JPH1161097A - Uv absorber - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve homegeneity and transparency by controlling water and oil properties of a UV absorber by making the UV absorber contain a special triarylbismuth compound. SOLUTION: A reactive derivative of a substituted phenyl metal represented by formula I (M is MgX'; and X' is a halogen) is made to react with 0.2-3 equivalents of a diarylbismuthtriflate represented by formula II to produce a UV absorber comprised of a triarylbismuth compound represented by formula III [X<1> is YNR<1> R<2> (Y is SO2 - or C(O)-; R1 is 1-10C alkyl, 2-10C alkenyl or 2-10C alkynyl; R<2> is H, 1-10C alkyl, 2-10C alkenyl or 2-10C alkynyl); X<2> -X<3> is each H, 1-4C alkyl, 1-4C alkenyl or 1-4C alkynyl, 1-4C alkoxyl, 1-4C alkylsulfonyl, 2-4C alkenylsulfonyl, 2-4C alkynylsulfonyl, 1-4C alkylcarbonyl 2-4C alkenylcarbonyl 2-4C alkynylcarbonyl, a nitro or the like; n is 1-3; and Ar is phenyl, 1-4C alkyl, 2-4C alkyl, 2-4C alkenyl, or the like].

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はトリアリールビスマ
ス化合物を有効成分とする紫外線吸収剤又は該紫外線吸
収剤を含有する化粧品に関する。[0001] The present invention relates to an ultraviolet absorber containing a triarylbismuth compound as an active ingredient or a cosmetic containing the ultraviolet absorber.

【０００２】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
紫外線による皮膚老化、皮膚癌が問題となっておりその
予防手段として、特に化粧品・繊維において紫外線カッ
ト製品が注目を集めている。従来、紫外線遮蔽剤として
は有機系の紫外線吸収剤、無機系の紫外線散乱剤が用い
られている。有機系紫外線吸収剤としては、芳香族性共
役化合物であるベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、シンナメート系、ベンゾイルメタン系などが用いら
れている。一方、無機系の紫外線散乱剤は紫外線を反射
散乱させるもので、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸
化亜鉛、酸化セリウムなどの粉体微粒子が用いられてい
る。有機系紫外線吸収剤は、吸収波長範囲を広くするこ
とが難しく、溶解性、耐水性に問題があり、又皮膚に対
する副作用ヘの懸念から使用に際して高濃度に配合する
ことが困難な面がある。無機系紫外線散乱剤は微粒子の
形態により散乱能力に大きな差があり、又微粒子を分散
させる必要があるため凝集しやすく、使用する際、白浮
きするなど、透明性に問題がある。一方、ビスマス化合
物を化粧品材料として使用した例は、オキシ塩化ビスマ
スなどの無機ビスマス、クエン酸ビスマスなどのビスマ
ス有機塩を用いるもののみで用途としても、パール光沢
剤など、顔料として添加する例（ＷＰＩ９３−１３２０
４６／１６など）、過酸化脂質の生成抑制、消去効果を
期待する例（特開平６−３２９５２４）等が知られてい
るのみであった。2. Description of the Related Art In recent years,
Skin aging and skin cancer caused by ultraviolet rays have become a problem, and as a preventive means, ultraviolet ray cut products, especially in cosmetics and textiles, have attracted attention. Conventionally, organic ultraviolet absorbers and inorganic ultraviolet scattering agents have been used as ultraviolet shielding agents. As organic UV absorbers, aromatic conjugated compounds such as benzotriazole, benzophenone, cinnamate, and benzoylmethane are used. On the other hand, inorganic ultraviolet scattering agents reflect and scatter ultraviolet rays, and fine particles of powder such as titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and cerium oxide are used. Organic UV absorbers have difficulty in broadening the absorption wavelength range, have problems in solubility and water resistance, and have a problem that it is difficult to mix them at a high concentration when used due to concerns about side effects on the skin. The inorganic ultraviolet scattering agent has a large difference in scattering ability depending on the form of the fine particles, and has a problem in transparency such as whitening when used because it is necessary to disperse the fine particles and easily aggregate. On the other hand, examples of using a bismuth compound as a cosmetic material include only those using an inorganic bismuth such as bismuth oxychloride and an organic salt of bismuth such as bismuth citrate, and adding a pigment such as a pearlescent agent (WPI93). -1320
46/16, etc.), and only an example (JP-A-6-329524) which is expected to suppress the generation and elimination of lipid peroxide is known.

【０００３】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、先にトリ
アリールビスマス化合物がＸ線遮蔽剤として有用である
ことを見出しているが（特開平５−２０７９７０等）、
更に紫外線吸収剤としても有用であることを見出し本発
明を完成するに至った。すなわち、本発明のトリアリー
ルビスマス化合物は安定な有機化合物として合成でき、
分子内にビスマス原子を含んでいるため紫外線を有効に
吸収すると共にアリール上の置換基をデザインすること
により水性、油性等の性質を制御でき均一性、透明性を
持つ紫外線吸収剤として使用することができ特に該紫外
線吸収剤を含有する化粧品として有用である。The present inventors have previously found that triarylbismuth compounds are useful as X-ray shielding agents (JP-A-5-207970).
Furthermore, they have found that they are also useful as ultraviolet absorbers, and have completed the present invention. That is, the triarylbismuth compound of the present invention can be synthesized as a stable organic compound,
Since it contains a bismuth atom in the molecule, it absorbs ultraviolet rays effectively and can control properties such as water and oiliness by designing substituents on the aryl, so that it can be used as a uniform and transparent ultraviolet absorber. It is particularly useful as a cosmetic containing the ultraviolet absorber.

【０００４】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
使用するトリアリールビスマス化合物は、式（Ｉ）Hereinafter, the present invention will be described in detail. The triarylbismuth compound used in the present invention has the formula (I)

【０００５】[0005]

【化２】 Embedded image

【０００６】［式中、Ｘ¹はＹＮＲ¹Ｒ²｛ＹはＳＯ₂−又
はＣ（Ｏ）−を示す。Ｒ¹は、C_1-10アルキル基、C_2-10
アルケニル基又はC_2-10アルキニル基（該アルキル基、
アルケニル基及びアルキニル基は１〜５個の水酸基で置
換されていてもよくこれらは保護されていてもよい）を
示し、Ｒ²は水素原子、C_1-10アルキル基、C_2-10アルケ
ニル基又はC_2-10アルキニル基（該アルキル基、アルケ
ニル基及びアルキニル基は１〜５個の水酸基で置換され
ていてもよくこれらは保護されていてもよい）を示す｝
を示す。Ｘ²及びＸ³はそれぞれ独立に、水素原子、C_1-4
アルキル基、C_1-4アルケニル基、C_1-4アルキニル基、C
_1-4アルコキシ基、C_1-4アルキルスルホニル基、C_2-4ア
ルケニルスルホニル基、C_2-4アルキニルスルホニル基、
C_1-4アルキルカルボニル基、C_2-4アルケニルカルボニル
基、C_2-4アルキニルカルボニル基、ニトロ基又はシアノ
基を示すかＸ¹と同じ意味を示す。Ａｒは、フェニル
基、C_1-4アルキル基、C_2-4アルケニル基、C_2-4アルキニ
ル基、C_1-4アルコキシ基、C_1-4アルキルスルホニル基、
C_2-4アルケニルスルホニル基、C_2-4アルキニルスルホニ
ル基、C_1-4アルキルカルボニル基、C_2-4アルケニルカル
ボニル基、C_2-4アルキニルカルボニル基、ニトロ基又は
シアノ基で置換されていてもよいフェニル基を示す。ｎ
は１から３の整数を示す］で表されるトリアリールビス
マス化合物である。[Wherein X ¹ represents YNR ¹ R ² ｛Y represents SO ₂ — or C (O) —. R ¹ is a C _1-10 alkyl group, C _2-10
Alkenyl group or C _2-10 alkynyl group (the alkyl group,
The alkenyl group and the alkynyl group may be substituted with 1 to 5 hydroxyl groups, which may be protected), and R ² represents a hydrogen atom, a C _1-10 alkyl group, a C _2-10 alkenyl group. Or a C _2-10 alkynyl group (the alkyl group, the alkenyl group and the alkynyl group may be substituted with 1 to 5 hydroxyl groups and may be protected).
Is shown. X ² and X ³ each independently represent a hydrogen atom, C _1-4
Alkyl group, C _1-4 alkenyl group, C _1-4 alkynyl group, C
_1-4 alkoxy group, C _1-4 alkylsulfonyl group, _C2-4 alkenylsulfonyl group, _C2-4 alkynylsulfonyl group,
It represents a C _1-4 alkylcarbonyl group, a C _2-4 alkenylcarbonyl group, a C _2-4 alkynylcarbonyl group, a nitro group or a cyano group, or has the same meaning as X ¹ . Ar is a phenyl group, a C _1-4 alkyl group, a C _2-4 alkenyl group, a C _2-4 alkynyl group, a C _1-4 alkoxy group, a C _1-4 alkylsulfonyl group,
_C2-4 alkenylsulfonyl group, _C2-4 alkynylsulfonyl group, _C1-4 alkylcarbonyl group, _C2-4 alkenylcarbonyl group, _C2-4 alkynylcarbonyl group, substituted with a nitro group or a cyano group Represents a good phenyl group. n
Represents an integer of 1 to 3].

【０００７】ここでＲ¹のアルキル基としてはメチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル
基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル
基、ノニル基、デカニル基、シクロプロピル基、シクロ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基及び任
意の位置がメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基で置換されていてもよい総炭素数１０個以下
のシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基が挙げられる。アルケニル基及びアルキニル基として
は上記に示したアルキル基の任意の位置が２重結合又は
３重結合でおき代わったものを示す。これらアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基は任意の位置で１から
５個の水酸基で置換されていてもよく、これらは保護さ
れていてもよい。水酸基の保護基としてはトリメチルシ
リル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフ
ェニルシリル基等のシリル基、メトキシメチル基に代表
される置換メチル基、１−エトキシエチル基、アリル基
に代表される置換エチル基、ベンジル基、ｐ−メトキシ
ベンジル基、ｐ−フェニルベンジル基に代表される置換
ベンジル基が挙げられる。又、隣接する２個の水酸基を
同時に保護できる保護基を含んでいてもよく、その例と
してはメチレンアセタール、エチレンアセタール、１−
ｔ−ブチルエチリデンアセタール、１−フェニルエチリ
デンアセタール、イソプロピリデンケタール、ベンジリ
デンアセタール、メトキシメチレンアセタール、エトキ
シメチレンアセタール、ジ−ｔ−ブチルシリレン、テト
ラ−ｔ−ブチル−ジシロキサン−１，３−ジイリデン、
エチルボロネート及びフェニルボロネート等が挙げられ
る。Here, the alkyl group of R ¹ is a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-
Butyl, i-butyl, s-butyl, t-butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, decanyl, cyclopropyl, cyclobutyl, cyclopentyl, cyclohexyl and any Is methyl, ethyl, n-propyl, i-
Examples thereof include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group having a total of 10 or less carbon atoms which may be substituted with a propyl group. Examples of the alkenyl group and the alkynyl group include those in which the above-described arbitrary positions of the alkyl group are replaced with a double bond or a triple bond. These alkyl group, alkenyl group and alkynyl group may be substituted at any position by 1 to 5 hydroxyl groups, and these may be protected. Examples of the hydroxyl-protecting group include silyl groups such as trimethylsilyl group, t-butyldimethylsilyl group, t-butyldiphenylsilyl group, substituted methyl group represented by methoxymethyl group, 1-ethoxyethyl group and allyl group. Examples include a substituted benzyl group represented by a substituted ethyl group, a benzyl group, a p-methoxybenzyl group, and a p-phenylbenzyl group. It may also contain a protecting group capable of simultaneously protecting two adjacent hydroxyl groups, such as methylene acetal, ethylene acetal, 1-
t-butylethylidene acetal, 1-phenylethylidene acetal, isopropylidene ketal, benzylidene acetal, methoxymethylene acetal, ethoxymethylene acetal, di-t-butylsilylene, tetra-t-butyl-disiloxane-1,3-diylidene,
Ethyl boronate and phenyl boronate are exemplified.

