JPH1162838A - Method and device for supplying chemicals - Google Patents
Method and device for supplying chemicalsInfo
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- JPH1162838A JPH1162838A JP23025997A JP23025997A JPH1162838A JP H1162838 A JPH1162838 A JP H1162838A JP 23025997 A JP23025997 A JP 23025997A JP 23025997 A JP23025997 A JP 23025997A JP H1162838 A JPH1162838 A JP H1162838A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体製
造工程に使用される薬液の供給方法及びその装置に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for supplying a chemical solution used in, for example, a semiconductor manufacturing process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に、半導体製造装置の製造工程にお
いては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理体
（以下にウエハ等という）を薬液やリンス液（洗浄液）
等の処理液が貯留された処理槽に順次浸漬して洗浄を行
う洗浄処理方法が広く採用されている。また、このよう
な洗浄処理においては、洗浄後のウエハ等の表面に薬液
例えばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等の揮発性を
有する有機溶剤の蒸気からなる乾燥ガスを接触させ、乾
燥ガスの蒸気を凝縮あるいは吸着させて、ウエハ等の水
分の除去及び乾燥を行う乾燥処理が施されている。2. Description of the Related Art Generally, in a manufacturing process of a semiconductor manufacturing apparatus, an object to be processed (hereinafter, referred to as a wafer or the like) such as a semiconductor wafer or LCD glass is washed with a chemical solution or a rinsing solution (cleaning solution).
A cleaning method of sequentially immersing in a processing tank in which a processing liquid such as the above is stored for cleaning is widely adopted. In such a cleaning process, a cleaning gas such as a vapor of a volatile organic solvent such as IPA (isopropyl alcohol) is brought into contact with the surface of a wafer or the like after cleaning to condense or dry the vapor of the drying gas. A drying process for removing moisture from the wafer or the like and drying the wafer by suction is performed.
【０００３】従来のこの種の乾燥処理装置は、キャリア
ガス例えば窒素（Ｎ2）等の不活性ガスの供給部と、乾
燥ガスの組成物であるＩＰＡを加熱して蒸気を生成する
蒸気発生器と、この蒸気発生器で生成された蒸気すなわ
ち乾燥ガスを乾燥処理室に供給すべく開閉弁を介設する
供給管路とを具備してなる。A conventional drying apparatus of this type includes a supply section for supplying an inert gas such as a carrier gas, for example, nitrogen (N 2), a steam generator for heating IPA which is a composition of the drying gas to generate steam. And a supply pipe provided with an on-off valve for supplying the steam generated by the steam generator, that is, the drying gas, to the drying processing chamber.
【０００４】また、蒸気発生器にＩＰＡを供給する方法
として、例えばキャニスタータンク等に貯留されたＩＰ
Ａの一定量を計量タンクへ取り入れ、これを循環濾過す
ると共に、計量タンク内のＩＰＡの所定量を往復動ポン
プ例えばベローズポンプによって蒸気発生器へ供給する
ように構成された薬液の供給装置が使用されている。As a method of supplying IPA to a steam generator, for example, IP stored in a canister tank or the like is used.
A certain amount of A is taken into a measuring tank, which is circulated and filtered, and a chemical liquid supply device configured to supply a predetermined amount of IPA in the measuring tank to a steam generator by a reciprocating pump such as a bellows pump is used. Have been.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところで、乾燥ガスの
生成効率の向上を図る手段として、ノズル式の蒸気発生
器が使用される場合がある。したがって、このノズル式
の蒸気発生器を用いる場合には、ある圧力以上でＩＰＡ
を吐出供給する必要がある。As a means for improving the efficiency of generating dry gas, a nozzle-type steam generator is sometimes used. Therefore, when using this nozzle type steam generator, IPA
Must be supplied.
【０００６】しかしながら、一般にベローズポンプは例
えばテフロン等の合成樹脂製のべローズを用いるため、
吐出圧が大きく取れないという問題があり、所定量のＩ
ＰＡを蒸気発生器に供給することができないばかりか乾
燥ガスの生成効率の低下をきたすという問題があった。However, since a bellows pump generally uses a bellows made of a synthetic resin such as Teflon, for example,
There is a problem that a large discharge pressure cannot be obtained.
There is a problem that not only PA cannot be supplied to the steam generator, but also the efficiency of dry gas generation is reduced.
【０００７】また、計量タンクの循環系には、循環ポン
プ及びフィルタが介設されているが、ＩＰＡの循環濾過
の際に、ＩＰＡ中に空気が混入（溶融）する虞れがあ
り、この空気の混入によってＩＰＡの供給量が一定量で
なくなり、乾燥ガスの生成効率が低下するという問題が
あった。また、ＩＰＡ中に空気が混入（溶融）すると、
蒸気発生器において揮発性のＩＰＡを加熱する際に爆発
等の危険性の虞れもある。Further, a circulation pump and a filter are interposed in the circulation system of the measuring tank. However, air may be mixed (melted) into the IPA during the circulation filtration of the IPA. There is a problem in that the supply amount of IPA is no longer constant due to the mixing of, and the generation efficiency of dry gas is reduced. When air is mixed (melted) into IPA,
There is also a danger of explosion or the like when heating volatile IPA in the steam generator.
【０００８】この発明は上記事情に鑑みなされたもの
で、使用する薬液を所定の圧力で一定量供給可能にした
薬液の供給方法及びその装置を提供することを目的とす
るものである。The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for supplying a chemical solution capable of supplying a constant amount of a chemical solution to be used at a predetermined pressure.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１記載の発明は、タンク内に貯留される薬液
の所定量を往復動ポンプの駆動によって処理部へ供給す
る薬液の供給方法において、 上記ポンプの吐出量を、
単位時間当りに発生させるパルス状加圧気体の回数と、
ダイヤフラムの駆動ストロークにより変化させ、 上記
ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段により吐出さ
れる薬液の圧力波形をモニタする、ことを特徴とする。In order to achieve the above object, according to the present invention, a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank is supplied to a processing unit by driving a reciprocating pump. In the method, the discharge amount of the pump is
The number of pulsed pressurized gas generated per unit time,
The pressure waveform is changed by the driving stroke of the diaphragm, and the pressure waveform of the chemical discharged by the pressure detecting means disposed on the discharge side of the pump is monitored.
【００１０】請求項２記載の発明は、タンク内に貯留さ
れる薬液の所定量を往復動ポンプの駆動によって処理部
へ供給する薬液の供給方法において、 上記ポンプの吐
出量を、単位時間当りに発生させるパルス状加圧気体の
回数と、ダイヤフラムの駆動ストロークにより変化さ
せ、 上記ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段に
より吐出される薬液の圧力波形をモニタすると共に、モ
ニタしている圧力波形の変化を、ポンプ駆動用パルス状
加圧気体の圧力にフィードバックして、薬液の吐出供給
量を制御する、ことを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for supplying a chemical solution to a processing unit by supplying a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank to a processing unit by driving a reciprocating pump. The number of pulsed pressurized gas to be generated and the driving stroke of the diaphragm are varied to monitor the pressure waveform of the chemical discharged by the pressure detecting means disposed on the discharge side of the pump, and to monitor the monitored pressure. The change in the waveform is fed back to the pressure of the pulsed pressurized gas for driving the pump to control the discharge and supply amount of the chemical solution.
