに磁性層、下層内部に潤滑剤を多く含
んでおり徐々に表面に出て潤滑機能を発揮するため、長
期保存性にも優れることが分かった。本発明の潤滑剤の
存在形態すなわち、磁性層、下層内部に潤滑剤を多く存
在させ、表面には適量（オージエ電子分光法の主として
潤滑剤のＣ原子、磁性体のＦｅ原子の検出量から求めた
Ｃ／Ｆｅ値で好ましくは５〜１２０）存在させることを
実現するための手段として、下記の方法がある。

【０１２８】 潤滑剤はモノエステル、ジエステル
で、特に不飽和Ｃ＝Ｃを持つジエステル、モノエステル
がバインダー、及び非磁性粉末表面との親和性があり好
ましい。塗布層中の添加量は強磁性粉末、及び非磁性粉
末１００重量部に対して上層及び下層に１０〜３０重量
部が好ましい。 磁性層のバインダー量は硬化剤を含めて強磁性粉末
１００重量部に対し１０〜２５重量部、下層のバインダ
ー量は非磁性粉末１００重量部に対し２５〜４０重量部
と下層の方にバインダー量を多くすることが望ましい。

【０１２９】 特に下層用バインダーはＳＯ₃Ｎａの
ような強い極性基と骨格に芳香環を多く含有する構造が
好ましい。これにより潤滑剤と下層バインダーとの親和
性がより高まり潤滑剤が下層に多く且つ安定的に存在す
ることができる。潤滑剤とバインダーの親和性が高すぎ
てバインダーと潤滑剤が完全に分子レベルで相溶するよ
うになると潤滑剤は上層に移行する事ができなくなるた
め好ましくない。

【０１３０】本発明の磁気記録媒体の表面には従来のも
のより少量の潤滑剤であるが、モノエステル、ジエステ
ルが必要十分に存在し、高速で回転するディスクとヘッ
ドの間の摩擦熱で温度が上昇しても、強い分子間相互作
用によって揮発しにくく、潤滑膜の膜切れを起こすこと
なく安定した流体潤滑を維持することができる。本発明
では、Ａｌ／Ｆｅが５原子％〜３０原子％である強磁性
金属粉末を用いると、高温高湿保存安定性を向上するこ
とができる。これはもともとジエステルは親水性が高く
吸湿しやすいため加水分解されやすい性質がある。磁性
体表面の触媒活性作用でさらにこの問題が強くなり高温
高湿で保存すると更にジエステルが分解しやすくなる。
Ａｌ／Ｆｅが５原子％〜３０原子％である強磁性金属粉
末の場合はこの影響が小さく、分解しにくくなることが
わかった。この結果、高温高湿下で保存した後でも耐久
性はほとんど低下することなく保存前のディスクの特性
を発揮することができる。

【０１３１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
滲み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステ
ル類を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量
を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の
添加量を下層で多くして潤滑効果を向上させるなど考え
られ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。一般には潤滑剤の総量として磁性粉末または非磁性
粉末に対し、０．１〜５０重量％、好ましくは２〜２５
重量％の範囲で選択される。

【０１３２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。

【０１３３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が通常、２〜１００μm、好ましくは２〜８
０μmである。コンピューターテープの支持体は、通
常、３．０〜６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０
μｍ、更に好ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の
厚さのものが使用される。

【０１３４】支持体と非磁性層の間に密着性向上のため
の下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは通
常、０．０１〜０．５μm、好ましくは０．０２〜０．
５μmである。本発明は通常、支持体両面に非磁性層と
磁性層を設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であって
も、それらを片面のみに設けたテープ媒体あるいはディ
スク媒体でもよい。磁性層を該片面に設けた場合、帯電
防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、磁
性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわな
い。この厚みは通常、０．１〜４μm、好ましくは０．
３〜２．０μmである。これらの下塗層、バックコ−ト
層は公知のものが使用できる。

【０１３５】本発明の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽
和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最
適化されるものであるが、好ましくは０．０５〜０．３
０μｍ、更に好ましくは０．０５〜０．２５μｍであ
る。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離し
てもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用で
きる。この場合の磁性層の厚みは、それらの総和を指
す。

【０１３６】本発明になる媒体の下層である非磁性層の
厚みは通常、０．２μｍ以上５．０μｍ以下、好ましく
は０．３μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは
１．０μｍ以上２．５μｍ以下である。なお、本発明媒
体の下層は実質的に非磁性であればその効果を発揮する
ものであり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少
量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すものであ
り、本発明と実質的に同一の構成と見なすことができる
ことは言うまでもない。実質的に非磁性とは下層の残留
磁束密度が１００Ｇ以下または抗磁力が１００エルステ
ッド以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と
抗磁力をもたないことを示す。

【０１３７】［バックコート層］バックコート層には、
カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好
ましい。

【０１３８】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低
く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤
の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄
与する。一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有
しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接
触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。し
かし粗粒子状カーボンブラックは、過酷な走行系では、
テープ摺動により、バックコート層からの脱落が生じ易
くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有してい
る。

【０１３９】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥ
Ｎ２０００Ｂ（平均粒子径１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５
００Ｂ（平均粒子径１７ｎｍ）（以上、コロンビアカー
ボン社製）、ＢＰ８００（平均粒子径１７ｎｍ）（キャ
ボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（平均粒子径１４
ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（平均粒子径１５ｎｍ）、
ＰＲＩＮＴＥＸ８５（平均粒子径１６ｎｍ）、ＰＲＩＮ
ＴＥＸ７５（平均粒子径１７ｎｍ）（以上、デグサ社
製）、＃３９５０（平均粒子径１６ｎｍ）（三菱化成工
業（株）製）。

【０１４０】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（平均粒子径２７０
ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（平
均粒子径２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙
げることができる。

【０１４１】バックコート層において、平均粒子径の異
なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微
粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子
状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、前者：後
者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好まし
く、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲であ
る。

【０１４２】バックコート層中のカーボンブラック（二
種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量
は、結合剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量
部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲
である。

【０１４３】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０〜５０ｎｍ
の範囲にあることが好ましい。

【０１４４】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。これらの中では、特に、炭酸カルシウムが好
ましい。

【０１４５】バックコート層内の軟質無機粉末の含有量
は、カーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４
０重量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましく
は、３５〜１００重量部である。

【０１４６】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バックコート層の強度が強化され、走
行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラ
ックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺
動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層とな
る。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付
与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減
する。特に軟質無機粉末（中でも、炭酸カルシウム）と
併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特
性が向上し、バックコート層の摩擦係数の安定化も図る
ことができる。

【０１４７】硬質無機粉末は、その平均粒子径が８０〜
２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍ）の
範囲にあることが好ましい。

【０１４８】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）を挙げることができる。これらの粉
末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用し
ても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミ
ナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラ
ック１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、
好ましくは、３〜２０重量部である。

【０１４９】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以
上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無
機粉末とを選択して使用することが好ましい。