【０００８】Ｒ²は水素原子又はＲ¹で述べたアルキル
基、アルケニル基、アルキニル基の中から選ばれる。R ² is selected from a hydrogen atom or an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group described for R ¹ .

【０００９】Ｘ²及びＸ³はそれぞれ水素原子、炭素数１
から４個のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
炭素数１から４個のアルコキシ基、炭素数１から４個の
アルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、アル
キニルスルホニル基又は炭素数１から４個のアルキルカ
ルボニル基、アルケニルカルボニル基、アルキニルカル
ボニル基から独立に選ばれる。アルキル基としてはメチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ
−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ−ブチル基及びｔ−ブチ
ル基が挙げられる。アルケニル基及びアルキニル基とし
ては上記に示したアルキル基の任意の位置が２重結合又
は３重結合でおき代わったものを示す。炭素数１から４
個のアルキルスルホニル基、アルケニルスルホニル基、
アルキニルスルホニル基としてはメチルスルホニル基、
エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル基、ｉ−
プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル基、ｉ−
ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル基、ｔ−ブ
チルスルホニル基、アルケニルスルホニル基及びアルキ
ニルスルホニル基としては上記に示したアルキル基の任
意の位置が２重結合又は３重結合でおき代わったものを
示す。炭素数１から４個のアルキルカルボニル基、アル
ケニルカルボニル基、アルキニルカルボニル基としては
メチルカルボニル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピ
ルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチ
ルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル基、ｓ−ブチル
カルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、アルケニルカ
ルボニル基及びアルキニルカルボニル基としては上記に
示したアルキル基の任意の位置が２重結合又は３重結合
でおき代わったものを示す。X ² and X ³ each represent a hydrogen atom and a carbon atom of 1
To 4 alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups,
Independently from an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenylsulfonyl group, an alkynylsulfonyl group or an alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenylcarbonyl group, and an alkynylcarbonyl group. To be elected. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, and n
-Butyl group, i-butyl group, s-butyl group and t-butyl group. Examples of the alkenyl group and the alkynyl group include those in which the above-described arbitrary positions of the alkyl group are replaced with a double bond or a triple bond. 1 to 4 carbon atoms
Alkylsulfonyl groups, alkenylsulfonyl groups,
Alkynylsulfonyl groups include a methylsulfonyl group,
Ethylsulfonyl group, n-propylsulfonyl group, i-
Propylsulfonyl group, n-butylsulfonyl group, i-
As the butylsulfonyl group, s-butylsulfonyl group, t-butylsulfonyl group, alkenylsulfonyl group and alkynylsulfonyl group, those in which any of the alkyl groups shown above are replaced by a double bond or a triple bond are shown. . Examples of the alkylcarbonyl group, alkenylcarbonyl group and alkynylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms include methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group, n-propylcarbonyl group, i-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group and i-butylcarbonyl. As the group, s-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, alkenylcarbonyl group and alkynylcarbonyl group, those in which any position of the alkyl group shown above is replaced by a double bond or a triple bond are shown.

【００１０】Ａｒはフェニル基、炭素数１から４個のア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、炭素数１から
４個のアルコキシ基、炭素数１から４個のアルキルスル
ホニル基、アルケニルスルホニル基、アルキニルスルホ
ニル基、炭素数１から４個のアルキルカルボニル基、ア
ルケニルカルボニル基、アルキニルカルボニル基、ニト
ロ基又はシアノ基で置換されているフェニル基を示す。
アルキル基としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、アルケニル基及びアルキニ
ル基としては上記に示したアルキル基の任意の位置が２
重結合又は３重結合でおき代わったものを示す。炭素数
１から４個のアルキルスルホニル基、アルケニルスルホ
ニル基、アルキニルスルホニル基としてはメチルスルホ
ニル基、エチルスルホニル基、ｎ−プロピルスルホニル
基、ｉ−プロピルスルホニル基、ｎ−ブチルスルホニル
基、ｉ−ブチルスルホニル基、ｓ−ブチルスルホニル
基、ｔ−ブチルスルホニル基、アルケニルスルホニル基
及びアルキニルスルホニル基としては上記に示したアル
キル基の任意の位置が２重結合又は３重結合でおき代わ
ったものを示す。炭素数１から４個のアルキルカルボニ
ル基、アルケニルカルボニル基、アルキニルカルボニル
基としてはメチルカルボニル基、エチルカルボニル基、
ｎ−プロピルカルボニル基、ｉ−プロピルカルボニル
基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉ−ブチルカルボニル
基、ｓ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル
基、アルケニルカルボニル基及びアルキニルカルボニル
基としては上記に示したアルキル基の任意の位置が２重
結合又は３重結合でおき代わったものを示す。Ar is a phenyl group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group, an alkynyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenylsulfonyl group, an alkynyl. A phenyl group substituted by a sulfonyl group, an alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenylcarbonyl group, an alkynylcarbonyl group, a nitro group or a cyano group.
Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, an i-butyl group, and s.
As the -butyl group, t-butyl group, alkenyl group and alkynyl group, any position of the alkyl group shown above is 2
It shows what was replaced by a heavy bond or triple bond. Examples of the alkylsulfonyl, alkenylsulfonyl, and alkynylsulfonyl groups having 1 to 4 carbon atoms include methylsulfonyl, ethylsulfonyl, n-propylsulfonyl, i-propylsulfonyl, n-butylsulfonyl, and i-butylsulfonyl. As the group, s-butylsulfonyl group, t-butylsulfonyl group, alkenylsulfonyl group and alkynylsulfonyl group, those in which the above-mentioned arbitrary positions of the alkyl group are replaced by a double bond or a triple bond are shown. Examples of the alkylcarbonyl group having 1 to 4 carbon atoms, alkenylcarbonyl group and alkynylcarbonyl group include methylcarbonyl group, ethylcarbonyl group,
Examples of the n-propylcarbonyl group, i-propylcarbonyl group, n-butylcarbonyl group, i-butylcarbonyl group, s-butylcarbonyl group, t-butylcarbonyl group, alkenylcarbonyl group and alkynylcarbonyl group include the alkyls shown above. It shows that any position of the group is replaced by a double bond or a triple bond.

【００１１】本発明に用いられる好ましい化合物として
は、以下の化合物が挙げられる。 （１）水酸基が保護されている化合物。 （２）ＹがＳＯ₂−である化合物。 （３）ＹがＳＯ₂−である上記（１）記載の化合物。 （４）ｎ＝３である上記（２）記載の化合物。 （５）ｎ＝３である上記（３）記載の化合物。 （６）Ｘ³が水素原子である上記（４）記載の化合物。 （７）Ｘ³が水素原子である上記（５）記載の化合物。 （８）Ｘ²が水素原子である上記（６）記載の化合物。 （９）Ｘ²が水素原子である上記（７）記載の化合物。 （１０）ｎ＝１である上記（２）記載の化合物。 （１１）ｎ＝１である上記（３）記載の化合物。 （１２）Ｘ³が水素原子である上記（１０）記載の化合
物。 （１３）Ｘ³が水素原子である上記（１１）記載の化合
物。 （１４）Ｘ²が水素原子である上記（１２）記載の化合
物。 （１５）Ｘ²が水素原子である上記（１３）記載の化合
物。Preferred compounds used in the present invention include the following compounds. (1) A compound in which a hydroxyl group is protected. (2) The compound wherein Y is SO ₂ —. (3) The compound according to the above (1), wherein Y is SO ₂ —. (4) The compound according to the above (2), wherein n = 3. (5) The compound according to the above (3), wherein n = 3. (6) The compound according to the above (4), wherein X ³ is a hydrogen atom. (7) The compound according to the above (5), wherein X ³ is a hydrogen atom. (8) The compound according to the above (6), wherein X ² is a hydrogen atom. (9) The compound according to the above (7), wherein X ² is a hydrogen atom. (10) The compound according to the above (2), wherein n = 1. (11) The compound according to the above (3), wherein n = 1. (12) The compound according to the above (10), wherein X ³ is a hydrogen atom. (13) The compound according to the above (11), wherein X ³ is a hydrogen atom. (14) The compound according to the above (12), wherein X ² is a hydrogen atom. (15) The compound according to the above (13), wherein X ² is a hydrogen atom.

【００１２】具体的には、上記（２）の化合物として
は、好ましくは化合物１、化合物２、化合物６及び化合
物８が挙げられる．Specifically, the compound of the above (2) preferably includes compound 1, compound 2, compound 6 and compound 8.

【００１３】[0013]

【化３】 Embedded image

【００１４】上記（３）の化合物としては、好ましくは
化合物３、化合物４、化合物５、化合物７及び化合物９
が挙げられる。The compound of the above (3) is preferably a compound 3, a compound 4, a compound 5, a compound 7 and a compound 9
Is mentioned.

【００１５】[0015]

【化４】 Embedded image

【００１６】上記（４）の化合物としては、好ましくは
化合物１及び化合物２が挙げられる。The compound (4) preferably includes Compound 1 and Compound 2.

【００１７】上記（５）の化合物としては、好ましくは
化合物３、化合物４及び化合物９が挙げられる。The compound (5) preferably includes compound 3, compound 4 and compound 9.

【００１８】上記（６）の化合物としては、好ましくは
化合物１及び化合物２が挙げられる。The compound of the above (6) preferably includes compound 1 and compound 2.

【００１９】上記（７）の化合物としては、好ましくは
化合物３、化合物４及び化合物９が挙げられる。The compound (7) preferably includes compounds 3, 4 and 9.

【００２０】上記（８）の化合物としては、好ましくは
化合物１が挙げられる。The compound (8) is preferably Compound 1.

【００２１】上記（９）としては、好ましくは化合物３
及び化合物９が挙げられる。The above (9) is preferably a compound 3
And compound 9.

【００２２】上記（１０）としては、好ましくは化合物
６及び化合物８が挙げられる。The above (10) preferably includes compound 6 and compound 8.

【００２３】上記（１１）としては、好ましくは化合物
５及び化合物７が挙げられる。The above (11) preferably includes Compound 5 and Compound 7.

【００２４】上記（１２）としては、好ましくは化合物
６及び化合物８が挙げられる。The above (12) preferably includes compound 6 and compound 8.

【００２５】上記（１３）としては、好ましくは化合物
５及び化合物７が挙げられる。The above (13) preferably includes Compound 5 and Compound 7.

【００２６】上記（１４）としては、好ましくは化合物
６が挙げられる。The above (14) preferably includes compound 6.

【００２７】上記（１５）としては、好ましくは化合物
５が挙げられる。The above (15) preferably includes compound 5.