【００１１】請求項３記載の発明は、タンク内に貯留さ
れる薬液の所定量を往復動ポンプの駆動によって処理部
へ供給する薬液の供給方法において、 上記タンクに併
設された、循環ポンプ及びフィルタを具備する循環系に
おいて、上記フィルタにて薬液中に含まれる空気を除去
し、除去された空気を上記タンクの空気溜り部へ排出す
る、ことを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for supplying a chemical solution to a processing unit by driving a reciprocating pump to drive a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank. Wherein the air contained in the chemical solution is removed by the filter, and the removed air is discharged to the air reservoir of the tank.
【００１２】請求項４記載の発明は、タンク内に貯留さ
れる薬液の所定量を往復動ポンプの駆動によって処理部
へ供給する薬液の供給方法において、 上記タンクの空
気溜り部へ不活性ガスを供給して薬液中に含まれる空気
を除去する、ことを特徴とする。この場合、上記タンク
の空気溜り部の容積変化に追従して不活性ガスを供給す
ることも可能である（請求項５）。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a method for supplying a chemical solution to a processing unit by driving a reciprocating pump to drive a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank. The method is characterized in that the air is supplied to remove air contained in the chemical solution. In this case, it is possible to supply the inert gas following the change in the volume of the air reservoir of the tank.
【００１３】また、請求項６記載の発明は、薬液を貯留
するタンクと、このタンク内の薬液の所定量を処理部へ
供給する往復動ポンプとを具備する薬液の供給装置にお
いて、 上記往復動ポンプを、単位時間当りに発生させ
るパルス状加圧気体の導入によって駆動するダイヤフラ
ム式ポンプにて形成し、 上記ダイヤフラム式ポンプの
吐出側に、圧力検知手段を配設し、 上記圧力検知手段
からの検知信号に基づいて上記ポンプにより吐出される
薬液の圧力波形をモニタする制御手段を設けてなる、こ
とを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a chemical liquid supply apparatus comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to the processing section. The pump is formed by a diaphragm pump driven by introduction of a pulsed pressurized gas generated per unit time, and pressure detection means is disposed on the discharge side of the diaphragm pump. Control means for monitoring a pressure waveform of the chemical solution discharged by the pump based on the detection signal is provided.
【００１４】請求項７記載の発明は、薬液を貯留するタ
ンクと、このタンク内の薬液の所定量を処理部へ供給す
る往復動ポンプとを具備する薬液の供給装置において、
上記往復動ポンプを、単位時間当りに発生させるパル
ス状加圧気体の導入によって駆動するダイヤフラム式ポ
ンプにて形成し、 上記ダイヤフラム式ポンプの吐出側
に、圧力検知手段を配設し、 上記圧力検知手段からの
検知信号に基づいて上記ポンプにより吐出される薬液の
圧力波形をモニタすると共に、上記ポンプの駆動用パル
ス状加圧気体の圧力を制御する制御手段を設けてなる、
ことを特徴とする。According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a chemical solution supply device comprising: a tank for storing a chemical solution; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical solution in the tank to the processing section.
The reciprocating pump is formed by a diaphragm pump driven by introduction of a pulsed pressurized gas generated per unit time, and pressure detecting means is disposed on a discharge side of the diaphragm pump. Monitoring the pressure waveform of the chemical solution discharged by the pump based on the detection signal from the means, and providing control means for controlling the pressure of the pulsed pressurized gas for driving the pump,
It is characterized by the following.
【００１５】請求項８記載の発明は、薬液を貯留するタ
ンクと、このタンク内の薬液の所定量を処理部へ供給す
る往復動ポンプとを具備する薬液の供給装置において、
上記タンクに併設して、循環ポンプ及びフィルタを具
備する循環路を設けると共に、上記フィルタに設けられ
た空気抜きポートと上記タンクの空気溜り部とを接続
し、この接続部に開閉弁を介設してなる、ことを特徴と
する。The invention according to claim 8 is a chemical solution supply device comprising a tank for storing a chemical solution and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical solution in the tank to the processing section.
Along with the tank, a circulation path including a circulation pump and a filter is provided, and an air vent port provided in the filter is connected to an air reservoir of the tank, and an on-off valve is provided at the connection. It is characterized by that.
【００１６】請求項９記載の発明は、薬液を貯留するタ
ンクと、このタンク内の薬液の所定量を処理部へ供給す
る往復動ポンプとを具備する薬液の供給装置において、
上記タンクの空気溜り部に不活性ガス供給手段を配設
し、この不活性ガス供給手段を不活性ガス供給源に接続
してなる、ことを特徴とする。この場合、上記不活性ガ
ス供給源は、タンクの空気溜り部の容積変化に追従して
容積変化する不活性ガスを収容する可撓性伸縮容器を具
備するものにて形成することができる（請求項１０）。According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a chemical liquid supply apparatus comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to the processing section.
An inert gas supply means is provided in the air reservoir of the tank, and the inert gas supply means is connected to an inert gas supply source. In this case, the inert gas supply source can be formed with a flexible telescopic container that contains an inert gas whose volume changes in accordance with a change in the volume of the air reservoir of the tank. Item 10).
【００１７】請求項１又は６記載の発明によれば、単位
時間当りに発生させるパルス状加圧気体の回数と、ダイ
ヤフラムの駆動ストロークによりポンプ吐出量を変化さ
せ、ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段により検
知される検知信号を制御手段によって吐出される薬液の
圧力波形をモニタすることにより、一定量の薬液を所定
の圧力で供給することができる。According to the first or sixth aspect of the present invention, the pump discharge amount is changed by the number of times of the pulsed pressurized gas generated per unit time and the driving stroke of the diaphragm, and the pump discharge amount is arranged on the discharge side of the pump. By monitoring the detection signal detected by the pressure detecting means and the pressure waveform of the chemical discharged by the control means, a constant amount of the chemical can be supplied at a predetermined pressure.
【００１８】請求項２又は７記載の発明によれば、単位
時間当りに発生させるパルス状加圧気体の回数と、ダイ
ヤフラムの駆動ストロークによりポンプ吐出量を変化さ
せ、ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段により検
知される検知信号を制御手段によって吐出される薬液の
圧力波形をモニタすると共に、ポンプの駆動用パルス状
加圧気体の圧力を制御することにより、更に確実に一定
量の薬液を所定の圧力で供給することができる。According to the second or seventh aspect of the present invention, the pump discharge amount is changed by the number of times of pulsed pressurized gas generated per unit time and the driving stroke of the diaphragm, and the pump discharge amount is arranged on the discharge side of the pump. The detection signal detected by the pressure detection means is monitored by monitoring the pressure waveform of the chemical liquid discharged by the control means, and the pressure of the pulsed pressurized gas for driving the pump is controlled, so that a certain amount of the chemical liquid can be more reliably determined. Can be supplied at a predetermined pressure.
