JPH1164060A - 質量流量制御装置 - Google Patents

質量流量制御装置

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JPH1164060A
JPH1164060A JP22744297A JP22744297A JPH1164060A JP H1164060 A JPH1164060 A JP H1164060A JP 22744297 A JP22744297 A JP 22744297A JP 22744297 A JP22744297 A JP 22744297A JP H1164060 A JPH1164060 A JP H1164060A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 取付け姿勢に起因して生ずるサーマルサイフ
ォン現象を生じないようにし、取付け姿勢の如何に拘り
なく流体の質量流量を精度よく検出できる質量流量制御
装置を提供すること。 【解決手段】 本体ブロック1に形成された流体入口2
aと流体出口3aとの間に、流体をバイパスさせるバイ
パス部15と、流体の流量測定を行うためのセンサ部5
とを並列的に設けた質量流量制御装置において、前記セ
ンサ部5とバイパス部15との間に、センサ部5におけ
るセンサ素子12,13が設けられた流路部分11aと
平行となる流路26bを設けるとともに、この平行流路
26bを前記センサ部5における発熱量と同程度に加熱
するためのヒータ27を設けている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、流体流量を制御
するマスフローコントローラや流体の流量を測定するマ
スフローメータなどの質量流量制御装置に関し、特に、
自己発熱抵抗体などのセンサ素子を用いてサーマル方式
によって質量流量を計測する質量流量制御装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】上記マスフローコントローラなどの質量
流量制御装置は、半導体製造装置などに各種の分野で広
く用いられている。図6は、従来のマスフローコントロ
ーラを概略的に示すもので、この図において、1は本体
ブロック、2,3は本体ブロック1の両端に連設される
流体導入用継手、流体導出用継手である。4は流体入口
2aと流体出口3aとの間に形成される流体流路で、流
体流量を測定するためのセンサ部5と流量を制御するた
めの制御弁部6とが設けられている。
【0003】前記センサ部5は、流体流路4に臨むよう
に開設された測定流路入口7と測定流路出口8との間
を、本体ブロック1の上面にシール機構9を介して設け
られるセンサブロック10を挿通するように逆U字状に
形成された例えば薄肉毛細管(キャピラリ)よりなるセ
ンサ管11の上部の平坦なセンサ流路部分11aに2つ
の熱式質量流量センサ素子としての自己発熱抵抗体(以
下、単にセンサ素子という)12,13を巻回してなる
もので、センサ素子12,13はブリッジ回路(図示し
てない)に接続されている。なお、14はセンサ管11
およびセンサ素子12,13を覆う断熱性のカバーであ
る。
【0004】そして、15はセンサ部5に対して並列的
に流体流路4に形成されるバイパス部で、定分流比特性
を有する層流素子16が設けられている。
【0005】前記制御弁部6は、次のように構成されて
いる。すなわち、バイパス部15よりも下流側の流体流
路4に、弁口17とこの弁口17を開閉する弁体18と
これの下端部周囲に設けられるダイヤフラム19を備え
た弁ブロック20が設けられている。この弁ブロック2
0の上方には、弁体18を下方に押圧駆動する弁アクチ
ュエータとしてのピエゾスタック21が、弁ブロック2
0上に立設された筒状のバルブケース22内に収容され
た状態で設けられている。23はピエゾスタック21の
出力を弁体18に伝えるための金属製の真球である。
【0006】上記構成のマスフローコントローラにおい
ては、例えば流体入口2aから流入したガスGは、セン
サ部5とバイパス部15に分流される。センサ部5にお
いてガスGの質量流量に比例した温度変化を捉えてブリ
ッジ回路で電気信号に変換され、この信号は増幅回路
(図示してない)や補正回路(図示してない)を経て流
量出力信号として比例制御回路(図示してない)に入力
される。この比例制御回路には外部から流量設定信号が