【００２８】本発明に供する化合物はｎ＝３の化合物に
ついては、特開平０７−１１２９９３及び特開平５−２
０７９７０に記載の方法により合成できる。ｎ＝１又は
２の化合物は以下の式で示される方法によって製造でき
る。The compounds to be used in the present invention are described in JP-A-07-112993 and 5-2 in the case of n = 3.
The compound can be synthesized by the method described in US Pat. The compound of n = 1 or 2 can be produced by a method represented by the following formula.

【００２９】反応式１Reaction formula 1

【００３０】[0030]

【化５】 〔式中Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は前記に同じ。ＭはＭｇＸ’
（Ｘ’はハロゲン原子を表す）又はアルカリ金属を示
す。ハロゲン原子としては、ヨウ素原子、臭素原子及び
塩素原子が挙げられる。アルカリ金属としては、リチウ
ム、ナトリウムなどが挙げられる。Ｘ’はハロゲン原子
を表すが、塩素原子又は臭素原子が好ましい。〕 反応式１による製造法は式（II）で示される置換フェニ
ル金属反応性誘導体と式（III）で表されるジアリール
ビスマストリフレートとを不活性な溶媒中で反応させる
ことによって製造する方法である。上記反応における原
料比は通常化合物（II）に対して化合物（III）を０．
２当量から３当量、好ましくは０．５当量から１．５当
量程度を使用すれば充分である。反応温度としては−１
００℃から溶媒の沸点まで、好ましくは−７８℃から２
０℃が採用できる。反応溶媒としては、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサ
ン、ジイソプロピルエーテルなどのエーテル系溶媒ない
しそれらの混合溶媒の他にヘキサン、ヘプタン、ペンタ
ンなどの炭化水素系溶媒を混合してもよい。又、上記溶
媒にテトラメチルエチレンジアミン、ヘキサメチルホス
ホリックトリアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピルウレア
などの添加剤を加えてもよく、加える場合その当量数は
０．０１当量から２当量、好ましくは０．３当量から
０．５当量である。ジアリールビスマストリフレートの
合成法は、文献 Organometallics, 1996, 15, 1951〜19
53記載の方法によってなされる。Embedded image [Wherein X ¹ , X ² and X ³ are the same as above. M is MgX '
(X ′ represents a halogen atom) or an alkali metal. Examples of the halogen atom include an iodine atom, a bromine atom and a chlorine atom. Examples of the alkali metal include lithium and sodium. X ′ represents a halogen atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom. The production method according to the reaction formula 1 is a production method by reacting a substituted phenyl metal reactive derivative represented by the formula (II) with a diarylbismuth triflate represented by the formula (III) in an inert solvent. is there. The raw material ratio in the above reaction is usually 0.
It is sufficient to use about 2 to 3 equivalents, preferably about 0.5 to 1.5 equivalents. The reaction temperature is -1
From 00 ° C to the boiling point of the solvent, preferably from -78 ° C to 2
0 ° C. can be adopted. As a reaction solvent, a mixture of ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran (THF), 1,4-dioxane, diisopropyl ether or a mixed solvent thereof and a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, pentane or the like may be used. Good. Further, an additive such as tetramethylethylenediamine, hexamethylphosphoric triamide, N, N-dimethylpropylurea may be added to the above solvent, and when added, the number of equivalents is 0.01 to 2 equivalents, preferably 0 equivalent. 0.3 to 0.5 equivalents. The synthesis of diarylbismuth triflates is described in the literature Organometallics, 1996, 15, 1951-19.
53.

【００３１】置換フェニル金属反応性誘導体（II）は例
えば、下記の反応スキームＡ及びＢに示した公知の製造
法又は公知の有機反応を利用して製造できる。The substituted phenyl metal reactive derivative (II) can be produced, for example, by using a known production method shown in the following reaction schemes A and B or a known organic reaction.

【００３２】[0032]

【化６】 Embedded image

【００３３】（式中、Ｍはリチウム原子、ナトリウム原
子などのアルカリ金属塩を示す。Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³は前
記に同じ。Ｘ’はハロゲン原子を表す）。反応スキーム
Ａは出発原料としてハロフェニル誘導体を用い、ｎ−ブ
チルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウ
ム、フェニルリチウム、ナトリウムアミド、リチウムジ
イソプロピルアミドなどのアルカリ金属塩基やマグネシ
ウム金属を反応させ、式（II）で表される置換フェニル
アルカリ金属塩誘導体又は置換フェニルマグネシウムハ
ライド誘導体を生成させる方法である。これら置換フェ
ニル金属反応性誘導体を生成する温度としては、置換フ
ェニルアルカリ金属塩誘導体の場合−７８℃〜０℃ま
で、置換フェニルマグネシウムハライド誘導体の場合は
−４０℃から溶媒の沸点までを設定することができる。
これらの置換フェニル金属反応性誘導体は反応系中で生
成せしめ、引き続き連続して反応式１のジアリールビス
マストリフレートとの反応を行なうことが多いため、こ
こでの反応に用いる溶媒も前述の反応式１の項で説明し
たものと同様の溶媒を用いることができる。(In the formula, M represents an alkali metal salt such as a lithium atom and a sodium atom. X ¹ , X ² and X ³ are the same as above, and X ′ represents a halogen atom.) Reaction scheme A uses a halophenyl derivative as a starting material, reacts an alkali metal base such as n-butyllithium, s-butyllithium, t-butyllithium, phenyllithium, sodium amide, lithium diisopropylamide, or a magnesium metal with a compound represented by the formula ( This is a method for producing a substituted phenyl alkali metal salt derivative or a substituted phenylmagnesium halide derivative represented by II). The temperature at which these substituted phenyl metal reactive derivatives are formed should be set from -78 ° C to 0 ° C for substituted phenyl alkali metal salt derivatives, and from -40 ° C to the boiling point of the solvent for substituted phenylmagnesium halide derivatives. Can be.
Since these substituted phenyl metal reactive derivatives are formed in the reaction system and subsequently continuously reacted with the diarylbismuth triflate of the reaction formula 1, the solvent used in the reaction is also the same as that of the above reaction formula. The same solvent as described in the section 1 can be used.

【００３４】反応スキームＢは、出発原料としてフェニ
ル誘導体を用いてこれにアルカリ金属塩基を反応させ、
置換基Ｘ¹のオルト位の水素をアルカリ金属と置換させ
式（II）で表される置換フェニルアルカリ金属誘導体を
生成させる方法である。本法で採用されるアルカリ金属
塩基、溶媒及び温度等の反応条件は前述の反応スキーム
Ａにおける条件にほぼ準じて設定して特に差し支えな
い。In Reaction Scheme B, a phenyl derivative is used as a starting material, and is reacted with an alkali metal base.
Hydrogen ortho substituents X ¹ is a method to produce a substituted phenyl alkali metal derivative of the formula is replaced with an alkali metal (II). The reaction conditions such as the alkali metal base, the solvent and the temperature employed in the present method may be set substantially according to the conditions in the above-mentioned reaction scheme A, and there is no particular problem.

【００３５】水酸基が保護されていない化合物は、水酸
基が保護された化合物を脱保護することにより製造でき
る。脱保護の方法としては一般的に用いられる方法を用
いることができるが、シリル基の場合は、フルオライド
イオン型化合物及び酸触媒が用いられる。フルオライド
イオン型化合物としてはテトラブチルアンモニウムフル
オライドのようなてテトラアルキルフルオライド類、フ
ッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フ
ッ化セシウムなどのアルカリ金属フルオライド塩又はピ
リジンフッ化水素酸などを用いる。酸触媒としては塩
酸、硫酸などの鉱酸、酢酸、クエン酸などの有機酸、ｐ
−トルエンスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスル
ホン酸、酸性のイオン交換樹脂が用いられる。置換メチ
ル基、置換エチル基、置換ベンジル基、アセタール、ケ
タールの場合は多くは前記で示した酸性触媒が用いられ
るが、その他の方法も用いることができ、例えば置換ベ
ンジル基やベンジルケタールの場合は水添条件やバーチ
還元条件でもよい。ボロネートの場合はアセトン−水又
は水−エタノールなどが用いられる。反応に用いられる
溶媒としては、反応に関与しないものなら何でもよく幅
広く選択できる。反応温度としては−２０℃〜溶媒の沸
点までの間を通常設定できる。A compound in which a hydroxyl group is not protected can be produced by deprotecting a compound in which a hydroxyl group is protected. As a deprotection method, a generally used method can be used. In the case of a silyl group, a fluoride ion type compound and an acid catalyst are used. Examples of the fluoride ion type compound include tetraalkyl fluorides such as tetrabutylammonium fluoride, alkali metal fluoride salts such as lithium fluoride, sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride, and pyridine hydrofluoric acid. Used. Examples of the acid catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid; organic acids such as acetic acid and citric acid;
-Toluenesulfonic acid, pyridinium p-toluenesulfonic acid and acidic ion exchange resins are used. In the case of a substituted methyl group, a substituted ethyl group, a substituted benzyl group, an acetal, and a ketal, in many cases, the acidic catalyst described above is used, but other methods can also be used.For example, in the case of a substituted benzyl group or a benzyl ketal, Hydrogenation conditions or birch reduction conditions may be used. In the case of boronate, acetone-water or water-ethanol is used. As the solvent used in the reaction, any solvent can be used as long as it does not participate in the reaction. The reaction temperature can be usually set between -20 ° C and the boiling point of the solvent.

【００３６】本発明に供する化合物を単離精製する方法
としては、再結晶又はシリカゲルを用いた各種クロマト
グラフィー、液体クロマトグラフィーなどに加えて、特
に水溶性の場合には、イオンクロマトグラフィー、アフ
ィニティークロマトグラフィーなどの方法が有効なこと
もある。The method of isolating and purifying the compound to be used in the present invention includes recrystallization or various types of chromatography using silica gel, liquid chromatography, etc., especially when the compound is water-soluble, ion chromatography, affinity chromatography. Methods such as photography may be effective.

【００３７】[0037]

【発明の実施の形態】本発明に使用する化合物は優れた
紫外線吸収作用、特にＵＶ-Ｂ吸収作用を有する。該化
合物を含有する本発明紫外線吸収作用を有する化粧品
（以下、「本発明化粧料」と称する）は、その化粧料基
剤に対して親和性を有する本発明に使用する化合物
（Ｉ）の１種又は2種以上を適宣選択し、これを常法に
より公知の化粧料基剤に配合し、クリーム、溶液、油
剤、スプレー、スティック、乳液、ファンデーション、
軟膏等の剤型にすることにより調製される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The compounds used in the present invention have an excellent ultraviolet absorbing effect, especially UV-B absorbing effect. The cosmetic having the ultraviolet absorbing effect of the present invention containing the compound (hereinafter referred to as “the cosmetic of the present invention”) is one of the compounds (I) used in the present invention having an affinity for the cosmetic base. Seeds or two or more are appropriately selected and blended into a known cosmetic base by a conventional method, cream, solution, oil, spray, stick, emulsion, foundation,
It is prepared by preparing a dosage form such as an ointment.