【００１９】請求項３又は８記載の発明によれば、タン
クに併設された、循環ポンプ及びフィルタを具備する循
環系において、フィルタにて薬液中に含まれる空気（気
泡）を除去し、除去された空気をタンクの空気溜り部へ
排出することにより、供給される前の薬液中に含まれる
空気（気泡）を除去することができるので、薬液の供給
量を一定にすることができる。According to the third or eighth aspect of the present invention, in a circulating system provided with a circulating pump and a filter provided in a tank, air (bubbles) contained in the chemical solution is removed by the filter and removed. The discharged air is discharged to the air reservoir of the tank, whereby air (bubbles) contained in the chemical solution before being supplied can be removed, so that the supply amount of the chemical solution can be made constant.
【００２０】請求項４，５，９又は１０記載の発明によ
れば、薬液を貯留するタンクの空気溜り部へ不活性ガス
を供給することで、薬液中に含まれる空気（気泡）を除
去することができるので、薬液の供給量を一定にするこ
とができる。According to the fourth, fifth, ninth and tenth aspects of the present invention, air (bubbles) contained in the chemical solution is removed by supplying the inert gas to the air reservoir of the tank for storing the chemical solution. Therefore, the supply amount of the chemical solution can be made constant.
【００２１】[0021]
【発明の実施の形態】以下に、この発明の実施の形態を
図面に基づいて詳細に説明する。図１はこの発明に係る
薬液の供給装置を半導体ウエハの洗浄・乾燥処理システ
ムに適用した場合の構成図である。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram in the case where a chemical liquid supply apparatus according to the present invention is applied to a semiconductor wafer cleaning / drying processing system.
【００２２】上記洗浄・乾燥処理システムは、キャリア
ガス例えば窒素（Ｎ2）ガスの供給源１に供給管路２ａ
を介して接続するＮ2ガス加熱器３と、このＮ2加熱器３
に供給管路２ｂを介して接続する一方、乾燥ガス用薬液
例えばＩＰＡの供給源である計量タンク４に供給管路２
ｃを介して接続する蒸気発生器５と、この蒸気発生器５
と乾燥処理室６とを接続する供給管路２ｄに配設される
流量制御手段７とを具備してなる。この場合、Ｎ2ガス
供給源１とＮ2加熱器３とを接続する供給管路２ａには
開閉弁８が介設されている。また、ＩＰＡ供給源４と蒸
気発生器５とを接続する供給管路２ｃには、後述するこ
の発明に係る薬液の供給装置４０が設けられている。ま
た、図１に二点鎖線で示すように、蒸気発生器５には、
必要に応じてＩＰＡのドレン管１１が接続され、このド
レン管１１にドレン弁１２が介設されると共に、チェッ
キ弁１３を介設する分岐路１１ａが接続されている。こ
のようにドレン管１１、ドレン弁１２等を接続すること
により、蒸気発生器５内をクリーニングする際の洗浄液
等の排出に便利となる。In the cleaning / drying system, a supply line 2a is connected to a supply source 1 of a carrier gas, for example, a nitrogen (N2) gas.
N2 gas heater 3 connected through the
Is connected to a measuring tank 4 which is a supply source of a chemical for dry gas, for example, IPA.
c and a steam generator 5 connected via
And a flow control means 7 disposed in a supply pipe 2 d connecting the drying chamber 6 and the drying processing chamber 6. In this case, an on-off valve 8 is interposed in the supply line 2a connecting the N2 gas supply source 1 and the N2 heater 3. The supply pipe 2c connecting the IPA supply source 4 and the steam generator 5 is provided with a chemical liquid supply device 40 according to the present invention described later. As shown by the two-dot chain line in FIG.
If necessary, a drain pipe 11 of IPA is connected, and a drain valve 12 is interposed in the drain pipe 11, and a branch path 11a in which a check valve 13 is interposed is connected. By connecting the drain pipe 11, the drain valve 12, and the like in this manner, it becomes convenient to discharge a cleaning liquid or the like when cleaning the inside of the steam generator 5.
【００２３】この場合、上記蒸気発生器５は、図２に示
すように、キャリアガスの供給管路２ｂに接続する例え
ばステンレス鋼製のパイプ状本体２０にて形成されてお
り、このパイプ状本体２０の内周面にキャリアガスの流
れ方向に沿って漸次狭小となる先細ノズル部２１ａと、
この先細ノズル部２１ａの狭小部２１ｂから流れ方向に
沿って徐々に拡開する末広ノズル部２１ｃとからなるラ
バールノズル２１が形成されている。このラバールノズ
ル２１は、ラバールノズル２１の流入側圧力（一次圧
力）と流出側圧力（二次圧力）との圧力差によって衝撃
波が形成される。例えば、一次圧力（Kgf/cm2G）とＮ2
ガスの通過流量（Nl/min）を適宜選択することによって
衝撃波を形成することができる。この場合、ラバールノ
ズル２１の一次側と二次側を接続する分岐路２２に圧力
調整弁２３を介設して、この圧力調整弁２３の調節によ
って衝撃波の発生条件を適宜設定している。なお、一次
側圧力を高めることが可能であれば、圧力調整弁２３を
用いなくても衝撃波形成が可能となる。In this case, as shown in FIG. 2, the steam generator 5 is formed of, for example, a stainless steel pipe-shaped main body 20 connected to the carrier gas supply pipe 2b. A tapered nozzle portion 21a gradually narrowing along the flow direction of the carrier gas on the inner peripheral surface of the nozzle 20;
A Laval nozzle 21 is formed from a narrow portion 21b of the tapered nozzle portion 21a and a divergent nozzle portion 21c that gradually expands in the flow direction. In the Laval nozzle 21, a shock wave is formed by a pressure difference between the inflow side pressure (primary pressure) and the outflow side pressure (secondary pressure) of the Laval nozzle 21. For example, primary pressure (Kgf / cm 2 G) and N2
By appropriately selecting the gas flow rate (Nl / min), a shock wave can be formed. In this case, a pressure adjusting valve 23 is provided in a branch 22 connecting the primary side and the secondary side of the Laval nozzle 21, and the conditions for generating a shock wave are appropriately set by adjusting the pressure adjusting valve 23. If the primary side pressure can be increased, the shock wave can be formed without using the pressure regulating valve 23.
【００２４】このように形成されるラバールノズル２１
の末広ノズル部２１ｃの途中にはＩＰＡ供給口２４が開
設されている。この供給口２４にＩＰＡ供給管すなわち
供給管路２ｃを介して計量タンク４が接続されている。
また、末広ノズル部２１ｃの流出側のパイプ状本体２０
内に内筒ヒータ２５が挿入され、その外側には外筒ヒー
タ２６が配設されて、これら内筒ヒータ２５と外筒ヒー
タ２６とで蒸気発生器５の加熱手段が構成されている。
なおこの場合、ラバールノズル２１及びＩＰＡ供給口２
４付近にヒータを設けてもよい。The thus-formed Laval nozzle 21
In the middle of the divergent nozzle portion 21c, an IPA supply port 24 is opened. The metering tank 4 is connected to the supply port 24 via an IPA supply pipe, that is, a supply pipe 2c.