【０１５０】バックコート層には、前記それぞれ特定の
平均粒子径を有するモース硬度の異なる二種類の無機粉
末と、前記平均粒子径の異なる二種類のカーボンブラッ
クとが含有されていることが好ましい。特に、この組み
合わせにおいて、軟質無機粉末として炭酸カルシウムが
含有されていることが好ましい。

【０１５１】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは
磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から
適宜選択して使用できる。バックコート層において、潤
滑剤は、結合剤１００重量部に対して通常１〜５重量部
の範囲で添加される。 ［支持体］本発明に用いられる支持体は支持体の面内各
方向に対し、１００℃３０分での熱収縮率が０．５％以
下であり、８０℃３０分での熱収縮率が０．５％以下で
あることが好ましくい。更に前記支持体の１００℃３０
分での熱収縮率及び８０℃３０分での熱収縮率が前記支
持体の面内各方向に対し、１０％以内の差で等しいこと
が好ましい。支持体は非磁性であることが好ましい。こ
れら支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポ
リアミド（脂肪族ポリアミド、アラミド等の芳香族ポリ
アミドを含む）、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフォン、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィ
ルムが使用できる。ポリエチレンナフタレ−ト、ポリア
ミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また
必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため
特開平３−２２４１２７に示されるような積層タイプの
支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあら
かじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱
処理、除塵処理、などをおこなっても良い。また本発明
の支持体としてアルミまたはガラス基板を適用すること
も可能である。

【０１５２】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａ
ｕ法で測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、好まし
くは４．０nm以下、さらに好ましくは２．０nm以下のも
のを使用することが好ましい。これらの支持体は単に中
心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μm以
上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形
状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさ
と量により自由にコントロ−ルされるものである。これ
らのフィラ−としては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉ、
Ａｌなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機
粉末があげられる。また有機溶剤に溶解しやすくするた
めにＣｌ含有化合物を支持体の成分として使用すること
も好ましい。支持体の最大高さＳＲmaxは１μm以下、十
点平均粗さＳＲzは０．５μm以下、中心面山高さはＳＲ
pは０．５μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．５μm以
下、中心面面積率ＳＳr は１０％以上、９０％以下、平
均波長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好ましい。
所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体
の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールで
きるものであり、通常、０．０１μmから１μmの大きさ
のもの各々を０．１mm² あたり０個から２０００個の範
囲でコントロ−ルすることができる。

【０１５３】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは４９〜４９０ＭＰａ（５〜５０Kg/mm²）であ
る。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ（５〜１００Kg/m m
² ）、弾性率は１００〜２０００Kg/mm² が好ましい。
温度膨張係数は好ましくは１０^{- 4}〜１０^-8/℃であり、
更に好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張係
数は通常、１０^-4/RH%以下であり、好ましくは１０^-5/R
H％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度
特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ
等しいことが好ましい。

【０１５４】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、下層用塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研
磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はど
の工程の最初または途中で添加してもかまわない。ま
た、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加しても
かまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。本発明の磁気記録媒体を製造するために、
従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることが
できる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加
圧ニ−ダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを
使用することが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性粉
末または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部
（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性
粉末１００重量部に対し１５〜５００重量部の範囲で混
練処理される。これらの混練処理の詳細については特開
平１−１０６３３８、特開平１−７９２７４に記載され
ている。また、磁性層液および非磁性層液を分散させる
にはガラスビーズを用ることができるが、高比重の分散
メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、ス
チールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径
と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のもの
を使用することができる。

【０１５５】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法、第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法、第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかまわず、本
発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥
を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるた
めには、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。

【０１５６】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の
場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂
直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。
六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向
の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダム
とすることも可能である。また異極対向磁石など公知の
方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な
磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行
う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用
い円周配向してもよい。

【０１５７】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１
０００m/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なうことも
できる。

【０１５８】カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００Kg/cm以上、さらに好ましくは３００Kg/cm以
上である。

【０１５９】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属粉末を用いた場合、
通常、２０００Ｇ以上５０００Ｇ以下、六方晶フェライ
トをもちいた場合は１０００Ｇ以上３０００Ｇ以下であ
る。Ｈｃは１８００〜３０００エルステッドおよびＨｒ
は１５００エルステッド以上５０００エルステッド以下
であるが、好ましくは１７００エルステッド以上、３０
００エルステッド以下である。抗磁力の分布は狭い方が
好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒは０．６以下が好まし
い。角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．
６７以下で、好ましくは０．５８以上、０．６４以下、
３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５以下が
好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ま
しくは０．７以上、反磁界補正を行った場合は０．７以
上好ましくは０．８以上である。２次元ランダム、３次
元ランダムとも配向度比は０．８以上が好ましい。２次
元ランダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃおよ
びＨｒは面内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが
好ましい。

【０１６０】磁気テープの場合、角型比は通常、０．７
以上、好ましくは０．８以上である。本発明の磁気記録
媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４０
℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下、好
ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面
１０⁴〜１０¹²オ−ム/sq、帯電位は−５００Vから＋５
００V以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性
率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Kg/m
m² 、破断強度は好ましくは１０〜７０Kg/mm² 、磁気記
録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５
００Kg/ mm² 、残留のびは好ましくは０．５％以下、１
００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１
％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ま
しくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度
(１１０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極
大点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそ
れは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０
⁶ 〜８×１０⁹ dyne/c m² の範囲にあることが好まし
く、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失
正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの
熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほ
ぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒
は好ましくは１００mg/ m² 以下、さらに好ましくは１
０mg/ m² 以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性
下層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好
ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果た
すためには小さい方が好ましいが、目的によってはある
値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用
途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走
行耐久性は好ましいことが多い。

【０１６１】磁性層の表面をＷＹＣＯ社製の表面粗さ計
ＴＯＰＯ−３ＤのＭＩＲＡＵ法で測定した中心面平均表
面粗さ（Ｒａ）は、好ましくは４．０nm以下、更に好ま
しくは３．８nm以下、特に好ましくは３．５nm以下であ
る。磁性層の最大高さＳＲmaxは０．５μm以下、十点平
均粗さＳＲzは０．３μm以下、中心面山高さＳＲpは
０．３μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．３μm以下、
中心面面積率ＳＳrは２０％以上、８０％以下、平均波
長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好ましい。磁性
層の表面突起は０．０１μmから１μmの大きさのものを
０個から２０００個の範囲で任意に設定することが可能
であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化す
ることが好ましい。これらは支持体のフィラ−による表
面性のコントロ−ルや磁性層に添加する粉体の粒径と
量、カレンダ処理のロ−ル表面形状などで容易にコント
ロ−ルすることができる。カールは±３mm以内とするこ
とが好ましい。

【０１６２】本発明は、目的に応じ非磁性層と磁性層で
これらの物理特性を変えることができるのは容易に推定
されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走
行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性
層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くす
るなどである。