【００３８】すなわち、本発明に使用する化合物（Ｉ）
を化粧料基剤に合わせて選択使用することにより、オイ
ル基剤の化粧油、多量にオイルを配合する油性クリーム
や油性乳液、水を多量に配合する弱油性クリームや弱油
性乳液、水ベースの化粧水等の基礎化粧品から油剤を基
剤とするファンデーションやリップスティック等のメイ
クアップ化粧料に至るまで、紫外線吸収作用を有するあ
らゆる形態の化粧品を製造することができる。本発明紫
外線吸収剤の化合物（Ｉ）の配合量は、使用形態により
変動し得るので特に限定されず、有効量存在すればよい
が一般には全組成物中に０．１〜２０重量％，好ましく
は０．５〜１０重量％となるように配合するのがよい。
本発明紫外線吸収剤を１種又は２種以配合したのみでも
よいが、更に他の紫外線吸収剤と組み合わせて使用する
ことができる．That is, the compound (I) used in the present invention
By selecting and using according to the cosmetic base, oil-based cosmetic oil, oily cream or oily emulsion containing a large amount of oil, weak oily cream or weak oily emulsion containing a large amount of water, water-based From cosmetics such as lotions to makeup cosmetics such as foundations and lipsticks based on oils, cosmetics of all forms having an ultraviolet absorbing effect can be manufactured. The compounding amount of the compound (I) of the ultraviolet absorbent of the present invention is not particularly limited because it can vary depending on the use form, and may be present in an effective amount, but is generally 0.1 to 20% by weight, preferably 0.1 to 20% by weight in the whole composition. Is preferably blended to be 0.5 to 10% by weight.
The ultraviolet absorbent of the present invention may be used alone or in combination of two or more, but can be used in combination with another ultraviolet absorbent.

【００３９】紫外線吸収剤としては、例えばｐ−メチル
ベンジリデン−Ｄ（又はＬ）−ショウノウ又はそのスル
ホン酸ナトリウム塩、２−フェニルベンズイミダゾール
−５−スルホン酸ナトリウム塩、３，４−ジメチルフェ
ニルグリオキシル酸ナトリウム塩、２−フェニル−５−
メチルベンズオキサゾールやパラアミノ安息香酸（以下
PABAと略す）、PABAモノグリセリンエステル、N，N−ジ
プロポキシPABAエチルエステル、N，N−ジエトキシPABA
エチルエステル、N，N−ジメチルPABAエチルエステル、
N，N−ジメチルPABAブチルエステル等の安息香酸系紫外
線吸収剤、ホモメンチル−N−アセチルアントラニレー
ト等のアントラニル酸系紫外線吸収剤、アミルサリシレ
ート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレー
ト、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベ
ンジルサリシレート、p−イソプロパノールフェニルサ
リシレート等のサリチル酸系紫外線吸収剤、オクチルシ
ンナメート、エチル−4−イソプロピルシンナメート、
メチル−2，5−ジイソプロピルシンナメート、エチル−
2，4−ジイソプロピルシンナメート、メチル−2，4−ジ
イソプロピルシンナメート、プロピル−p−メトキシシ
ンナメート、イソプロピル−p−メトキシシンナメー
ト、イソアミル−p−メトキシシンナメート、オクチル
−p−メトキシシンナメート（2−エチルヘキシル−p−
メトキシシンナメート）、2−エトキシエチル−p−メト
キシシンナメート、シクロヘキシル−p−メトキシシン
ナメート、エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメ
ート、2−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニル
シンナメート、グリセリルモノ−2−エチルヘキサノイ
ルージパラメトキシシンナメート、3，4，5−トリメト
キシ桂皮酸−3−メチル−4−［メチルビス（トリメチル
シロキシ）シリル］ブチル等の桂皮酸系紫外線吸収剤、
2，4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2，2’−ジヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2，2’−ジヒドロ
キシ−4，4’−ジメトキシベンゾフェノン、2，2’，
4，4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロ
キシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4
−メトキシ−4’−メチルベンゾフェノン、2‐ヒドロキ
シ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸塩、4
−フェニルペンゾフェノン、2−エチルヘキシル−4’−
フェニル−ベンゾフェノン−2−カルボキシレート、ヒ
ドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ヒド
ロキシ−3−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェ
ノン系紫外線吸収剤、3−（4’−メチルベンジリデン）
‐d，ｌ−カンファー、3−ベンジリデン−d，ｌ−カン
ファー，ベンジリデンカンファ類、ウロカニン酸、ウロ
カニン酸エチルエステル、2−フェニル−5−メチルベン
ゾキサゾール、2，2’−ヒドロキシ−5−メチルフェニ
ルベンゾトリアゾ−ル、2−（2’−ヒドロキシ−5’−t
−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、2−（2’−
ヒドロキシ−5’−メチルフェニル）べンゾトリアゾー
ル、ジベンザラジン、ジアニソイルメタン、４−メトキ
シ−２’−カルボキシベンゾイルメタン、4−メトキシ
−4’−t−ブチルジベンゾイルメタン、４−イソプロピ
ルベンゾイルメタン、5−（3，3−ジメチル−2−ノルボ
ルニリデン）−３−ペンタン−２−オン等が挙げられ
る。Examples of the ultraviolet absorbent include p-methylbenzylidene-D (or L) -camphor or its sodium sulfonate, 2-phenylbenzimidazole-5-sulfonic acid sodium salt, and 3,4-dimethylphenylglyoxylic acid Sodium salt, 2-phenyl-5-
Methylbenzoxazole or paraaminobenzoic acid (hereinafter
Abbreviated as PABA), PABA monoglycerin ester, N, N-dipropoxy PABA ethyl ester, N, N-diethoxy PABA
Ethyl ester, N, N-dimethyl PABA ethyl ester,
Benzoic acid-based ultraviolet absorbers such as N, N-dimethyl PABA butyl ester, anthranilic acid-based ultraviolet absorbers such as homomenthyl-N-acetylanthranilate, amyl salicylate, menthyl salicylate, homomenthyl salicylate, octyl salicylate, phenyl salicylate, Salicylic acid-based ultraviolet absorbers such as benzyl salicylate and p-isopropanol phenyl salicylate, octyl cinnamate, ethyl-4-isopropyl cinnamate,
Methyl-2,5-diisopropylcinnamate, ethyl-
2,4-diisopropylcinnamate, methyl-2,4-diisopropylcinnamate, propyl-p-methoxycinnamate, isopropyl-p-methoxycinnamate, isoamyl-p-methoxycinnamate, octyl-p-methoxycinnamate ( 2-ethylhexyl-p-
Methoxycinnamate), 2-ethoxyethyl-p-methoxycinnamate, cyclohexyl-p-methoxycinnamate, ethyl-α-cyano-β-phenylcinnamate, 2-ethylhexyl-α-cyano-β-phenylcinnamate, Cinnamic acid-based ultraviolet absorbers such as glyceryl mono-2-ethylhexanoyldiparamethoxycinnamate, and 3,4,5-trimethoxycinnamic acid-3-methyl-4- [methylbis (trimethylsiloxy) silyl] butyl;
2,4-dihydroxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′,
4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4
-Methoxy-4'-methylbenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonate, 4
-Phenylbenzophenone, 2-ethylhexyl-4'-
Benzophenone ultraviolet absorbers such as phenyl-benzophenone-2-carboxylate, hydroxy-4-n-octoxybenzophenone and 4-hydroxy-3-carboxybenzophenone, 3- (4'-methylbenzylidene)
-D, l-camphor, 3-benzylidene-d, l-camphor, benzylidene camphors, urocanic acid, urocanic acid ethyl ester, 2-phenyl-5-methylbenzoxazole, 2,2'-hydroxy-5-methyl Phenylbenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-t
-Octylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-
(Hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, dibenzalazine, dianisylmethane, 4-methoxy-2′-carboxybenzoylmethane, 4-methoxy-4′-t-butyldibenzoylmethane, 4-isopropylbenzoylmethane, 5- (3,3-dimethyl-2-norbornylidene) -3-pentan-2-one and the like.

【００４０】本発明化粧品では上記紫外線吸収剤に加え
て、更に化合物（Ｉ）の紫外線吸収作用を損わない限り
において、他の成分を添加配合することができる。その
代表的なものとしては、例えば水、粉末成分、高級脂肪
酸、アルコール、合成エステル油、シリコン、皮膜剤、
増粘剤、保湿剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活
性剤、両性界面活性剤、親油性非イオン界面活性剤、親
水性非イオン界面活性剤、天然の水溶性高分子、無機の
水溶性高分子及び化粧品・医薬品に一般的に用いられる
各種成分等が挙げられる。In the cosmetic of the present invention, in addition to the above-mentioned ultraviolet absorber, other components can be further added and compounded as long as the ultraviolet absorbing action of compound (I) is not impaired. Typical examples include water, powder components, higher fatty acids, alcohols, synthetic ester oils, silicon, film agents,
Thickener, humectant, anionic surfactant, cationic surfactant, amphoteric surfactant, lipophilic nonionic surfactant, hydrophilic nonionic surfactant, natural water-soluble polymer, inorganic water-soluble high Examples include molecules and various components generally used in cosmetics and pharmaceuticals.

【００４１】本発明で使用できる粉末成分としては、タ
ルク、カオリン、雲母、絹雲母（セリサイト）、白雲
母、金雲母、合成雲母、紅雲母、黒雲母、リチア雲母、
バーミキュライト、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウ
ム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸バリウム、ケイ酸カル
シウム、ケイ酸マグネシウム、ケイ酸ストロンチウム、
タングステン酸金属塩、マグネシウム、シリカ、ゼオラ
イト、硫酸バリウム、焼成硫酸カルシウム（焼セッコ
ウ）、リン酸カルシウム、フッ素アパタイト、ヒドロキ
シアパタイト、セラミックパウダー、金属石鹸（ミリス
チン酸亜鉛、パルミチン酸カルシウム、ステアリン酸ア
ルミニウム）、窒化ホウ素等の無機粉末ポリアミド樹脂
粉末（ナイロン粉末）、ポリエチレン粉末、ポリメタク
リル酸メチル粉末、ポリスチレン粉末、スチレンとアク
リル酸の共重合樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、
ポリ四フッ化工チレン粉末、セルロース粉末等の有機粉
末、二酸化チタン、酸化亜鉛等の無機白色顔料酸化鉄
（ベンガラ）、チタン酸鉄等の無機赤色系顔料、一酸化
鉄等の無機褐色系顔料、黄酸化鉄、黄土等の無機黄色系
顔料、黒酸化鉄、カーボンブラック、低次酸化チタン等
の無機黒色系顔料、マンゴバイオレット、コバルトバイ
オレット等の無機紫色系顔料、酸化クロム、水酸化クロ
ム、チタン酸コバルト等の無機緑色系顔料、群青、紺青
等の無機青色系顔料、酸化チタンコーテッドマイカ、酸
化チタンコーテッド、オキシ塩化ビスマス、酸化チタン
コーテッドタルク、着色酸化チタンコーテッドマイカ、
オキシ塩化ビスマス、魚鱗箔等のパール顔料、アルミニ
ウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉未顔料、赤
色201号、赤色202号、赤色204号、赤色205号、赤色220
号、赤色226号、赤色228号、赤色405号、橙色203号、橙
色204号、黄色205号、黄色401号、青色４０４号等の有
機顔料、赤色３号、赤色１０４号、赤色１０６号、赤色
２２７号、赤色２３０号、赤色４０１号、赤色５０５
号、橙色２０５号、黄色４号、黄色５号、黄色２０２
号、黄色２０３号、緑色３号、青色１号等のジルコニウ
ム、バリウム又はアルミニウムレーキ等の有機顔料、ク
ロロフィル、β−カロチン等の天然色素などが挙げられ
る。The powder component usable in the present invention includes talc, kaolin, mica, sericite (sericite), muscovite, phlogopite, synthetic mica, biotite, biotite, lithic mica,
Vermiculite, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum silicate, barium silicate, calcium silicate, magnesium silicate, strontium silicate,
Metal tungstate, magnesium, silica, zeolite, barium sulfate, calcined calcium sulfate (baked gypsum), calcium phosphate, fluorapatite, hydroxyapatite, ceramic powder, metal soap (zinc myristate, calcium palmitate, aluminum stearate), nitriding Inorganic powder such as boron polyamide resin powder (nylon powder), polyethylene powder, polymethyl methacrylate powder, polystyrene powder, copolymer resin powder of styrene and acrylic acid, benzoguanamine resin powder,
Organic powders such as polytetrafluoroethylene powder, cellulose powder, etc .; inorganic white pigments such as titanium dioxide and zinc oxide; iron oxide (bengala); inorganic red pigments such as iron titanate; inorganic brown pigments such as iron monoxide; Inorganic yellow pigments such as yellow iron oxide and loess; inorganic black pigments such as black iron oxide, carbon black and lower titanium oxide; inorganic purple pigments such as mango violet and cobalt violet; chromium oxide, chromium hydroxide, and titanium Inorganic green pigments such as cobalt oxide, ultramarine blue, inorganic blue pigments such as navy blue, titanium oxide coated mica, titanium oxide coated, bismuth oxychloride, titanium oxide coated talc, colored titanium oxide coated mica,
Bismuth oxychloride, pearl pigments such as fish scale foil, metal powders such as aluminum powder and copper powder, unpigmented pigments, Red No. 201, Red No. 202, Red No. 204, Red No. 205, Red No. 220
No. 226, Red No. 228, Red No. 405, Orange No. 203, Orange No. 204, Yellow No. 205, Yellow No. 401, Blue No. 404, etc., organic pigments such as Red No. 3, Red No. 104, Red No. 106, Red 227, Red 230, Red 401, Red 505
No. Orange No. 205, Yellow No. 4, Yellow No. 5, Yellow No. 202
Organic pigments such as zirconium, barium or aluminum lakes such as No. 203, green No. 3, green No. 3 and blue No. 1, and natural pigments such as chlorophyll and β-carotene.