入力されており、流量出力信号と流量設定信号とを比較
してその差信号をバルブ駆動回路(図示してない)に送
り、このバルブ駆動回路からの制御信号によって制御弁
部6が前記差信号がゼロになるように動作し、常に設定
された流量に制御するのである。
【0007】ところで、上記構成のマスフローコントロ
ーラは、半導体製造装置の小型化や、配管系統の構成上
または設置スペースなどの関係で、図7に示すように、
2つのセンサ素子12,13が巻設されたセンサ流路部
分11a(バイパス部15と平行な部分)が垂直となる
ように、センサ部5を垂直姿勢の状態となるようにして
設置しなければならないことがある。マスフローコント
ローラをこのように設置することをZ方向設置という。
【0008】そして、 マスフローコントローラを上記Z方向に設置する。 分子量の大きいガスを流す。 ガスの一次側圧力が高い。 というような条件が重なると、マスフローコントローラ
のゼロ点が変動する。この現象は一般にサーマルサイフ
ォン現象と呼ばれている。
【0009】上記サーマルサイフォン現象が発生する原
因について、図7を参照しながら説明すると、センサ素
子12,13で温められたガスGがセンサ管11のセン
サ流路部分11aを矢印A方向に上昇し、次いで、バイ
パス部15で冷却されて矢印B方向に降下し、再びセン
サ素子12,13方向に戻るといったガスの循環流が生
じる。したがって、マスフローコントローラのガス導入
口2aが下方になるようにマスフローコントローラが取
り付けられている場合は、センサ管11内をガスGが順
方向に流れてプラスの出力が発生し、逆に、ガス導入口
2aが上方になっている場合は、マイナスの出力が発生
する。
【0010】なお、上記サーマルサイフォン現象は、マ
スフローコントローラをZ方向設置したときにおいての
み生じ、マスフローコントローラをこれ以外の状態(姿
勢)で設置した場合には生じないものである。
【0011】上述のようなサーマルサイフォン現象を回
避する手法として、a.センサ管11の内径を小さくす
る。b.センサ部5における流路を変える。などが試み
られている。
【0012】しかしながら、上記手法aによっても、サ
ーマルサイフォン現象を完全に防止することはできず、
センサ管11を細くすることにより詰まりが生じやすく
なるといった問題がある。また、上記手法bによるとき
は、センサ素子12,13そのもののを改造する必要が
あるとともに、コンバージョンファクタ(C.F.)な
どの流量特性に変化が生じ、そのため、多大の費用が嵩
むとともに、時間が必要になる。
【0013】なお、上述の課題は、マスフローコントロ
ーラの構成から制御弁部6を除去して構成したマスフロ
ーメータにおいても同様に生じているところである。
【0014】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、取付け姿勢に起因して生ずるサ
ーマルサイフォン現象を生じないようにし、取付け姿勢
の如何に拘りなく流体の質量流量を精度よく検出できる
質量流量制御装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、本体ブロックに形成された流体入口
と流体出口との間に、流体をバイパスさせるバイパス部
と、流体の流量測定を行うためのセンサ部とを並列的に
設けた質量流量制御装置において、前記センサ部とバイ
パス部との間に、センサ部におけるセンサ素子が設けら
れた流路部分と平行となる流路を設けるとともに、この
平行流路を前記センサ部における発熱量と同程度に加熱
するためのヒータを設けている。
【0016】上記構成の質量流量制御装置においては、
取付け姿勢の如何に拘りなくサーマルサイフォン現象の
発生を防止することができ、したがって、サーマルサイ
フォン現象によるゼロ点の変動を生じることがないの
で、その取付け姿勢の如何に拘わりなく、質量流量を精
度よく検出することができる。
【0017】そして、上記質量流量制御装置において
は、センサ部自体の構成を何ら変更したり改造する必要
がなく、従来からのセンサ部をそのまま使用できるとい
った利点がある。
【0018】また、平行流路とヒータとを一つのブロッ
ク体に形成し、このブロック体を本体ブロックとセンサ
部との間に介装するようにしたり、平行流路を管で形成
し、この管の外周にヒータを設けるようにしてもよく、
このようにした場合、サーマルサイフォン現象を打ち消