【０１６３】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明は、これに限定されるものではない。尚、以下、
実施例中の「部」の表示は特に断らない限り、「重量
部」を示す。 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 ＭＬ−１（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：Ｍ−１ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２５５０エルステッド、比表面積５５m²/g、σs１４０emu/g 結晶子サイズ１２０Å、平均長軸長０．０４８μm、針状比 ４ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 ８％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ６％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 平均粒子径：０．２０μｍ、比表面積：８．０〜９．０ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−２（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：Ｍ−２ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２３６０エルステッド、比表面積４９m² /g、σs１４６emu/g 結晶子サイズ１７０Å、平均長軸長０．１００μm、針状比 ６、 ＳＦＤ ０．５１ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ５％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ５％） ｐＨ ９．４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ７０（住友化学社製） １０部 平均粒子径：０．１５μｍ、比表面積：１７ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 エチレングリコ−ルジオレイル １２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−３（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末：Ｍ−３ 組成／Ｆｅ：Ｎｉ＝９６：４ １００部 Ｈｃ１６００エルステッド、比表面積４５ｍ² /g 結晶子サイズ ２２０Å、σｓ１３５emu/g 平均長軸長 ０．２０μｍ、 針状比 ９ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ−８６００（東洋紡社製) ５部 αアルミナ（平均粒子径０．６５μｍ） ２部 酸化クロム（平均粒子径：０．３５μｍ） １５部 カ−ボンブラック（平均粒子径：０．０３μｍ） ２部 カ−ボンブラック（平均粒子径：０．３μｍ） ９部 イソヘキサデシルステアレート ４部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 磁性塗料 ＭＬ−４（板状強磁性粉末使用） １００部 バリウムフェライト粉末 ：Ｍ−４ 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００エルステッド、比表面積５０m² ／ｇ、σs ５８emu/g 平均板径３５nm、板状比４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 平均粒子径：０．２０μｍ、比表面積：８．０〜９．０ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 磁性塗料 ＭＬ−５（板状強磁性粉末使用） バリウムフェライト粉末 ：Ｍ−５ １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００エルステッド、比表面積５０m²／ｇ、σs ５８emu/g 平均板径３５nm、板状比２．５ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学工業社製） １０部 平均粒子径：０．２０μｍ、比表面積：８．０〜９．０ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 エチレングリコ−ルジオレイル １６部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−６（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：Ｍ−２ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２３６０エルステッド、比表面積４９m² /g、σs１４６emu/g 結晶子サイズ１７０Å、平均長軸長０．１００μm、針状比 ６、 ＳＦＤ ０．５１ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ５％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ５％） ｐＨ ９．４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ７０（住友化学社製） １０部 平均粒子径：０．１５μｍ、比表面積：１７ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 ミリスチン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 ステアリン酸ブチル ４部 パルミチン酸セチル ４部 オレイン酸オレイル ４部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−７（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：Ｍ−２ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２３６０エルステッド、比表面積４９m² /g、σs１４６emu/g 結晶子サイズ１７０Å、平均長軸長０．１００μm、針状比 ６、 ＳＦＤ ０．５１ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ５％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ５％） ｐＨ ９．４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ７０（住友化学社製） １０部 平均粒子径：０．１５μｍ、比表面積：１７ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 ステアリン酸アミル ４部 ブトキシエチルステアレ−ト ６部 オレイン酸オレイル ４部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−８（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：Ｍ−６ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２３６０エルステッド、比表面積４６m² /g、σs１５３emu/g 結晶子サイズ１６０Å、平均長軸長０．１００μm、針状比 ６、 ＳＦＤ ０．５１ ｐＨ ９．４ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １１％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） Ｍｇ化合物（Ｍｇ／Ｆｅ 原子比 １％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学工業社製） １０部 （ＨＩＴ５５／ＭＲ１１０／ＭＥＫ ５部／１部／４部の別分散品） 平均粒子径：０．２０μｍ、比表面積：８．０〜９．０ｍ²／ｇ モ−ス硬度：９、ｐＨ：７．７〜９．０ ダイアモンド ＬＳ６００Ｆ １部 （ランズスーパーアブレッシブ社製） 平均粒子径：０．２７μｍ、 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ フェニルホスホン酸 ３部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 ステアリン酸ブチル ４部 ブトキシエチルステアレ−ト ４部 ネオペンチルグリコ−ルジオレイル ２部 エチレングリコ−ルジオレイル ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 非磁性塗料 ＮＵ−１（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ml/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 平均粒子径：２０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：１１５ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．０ ＢＥＴ法による比表面積：２２０m²／ｇ 揮発分：１．５％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−２（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル １００部 平均粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ml/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ が存在 ケッチェンブラックＥＣ（ＡＫＵＺＯ ＮＯＢＥＬ社製） １３部 平均粒子径：３０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０m²／ｇ 揮発分：１．０％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ６部 フェニルホスホン酸 ４部 エチレングリコ−リジオレイル １６部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−３（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ７５部 平均粒子径０．０３５μm、比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ が存在 カ−ボンブラック ケッチェンブラックＥＣ １０部 平均粒子径：３０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０m²／ｇ 揮発分：１．０％ αアルミナ ＡＫＰ−１５(住友化学工業社製） 平均粒子径：０．６５μｍ １５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８６００（東洋紡社製） ５部 イソヘキサデシルステアレート ４部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 非磁性塗料 ＮＵ−４（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト ８０部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９ 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 平均粒子径：２０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：１１５ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．０ ＢＥＴ法による比表面積：２２０m²／ｇ 揮発分：１．５％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−５（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック ＃３２５０B(三菱化成社製） １８部 平均粒子径：３０ｎｍ、比表面積：２４５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：１５５ml/100g、ｐＨ：６．０ 揮発分：１．５重量％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 エチレングリコ−ルジオレイル １６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−６（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック ＃３２５０B(三菱化成社製） １８部 平均粒子径：３０ｎｍ、比表面積：２４５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：１５５ml/100g、ｐＨ：６．０ 揮発分：１．５重量％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 ミリスチン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 ステアリン酸ブチル ４部 パルミチン酸セチル ４部 オレイン酸オレイル ４部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−７（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） １０部 平均粒子径：２０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：１１５ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．０ ＢＥＴ法による比表面積：２２０m²／ｇ 揮発分：１．５％ カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １０部 平均粒子径：９４ｎｍ、比表面積：２８ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：６１ml/100g、ｐＨ：７．５ 揮発分：１．０重量％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 ステアリン酸アミル ４部 ブトキシエチルステアレ−ト ６部 オレイン酸オレイル ４部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−８（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 平均長軸長 ０．１６μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、 表面にＡｌ₂Ｏ₃が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２５部 平均粒子径：２０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：１１５ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．０ ＢＥＴ法による比表面積：２２０m²／ｇ 揮発分：１．５％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 ステアリン酸ブチル ４部 ブトキシエチルステアレ−ト ４部 ネオペンチルグリコ−ルジオレイル ２部 エチレングリコ−ルジオレイル ２部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 製法１ （デイスク：Ｗ／Ｗ） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分
散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１６４】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが所定の厚さになるように、後述のポリエチ
レンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５０Hz、磁
場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０ガウスの
２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過されランダ
ム配向処理（Ｏ−１）を行い乾燥後、７段のカレンダで
温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行い、３．７
吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナーが内側に
設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ社
製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の機
構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスクを得た。