【００４２】本発明で使用される高級脂肪酸としては例
えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステ
アリン酸、ベヘン（ベヘニン）酸、オレイン酸、12−ヒ
ドロキシステアリン酸、ウンデシレン酸、トール酸、イ
ソステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、エイコサ
ペンタエン酸（EPA）、ドコサヘキサエン酸（DHA）等が
挙げられる。The higher fatty acids used in the present invention include, for example, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic (behenic) acid, oleic acid, 12-hydroxystearic acid, undecylenic acid, tolic acid, isostearic acid Linoleic acid, linoleic acid, eicosapentaenoic acid (EPA), docosahexaenoic acid (DHA) and the like.

【００４３】本発明で使用されるアルコールとしては、
例えば、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
ラウリルアルコール、セチルアルコール、ステアリルア
ルコール、ベヘニルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、オレイルアルコール、セトステアリルアルコール等
の直鎖アルコール、モノステアリルグリセリンエーテル
（パチルノアルコール）、2−デシルテトラデシノー
ル、ラノリンアルコール、コレステロール、フィトステ
ロール、へキシルドデカノール、イソステアリルアルコ
ール、オクチルドデカノール等の分岐鎖アルコール等が
挙げられる。The alcohol used in the present invention includes
For example, ethyl alcohol, isopropyl alcohol,
Linear alcohols such as lauryl alcohol, cetyl alcohol, stearyl alcohol, behenyl alcohol, myristyl alcohol, oleyl alcohol, cetostearyl alcohol, monostearyl glycerin ether (patylno alcohol), 2-decyltetradecinol, lanolin alcohol, cholesterol, phytosterol, Examples include branched alcohols such as hexyl decanol, isostearyl alcohol, and octyl dodecanol.

【００４４】本発明で使用される合成エステル油として
ばミリスチン酸イソプロピル、オクタン酸セチル、ミリ
スチン酸オクチルドデシル、パルミチン酸イソプロピ
ル、ステアリン酸ブチル、ラウリン酸ヘキシル、ミリス
チン酸ミリスチル、オレイン酸デシル、ジメチルオクタ
ン酸ヘキシルデシル、乳酸セチル、乳酸ミリスチル、酢
酸ラノリン、ステアリン酸イソセチル、イソステアリン
酸イソセチル、12−ヒドロキシステアリル酸コレステリ
ル、ジ−2−エチルヘキシル酸エチレングリコール、ジ
ペンタエリスリトール脂肪酸エステル、モノイソステア
リン酸N−アルキルグリコール、ジカプリン酸ネオペン
チルグリコール、リンゴ酸ジイソステアリル、ジ−2−
ヘプチルウンデカン酸グリセリン、トリ−2−エチルヘ
キシル酸トリメチロールプロパン、トリイソステアリン
酸トリメチロールプロパン、テトラ−2−エチルヘキシ
ル酸ペンタンエリスリトール、トリ−2−エチルヘキシ
ル酸グリセリン、トリイソステアリン酸トリメチロール
プロパン、セチル−2−エチルヘキサノエート、2−エチ
ルヘキシルパルミテート、トリミリスチン酸グリセリ
ン、トリ−2−ヘプチルウンデカン酸グリセライド、ヒ
マシ油脂肪酸メチルエステル、オレイン酸オイル、セト
ステアリルアルコール、アセトグリセライド、パルミチ
ン酸2−ヘプチルウンデシル、アジピン酸ジイソブチ
ル、N−ラウロイル−L−グルタミン酸−2−オクチルド
デシルエステル、アジピン酸ジ−2−ヘプチルウンデシ
ル、エチルラウレート、セバチン酸ジ−2−エチルヘキ
シル、ミリスチン酸2−ヘキシルデシル、パルミチン酸2
−ヘキシルデシル、アジビン酸2−ヘキシルデシル、セ
パチン酸ジイソプロピル、コハク酸2−エチルヘキシ
ル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、クエン酸ト
リエチル等が挙げられる。The synthetic ester oils used in the present invention include isopropyl myristate, cetyl octoate, octyl dodecyl myristate, isopropyl palmitate, butyl stearate, hexyl laurate, myristyl myristate, decyl oleate, and dimethyl octanoate. Hexyldecyl, cetyl lactate, myristyl lactate, lanolin acetate, isocetyl stearate, isocetyl isostearate, cholesteryl 12-hydroxystearate, ethylene glycol di-2-ethylhexylate, fatty acid ester of dipentaerythritol, N-alkyl glycol monoisostearate, Neopentyl glycol dicaprate, diisostearyl malate, di-2-
Glycerin heptylundecanoate, trimethylolpropane tri-2-ethylhexylate, trimethylolpropane triisostearate, pentaneerythritol tetra-2-ethylhexylate, glycerin tri-2-ethylhexylate, trimethylolpropane triisostearate, cetyl-2-yl Ethyl hexanoate, 2-ethylhexyl palmitate, glycerine trimyristate, glyceride tri-2-heptylundecanoate, methyl ester of castor oil fatty acid, oleic oil, cetostearyl alcohol, acetoglyceride, 2-heptylundecyl palmitate, Diisobutyl adipate, N-lauroyl-L-glutamic acid-2-octyldodecyl ester, di-2-heptylundecyl adipate, ethyl laurate, sebacin Di-2-ethylhexyl myristate, 2-hexyldecyl palmitate 2
-Hexyldecyl, 2-hexyldecyl adipate, diisopropyl sepate, 2-ethylhexyl succinate, ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate, triethyl citrate and the like.

【００４５】本発明で使用されるシリコンとしては、例
えばジメチルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロ
キサン、メチルハイドロジェンポリシロキサン等の鎖状
ポリシロキサン、デカメチルポリシロキサン、ドデカメ
チルポリシロキサン、テトラメチルテトラハイドロジェ
ンポリシロキサン等の環状ポリシロキサン、シリコンゴ
ム等が挙げられるExamples of the silicon used in the present invention include linear polysiloxanes such as dimethylpolysiloxane, methylphenylpolysiloxane and methylhydrogenpolysiloxane, decamethylpolysiloxane, dodecamethylpolysiloxane and tetramethyltetrahydrogen. Cyclic polysiloxane such as polysiloxane, and silicone rubber.

【００４６】本発明で使用される皮膜剤としては、特に
限定されない例えば、ポリビニルピロリドン（PVP）、P
VP／ジメチルアミノエチルメタクリル共重合体、PVP／
エイコセン共重合体、PVP／メタクリル酸エチル／メタ
クリル酸共重合体、PVP／ヘキサデセン共重合体PVP／VA
共重合体、PVP／ビニルアセテート／イタコン酸共重合
体、スチレン／PVP共重合体等のPVP系皮膜剤、アクリル
酸エチル／アクリル酸アミド／アクリル酸共重合体、ア
クリル酸エチル／アクリル酸ブチル共重合体、アクリル
酸エチル／メタクリル酸エチル共重合体、アクリル酸エ
チル／メタクリル酸共重合体、アクリル酸エチル／メタ
クリル酸メチル共重合体、アクリル酸オクチル／酢酸ビ
ニル共重合体、アクリル酸オクチル／スチレン共重合
体、アクリル酸ブチル／酢酸ビニル共重合体、アクリル
酸ブチル／ヒドロキシメタクリル酸エチル共重合体、ア
クリル酸ブチル／メタクリル酸メチル共重合体、アクリ
ル酸メトキシエチル／アクリル酸ヒドロキシエチル／ア
クリル酸ブチル共重合体、アクリル酸ラウリル／酢酸ビ
ニル共重合体、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸
ブチル、ポリスチレンアクリル酸樹脂等のアクリル酸系
皮膜剤、ポリ酢酸ビニル等の酢酸ビニル系皮膜剤、ポリ
メタクリル酸メチル、メタクリル酸メチル／アクリル酸
ブチル／アクリル酸オクチル酸、ジエチル硫酸ビニルビ
ロリドン／N，N’−ジメチルアミノメタクリル酸共重合
体等のメタクリル酸系皮膜剤、ビニルメチルエーテル／
マレイン酸エチル共重合体、ビニルメチルエーテル／マ
レイン酸ブチル共重合体等のビニルメチルエーテル系皮
膜剤、スチレン／メチルスチレン／インデン共重合体等
のスチレン系皮膜剤、シクロヘキサン系アルキッド樹脂
等のアルキッド樹脂系皮膜剤、トリメチルシロキシケイ
酸等のシリコン樹脂系皮膜剤等が挙げられる。The coating agent used in the present invention is not particularly limited, for example, polyvinylpyrrolidone (PVP), P
VP / dimethylaminoethyl methacrylic copolymer, PVP /
Eicosene copolymer, PVP / ethyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, PVP / hexadecene copolymer PVP / VA
PVP coating agents such as copolymers, PVP / vinyl acetate / itaconic acid copolymer, styrene / PVP copolymer, etc., ethyl acrylate / acrylamide / acrylic acid copolymer, ethyl acrylate / butyl acrylate Polymer, ethyl acrylate / ethyl methacrylate copolymer, ethyl acrylate / methacrylic acid copolymer, ethyl acrylate / methyl methacrylate copolymer, octyl acrylate / vinyl acetate copolymer, octyl acrylate / styrene Copolymer, butyl acrylate / vinyl acetate copolymer, butyl acrylate / hydroxyethyl methacrylate copolymer, butyl acrylate / methyl methacrylate copolymer, methoxyethyl acrylate / hydroxyethyl acrylate / butyl acrylate Copolymer, lauryl acrylate / vinyl acetate copolymer, polyacyl Acrylic coating agents such as ethyl acrylate, polybutyl acrylate and polystyrene acrylate resin, vinyl acetate coating agents such as polyvinyl acetate, polymethyl methacrylate, methyl methacrylate / butyl acrylate / octyl acrylate, Methacrylic acid-based coating agents such as vinylvinylidolate diethylsulfate / N, N'-dimethylaminomethacrylic acid copolymer, vinyl methyl ether /
Vinyl methyl ether based coating agents such as ethyl maleate copolymer, vinyl methyl ether / butyl maleate copolymer, styrene based coating agents such as styrene / methyl styrene / indene copolymer, alkyd resins such as cyclohexane alkyd resin Coating agents, and silicone resin-based coating agents such as trimethylsiloxysilicic acid.