Also, the pipe-shaped main body 20 on the outflow side of the divergent nozzle portion 21c
An inner tube heater 25 is inserted into the inside, and an outer tube heater 26 is disposed outside the inner tube heater 25, and the inner tube heater 25 and the outer tube heater 26 constitute heating means of the steam generator 5.
In this case, the Laval nozzle 21 and the IPA supply port 2
4 may be provided with a heater.
【００２５】上記のように構成することにより、ＩＰＡ
供給源４から供給されるＩＰＡをラバールノズル２１の
供給口２４から供給すると、ラバールノズル２１で形成
された衝撃波によってＩＰＡが霧状にされ、その後ヒー
タ２５，２６の加熱によってＩＰＡ蒸気が生成される。With the above configuration, IPA
When the IPA supplied from the supply source 4 is supplied from the supply port 24 of the Laval nozzle 21, the IPA is atomized by a shock wave formed by the Laval nozzle 21, and then the IPA vapor is generated by heating the heaters 25 and 26.
【００２６】なお、上記説明では、供給口２４をラバー
ルノズル２１の二次側すなわち衝撃波発生後側に設けた
場合について説明したが、必ずしもこのような構成とす
る必要はなく、供給口２４をラバールノズル２１の一次
側すなわち衝撃波発生前の位置に設けて、Ｎ2ガスとＩ
ＰＡとを混合した後に衝撃波によって霧状にしてもよ
い。In the above description, the case where the supply port 24 is provided on the secondary side of the Laval nozzle 21, that is, on the side after the generation of the shock wave is described. However, such a configuration is not necessarily required. N2 gas and I
After mixing with PA, it may be atomized by a shock wave.
【００２７】上記流量制御手段７は、図１に示すよう
に、供給管路２ｄに介設される開度調整弁例えばダイヤ
フラム弁３０と、上記処理室６内の圧力を検出する検出
手段である圧力センサ３１からの信号と予め記憶された
情報とを比較演算する図示しない制御手段例えばＣＰＵ
からの信号に基いてダイヤフラム弁３０の作動圧を制御
する制御弁例えばマイクロバルブ３２とを具備してな
り、マイクロバルブ３２によって遅延制御された流体す
なわち空気によってダイヤフラム弁３０を作動して予め
記憶された情報と処理室６内の圧力を比較し、ダイヤフ
ラム弁３０の作動を制御して乾燥ガスを処理室６内に供
給するように構成されている。As shown in FIG. 1, the flow rate control means 7 is an opening adjustment valve, for example, a diaphragm valve 30 provided in the supply pipe 2d, and a detection means for detecting the pressure in the processing chamber 6. Control means (not shown) for comparing and calculating a signal from the pressure sensor 31 with information stored in advance, for example, a CPU
And a control valve for controlling the operating pressure of the diaphragm valve 30 based on a signal from the micro valve 32, for example. The information obtained is compared with the pressure in the processing chamber 6, and the operation of the diaphragm valve 30 is controlled to supply the drying gas into the processing chamber 6.
【００２８】なお、供給管路２ｄには、ダイヤフラム弁
３０の下流側にフィルタ３３が介設されており、パーテ
ィクルの少ない乾燥ガスを供給できるように構成されて
いる。また、供給管路２ｄの外側には保温ヒータ３４が
配設されて、乾燥ガスの温度を一定に維持し得るように
構成されている。更に、供給管路２ｄの乾燥処理室側に
は乾燥ガスの温度センサ３５が配設されて、供給管路２
ｄ中を流れる乾燥ガスの温度が測定されるようになって
いる。A filter 33 is provided in the supply line 2d on the downstream side of the diaphragm valve 30, so that a dry gas with few particles can be supplied. Further, a heat retention heater 34 is provided outside the supply pipe 2d so that the temperature of the drying gas can be kept constant. Further, a drying gas temperature sensor 35 is disposed on the drying processing chamber side of the supply pipe 2d.
The temperature of the dry gas flowing through d is measured.
【００２９】この発明に係る薬液供給装置は、図１及び
図３に示すように、図示しないキャニスタに供給管路２
ｅを介して接続する計量タンク４と、この計量タンク４
に設けられた吐出口に接続する上記供給管路２ｃに介設
される往復動ポンプ例えばダイヤフラム式ポンプ４１
（以下にダイヤフラムポンプという）と、このダイヤフ
ラムポンプ４１の吐出側の供給管路２ｃの途中に介設さ
れる圧力検知手段例えば圧力スイッチ４２と、この圧力
スイッチ４２にて検知された検知信号と予め記憶された
情報とを比較演算処理してその制御信号をダイヤフラム
ポンプ４１の駆動部に伝達する制御手段例えばＣＰＵ４
３（中央演算処理装置）と、計量タンク４の下部と上部
とを接続する循環管路４４に循環ポンプ４５とフィルタ
４６を介設してなる循環濾過部４７とを具備してなる。
なお、供給管路２ｃにおける圧力スイッチ４２の二次側
すなわち圧力スイッチ４２と蒸気発生器５との間には開
閉弁５４とフィルタ５５が介設されている。As shown in FIG. 1 and FIG. 3, the chemical liquid supply device according to the present invention
e, a measuring tank 4 connected to the measuring tank 4
Reciprocating pump such as a diaphragm pump 41 interposed in the supply pipe 2c connected to the discharge port provided in the pump
(Hereinafter referred to as a diaphragm pump), a pressure detecting means such as a pressure switch 42 provided in the middle of the supply pipe 2c on the discharge side of the diaphragm pump 41, and a detection signal detected by the pressure switch 42 and Control means for comparing and calculating the stored information and transmitting the control signal to the drive unit of the diaphragm pump 41, for example, a CPU 4
3 (central processing unit), and a circulating pump 44 and a circulating filter 47 provided with a filter 46 in a circulating pipeline 44 connecting the lower part and the upper part of the measuring tank 4.
An opening / closing valve 54 and a filter 55 are provided on the secondary side of the pressure switch 42 in the supply line 2c, that is, between the pressure switch 42 and the steam generator 5.
【００３０】この場合、上記計量タンク４の一側の外方
には計量タンク４内のＩＰＡの液面を検出するレベルセ
ンサ４８ａ〜４８ｄが配設されている。また、計量タン
ク４の上部の空気溜り部４ａと大気側に開口するドレン
ポート４９とが息継ぎ用管路５０で接続されており、こ
の息継ぎ用管路５０の途中にフィルタ５１が介設され
て、計量タンク４内のＩＰＡの量が減量した際にドレン
ポート４９側から計量タンク４内に流入する空気中のご
み等をフィルタ５１によって除去している。In this case, level sensors 48a to 48d for detecting the liquid level of the IPA in the measuring tank 4 are provided outside one side of the measuring tank 4. An air reservoir 4a at the upper part of the measuring tank 4 and a drain port 49 opening to the atmosphere side are connected by a breathing pipe 50, and a filter 51 is provided in the middle of the breathing pipe 50. When the amount of IPA in the measuring tank 4 is reduced, dust and the like in the air flowing into the measuring tank 4 from the drain port 49 side are removed by the filter 51.