【０１６５】また一部のサンプルについてはランダマイ
ズ配向処理の前に４０００Ｇの同極対向Ｃｏ磁石による
長手配向を施した（Ｏ−２）。

【０１６６】この場合、十分なランダマイズ化が最終的
行われるように交流磁場発生装置の周波数と磁場強度を
高くすることが好ましく、これにより配向度比９８％以
上を得ることができる。また、バリウムフェライト磁性
体を用いる場合は、一部のサンプルについて上記配向方
法以外に異極対向により垂直配向を施した（Ｏ−４）。

【０１６７】尚、必要に応じ、ディスク形状に打ち抜い
たあと高温でのサーモ処理(通常５０℃〜９０℃)を行な
い塗布層の硬化処理を促進させる、研磨テープでバーニ
ッシュ処理をおこない、表面の突起を削るなどの後処理
を行ってもよい。 製法２ （コンピュ−タ−テープ：Ｗ／Ｗ） 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練したのち、
サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリ
イソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性
層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘ
キサノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形
成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１６８】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．７μｍになるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが所定の厚さになるように、後述のアラミド
（商品名：ミクトロン）支持体Ｂ−５又はＢ−６上に同
時重層塗布を行ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに
６０００Ｇの磁力を持つコバルト磁石と６０００Ｇの磁
力を持つソレノイドにより配向させた（Ｏ−３）。乾燥
後、金属ロ−ルのみから構成される７段のカレンダ−で
温度８５℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎ．で処理を行い、
その後、厚み０．５μｍのバックコート層を後述のバッ
ク層塗料を塗布することにより設けた。３．８ｍｍの幅
にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を
持った装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し
当たるように取り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性
層の表面のクリ−ニングを行い、得られた磁気テ−プを
ＤＤＳ用カ−トリッジに組み込んだ。 製法３ （デイスク：Ｗ／Ｄ） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１６９】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるように後述の支持体Ｂ−１上に塗布
し一度乾燥させ、カレンダ処理を行ったのち、さらにそ
の上に磁性層の厚さが０．１５μmになるようにブレー
ド方式により磁性層を塗布、周波数５０Hz、磁場強度２
５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０ガウスの２つの磁
場強度交流磁場発生装置の中を通過されランダム配向処
理（Ｏ−１）をおこない、これ以降については製法１と
同様に行った。また非磁性層のカレンダー処理を行わな
い方法をとることもできる。 製法４（コンピュータテープ：Ｗ／Ｄ） 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイ
ソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性層
の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキ
サノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィル
ターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成
用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１７０】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．７μｍになるように後述の支持体Ｂ−５上に塗布
し一度乾燥させ、カレンダ処理を行ったのち、さらにそ
の上に磁性層の厚さが０．１５μｍになるようにブレー
ド方式により磁性層を塗布、６０００Ｇの磁力を持つコ
バルト磁石と６０００Ｇの磁力を持つソレノイドにより
配向させた（Ｏ−３）。これ以降については製法２と同
様に行った。また非磁性層のカレンダー処理を行わない
方法をとることもできる。 製法５ （デイスク：スピンコート） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１７１】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるように後述の支持体Ｂ−１上にスピ
ンコート塗布し一度乾燥させたのち、さらにその上に磁
性層の厚さが０．１５μmになるようにスピンコートに
より磁性層を塗布、６０００Ｇの同極対向Ｃｏ磁石によ
り円周方向に配向処理をおこなった（Ｏ−５）。これを
製法１と同様な圧力が得られるバッチ方式の圧延処理を
行い表面を平滑化した。これ以降については製法１と同
様に行った。また、非磁性層をスピンコ―ト塗布し非磁
性層が未乾燥のうちにその上に磁性層をスピンコートす
る塗布する方式を用いることもできる。スピンコート方
式を用いることで、記録方向の残留磁化量が大きくなる
ばかりでなく、バリウムフェライトや短針状比の強磁性
金属粉末の垂直磁化成分を低減させ再生波形の対称性を
良好にすることができる。

【０１７２】上記において使用した支持体は以下の通り
である。 支持体 Ｂ−１ ポリエチレンテレフタレ−ト 厚さ：６２μｍ、 Ｆ−５値：ＭＤ １１４ＭＰａ、ＴＤ １０７ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ２７６ＭＰａ、ＴＤ ２８１ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ １７４ＭＰａ、ＴＤ １３９ＭＰａ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．０４％、ＴＤ
０．０５％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．２％、ＴＤ
０．３％ 温度膨張係数：長軸 １５×１０^-6／℃、短軸 １８×
１０^-6／℃ 中心面平均表面粗さ ３ｎｍ 厚みムラ １．５％ ガラス転移温度（Ｔｇ） ６９℃ 融点 ２６３℃ 支持体 Ｂ−２ ポリエチレンテレフタレ−ト 厚さ：６２μｍ 厚みムラ ４．０％ 支持体 Ｂ−３ ポリエチレンテレフタレ−ト（比較
例） 厚さ：６２μｍ 厚みムラ ７．２％ 支持体 Ｂ−４ ポリエチレンナフタレート 厚さ：５５μ、中心面平均表面粗さ １．８ｎｍ Ｆ−５値：ＭＤ １５５ＭＰａ、ＴＤ １５５ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ３１０ＭＰａ、ＴＤ ３２０ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ ９０％、 ＴＤ ９２％ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．００％、ＴＤ
０．００％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．１％、ＴＤ
０．００％ 温度膨張係数：長軸 １０×１０^-6／℃、短軸 １１×
１０^-6／℃ 中心面平均表面粗さ ５ｎｍ 厚みムラ ４．８％ ガラス転移温度（Ｔｇ） １１３℃ 融点 ２７３℃ 支持体 Ｂ−５ アラミド 厚さ ４．４μ Ｆ−５値：ＭＤ ３２０ＭＰａ、ＴＤ ４２０ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ４６０ＭＰａ、ＴＤ ２８０ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ ５０％、 ＴＤ ３０％ 熱収縮率（１５０℃、３０分）：ＭＤ ０．３％、ＴＤ
０．１％ 中心面平均表面粗さ ２ｎｍ 厚みムラ ４．８％ 支持体 Ｂ−６ アラミド（比較例） 厚さ ４．４μ 中心面平均表面粗さ ２ｎｍ 厚みムラ ８．０％ 上記各々の製法の配向法をまとめたものは以下の通りで
ある。 配向 Ｏ−１ ランダマイズ配向を行う。