【００４７】本発明で使用できる増粘剤としてば例えば
アラビアガム、カラヤガム、トラガカントガム、キャロ
プガム、クインスシード（マルメロ）、カゼイン、デキ
ストリン、ゼラチン、ペクチン酸ナトリウム、アラギン
酸ナトリウム、ローカストビーンガム、グアーガム、タ
マリントガム、ジアルキルジメチルアンモニウム硫酸セ
ルロース、キサンタンガム、ケイ酸アルミニウムマグネ
シウム、ベントナイト、ヘクトライト等が挙げられる。Examples of the thickener which can be used in the present invention include gum arabic, karaya gum, tragacanth gum, carop gum, quince seed (quince), casein, dextrin, gelatin, sodium pectate, sodium alginate, locust bean gum, guar gum and tamarint gum. , Dialkyldimethylammonium cellulose sulfate, xanthan gum, aluminum magnesium silicate, bentonite, hectorite and the like.

【００４８】本発明で使用できる保湿剤としてば例えば
ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリ
セリン、１，3−ブチレングリコール、ヘキシレングリ
コール、キシリトール、ソルビトール、マルチトール、
コンドロイチン硫酸、ヒアルロン酸、ムコイチン硫酸、
カロニン酸、アテロコラーゲン、コレステリル−12−ヒ
ドロキシステアレート、乳酸ナトリウム、胆汁酸塩、ｄ
ｌ−ピロリドンカルボン酸塩、短鎖可溶性コラーゲン、
ジグリセリン（EO）PO付加物、イサイヨバラ抽出物、セ
イヨウノコギリソウ抽出物、メリロート抽出物等が挙げ
られる。The humectants that can be used in the present invention include, for example, polyethylene glycol, propylene glycol, glycerin, 1,3-butylene glycol, hexylene glycol, xylitol, sorbitol, maltitol,
Chondroitin sulfate, hyaluronic acid, mucoitin sulfate,
Caronic acid, atelocollagen, cholesteryl-12-hydroxystearate, sodium lactate, bile salts, d
l-pyrrolidone carboxylate, short-chain soluble collagen,
Diglycerin (EO) PO adduct, common rose extract, Achillea millefolium extract, melilot extract and the like can be mentioned.

【００４９】本発明で使用できるアニオン界面活性剤と
しては、例えばセッケン用素地、ラウリン酸ナトリウ
ム、パルミチン酸ナトリウム等の脂肪酸セッケン、ラウ
リル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸等の高級アルキル硫
酸エステル塩、POEラウリル硫酸トリエタノールアミ
ン、POEラウリル硫酸ナトリウム等のアルキルエーテル
硫酸エステル塩、ラウロイルサルコシンナトリウム等の
N−アシルサルコシン酸、N−ミリストイル−N−メチル
タウリンナトリウム、ヤシ油脂肪酸メチルタウリンナト
リウム、ラウリルメチルタウリツドナトリウム等の高級
脂肪酸アミドスルホン酸塩、POEオレイルエーテルリン
酸ナトリウム、POEステアリルエーテルリン酸等のリン
酸エステル塩、ジ−2−エチルヘキシルスルホコハク酸
ナトリウム、モノラウロイルモノエタノールアミドポリ
オキシエチレンスルホコハク酸ナトリウム、ラウリルポ
リプロピレングリコールスルホコハク酸ナトリウム等の
スルホコハク酸塩、リニアドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウム、リニアドデシルベンゼンスルホン酸トリエ
タノールアミン、リニアドデシルベンゼンスルホン酸等
のアルキルベンゼンスルホン酸塩、N−ラウロイルグル
タミン酸モノナトリウム、N−ステアロイルグルタミン
酸ジナトリウム、N−ミリストイル−L−グルタミン酸モ
ノナトリウム等のN−アシルグルタミン酸塩、硬化ヤシ
油脂肪酸グリセリン硫酸ナトリウム等の高級脂肪酸エス
テル硫酸エステル塩、ロート油等の硫酸化油、POEアル
キルエーテルカルボン酸、POEアルキルアリルエーテル
カルボン酸塩、α−オレフインスルホン酸塩、高級脂肪
酸エステルスルホン酸塩、二級アルコール硫酸エステル
塩、高級脂肪酸アルキロールアミド硫酸エステル塩、ラ
ウロイルモノエタノールアミドコハク酸ナトリウム、N
−パルミトイルアスパラギン酸ジトリエタノールアミ
ン、カゼインナトリウム等が挙げられる。Examples of the anionic surfactant which can be used in the present invention include soap base materials, fatty acid soaps such as sodium laurate and sodium palmitate, higher alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate and lauryl sulfate, and POE lauryl sulfate. Alkyl ether sulfates such as ethanolamine, POE sodium lauryl sulfate, sodium lauroyl sarcosine, etc.
Higher fatty acid amide sulfonates such as N-acyl sarcosine acid, N-myristoyl-N-methyltaurine sodium, coconut oil fatty acid methyltaurine sodium, sodium laurylmethyltaurite, POE sodium oleyl ether phosphate, POE stearyl ether phosphate, etc. Phosphoric acid ester salts, sodium di-2-ethylhexylsulfosuccinate, sodium monolauroylmonoethanolamide polyoxyethylene sulfosuccinate, sodium lauryl polypropylene glycol sulfosuccinate, etc., sulfosuccinates, sodium linear dodecylbenzenesulfonate, lineardodecylbenzenesulfone Alkylbenzenesulfonates such as triethanolamine acid, linear dodecylbenzenesulfonic acid, monosodium N-lauroylglutamate, N N-acyl glutamates such as disodium stearoylglutamate, monosodium N-myristoyl-L-glutamate, higher fatty acid ester sulfates such as hydrogenated coconut oil fatty acid sodium glycerin sulfate, sulfated oils such as funnel oil, POE alkyl ether carboxylic acid Acid, POE alkyl allyl ether carboxylate, α-olefin sulfonate, higher fatty acid ester sulfonate, secondary alcohol sulfate, higher fatty acid alkylolamide sulfate, sodium lauroyl monoethanolamide succinate, N
-Palmitoyl aspartate ditriethanolamine, sodium caseinate and the like.

【００５０】本発明で使用できるカチオン界面活性剤と
しては、例えば塩化ステアリルトリメチルアンモニウ
ム、塩化ラウリルトリメチルアンモニウム等のアルキル
トリメチルアンモニウム塩、塩化ジステアリルジメチル
アンモニウムジアルキルジメチルアンモニウム塩、塩化
ポリ（N，N’−ジメチル−3，5−メチレンピペリジニウ
ム）、塩化セチルピリジニウム等のアルキルピリジニウ
ム塩、アルキル四級アンモニウム塩、アルキルジメチル
ベンジルアンモニウム塩、アルキルイソキノリニウム
塩、ジアルキルモリホニウム塩、POEアルキルアミン、
アルキルアミン塩、ポリアミン脂肪酸誘導体、アミルア
ルコール脂肪酸誘導体、塩化ベンザルコニウム、塩化ベ
ンゼトニウム等が挙げられる。The cationic surfactants usable in the present invention include, for example, alkyltrimethylammonium salts such as stearyltrimethylammonium chloride and lauryltrimethylammonium chloride, distearyldimethylammonium dialkyldimethylammonium chloride, and poly (N, N'-chloride). Dimethyl-3,5-methylenepiperidinium), alkylpyridinium salts such as cetylpyridinium chloride, alkyl quaternary ammonium salts, alkyldimethylbenzylammonium salts, alkylisoquinolinium salts, dialkylmorphonium salts, POE alkylamines,
Examples thereof include alkylamine salts, polyamine fatty acid derivatives, amyl alcohol fatty acid derivatives, benzalkonium chloride, benzethonium chloride and the like.

【００５１】本発明で使用できる両性界面活性剤として
は、例えば2−ウンデシル−N，N，N−（ヒドロキシエチ
ルカルボキシメチル）−2−イミダゾリンナトリウム、2
−ココイル−2−イミタゾリニウムヒドロキサイド−1−
カルボキシエチロキシ2ナトリウム塩等のイミダゾリン
系両性界面活性剤、2−ヘプタデシル−N−カルボキシメ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、ラウリルジメチルアミノ酢酸ベタイン、アルキルペ
タイン、アミドベタイン、スルホベタイン等のべタイン
系界面活性剤等が挙げられる。Examples of the amphoteric surfactant which can be used in the present invention include 2-undecyl-N, N, N- (hydroxyethylcarboxymethyl) -2-imidazoline sodium,
-Cocoyl-2-imitazolinium hydroxide-1-
Imidazoline amphoteric surfactants such as carboxyethyloxy disodium salt, 2-heptadecyl-N-carboxymethyl-N-hydroxyethylimidazolinium betaine, lauryl dimethylaminoacetic acid betaine, alkyl petaine, amidobetaine, sulfobetaine and the like Betaine-based surfactants and the like can be mentioned.

【００５２】本発明で使用できる親油性非イオン界面活
性剤としては、例えば、ソルビタンモノオレエート、ソ
ルビタンモノイソステアレート、ソルビタンモノラウレ
ート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタンモノス
テアレート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタン
トリオレエート、ペンタ−2−エチルヘキシル酸ジグリ
セロールソルビタン、テトラ−2−エチルヘキシル酸ジ
グリセロールソルビタン等のソルビタン脂肪酸エステル
類、モノ綿実油脂肪酸グリセリン、モノエルカ酸グリセ
リン、セスキオレイン酸グリセリン、モノステアリン酸
グリセリン、α，α’−オレイン酸ピログルタミン酸グ
リセリン、モノステアリン酸グリセリンリンゴ酸等のグ
リセリンポリグリセリン脂肪酸類、モノステアリン酸プ
ロピレングリコール等のプロピレングリコール脂肪酸エ
ステル類、硬化ヒマシ油誘導体、グリセリンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン共
重合体等が挙げられる。Examples of the lipophilic nonionic surfactant usable in the present invention include sorbitan monooleate, sorbitan monoisostearate, sorbitan monolaurate, sorbitan monopalmitate, sorbitan monostearate, and sorbitan sesquioleate. Sorbitan trioleate, sorbitan fatty acid esters such as diglycerol sorbitan penta-2-ethylhexylate, diglycerol sorbitan tetra-2-ethylhexylate, mono-cottonseed oil fatty acid glycerin, glycerin monoerucate, glycerin sesquioleate, glyceryl monostearate, glycerin polyglycerin fatty acids such as glycerin pyroglutamate α, α'-oleate and glyceryl monostearate; propylene glycol monostearate; Examples include propylene glycol fatty acid esters, hydrogenated castor oil derivatives, glycerin alkyl ethers, polyoxyethylene / methyl polysiloxane copolymers, and the like.