すための機構を、質量流量制御装置に対して着脱自在と
できるので、質量流量制御装置が前記Z方向姿勢で取り
付けられる場合のみ、前記機構を取り付けるだけでよ
い。
【0019】
【発明の実施の形態】発明の実施の形態を図面を参照し
ながら説明する。以下の図において、図6および図7に
示した符号と同一のものは同一物である。
【0020】図1〜図3は、この発明の一つの実施の形
態を示すものである。図1および図2において、24は
本体ブロック1とセンサブロック10との間にサンドイ
ッチ状態に着脱自在に介装されるブロック体(以下、流
路変更ブロックという)で、この流路変更ブロック24
は、例えば本体ブロック1と同様にステンレス鋼よりな
る。
【0021】前記流路変更ブロック24は、図2に示す
ように、その内部に、上端がセンサブロック10に保持
されたセンサ管11の上流側の開口11bと連なり、下
端が本体ブロック1側の上流側開口7と連なる鉛直方向
の直線的流路25と、上端がセンサ管11の下流側の開
口11cと連なり、下端が本体ブロック1側の下流側開
口8と連なる屈曲流路26とが形成されるとともに、ヒ
ータ27が設けられている。
【0022】前記屈曲流路26は、図3にも示すよう
に、前記開口11cと連なり、直線的流路25と平行な
流路26aと、この流路26aの下流側を直線的流路2
5側に90°屈曲し、センサ管11のセンサ素子12,
13を設けたセンサ流路部分11aと平行になるように
形成された流路26bと、この流路26bの下流側を下
方に90°屈曲して直線的流路25と平行になるように
形成された流路26cと、この流路26cの下流側を直
線的流路25から遠ざかる方向に90°屈曲し、流路2
6bと平行になるように形成された流路26dと、この
流路26dの下流側を下方に90°屈曲して直線的流路
25と平行、かつ前記開口8に連なる流路26eとから
なる。
【0023】前記ヒータ27は、屈曲流路26のセンサ
流路部分11aに近い平行流路26bに沿うようにして
設けられた穴28内に例えばねじ込まれるようにして設
けられている。このヒータ27は、センサ素子12,1
3によって生ずる熱量と同程度に平行流路26bを加熱
するように、図示してない制御装置によりオンオフさ
れ、発熱量を調整できるように構成されている。
【0024】そして、上記流路変更ブロック24は、本
体ブロック1およびセンサブロック10とにサンドイン
チされた状態で設けられ、それら1,10と間にはシー
ル部材29,30が介装されている。
【0025】上記構成のマスフローコントローラを、Z
方向姿勢で設置する場合、すなわち、センサ管11のセ
ンサ流路部分11aが垂直となるように、センサ部5を
垂直姿勢の状態となるように設置する場合、前記ヒータ
27を発熱させる。このヒータ27の発熱により、図3
において仮想線Cで示すような上昇ガス流Cが発生す
る。このため、センサ素子12,13で温められること
により発生した上昇ガス流Aは、前記ヒータ加熱によっ
て発生した上昇ガス流Cによって打ち消され、バイパス
部15まで至らず、ガスの循環が生じることがない。つ
まり、ヒータ27としては、上昇ガス流Aをキャンセル
させるに必要な上昇ガス流Cを発生させる程度に発熱さ
せればよい。
【0026】したがって、前記条件〜が重なって
も、サーマルサイフォン現象が生ずるといったことがな
くなり、マスフローコントローラのゼロ点が変動すると
いったことがなくなり、ガスの質量流量を精度よく検出
することができる。
【0027】そして、この実施の形態においては、前記
サーマルサイフォン現象を打ち消すための機構を、本体
ブロック1やセンサブロック10に対して着脱自在な流
路変更ブロック24内に設けているので、マスフローコ
ントローラを前記Z方向姿勢で設置する場合のみ、流路
変更ブロック24を本体ブロック1とセンサブロック1
0との間に取り付けるだけでよい。
【0028】そして、前記流路変更ブロック24の取付
けに際しては、センサ部5の構成、特に、センサ素子1
2,13としては従来のこの種のマスフローコントロー
ラに設けられていたセンサ素子をそのまま使用すること
ができ、コンバージョンファクタなどの流量特性に変化
が生ずることがないとともに、改造のために余分なコス
トが生じるといったことがなく、ユーザにとってもきわ
めて望ましい。
【0029】この発明は、上述の実施の形態に限られる
ものではなく、種々に変形して実施することができ、例