【０１７３】Ｏ−２ Ｃｏ磁石で長手方向に配向した
後、ランダマイズ配向を行う。 Ｏ−３ Ｃｏ磁石で長手方向に配向した後、ソレノイド
で長手方向に配向する。 Ｏ−４ Ｃｏ磁石で垂直配向を行う。 Ｏ−５ Ｃｏ磁石で円周配向を行う。

【０１７４】上記製法で使用したバック層塗料は、下記
成分、 微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 ［（キャボット社製、ＢＰ−８００、平均粒子径：１７ｎｍ）］ 粗粒子状カーボンブラック粉末 １０部 ［（カーンカルブ社製、サーマルブラック、 平均粒子径：２７０ｎｍ）］ 炭酸カルシウム（軟質無機粉末） ８０部 ［（白石工業（株）製、白艶華Ｏ、平均粒子径：４０ｎｍ、 モース硬度：３）］ α−アルミナ（硬質無機粉末） ５部 ［（平均粒子径：２００ｎｍ、モース硬度：９）］ ニトロセルロース樹脂 １４０部 ポリウレタン樹脂 １５部 ポリイソシアネート ４０部 ポリエステル樹脂 ５部 分散剤：オレイン酸銅 ５部 銅フタロシアニン ５部 硫酸バリウム ５部 メチルエチルケトン ２２００部 酢酸ブチル ３００部 トルエン ６００部 を連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルを用いて分散
させ、得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、調製した。

【０１７５】以上のような各方法を適宜、表１又は表３
のように組み合わせて得られたサンプルについて磁気特
性、中心面平均粗さ、面記録密度等を測定し、表２、表
４に示した。 （１）磁気特性（Ｈｃ）：振動試料型磁束計（東英工業
社製）を用い、Ｈｍ１０キロエルステッドで測定した。 （２）中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：３Ｄ−ＭＩＲＡＵ
での表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用
いて、ＭＩＲＡＵ法で約２５０μｍ×２５０μｍの面積
のＲａ値を測定した。測定波長約６５０nmにて球面補
正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定す
る非接触表面粗さ計である。 （３）面記録密度は、線記録密度とトラック密度を掛け
合わせたものである。 （４）線記録密度は記録方向１インチ当たりに記録する
信号のビット数である。 （５）トラック密度は、１インチ当たりのトラック数で
ある。 （６）Φｍは振動試料型磁束計（東英工業社製）を用
い、Ｈｍ１０キロエルステッドで測定した。 （７）テープのエラーレートは上記の線記録密度の信号
を８−１０変換 ＰＲ１等化方式でテープに記録しＤＤ
Ｓドライブを用いて測定した。 （８）ディスクのエラーレートは上記の線記録密度の信
号を(２，７)ＲＬＬ変調方式をディスクに記録し測定し
た。 （９）磁性層厚みは 磁気記録媒体を長手方向に渡って
ダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出
し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００倍〜１００００
０倍、好ましくは２００００倍〜５０，０００倍で観察
し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ
４〜Ａ５である。その後、磁性層、下層非磁性層の強磁
性粉末や非磁性粉末の形状差に注目して界面を目視判断
して黒く渕どり、かつ磁性層表面も同様に黒く渕どっ
た。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２に
て渕どりした線の長さを測定した。試料写真の長さが２
１ｃｍの場合、測定を８５〜３００回行った。その際の
測定値の平均値を磁性層厚みとした。 （１０）支持体の厚みは、前記方法によった。 （１１）支持体の厚みムラΔｔは、前記方法によった。 （１２）Ｃ／Ｆｅの測定 Φ社製ＰＨＩ−６６０型オージエ電子分光法測定器を用
い、Ｃ／Ｆｅ値を測定した。測定条件は次の通りであっ
た。

【０１７６】１次電子線の加速電圧３ｋＶ、試料電流１
３０ｎＡ、倍率２５０倍、傾斜角度３０度。 運動エネ
ルギー（Kinetic Energy）１３０eV〜７３０eVの範囲を
３回積算し、炭素のＫＬＬピークと鉄のＬＭＭピークの
強度を微分形で求め、Ｃ／Ｆｅの比を求めた。

【０１７７】

【表１】

【０１７８】

【表２】

【０１７９】実施例１８〜２０および参考例１では実施
例１３のディスクを用い、線記録密度とトラック密度を
変えて同様にエラーレートを測定した。

【０１８０】

【表３】

【０１８１】

【表４】

【０１８２】前述の如くエラーレートは上記の線記録密
度の信号を８−１０変換 ＰＲ１等化方式でテープに記
録しＤＤＳドライブを用いて測定した。実施例３３、３
４、参考例２は実施例２４のテープを用い、線記録密度
とトラック密度を変えて同様にエラーレートを測定し
た。