【００５３】本発明で使用できる親水性非イオン界面活
性剤としては例えぽPOEソルビタンモノオレエート、POE
−ソルビタンモノステアレート、POE−ソルビタンモノ
オレ−ト、POE−ソルビタンテトラオレエート等のPOEソ
ルビタン脂肪酸エステル類、POE−ソルビットモノラウ
レート、POE−ソルビットモノオレエート、POE−ソルビ
ットペンタオレエート、POE−ソルビツトモノステアレ
ート等のPOEソルビツト脂肪酸エステル類、POE−グリセ
リンモノステアレート、POE−グリセリンモノイソステ
アレート、POE−グリセリントリイソステアレート等のP
OEグリセリン脂肪酸エステル類、POEモノオレエート、P
OEジステアレート、POEモノジオレエート、システアリ
ン酸エチレングリコール等のPOE脂肪酸エステル類、POE
ラウリルエーテル、POEオレイルエーテル、POEステアリ
ルエーテル、POEベヘニルエーテル、POE2−オクチルド
デシルエーテル、POEコレスタノールエーテル等のPOEア
ルキルエーテル類、POEオクチルフェニルエーテル、POE
ノニルフェニルエーテル、POEジノニルフェニルエーテ
ル等のPOEアルキルフェニルエーテル類、プルロニック
等のプルアロニック型類、POE‐POPセチルエーテル、PO
E‐POP2−デシルテトラデシルエーテル、POE‐POPモノ
ブチルエーテル、POE‐POP水添ラノリン、POE‐POPグリ
セリンエーテル等のPOE‐POPアルキルエーテル類、テト
ロニック等のテトラPOE‐テトラPOPエチレンジアミン縮
合物類、POEヒマシ油、POE硬化ヒマシ油、POE硬化ヒマ
シ油モノイソステアレート、POE硬化ヒマシ油トリイソ
ステアレート、POE硬化ヒマシ油モノピログルタミン酸
モノイソステアリン酸ジエステル、POE硬化ヒマシ油マ
レイン酸等のPOEヒマシ油硬化ヒマシ油誘導体、POEソル
ビットミツロウ等のPOEミツロウ・ラノリン誘導体、ヤ
シ油脂肪酸ジエタノールアミド、ラウリン酸モノエタノ
ールアミド、脂肪酸イソプロパノールアミド等のアルカ
ノールアミド、POEプロピレングリコール脂肪酸エステ
ル、POEアルキルアミン、POE脂肪酸アミド、ショ糖脂肪
酸エステル、POEノニルフェニルホルムアルデヒド縮合
物、アルキルエトキシジメチルアミンオキシド、トリオ
レイルリン酸が挙げられる。The hydrophilic nonionic surfactant which can be used in the present invention includes, for example, POE sorbitan monooleate, POE
POE sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monostearate, POE-sorbitan monooleate, POE-sorbitan tetraoleate, POE-sorbit monolaurate, POE-sorbit monooleate, POE-sorbit pentaoleate, POE -POE such as POE sorbit fatty acid esters such as sorbit monostearate, POE-glycerin monostearate, POE-glycerin monoisostearate, POE-glycerin triisostearate, etc.
OE glycerin fatty acid esters, POE monooleate, P
POE fatty acid esters such as OE distearate, POE monodioleate, ethylene glycol cysteate, POE
POE alkyl ethers such as lauryl ether, POE oleyl ether, POE stearyl ether, POE behenyl ether, POE2-octyldodecyl ether, POE cholestanol ether, POE octyl phenyl ether, POE
POE alkyl phenyl ethers such as nonyl phenyl ether and POE dinonyl phenyl ether, pluronic type such as pluronic, POE-POP cetyl ether, PO
E-POP2-decyltetradecyl ether, POE-POP monobutyl ether, POE-POP hydrogenated lanolin, POE-POP alkyl ethers such as POE-POP glycerin ether, tetra-POE-tetra-POP ethylenediamine condensates such as tetronic, POE castor oil such as POE castor oil, POE hardened castor oil, POE hardened castor oil monoisostearate, POE hardened castor oil triisostearate, POE hardened castor oil monopyroglutamic acid monoisostearate diester, POE hardened castor oil maleic acid, etc. Hydrogenated castor oil derivatives, POE beeswax lanolin derivatives such as POE sorbitol beeswax, coconut fatty acid diethanolamide, lauric acid monoethanolamide, alkanolamides such as fatty acid isopropanolamide, POE propylene glycol fatty acid ester, POE alkylamine, POE fatty acid amide, Sucrose Fatty acid esters, POE nonylphenyl formaldehyde condensate, an alkyl ethoxy dimethylamine oxide, include trioleyl phosphoric acid.

【００５４】本発明で使用できる天然の水溶性高分子と
しては、例えばアラビアガム、トラガカントガム、ガラ
クタン、グアガム、キャロブガム、カラヤガム、カラギ
ーナン、ペクチン、カンテン、クインスシード（マルメ
ロ）、アルゲコロイド（カッソウエキス）、デンプン
（コメ、トウモロコシ、バレイショ、コムギ）、グリチ
ルリチン酸等の植物系高分子、キサンタンガム、デキス
トラン、サクシノグルカン、ブルラン等の微生物系高分
子、コラーゲン、カゼイン、アルブミン、ゼラチン等の
動物系高分子が挙げられる。Examples of natural water-soluble polymers that can be used in the present invention include gum arabic, tragacanth gum, galactan, guar gum, carob gum, karaya gum, carrageenan, pectin, agar, quince seed (quince), alge colloid (cassow extract), starch (Rice, corn, potato, wheat), plant-based polymers such as glycyrrhizic acid, microbial polymers such as xanthan gum, dextran, succinoglucan, and burlan; and animal-based polymers such as collagen, casein, albumin, and gelatin. Can be

【００５５】本発明で使用できる無機の水溶性高分子と
してぱ例えばべントナイト、ケイ酸AlMg（ビーガム）、
ラポナイト、ヘクトライト、無水ケイ酸等が挙げられ
る。Examples of the inorganic water-soluble polymer that can be used in the present invention include, for example, bentonite, AlMg silicate (Vegum),
Laponite, hectorite, silicic anhydride and the like.

【００５６】本発明で使用できる化粧品、医薬品等に一
般に用いられている各種成分としては次のようなものが
挙げられる。ビタミン油、レチノール、酢酸レチノール
等のビタミンＡ類、リボフラビン、酪酸リボフラビン、
フラビンアデニンヌクレオチド等のビタミンＢ２類、ピ
リドキシン塩酸塩、ピリドキシンジオクタノエート等の
ビタミンＢ６類、L−アスコルビン酸、L−アスコルビン
酸ジパルミチン酸エステル、L−アスコルビン酸−2−硫
酸ナトリウム、L−アスコルビン酸リン酸エステル、DL
−α−トコフェロール−L−アスコルビン酸リン酸ジエ
ステルジカリウム等のビタミンＣ類、パントテノン酸カ
ルシウム、Ｄ−パントテニルアルコール、パントテニル
エチルエーテル、アセチルパントテニルエチルエーテル
等のパントテン酸類、エルゴカルシフェロール、コレカ
ルシフェロール等のビタミンＤ類、ニコチン酸、ニコチ
ン酸アミド、ニコチン酸ベンジル等のニコチン酸類、α
−トコフェロール、酢酸トコフェロール、ニコチン酸DL
−α−トコフェロール、コハク酸DL−α−トコフェロー
ル等のビタミンＥ類、ビタミンＰ、ビオチン等のビタミ
ン類が挙げられる。液体油脂としてばアボガド油、ツバ
キ油、月見草油、タートル油、マカデミアナッツ油、ト
ウモロコシ油、ミンク油、オリーブ油、ナタネ油、卵黄
油、ゴマ油、パーシック油、小麦胚芽油、サザンカ油、
ヒマシ油、アマニ油、サフラワー油、綿実油、エノ油、
大豆油、落花生油、茶実油、カヤ油、コメヌカ油、シナ
ギリ油、日本キリ油、ホホバ油、胚芽油、トリグリセリ
ン、トリオクタン酸グリセリン、トリイソパルミチン酸
グリセリン等が、固体油脂としてはカカオ脂、ヤシ油、
馬脂、硬化ヤシ油、パーム油、牛脂、羊油、硬化牛脂、
パーム核油、豚脂、牛骨脂、モクロウ核油、硬化油、牛
脚脂、モクロウ、硬化ヒマシ油等、ロウ類としては、ミ
ツロウ、カンデリラロウ、綿ロウ、カルナウバロウ、ベ
イペリーロウ、イボタロウ、鯨ロウ、モンタンロウ、ヌ
カロウ、ラノリン、カポックロウ、酢酸ラノリン、液状
ラノリン、サトウキビロウ、ラノリン脂肪酸イソプロビ
ル、ラウリン酸ヘキシル、還元ラノリン、ジョジョバロ
ウ、硬質ラノリン、セラックロウ、POEラノリンアルコ
ールエーテル、POEラノリンアルコールアセテート、POE
コレステロールエーテル、ラノリン脂肪酸ポリエチレン
グリコール、POE水素添加ラノリンアルコールエーテル
等、炭化水素油としては流動パラフイン、オゾケライ
ト、スクワレン、プリスタン、パラフィン、セレシン、
スクワレン、ワセリン、マイクロクリスタリンワックス
等の油分が挙げられる。Various components generally used in cosmetics, pharmaceuticals and the like which can be used in the present invention include the following. Vitamin A such as vitamin oil, retinol, retinol acetate, riboflavin, riboflavin butyrate,
Vitamin B2 such as flavin adenine nucleotide, vitamin B6 such as pyridoxine hydrochloride, pyridoxine dioctanoate, L-ascorbic acid, L-ascorbic acid dipalmitate, L-ascorbic acid-2-sodium sulfate, L- Ascorbic acid phosphate, DL
Vitamin Cs such as -α-tocopherol-L-ascorbic acid diester dipotassium phosphate; pantothenic acids such as calcium pantothenate, D-pantothenyl alcohol, pantothenyl ethyl ether, acetyl pantothenyl ethyl ether; ergocalciferol; Vitamin D such as ferrol, nicotinic acid such as nicotinic acid, nicotinamide, benzyl nicotinate, α
-Tocopherol, tocopherol acetate, nicotinic acid DL
Vitamin E such as -α-tocopherol and DL-α-tocopherol succinate; and vitamins such as vitamin P and biotin. Liquid oils include avocado oil, camellia oil, evening primrose oil, turtle oil, macadamia nut oil, corn oil, mink oil, olive oil, rapeseed oil, egg yolk oil, sesame oil, persic oil, wheat germ oil, sasanqua oil,
Castor oil, linseed oil, safflower oil, cottonseed oil, eno oil,
Soybean oil, peanut oil, teaseed oil, kaya oil, rice bran oil, sinagiri oil, Japanese kiri oil, jojoba oil, germ oil, triglycerin, trioctanoic acid glycerin, triisopalmitic acid glycerin, etc., and solid oils such as cocoa butter , Palm oil,
Horse fat, hydrogenated coconut oil, palm oil, tallow, sheep oil, hydrogenated tallow,
For example, beeswax, candelilla wax, cotton wax, carnauba wax, beeper wax, Ibotaro wax, whale wax, such as palm kernel oil, lard, beef bone fat, molle kernel oil, hydrogenated oil, beef tallow, mokuro, hydrogenated castor oil, etc. Montan wax, bran wax, lanolin, kapok wax, lanolin acetate, liquid lanolin, sugar cane wax, lanolin fatty acid isopropyl, hexyl laurate, reduced lanolin, jojoba wax, hard lanolin, shellac wax, POE lanolin alcohol ether, POE lanolin alcohol acetate, POE
Cholesterol ether, lanolin fatty acid polyethylene glycol, POE hydrogenated lanolin alcohol ether, etc., such as liquid paraffin, ozokerite, squalene, pristane, paraffin, ceresin,
And oils such as squalene, petrolatum, and microcrystalline wax.