【００３１】また、上記循環濾過部４７におけるフィル
タ４６には空気抜きポート４６ａが設けられており、こ
の空気抜きポート４６ａと計量タンク４の空気溜り部４
ａとが空気抜き管路５２を介して接続されており、この
空気抜き管路５２に介設された開閉弁５３の開閉操作に
よって循環濾過中にフィルタ４６に溜った空気を計量タ
ンク４の空気溜り部４ａに排出し得るように構成されて
いる。このように構成することにより、循環濾過部４７
のフィルタ４６に設けられた空気抜きポート４６ａと計
量タンク４の空気溜り部４ａとを空気抜き管路５２を介
して接続し、開閉弁５３の開閉操作によって循環濾過中
にＩＰＡに含まれる空気（気泡）をＩＰＡから除去して
計量タンク４の空気溜り部４ａに排出することができ
る。したがって、空気（気泡）が含まれていないＩＰＡ
の定量を蒸気発生器５に供給することができる。The filter 46 in the circulating filter 47 is provided with an air vent port 46a. The air vent port 46a and the air reservoir 4 of the measuring tank 4 are provided.
a is connected via an air vent line 52, and the air accumulated in the filter 46 during the circulation filtration is opened and closed by opening and closing an open / close valve 53 provided in the air vent line 52. 4a. With such a configuration, the circulation filtration unit 47
The air vent port 46a provided in the filter 46 and the air reservoir 4a of the measuring tank 4 are connected via the air vent line 52, and the air (bubbles) contained in the IPA during the circulating filtration by opening and closing the on-off valve 53 Can be removed from the IPA and discharged to the air reservoir 4a of the measuring tank 4. Therefore, IPA that does not contain air (bubbles)
Can be supplied to the steam generator 5.
【００３２】なお、供給管路２ｅには、開閉弁５６とフ
ィルタ５７が介設されており、フィルタ５７に設けられ
たドレンポートにドレン弁５８ａを介してドレン管５８
ｂが接続され、またフィルタ５７に設けられた空気抜き
ポートには開閉弁５９ａを介設する空気抜き管５９ｂが
接続されている。なおこの場合、図示しないが、開閉弁
５６はレベルセンサ４８ａ〜４８ｄからの検出信号が伝
達されたＣＰＵ４３からの制御信号に基づいて開閉動作
し得るように構成されている。また、供給管路２ｃのダ
イヤフラムポンプ４１の一次側には、ドレン弁６０を介
設するドレン管６１が分岐されている。また、薬液供給
装置４０の下部にはドレンパン６２が配置されており、
このドレンパン６２によって上記計量タンク４や供給管
路２ｃ，２ｅ等から落下する液滴等を受止めて、外部へ
排出し得るように構成されている。An on-off valve 56 and a filter 57 are provided in the supply line 2e, and a drain port provided in the filter 57 is connected to a drain pipe 58a through a drain valve 58a.
b is connected, and an air vent port provided in the filter 57 is connected to an air vent pipe 59b provided with an on-off valve 59a. In this case, although not shown, the on-off valve 56 is configured to open and close based on a control signal from the CPU 43 to which detection signals from the level sensors 48a to 48d have been transmitted. A drain pipe 61 provided with a drain valve 60 is branched from a primary side of the diaphragm pump 41 in the supply pipe line 2c. In addition, a drain pan 62 is disposed below the chemical solution supply device 40,
The drain pan 62 is configured to receive droplets and the like that fall from the measuring tank 4, the supply pipes 2c, 2e, and the like, and discharge the liquid to the outside.
【００３３】一方、上記ダイヤフラムポンプ４１は、図
４に示すように、流入口７１ａと流出口７１ｂとを連通
する連通路７１にダイヤフラム７２を露呈する弁部７３
と、ダイヤフラム７２に連結するロッド７４を移動可能
に収容すると共に連通孔７５ａを介してダイヤフラム７
２の背部に連通する室７５を有する駆動部７６と、駆動
部７６にパルス状加圧気体例えばＮ2ガスを導入してダ
イヤフラム７２を駆動させる例えば２つの接点モードを
有するソレノイド切換弁７７とで主に構成されている。On the other hand, as shown in FIG. 4, the diaphragm pump 41 has a valve portion 73 that exposes a diaphragm 72 to a communication passage 71 that connects an inflow port 71a and an outflow port 71b.
Movably accommodates a rod 74 connected to the diaphragm 72, and communicates with the diaphragm 7 through a communication hole 75a.
A drive unit 76 having a chamber 75 communicating with the back of the drive unit 2 and a solenoid switching valve 77 having, for example, two contact modes for driving the diaphragm 72 by introducing a pulsed pressurized gas such as N 2 gas into the drive unit 76. Is configured.
【００３４】この場合、流入口７１ａと流出口７１ｂに
は、それぞれ逆止弁７８ａ，７８ｂが配設されて、ＩＰ
Ａの逆流が阻止されている。また、室７５内におけるロ
ッド７４には、コイルスプリング７９が係着されてお
り、このコイルスプリング７９の弾発力によって常時ダ
イヤフラム７２が連通路７１から後退する方向に位置す
るように構成されている。このコイルスプリング７９の
弾発力は外部からロッド７４を押圧する調整ねじ７０に
よって調整可能になっている。In this case, check valves 78a and 78b are provided at the inlet 71a and the outlet 71b, respectively.
A backflow is prevented. Further, a coil spring 79 is engaged with the rod 74 in the chamber 75, and the diaphragm 72 is configured to always be located in the direction of retreating from the communication passage 71 by the elastic force of the coil spring 79. . The elastic force of the coil spring 79 can be adjusted by an adjusting screw 70 that presses the rod 74 from the outside.
【００３５】上記のように構成されるダイヤフラムポン
プ４１において、ソレノイド切換弁７７を、例えば図６
に示すよな操作信号（→→→→…）で駆動する
と、この操作信号に基づいてパルス状加圧用Ｎ2ガスが
駆動部７６の室７５内に導入されてダイヤフラム７２が
往復動し、計量タンク４内に貯留されたＩＰＡの所定量
を蒸気発生器５へ供給する。このときの吐出圧は、圧力
スイッチ４２によって検知され、その検知信号はＣＰＵ
４３に伝達され、ＣＰＵ４３から伝達される信号を受け
るディスプレー４３ＡによってＩＰＡの圧力波形をモニ
タ（監視）することができる（図６参照）。なおこの場
合、ダイヤフラムポンプ４１のダイヤフラム７２のスト
ロークを適宜設定することにより、吐出流量と吐出圧を
変えることができる（図７及び図８参照）。したがっ
て、所定の流量及び圧力のＩＰＡを蒸気発生器５に供給
することができ、万一例えば供給管路２ｃにごみ等が詰
って吐出圧が異常圧になった際には、例えばＣＰＵ４３
から図示しないアラーム手段に信号を伝達して異常事態
を知らせることができる。In the diaphragm pump 41 configured as described above, the solenoid switching valve 77 is connected, for example, as shown in FIG.