【０１８３】上記表の結果から本発明の磁気記録媒体は
従来のディスク状媒体に比べ、特に高密度記録領域での
エラーレートが１０^-5以下で格段に良好であることがわ
かる。またコンピュ−タ−テ−プにおいても同様にエラ
ーレートが１０^-5以下で格段に良好であることがわか
る。 実施例３５ ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 ｍＬ−１（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：ｍ−１ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２５５０エルステッド、比表面積５５m²/g、σs１４０emu/g 結晶子サイズ１２０Å、平均長軸長０．０４８μm、針状比 ４ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 ８％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ６％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 潤滑剤 ブチルステアレ−ト １０部 ブトキシエチルステアレ−ト ５部 イソヘキサデシルステアレ−ト ３部 又は上記３者（表５及び表７に対応）に代えて用いるエステル：表９、 表１１ ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ｍＬ−２（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末 ：ｍ−２ １００部 組成：Ｃｏ／Ｆｅ（原子比）３０％ Ｈｃ２３６０エルステッド、比表面積４９m² /g、σs１４６emu/g 結晶子サイズ１７０Å、平均長軸長０．１００μm、針状比 ６、 ＳＦＤ ０．５１ Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ５％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ５％） ｐＨ ９．４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ７０（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 潤滑剤 エチレングリコ−ルジオレイル（表５及び表７に対応） １２部 又はエステル：表９、表１１ オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ｍＬ−３（針状強磁性粉末使用） 強磁性金属粉末：ｍ−３ 組成／Ｆｅ：Ｎｉ＝９６：４ １００部 Ｈｃ１６００エルステッド、比表面積４５ｍ² /g 結晶子サイズ ２２０Å、σｓ１３５emu/g 平均長軸長 ０．２０μｍ、 針状比 ９ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ−８６００(東洋紡社製) ５部 αアルミナ（粒径０．６５μｍ） ２部 酸化クロム（粒子サイズ：０．３５μｍ） １５部 カ−ボンブラック（粒子サイズ：０．０３μｍ） ２部 カ−ボンブラック（粒子サイズ：０．３μｍ） ９部 潤滑剤 ブチルステアレ−ト ４部 ブトキシエチルステアレ−ト ４部 イソヘキサデシルステアレ−ト ４部 又は上記３者（表５及び表７に対応）に代えて用いるエステル：表９、 表１１ オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 磁性塗料 ｍＬ−４（板状強磁性粉末使用） １００部 バリウムフェライト粉末 ：ｍ−４ 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００エルステッド、比表面積５０m² ／ｇ、σs ５８emu/g 平均板径３５nm、板状比４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 潤滑剤 ブチルステアレ−ト １０部 ブトキシエチルステアレ−ト ５部 イソヘキサデシルステアレ−ト ３部 又は上記３者（表５及び表７に対応）に代えて用いるエステル：表９、 表１１ ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 磁性塗料 ｍＬ−５（板状強磁性粉末使用） バリウムフェライト粉末 ：ｍ−５ １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００エルステッド、比表面積５０m²／ｇ、σs ５８emu/g 平均板径３５nm、板状比２．５ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学工業社製） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 潤滑剤 エチレングリコ−ルジオレイル（表５及び表７に対応） １６部 又はエステル：表９、表１１ オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 非磁性塗料 ｎＵ−１（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ml/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 潤滑剤 ブチルステアレ−ト １０部 ブトキシエチルステアレ−ト ５部 イソヘキサデシルステアレ−ト ２部 又は上記３者（表５及び表７に対応）に代えて用いるエステル：表９、 表１１ ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ｎＵ−２（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル １００部 平均粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８ml/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ が存在 ケッチェンブラックＥＣ（ＡＫＵＺＯ ＮＯＢＥＬ社製） １３部 平均粒子径：３０ｎｍ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０ｍ² ／ｇ 揮発分：１．０％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ６部 フェニルホスホン酸 ４部 潤滑剤 エチレングリコ−ルジオレイル（表５及び表７に対応） １６部 又はエステル：表９、表１１ オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ｎＵ−３（球状無機粉末使用） 無機粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ７５部 平均粒子径０．０３５μm、比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ が存在 カ−ボンブラック ケッチェンブラックＥＣ １０部 αアルミナ ＡＫＰ−１５(住友化学工業社製） 平均粒子径：０．６５μｍ １５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８６００（東洋紡社製） ５部 ブチルステアレ−ト １０部 ブトキシエチルステアレ−ト ５部 イソヘキサデシルステアレ−ト ２部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 非磁性塗料 ｎＵ−４（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト ８０部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９ 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（塩化ビニル共重合体） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 潤滑剤 ブチルステアレ−ト １０部 ブトキシエチルステアレ−ト ５部 イソヘキサデシルステアレ−ト ２部 又は上記３者（表５及び表７に対応）に代えて用いるエステル：表９、 表１１ ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ｎＵ−５（針状無機粉末使用） 無機粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト １００部 平均長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し８重量％存在 カ−ボンブラック ＃３２５０B(三菱化成社製） １８部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 潤滑剤 エチレングリコ−ルジオレイル（表５及び表７に対応） １６部 又はエステル：表９、表１１ オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 製法１ （デイスク：Ｗ／Ｗ） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分
散液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１８４】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが所定の厚さになるように、後述のポリエチ
レンテレフタレ−ト支持体上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５０Hz、磁
場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０ガウスの
２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過されランダ
ム配向処理（ｏ−１）を行い乾燥後、７段のカレンダで
温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行い、３．７
吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナーが内側に
設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ社
製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の機
構部品を付加し、３．７吋フロッピーディスクを得た。

【０１８５】また一部のサンプルについてはランダマイ
ズ配向処理の前に４０００Ｇの同極対向Ｃｏ磁石による
長手配向を施した（ｏ−２）。

【０１８６】この場合、十分なランダマイズ化が最終的
行われるように交流磁場発生装置の周波数と磁場強度を
高くすることが好ましく、これにより配向度比９８％以
上を得ることができる。また、バリウムフェライト磁性
体を用いる場合は、一部のサンプルについて上記配向方
法以外に異極対向により垂直配向を施した（ｏ−４）。

【０１８７】尚、必要に応じ、ディスク形状に打ち抜い
たあと高温でのサーモ処理(通常５０℃〜９０℃)を行な
い塗布層の硬化処理を促進させる、研磨テープでバーニ
ッシュ処理をおこない、表面の突起を削るなどの後処理
を行ってもよい。 製法２ （コンピュ−タ−テープ：Ｗ／Ｗ） 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練したのち、
サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリ
イソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性
層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘ
キサノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形
成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１８８】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．７μｍになるようにさらにその直後にその上に磁
性層の厚さが所定の厚さになるように、後述のアラミド
（商品名：ミクトロン）支持体ｂ−４上に同時重層塗布
を行ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに６０００Ｇ
の磁力を持つコバルト磁石と６０００Ｇの磁力を持つソ
レノイドにより配向させた（ｏ−３）。乾燥後、金属ロ
−ルのみから構成される７段のカレンダ−で温度８５℃
にて分速２００ｍ／ｍｉｎ．で処理を行い、その後、厚
み０．５μｍのバックコート層を前記実施例２４等に用
いたバック層塗料を塗布することにより設けた。３．８
ｍｍの幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取
り装置を持った装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性
面に押し当たるように取り付け、テ−プクリ−ニング装
置で磁性層の表面のクリ−ニングを行い、得られた磁気
テ−プをＤＤＳ用カ−トリッジに組み込んだ。 製法３ （デイスク：Ｗ／Ｄ） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１８９】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるように後述の支持体ｂ−１上に塗布
し一度乾燥させ、カレンダ処理を行ったのち、さらにそ
の上に磁性層の厚さが０．１５μmになるようにブレー
ド方式により磁性層を塗布、周波数５０Hz、磁場強度２
５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０ガウスの２つの磁
場強度交流磁場発生装置の中を通過されランダム配向処
理（ｏ−１）をおこない、これ以降については製法１と
同様に行った。また非磁性層のカレンダー処理を行わな
い方法をとることもできる。 製法４（コンピュータテープ：Ｗ／Ｄ） 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練した後、サ
ンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にポリイ
ソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５部、磁性層
の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキ
サノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィル
ターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成
用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１９０】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．７μｍになるように後述の支持体ｂ−４上に塗布
し一度乾燥させ、カレンダ処理を行ったのち、さらにそ
の上に磁性層の厚さが０．１５μｍになるようにブレー
ド方式により磁性層を塗布、６０００Ｇの磁力を持つコ
バルト磁石と６０００Ｇの磁力を持つソレノイドにより
配向させた（ｏ−３）。これ以降については製法２と同
様に行った。また非磁性層のカレンダー処理を行わない
方法をとることもできる。 製法５ （デイスク：スピンコート） 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用およ
び磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【０１９１】得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さ
が１．５μmになるように後述の支持体ｂ−１上にスピ
ンコート塗布し一度乾燥させたのち、さらにその上に磁
性層の厚さが０．１５μmになるようにスピンコートに
より磁性層を塗布、６０００Ｇの同極対向Ｃｏ磁石によ
り円周方向に配向処理をおこなった（ｏ−５）。これを
製法１と同様な圧力が得られるバッチ方式の圧延処理を
行い表面を平滑化した。これ以降については製法１と同
様に行った。また、非磁性層をスピンコ―ト塗布し非磁
性層が未乾燥のうちにその上に磁性層をスピンコートす
る塗布する方式を用いることもできる。スピンコート方
式を用いることで、記録方向の残留磁化量が大きくなる
ばかりでなく、バリウムフェライトや短針状比の強磁性
金属粉末の垂直磁化成分を低減させ再生波形の対称性を
良好にすることができる。