えば、平行流路26bを加熱するヒータとしては、図4
に示すように、プレート状のヒータ31を流路変更ブロ
ック24の所定の箇所に設けるようにしてもよい。
【0030】また、上記の各実施の形態においては、直
線的流路25および屈曲流路26を流路変更ブロック2
4内に形成していたが、これに代えて、図5に示すよう
に、本体ブロック1およびセンサブロック10にそれぞ
れ対応する当接面32a,32bを有するコ字状のステ
ンレス鋼製のブロック体32に、流路25,26をステ
ンレス鋼製の管によって形成し、管26’の平行流路2
6’bの外周にヒータ30を巻設してもよい。なお、こ
の図5において、’を付した番号は、付してない番号2
5,26に対応する部材を示している。
【0031】前記図4および図5にそれぞれ示される実
施の形態における作用効果は、図1〜図3に示した実施
の形態のそれと同じであるので、その詳細な説明は省略
する。
【0032】この発明は、上記マスフローコントローラ
にのみに限られるものではなく、マスフローコントロー
ラの構成から制御弁部6を除去して構成したマスフロー
メータにおいても同様に適用できることはいうまでもな
い。
【0033】
【発明の効果】この発明の質量流量制御装置によれば、
その取付け姿勢などに起因するサーマルサイフォン現象
を確実に防止することができ、サーマルサイフォン現象
に起因して生ずるゼロ点シフトがなくすることができ
る。したがって、質量流量制御装置の姿勢の如何に拘り
なく流体、特にガス質量流量を精度よく検出できる。
【0034】そして、この発明によれば、センサ素子な
どセンサ部の構成をなんら変更する必要がなく、従来の
質量流量制御装置に若干の改良を加えるだけでよいの
で、ユーザサイドに余分な負担を与えたりすることがな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一つの実施の形態における質量流量
制御装置を示す縦断面図である。
【図2】前記質量流量制御装置に組み込まれる流路変更
ブロック近傍の構成を示す分解斜視図である。
【図3】前記流路変更ブロック近傍を拡大して示す図で
ある。
【図4】他の実施の形態における流路変更ブロック近傍
の構成を示す分解斜視図である。
【図5】さらに、他の実施の形態における流路変更ブロ
ックの構成を示す斜視図である。
【図6】従来の質量流量制御装置を示す縦断面図であ
る。
【図7】発明の解決すべき課題を説明するための図であ
る。
【符号の説明】
1…本体ブロック、2a…流体入口、3a…流体出口、
5…センサ部、11a…センサ流路部分、12,13…
センサ素子、15…バイパス部、24,32…ブロック
体、26b…平行流路、26’…管、27,31,33
…ヒータ。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 本体ブロックに形成された流体入口と流
    体出口との間に、流体をバイパスさせるバイパス部と、
    流体の流量測定を行うためのセンサ部とを並列的に設け
    た質量流量制御装置において、前記センサ部とバイパス
    部との間に、センサ部におけるセンサ素子が設けられた
    流路と平行となる流路を設けるとともに、この平行流路
    を前記センサ部における発熱量と同程度に加熱するため
    のヒータを設けたことを特徴とする質量流量制御装置。
  2. 【請求項2】 平行流路とヒータとを一つのブロック体
    に形成し、このブロック体を本体ブロックとセンサ部と
    の間に介装してなる請求項1に記載の質量流量制御装
    置。
  3. 【請求項3】 平行流路を管で形成し、この管の外周に
    ヒータを設けてなる請求項1に記載の質量流量制御装
    置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002174539A (ja) * 2000-12-05 2002-06-21 Nippon M K S Kk マスフローコントローラ
KR20190134710A (ko) 2017-03-30 2019-12-04 가부시키가이샤 후지킨 질량 유량 센서, 그 질량 유량 센서를 구비하는 질량 유량계 및 그 질량 유량 센서를 구비하는 질량 유량 제어기

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