When driven by an operation signal (→→→→...), A pulsed N 2 gas for pressurization is introduced into the chamber 75 of the drive unit 76 based on this operation signal, and the diaphragm 72 reciprocates, and the measuring tank A predetermined amount of IPA stored in 4 is supplied to steam generator 5. The discharge pressure at this time is detected by the pressure switch 42, and the detection signal is output by the CPU.
The pressure waveform of the IPA can be monitored (monitored) by the display 43A transmitted to the CPU 43 and receiving the signal transmitted from the CPU 43 (see FIG. 6). In this case, by appropriately setting the stroke of the diaphragm 72 of the diaphragm pump 41, the discharge flow rate and the discharge pressure can be changed (see FIGS. 7 and 8). Therefore, the IPA having a predetermined flow rate and pressure can be supplied to the steam generator 5, and if the supply pressure becomes abnormal due to clogging of the supply pipe 2c with dust or the like, for example, the CPU 43
A signal can be transmitted to an alarm means (not shown) from the controller to notify an abnormal situation.
【００３６】また、ＣＰＵ４３からの制御信号をダイヤ
フラムポンプ４１の駆動部７６にフィードバックするこ
とにより、ダイヤフラムポンプ４１の吐出量及び吐出圧
を制御することができ、ＩＰＡの供給量及び吐出圧を最
適状態にすることができる。By feeding back a control signal from the CPU 43 to the driving section 76 of the diaphragm pump 41, the discharge amount and the discharge pressure of the diaphragm pump 41 can be controlled, and the supply amount and the discharge pressure of the IPA can be adjusted to an optimum state. Can be
【００３７】なお、上記実施形態では、圧力検知手段と
して圧力スイッチ４２を用いる場合について説明した
が、圧力スイッチ４２に代えて圧力変換器を用いてもよ
い。In the above embodiment, the case where the pressure switch 42 is used as the pressure detecting means has been described. However, a pressure converter may be used instead of the pressure switch 42.
【００３８】また、上記実施形態では、計量タンク４の
空気溜り部４ａと大気側のドレンポート４９とを息継ぎ
用管路５０を介して接続し、この息継ぎ用管路５０に介
設されるフィルタ５１によって計量タンク４内へ侵入す
るごみ等を防止する場合について説明したが、図９に示
すように、計量タンク４の空気溜り部４ａ内に不活性ガ
ス例えばＮ2ガスの供給手段例えばＮ2ガス供給ノズル８
０を配設して、このＮ2ガス供給ノズル８０とＮ2ガス供
給源８１とをＮ2ガス供給管路８２を介して接続すると
共に、Ｎ2ガス供給管路８２に介設される開閉弁８３の
開閉操作によって空気溜り部４ａ内にＮ2ガスを供給す
ることにより、計量タンク４内に貯留されるＩＰＡへの
ごみの侵入を防止することができると共に、ＩＰＡ中に
空気（気泡）が混入するのを抑制することができる。し
たがって、蒸気発生器５に供給されるＩＰＡ中から空気
を除去することができるので、ＩＰＡの供給量を一定に
することができると共に、蒸気発生器５において加熱さ
れるＩＰＡの爆発等の危険性を回避することができる。In the above embodiment, the air reservoir 4a of the measuring tank 4 and the drain port 49 on the atmosphere side are connected via the breathing pipe 50, and the filter provided in the breathing pipe 50 is connected. The case where dust or the like entering the measuring tank 4 is prevented by 51 has been described. As shown in FIG. 9, a means for supplying an inert gas such as N 2 gas into the air reservoir 4 a of the measuring tank 4, for example, N 2 gas supply Nozzle 8
0, the N2 gas supply nozzle 80 and the N2 gas supply source 81 are connected via an N2 gas supply line 82, and an on / off valve 83 provided on the N2 gas supply line 82 is opened and closed. By supplying N2 gas into the air reservoir 4a by operation, it is possible to prevent dust from entering the IPA stored in the measuring tank 4 and to prevent air (bubbles) from entering the IPA. Can be suppressed. Therefore, since air can be removed from the IPA supplied to the steam generator 5, the supply amount of IPA can be kept constant, and the danger of explosion of the IPA heated in the steam generator 5 can be achieved. Can be avoided.
【００３９】また、上記Ｎ2ガス供給源８１を、図１０
に示すように、計量タンク４の空気溜り部４ａの容積変
化に追従して容積変化するＮ2ガスを収容するべローズ
式の可撓性伸縮容器８４と、この可撓性伸縮容器８４を
囲繞する外装容器８５とで構成し、図示しない加圧手段
から外装容器８５内に一定の圧力を印加して可撓性伸縮
容器８４を計量タンク４内のＩＰＡの容積変化に追従し
得るように形成してもよい。つまり、計量タンク４内の
ＩＰＡが減少した場合は、その減少した容積分のＮ2ガ
スがＮ2ガス供給源８１から計量タンク４内に供給さ
れ、また計量タンク４内のＩＰＡが増加した場合は、Ｉ
ＰＡが増加した容積分のＮ2ガスがＮ2ガス供給源８１に
復帰する。このように構成することにより、計量タンク
４内のＩＰＡの増加・減少による容積変化に追従して計
量タンク４の空気溜り部４ａを常時Ｎ2ガス雰囲気にす
ることができるので、計量タンク４内のＩＰＡ中への空
気（気泡）の混入を抑制することができる。したがっ
て、ＩＰＡの供給量を一定にすることができると共に、
蒸気発生器５において加熱されるＩＰＡの爆発等の危険
性を回避することができる。Further, the N2 gas supply source 81 is
As shown in FIG. 7, a bellows-type flexible telescopic container 84 for accommodating N2 gas whose volume changes following the volume change of the air reservoir 4a of the measuring tank 4 and surrounds the flexible telescopic container 84. The flexible telescopic container 84 is formed so as to follow a change in the volume of the IPA in the measuring tank 4 by applying a constant pressure to the external container 85 from a pressurizing means (not shown). You may. In other words, when the IPA in the measuring tank 4 decreases, the reduced volume of N2 gas is supplied from the N2 gas supply source 81 into the measuring tank 4, and when the IPA in the measuring tank 4 increases, I
N2 gas corresponding to the increased volume of PA is returned to the N2 gas supply source 81. With this configuration, the air reservoir 4a of the measuring tank 4 can always be set to the N2 gas atmosphere following the volume change due to the increase / decrease of the IPA in the measuring tank 4. It is possible to suppress air (bubbles) from entering IPA. Therefore, the supply amount of IPA can be kept constant,
The risk of explosion of IPA heated in the steam generator 5 can be avoided.
【００４０】なお、図９及び図１０に示した実施形態に
おいて、その他の部分は上記実施形態と同じであるの
で、同一部分には同一符号を付して、その説明は省略す
る。In the embodiment shown in FIGS. 9 and 10, the other parts are the same as those in the above-described embodiment, and the same parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.