【０１９２】表９及び表１１に記載の潤滑剤は以下の通
りである。 潤滑剤 ジエステル Ｌ−ａ１ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₅ Ｌ−ａ２ Ｃ₁₁Ｈ₂₁ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₁ Ｌ−ａ３ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₂ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ４ Ｃ₁₁Ｈ₂₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃ Ｌ−ａ５ Ｃ₂₇Ｈ₅₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₂₇Ｈ₅₃ Ｌ−ａ６ Ｃ₁₁Ｈ₂₁ＣＯＯ（ＣＨ₂）₄ＯＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ７ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₁₁ＯＣＯＣ₁₇Ｈ
₃₃ Ｌ−ａ８ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＯＣ
ＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ９ Ｃ₁₄Ｈ₂₇ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ＝ＣＨＣＨ₂ＯＣ
ＯＣ₁₄Ｈ₂₇ Ｌ−ａ１０ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯ（ＣＨ₂）₈ＯＣＯＣ₁₄Ｈ₂₇ Ｌ−ａ１１ Ｃ₁₇Ｈ₃₃ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂Ｏ
ＣＯＣ₁₇Ｈ₃₃ Ｌ−ａ１２ Ｃ₁₀Ｈ₂₁ＣＯＯＣＨ₂Ｃ（ＣＨ₃）₂ＣＨ₂Ｏ
ＣＯＣ₁₀Ｈ₂₁ Ｌ−ａ１３ Ｃ₁₃Ｈ₂₇ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃ＯＣＯＣ₁₃Ｈ₂₇ 潤滑剤 モノエステル Ｌ−ｂ１ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅ Ｌ−ｂ２ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣ₄Ｈ₉ Ｌ−ｂ３ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂ＯＣ₄Ｈ₉ Ｌ−ｂ４ Ｃ₁₇Ｈ₃₅ＣＯＯ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂Ｃ₄Ｈ₉ 上記製法で使用した支持体は以下の通りである。 支持体 ｂ−１ ポリエチレンテレフタレ−ト 厚さ：６２μｍ、Ｆ−５値：ＭＤ １１４ＭＰａ、ＴＤ
１０７ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ２７６ＭＰａ、ＴＤ ２８１ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ １７４ＭＰａ、ＴＤ １３９ＭＰａ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．０４％、ＴＤ
０．０５％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．２％、ＴＤ
０．３％ 温度膨張係数：長軸 １５×１０^-6／℃、短軸 １８×
１０^-6／℃ 中心面平均表面粗さ ３ｎｍ 厚みムラ １．５％ 支持体 ｂ−２ ポリエチレンナフタレート 厚さ：５５μ、中心面平均表面粗さ １．８ｎｍ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．００７％、Ｔ
Ｄ ０．００７％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．０２％、Ｔ
Ｄ ０．０２％ 温度膨張係数：長軸 １０×１０^-6／℃、短軸 １１×
１０^-6／℃ 厚みムラ ４．０％ 支持体 ｂ−３ ポリエチレンテレフタレ−ト 厚さ：６２μｍ、中心面平均表面粗さ ９ｎｍ 厚みムラ ７．２％ 支持体 ｂ−４ アラミド 厚さ ４．４μ Ｆ−５値：ＭＤ ３２０ＭＰａ、ＴＤ ４２０ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ４６０ＭＰａ、ＴＤ ２８０ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ ５０％、 ＴＤ ３０％ 熱収縮率（１５０℃、３０分）：ＭＤ ０．３％、ＴＤ
０．１％ 中心面平均表面粗さ ２ｎｍ 厚みムラ ４．８％ 上記製法の配向法は以下の通りである。 配向 ｏ−１ ランダマイズ配向を行う。

【０１９３】ｏ−２ Ｃｏ磁石で長手方向に配向した
後、ランダマイズ配向を行う。 ｏ−３ Ｃｏ磁石で長手方向に配向した後、ソレノイド
で長手方向に配向する。 ｏ−４ Ｃｏ磁石で垂直配向を行う。 ｏ−５ Ｃｏ磁石で円周配向を行う。

【０１９４】以上のような各方法を適宜、表５又は表７
のように組み合わせて得られたサンプルについて磁気特
性、中心面平均粗さ、面記録密度等を測定し表６又は表
８に示した。また、上記サンプルＮｏの各因子を保持し
て、潤滑剤の種類及び添加部数を表９に従って変更して
形成したディスクの媒体Ｎｏ１〜２０の評価結果を表１
０に、同様に潤滑剤の種類及び添加部数を表１１に従っ
て変更して形成したディスクの媒体Ｎｏ２１〜３９の評
価結果を表１２に、各々示した。 （１）磁気特性（Ｈｃ）：振動試料型磁束計（東英工業
社製）を用い、Ｈｍ１０キロエルステッドで測定した。 （２）中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：３Ｄ−ＭＩＲＡＵ
での表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用
いて、ＭＩＲＡＵ法で約２５０μｍ×２５０μｍの面積
のＲａ値を測定した。測定波長約６５０nmにて球面補
正、円筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定す
る非接触表面粗さ計である。 （３）線記録密度は記録方向１インチ当たりに記録する
信号のビット数である。 （４）トラック密度とは１インチ当たりのトラック数で
ある。 （５）面記録密度とは線記録密度とトラック密度を掛け
合わせたものである。 （６）Фｍは振動試料型磁束計（東英工業社製）を用
い、Ｈｍ１０キロエルステッドで測定した。