【００４１】なお、上記実施形態では、この発明に係る
薬液の供給装置を半導体ウエハの洗浄・乾燥処理システ
ムに適用した場合について説明したが、洗浄・乾燥処理
以外の処理システムにも適用できることは勿論であり、
また、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等の処理
にも適用できることは勿論である。In the above-described embodiment, the case where the chemical liquid supply apparatus according to the present invention is applied to a semiconductor wafer cleaning / drying processing system has been described. And
Of course, the present invention can also be applied to processing of glass substrates for LCDs other than semiconductor wafers.
【００４２】[0042]
【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、以下のような優れた効果が得られる。As described above, according to the present invention, the following excellent effects can be obtained.
【００４３】１）請求項１又は６記載の発明によれば、
単位時間当りに発生させるパルス状加圧気体の回数と、
ダイヤフラムの駆動ストロークによりポンプ吐出量を変
化させ、ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段によ
り検知される検知信号を制御手段によって吐出される薬
液の圧力波形をモニタするので、一定量の薬液を所定の
圧力で供給することができる。1) According to the invention described in claim 1 or 6,
The number of pulsed pressurized gas generated per unit time,
The discharge amount of the pump is changed by the driving stroke of the diaphragm, and the detection signal detected by the pressure detection means provided on the discharge side of the pump is used to monitor the pressure waveform of the chemical discharged by the control means. Can be supplied at a predetermined pressure.
【００４４】２）請求項２又は７記載の発明によれば、
単位時間当りに発生させるパルス状加圧気体の回数と、
ダイヤフラムの駆動ストロークによりポンプ吐出量を変
化させ、ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段によ
り検知される検知信号を制御手段によって吐出される薬
液の圧力波形をモニタすると共に、ポンプの駆動用パル
ス状加圧気体の圧力を制御するので、上記１）に加えて
更に確実に一定量の薬液を所定の圧力で供給することが
できる。2) According to the invention described in claim 2 or 7,
The number of pulsed pressurized gas generated per unit time,
The pump discharge amount is changed by the driving stroke of the diaphragm, and the detection signal detected by the pressure detection means provided on the discharge side of the pump is used to monitor the pressure waveform of the chemical discharged by the control means and to drive the pump. Since the pressure of the pulsed pressurized gas is controlled, it is possible to more reliably supply a constant amount of the chemical at a predetermined pressure in addition to the above 1).
【００４５】３）請求項３又は８記載の発明によれば、
タンクに併設された、循環ポンプ及びフィルタを具備す
る循環系において、フィルタにて薬液中に含まれる空気
（気泡）を除去し、除去された空気をタンクの空気溜り
部へ排出することにより、供給される前の薬液中に含ま
れる空気（気泡）を除去することができるので、薬液の
供給量を一定にすることができる。また、薬液中に含ま
れる空気（気泡）を除去することで、加熱等による爆発
等の危険を回避し、安全性の確保を図ることができる。3) According to the invention described in claim 3 or 8,
In a circulating system provided with a circulating pump and a filter attached to a tank, air (bubbles) contained in a chemical solution is removed by a filter, and the removed air is discharged to an air reservoir of the tank to supply the solution. Since the air (bubbles) contained in the chemical solution before the cleaning can be removed, the supply amount of the chemical solution can be made constant. Further, by removing air (bubbles) contained in the chemical solution, danger such as explosion due to heating or the like can be avoided, and safety can be ensured.
【００４６】４）請求項４，５，９又は１０記載の発明
によれば、薬液を貯留するタンクの空気溜り部へ不活性
ガスを供給することで、薬液中に含まれる空気（気泡）
を除去することができるので、薬液の供給量を一定にす
ることができると共に、上記３）に加えて更に安全性の
向上を図ることができる。4) According to the fourth, fifth, ninth or tenth aspect of the present invention, the inert gas is supplied to the air reservoir of the tank for storing the chemical solution, whereby the air (bubbles) contained in the chemical solution is supplied.
Can be removed, so that the supply amount of the chemical solution can be kept constant, and the safety can be further improved in addition to the above 3).
【図１】この発明に係る薬液の供給装置を適用する洗浄
・乾燥処理システムを示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a cleaning / drying processing system to which a chemical liquid supply device according to the present invention is applied.
【図２】上記洗浄・乾燥処理システムにおける蒸気発生
器を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a steam generator in the cleaning / drying processing system.
【図３】この発明に係る薬液の供給装置の第一実施形態
を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a drug solution supply device according to the present invention.
【図４】この発明におけるダイヤフラムポンプを示す断
面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a diaphragm pump according to the present invention.
【図５】上記ダイヤフラムポンプとソレノイド切換弁と
を示す概略構成図である。FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing the diaphragm pump and a solenoid switching valve.
【図６】パルス状加圧気体とポンプ吐出圧との関係を示
すグラフである。FIG. 6 is a graph showing the relationship between pulsed pressurized gas and pump discharge pressure.
【図７】上記ダイヤフラムポンプの流量特性を示すグラ
フである。FIG. 7 is a graph showing flow characteristics of the diaphragm pump.
【図８】上記ダイヤフラムポンプの吐出圧力特性を示す
グラフである。FIG. 8 is a graph showing discharge pressure characteristics of the diaphragm pump.
【図９】この発明に係る薬液の供給装置の第二実施形態
を示す概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of the drug solution supply device according to the present invention.
【図１０】この発明に係る薬液の供給装置の第三実施形
態を示す概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram showing a third embodiment of the drug solution supply device according to the present invention.
２ｃ 供給管路 ４ 計量タンク（薬液供給源） ４ａ 空気溜り部 ５ 蒸気発生器（処理部） ４１ ダイヤフラムポンプ ４２ 圧力スイッチ（圧力検知手段） ４３ ＣＰＵ（制御手段） ４４ 循環管路 ４５ 循環ポンプ ４６ フィルタ ４６ａ 空気抜きポート ４７ 循環濾過部 ５２ 空気抜き管路 ５３ 開閉弁 ７７ ソレノイド切換弁 ８０ Ｎ2ガス供給ノズル（不活性ガス供給手段） ８１ Ｎ2ガス供給源（不活性ガス供給源） ８４ 可撓性伸縮容器 2c supply line 4 measuring tank (chemical liquid supply source) 4a air reservoir 5 steam generator (processing unit) 41 diaphragm pump 42 pressure switch (pressure detecting means) 43 CPU (control means) 44 circulation line 45 circulation pump 46 filter 46a Air vent port 47 Circulating filtration unit 52 Air vent line 53 Open / close valve 77 Solenoid switching valve 80 N2 gas supply nozzle (inert gas supply means) 81 N2 gas supply source (inert gas supply source) 84 Flexible telescopic container
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｇ０５Ｂ 23/02 ３０１ Ｈ０１Ｌ 21/304 ３６１Ｖ // Ｈ０１Ｌ 21/304 ３６１ Ｆ０４Ｂ 43/06 Ｃ ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FIG05B 23/02 301 H01L 21/304 361V // H01L 21/304 361 F04B 43/06 C
Claims (10)
復動ポンプの駆動によって処理部へ供給する薬液の供給
方法において、 上記ポンプの吐出量を、単位時間当りに発生させるパル
ス状加圧気体の回数と、ダイヤフラムの駆動ストローク
により変化させ、 上記ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段により吐
出される薬液の圧力波形をモニタする、ことを特徴とす
る薬液の供給方法。1. A method of supplying a chemical solution for supplying a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank to a processing section by driving a reciprocating pump, wherein a pulse-like pressurization for generating a discharge amount of the pump per unit time. A chemical liquid supply method characterized by changing the number of times of gas and the driving stroke of a diaphragm and monitoring a pressure waveform of a chemical liquid discharged by a pressure detecting means disposed on a discharge side of the pump.
復動ポンプの駆動によって処理部へ供給する薬液の供給
方法において、 上記ポンプの吐出量を、単位時間当りに発生させるパル
ス状加圧気体の回数と、ダイヤフラムの駆動ストローク
により変化させ、 上記ポンプの吐出側に配設される圧力検知手段により吐
出される薬液の圧力波形をモニタすると共に、モニタし
ている圧力波形の変化を、ポンプ駆動用パルス状加圧気
体の圧力にフィードバックして、薬液の吐出供給量を制
御する、ことを特徴とする薬液の供給方法。2. A method of supplying a chemical solution, which supplies a predetermined amount of a chemical solution stored in a tank to a processing unit by driving a reciprocating pump, comprising: The number of times of the gas and the driving stroke of the diaphragm are changed to monitor the pressure waveform of the chemical solution discharged by the pressure detecting means disposed on the discharge side of the pump, and to monitor the change in the monitored pressure waveform by the pump. A method for supplying a chemical solution, comprising feeding back the pressure of a driving pulsed pressurized gas to control a discharge amount of the chemical solution.
復動ポンプの駆動によって処理部へ供給する薬液の供給
方法において、 上記タンクに併設された、循環ポンプ及びフィルタを具
備する循環系において、上記フィルタにて薬液中に含ま
れる空気を除去し、除去された空気を上記タンクの空気
溜り部へ排出する、ことを特徴とする薬液の供給方法。3. A method for supplying a chemical liquid to a processing unit by supplying a predetermined amount of a chemical liquid stored in a tank to a processing unit by driving a reciprocating pump, wherein a circulation system provided with a circulation pump and a filter is provided in the tank. A method for supplying a chemical solution, wherein the filter removes air contained in the chemical solution and discharges the removed air to an air reservoir of the tank.
復動ポンプの駆動によって処理部へ供給する薬液の供給
方法において、 上記タンクの空気溜り部へ不活性ガスを供給して薬液中
に含まれる空気を除去する、ことを特徴とする薬液の供
給方法。4. A method for supplying a chemical liquid to a processing section by supplying a predetermined amount of a chemical liquid stored in a tank to a processing section by driving a reciprocating pump. A method for supplying a chemical solution, comprising removing air contained therein.
て、 上記タンクの空気溜り部の容積変化に追従して不活性ガ
スを供給することを特徴とする薬液の供給方法。5. The method according to claim 4, wherein the inert gas is supplied in accordance with a change in the volume of the air reservoir of the tank.
の薬液の所定量を処理部へ供給する往復動ポンプとを具
備する薬液の供給装置において、 上記往復動ポンプを、単位時間当りに発生させるパルス
状加圧気体の導入によって駆動するダイヤフラム式ポン
プにて形成し、 上記ダイヤフラム式ポンプの吐出側に、圧力検知手段を
配設し、 上記圧力検知手段からの検知信号に基づいて上記ポンプ
により吐出される薬液の圧力波形をモニタする制御手段
を設けてなる、ことを特徴とする薬液の供給装置。6. A chemical liquid supply device comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to a processing unit, wherein the reciprocating pump is generated per unit time. The diaphragm pump is driven by the introduction of a pulsed pressurized gas to be formed, and pressure detection means is disposed on the discharge side of the diaphragm pump, and the pump is operated by the pump based on a detection signal from the pressure detection means. An apparatus for supplying a chemical solution, comprising a control means for monitoring a pressure waveform of the discharged chemical solution.
の薬液の所定量を処理部へ供給する往復動ポンプとを具
備する薬液の供給装置において、 上記往復動ポンプを、単位時間当りに発生させるパルス
状加圧気体の導入によって駆動するダイヤフラム式ポン
プにて形成し、 上記ダイヤフラム式ポンプの吐出側に、圧力検知手段を
配設し、 上記圧力検知手段からの検知信号に基づいて上記ポンプ
により吐出される薬液の圧力波形をモニタすると共に、
上記ポンプの駆動用パルス状加圧気体の圧力を制御する
制御手段を設けてなる、ことを特徴とする薬液の供給装
置。7. A chemical liquid supply device comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to a processing unit, wherein the reciprocating pump is generated per unit time. The diaphragm pump is driven by the introduction of a pulsed pressurized gas to be formed, and pressure detection means is disposed on the discharge side of the diaphragm pump, and the pump is operated by the pump based on a detection signal from the pressure detection means. While monitoring the pressure waveform of the discharged chemical,
A chemical liquid supply device, further comprising control means for controlling the pressure of the pulsed pressurized gas for driving the pump.
の薬液の所定量を処理部へ供給する往復動ポンプとを具
備する薬液の供給装置において、 上記タンクに併設して、循環ポンプ及びフィルタを具備
する循環路を設けると共に、上記フィルタに設けられた
空気抜きポートと上記タンクの空気溜り部とを接続し、
この接続部に開閉弁を介設してなる、ことを特徴とする
薬液の供給装置。8. A chemical liquid supply device comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to a processing unit. While providing a circulation path having a, connecting the air vent port provided in the filter and the air reservoir of the tank,
A chemical solution supply device, wherein an on-off valve is provided at the connection portion.
の薬液の所定量を処理部へ供給する往復動ポンプとを具
備する薬液の供給装置において、 上記タンクの空気溜り部に不活性ガス供給手段を配設
し、この不活性ガス供給手段を不活性ガス供給源に接続
してなる、ことを特徴とする薬液の供給装置。9. A chemical liquid supply apparatus comprising: a tank for storing a chemical liquid; and a reciprocating pump for supplying a predetermined amount of the chemical liquid in the tank to a processing unit, wherein an inert gas is supplied to an air reservoir of the tank. Means for supplying a chemical solution, wherein said means for supplying an inert gas is connected to an inert gas supply source.
て、 上記不活性ガス供給源は、タンクの空気溜り部の容積変
化に追従して容積変化する不活性ガスを収容する可撓性
伸縮容器を具備する、ことを特徴とする薬液の供給装
置。10. The flexible liquid supply device according to claim 9, wherein the inert gas supply source accommodates an inert gas whose volume changes following a change in the volume of an air reservoir of the tank. A chemical liquid supply device, comprising:
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- 1997-08-12 JP JP23025997A patent/JP3362302B2/en not_active Expired - Fee Related
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