【０１９５】これら線記録密度、トラック密度、面記録
密度はシステムによって決まる値である。 （７）デイスクのエラーレートは上記の線記録密度の信
号を(２，７)ＲＬＬ変調方式をディスクに記録し測定し
た。 （８）テ−プのエラーレートは上記の線記録密度の信号
を８−１０変換 ＰＲ１等化方式でテープに記録しＤＤ
Ｓドライブを用いて測定した。 （９）磁性層厚みは磁気記録媒体を長手方向に渡ってダ
イヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出し、
透過型電子顕微鏡で倍率１００００倍〜１０００００
倍、好ましくは２００００倍〜５０，０００倍で観察
し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ
４〜Ａ５である。その後、磁性層、下層非磁性層の強磁
性粉末や非磁性粉末の形状差に注目して界面を目視判断
して黒く渕どり、かつ磁性層表面も同様に黒く渕どっ
た。その後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２に
て渕どりした線の長さを測定した。試料写真の長さが２
１ｃｍの場合、測定を８５〜３００回行った。その際の
測定値の平均値を磁性層厚みとした。 （１０）磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の空
間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜
０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉs）は、原子
間力顕微鏡（AFM）（米国デジタルインスツルメンツ社
製）を用い、100×100μｍの範囲を512X512画素のデー
タとして取り込んだ後、平滑化フィルター処理を行って得ら
れた表面粗さプロファイルに２次元のフーリエ変換処理
を施して各波長ごとの粗さ成分に分解する。そして、該
当する波長成分の範囲内の強度を積分し、得られた値を
それぞれ（Ｉ_L），（Ｉs）とした。 （１１）走行耐久性：フロッピディスクドライブ（米
Ｉｏｍｅｇａ社製 ＺＩＰ１００：回転数２９６８ｒｐ
ｍ）を用い半径３８ｍｍ位置にヘッドを固定し、記録密
度３４ｋｆｃｉで記録を行った後その信号を再生し、１
００％とした。その後、以下のフローを１サイクルとす
るサーモサイクル環境で１５００時間走行させた。走行
２４時間おきに出力をモニタ−しその出力が初期の値の
７０％以下となった点をＮＧとした。 （サーモサイクルフロー）２５℃、５０％ＲＨ １時間
→（昇温 ２時間）→６０℃、２０％ＲＨ ７時間→
（降温 ２時間）→２５℃、５０％ＲＨ １時間→（降
温 ２時間）→５℃、５０％ＲＨ ７時間→（昇温 ２
時間）→＜これを繰り返す＞ （１２）ライナーウエア評価 ヘッドオフの状態で走行耐久性と同じ環境で、サンプル
を１０００ｈｒ走行させ、終了したサンプルを走行後カ
ートリッジケースを開き磁気ディスクの磁性層表面を目
視観察し評価した。 ○：磁性層表面に欠陥がないもの △：磁性層表面の一部に細かな傷が発生したもの ×：磁性層表面全体に細かな傷が発生したもの （１３）ライナ付着評価 ヘッドオフの状態で走行耐久性と同じ環境で、サンプル
を１０００ｈｒ走行させ、終了したサンプルを走行後カ
ートリッジケースを開き磁気ディスクの磁性層表面を目
視観察し評価した。 ○：磁性層表面にライナの付着がないもの △：磁性層表面の一部にライナの付着が発生したもの ×：磁性層表面全体にライナの付着が発生したもの （１４）起動トルク評価 東日製作所トルクゲ−ジ モデル３００ＡＴＧを用い
て、Ｉｍａｔｉｏｎ社製ＬＳ−１２０ドライブにおける
ヘッドオン時の起動トルクを測定した（単位：g・c
m）。

【０１９６】

【表５】

【０１９７】

【表６】

【０１９８】サンプルＮｏ１８〜２０ではサンプルＮｏ
１３のディスクを用い、線記録密度とトラック密度を変
えて同様にエラーレートを測定した。

【０１９９】

【表７】

【０２００】

【表８】

【０２０１】前述の如くエラーレートは上記の線記録密
度の信号を８−１０変換 ＰＲ１等化方式でテープに記
録しＤＤＳドライブを用いて測定した。サンプルＮｏ３
０、３１はサンプルＮｏ２４のテープを用い、線記録密
度とトラック密度を変えて同様にエラーレートを測定し
た。上記表の結果から本発明の磁気記録媒体は従来のデ
ィスク状媒体、比較例１〜３に比べ、特に高密度記録領
域でのエラーレートが１０^-5以下で格段に良好であるこ
とがわかる。

【０２０２】

【表９】

【０２０３】

【表１０】

【０２０４】

【表１１】

【０２０５】

【表１２】

【０２０６】表９〜１２（上層及び下層の基本処方につ
いては表５参照）の結果より明らかな如く、モノエステ
ルの潤滑剤とジエステルの潤滑剤を併用した場合には顕
著に走行耐久性、ライナウエア、ライナ付着、起動トル
クの点で良好な効果を発揮した。なお、実験結果につい
ては明記しないが、上記モノエステルとジエステルの潤
滑剤を併用した場合には、コンピュ−タ−テ−プに適用
しても、良好な１００パス後や１０００パス後において
も低い摩擦係数が得られ、また耐久性として目詰まりが
少なく、耐磨耗性の優れた磁気記録媒体が得られ、好ま
しいことがわかった。

【０２０７】

【発明の効果】本発明は支持体上に実質的に非磁性であ
る下層と強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト
粉末である強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層
をこの順に設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録
媒体は面記録密度が０．１７〜２Ｇbit/inch²の信号を
記録する磁気記録媒体であり、前記磁性層の抗磁力が１
８００エルステッド以上であり、かつ前記支持体の厚み
ムラが該支持体の厚みに対して５％以下であることを特
徴とする磁気記録媒体、好ましくは前記前記磁性層の表
面粗さの１０〜２μｍの長波長の空間周波数強度
（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜０．５μｍの短
波長の空間周波数強度（Ｉs）の比（Ｉ_L／Ｉs）が1.5よ
りも小さいことことを特徴とする磁気記録媒体によって
達成できる。また、好ましくは前記磁性層の乾燥厚みが
０．０５〜０．３０μｍであり、且つΦｍが１０．０×
１０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² であることを特徴とす
る磁気記録媒体、さらには前記磁気記録媒体は面記録密
度が０．２０〜２Ｇbit/inch²の信号を記録する磁気記
録媒体であることを特徴とする磁気記録媒体とすること
で、従来の塗布型の磁気記録媒体の技術では得ることが
できなかった大容量で優れた高密度特性と優れた耐久性
を併せ持つ高密度記録領域でのエラーレートが格段に改
良された磁気記録媒体を得ることができる。

フロントページの続き (72)発明者 中三川 順一 神奈川県小田原市扇町２丁目12番１号 富 士写真フイルム株式会社内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層
   と、強磁性金属粉末または強磁性六方晶フェライト粉末
   である強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層とを
   この順に設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録媒
   体は面記録密度が０．１７〜２Ｇbit/inch²の信号を記
   録する磁気記録媒体であり、前記磁性層の抗磁力が１８
   ００エルステッド以上であり、且つ前記支持体の厚みム
   ラが該支持体の厚みに対して５％以下であることを特徴
   とする磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの
   長波長の空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗
   さの１〜０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉs）
   の比（Ｉ_L／Ｉs）が1.5よりも小さいことを特徴とする
   請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．
   ３０μｍであり、Φｍが１０．０×１０^-3〜１．０×１
   ０^-3emu/cm² であることを特徴とする請求項１又は２に
   記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記支持体のＦ−５値が４９〜４９０Ｍ
   Ｐａであることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項
   に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記支持体の破断強度が４９〜９８０Ｍ
   Ｐａであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項
   に記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記磁性層の表面をオ−ジェ電子分光法
   で測定したときのＣ／Ｆｅピ−ク比が５〜１２０である
   ことを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の磁
   気記録媒体。