【００５７】その他、エチノルパラベン、ブチルバラベ
ン等の防腐剤、グリチルリチン酸誘導体、グリチルレチ
ン酸誘導体、サリチル酸誘導体、ヒノキチオール、酸化
亜鉛、アラントイン等の消炎剤、胎盤抽出物、グルタチ
オン、ユキノシタ抽出物等の美白剤、オウバク、オウレ
ン、シコン、シャクヤク、センブリ、バーチ、セージ、
ビワ、ニンジン、アロエ、ゼニアオイ、アイリス、ブド
ウ、ヨクイニン、ヘチマ、ユリ、サフラン、センキュ
ウ、ショウキュウ、オトギリソウ、オノニス、ローズマ
リー、ニンニク、トウガラシ、チンビ、トウキ、海藻、
茶等の抽出物、ローヤルゼリー、感光素、コレステロー
ル誘導体、幼牛血液抽出物等の賦活剤、ノニル酸ワレニ
ルアミド、ニコチン酸ベンジルエステル、ニコチン酸β
−ブトキシエチルエステル、カプサイシン、ジンゲロ
ン、カンタリスチンキ、イクタモール、カフェイン、タ
ンニン酸、α−ボルネオール、ニコチン酸トコフェロー
ル、イノシトールヘキサニコチネート、シクランデレー
ト、シンナリジン、トラゾリン、アセチルコリン、ベラ
パミル、セファランチン、γ−オリザノール等の血行促
進剤、硫黄、チアントル等の抗脂漏剤がある。In addition, antiseptics such as preservatives such as ethinolparaben and butylparaben, glycyrrhizic acid derivatives, glycyrrhetinic acid derivatives, salicylic acid derivatives, hinokitiol, zinc oxide, allantoin, whitening such as placenta extract, glutathione and yukinoshita extract Agent, oak, spinach, sicon, peonies, assembly, birch, sage,
Loquat, carrot, aloe, mallow, iris, grape, yokuinin, loofah, lily, saffron, senkyu, ginger, hypericum, ononis, rosemary, garlic, capsicum, tincture, corn, seaweed,
Extracts such as tea, royal jelly, photosensitizers, cholesterol derivatives, activators such as calf blood extract, nonylate valenylamide, nicotinic acid benzyl ester, nicotinic acid β
-Butoxyethyl ester, capsaicin, gingerone, cantaristin, tintamol, caffeine, tannic acid, α-borneol, tocopherol nicotinate, inositol hexanicotinate, cyclandate, cinnarizine, trazoline, acetylcholine, verapamil, cepharanthin, γ- There are blood circulation promoters such as oryzanol, and antiseborrheic agents such as sulfur and thiantre.

【００５８】[0058]

【発明の効果】本発明によれば紫外線防御能の高い紫外
線吸収剤が得られ、これを化粧水や乳液、クリーム等に
配合した場合、紫外線防御作用に優れた化粧料が得られ
る。又、本発明の紫外線吸収剤は、医薬外用剤、布やプ
ラスチック等にも日光防護処理剤として配合することが
でき、軟膏剤、リニメント剤、ローション剤等に、さら
に紫外線カット繊維、紫外線カットプラスチック、紫外
線カットフィルム、紫外線吸収コーティング剤等に利用
することができる。According to the present invention, an ultraviolet absorber having a high ultraviolet protection ability can be obtained, and when this is incorporated into a lotion, an emulsion or a cream, a cosmetic having an excellent ultraviolet protection action can be obtained. Further, the ultraviolet absorbent of the present invention can be compounded as a sunscreen treatment agent in external preparations for medicines, cloths and plastics, etc., as well as in ointments, liniments, lotions and the like, as well as ultraviolet-cutting fibers and ultraviolet-cutting plastics. , UV cut film, UV absorbing coating agent and the like.

【００５９】以下にその紫外線吸収能力を示すデータを
挙げるが本発明はこれらに限定されない。The data showing the ultraviolet absorbing ability will be shown below, but the present invention is not limited to them.

【００６０】データ１ 化合物１を２０％エタノール溶液とし、これをアプリケ
ーターを用いてｗｅｔ膜厚とした後、１１０℃で乾燥し
およそ２０μｍの膜を形成し紫外線測定を行なった。測
定結果を図１に示す。化合物１は、２４０ｎｍ〜３６０
ｎｍの紫外線を吸収した。Data 1 Compound 1 was made into a 20% ethanol solution, which was made wet using an applicator, dried at 110 ° C. to form a film of about 20 μm, and subjected to ultraviolet measurement. FIG. 1 shows the measurement results. Compound 1 is from 240 nm to 360
nm of ultraviolet light was absorbed.

【００６１】化合物２を２０％エタノール溶液とし、こ
れをアプリケーターを用いてｗｅｔ膜厚とした後、１１
０℃で乾燥しおよそ２０μｍの膜を形成し紫外線測定を
行なった。測定結果を図２に示す。化合物２は、２４０
ｎｍ〜３２０ｎｍの紫外線を吸収した。Compound 2 was made into a 20% ethanol solution, and this was made into a wet film thickness using an applicator.
After drying at 0 ° C., a film having a thickness of about 20 μm was formed, and the ultraviolet ray was measured. FIG. 2 shows the measurement results. Compound 2 is 240
Ultraviolet light of nm to 320 nm was absorbed.

【００６２】次に実施例及び参考例を挙げて本発明を更
に詳細に説明するが本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples and reference examples, but the present invention is not limited to these examples.

【００６３】[0063]

【実施例】化合物１から化合物９の化合物を用いた調製
例を以下に実施例として示す。Examples Preparation examples using compounds 1 to 9 are shown below as examples.

【００６４】 実施例１ パウダーファンデーションの調製 １．マイカ 残量 ２．化合物１ １０（重量％） ３．タルク ２０ ４．酸化チタン １０ ５．ベンガラ ０．８ ６．黄酸化鉄 ２．５ ７．黒酸化鉄 ０．１ ８．流動パラフィン ８ ９．ミツロウ ２ １０．防腐剤 適量 １１．香料 適量 （製法）成分１〜７を混合粉砕した。これを高速ブレン
ダーに移し、更に成分８〜１０を８０度で混合溶解した
ものを加え均一に混合した。この混合物に成分１１を加
え混合した後に再び粉砕し篩いに通した。これを金皿に
圧縮成形した。Example 1 Preparation of Powder Foundation Mica remaining 2. 2. Compound 1 10 (% by weight) Talc 20 4. Titanium oxide 10 5. Bengara 0.8 6. Iron oxide yellow 2.5 7. Black iron oxide 0.18. Liquid paraffin 8 9. Beeswax 2 10. Preservative appropriate amount 11. Appropriate amount of fragrance (Production method) Components 1 to 7 were mixed and pulverized. This was transferred to a high-speed blender, and a mixture obtained by mixing and dissolving the components 8 to 10 at 80 ° was added and uniformly mixed. After the component 11 was added to the mixture and mixed, the mixture was pulverized again and passed through a sieve. This was compression molded into a metal plate.

【００６５】 実施例２ クリーム状ファンデーションの調製 １．ステアリン酸 ５（重量％） ２．親油型モノステアリン酸グリセリン ２．５ ３．セトステアリルアルコール １ ４．モノラウリン酸プロピレングリコール ３ ５．スクワラン ７ ６．オリーブ油 ８ ７．精製水 適量 ８．防腐剤 適量 ９．トエリエタノールアミン １．２ １０．ソルビット ３ １１．酸化チタン １０ １２．タルク ５ １３．着色顔料 適量 １４．化合物２ １０ １５．香料 適量 （製法）成分１１〜１４を粉砕混合した。別に水相成分
７〜１０を混合した溶液を調製し、粉砕した顔料を加え
て分散させた後、７５度に加熱した。油相成分１〜６を
８０度に加熱溶解したものを、先に調製した水相に攪拌
しながら冷却し５０度で成分１５を加え、攪拌しながら
冷却した。Example 2 Preparation of Creamy Foundation 1. Stearic acid 5 (% by weight) 2. Lipophilic glyceryl monostearate 2.5 Cetostearyl alcohol 14 4. Propylene glycol monolaurate 3 5. Squalane 7 6. Olive oil 8 7. Purified water qs 8. Preservative appropriate amount 9. Teriethanolamine 1.2 10. Sorbit 3 11. Titanium oxide 10 12. Talc 5 13. Color pigment appropriate amount 14. Compound 2 10 15. Perfume Appropriate amount (Production method) Components 11 to 14 were ground and mixed. Separately, a solution was prepared by mixing aqueous phase components 7 to 10, and after adding and dispersing the ground pigment, the mixture was heated to 75 ° C. The oil phase components 1 to 6 heated and dissolved at 80 ° were cooled to the previously prepared aqueous phase while stirring, and the component 15 was added at 50 ° and cooled while stirring.

【００６６】 実施例３ 油性ファンデーションの調製 １．化合物３ １０（重量％） ２．タルク 残量 ３．カオリン １３ ４．酸化チタン １３ ５．ベンガラ １．５ ６．黄酸化鉄 ２０ ７．黒酸化鉄 ０．５ ８．流動パラフィン １５ ９．パルミチン酸イソプロピル １０ １０．ラノリンアルコール ３ １１．マイクロクリスタリンワックス ７ １２．オゾケライト ８ １３．防腐剤 適量 １４．香料 適量 （製法）成分１〜７を混合粉砕した．これを成分８〜１
３を８０度で混合溶解した油相中に加え充分分散させ
た。この混合物に成分１４を加え混合した後、金皿に充
填して冷却した。Example 3 Preparation of Oily Foundation 1. Compound 3 10 (% by weight) 2. Talc remaining Kaolin 13 4. Titanium oxide 13 5. Bengara 1.5 6. Iron oxide yellow 20 7. Black iron oxide 0.58. Liquid paraffin 15 9. Isopropyl palmitate 10 10. Lanolin alcohol 3 11. Microcrystalline wax 7 12. Ozokerite 8 13. Preservative appropriate amount 14. Appropriate amount of fragrance (Production method) Components 1 to 7 were mixed and pulverized. Ingredients 8-1
3 was added to the oil phase mixed and dissolved at 80 degrees and sufficiently dispersed. After the component 14 was added to the mixture and mixed, the mixture was filled in a metal dish and cooled.

【００６７】 実施例４ Ｏ／Ｗクリームの調製 １．ミツロウ ６（重量％） ２．セタノール ４ ３．水添ラウリン ８ ４．スクワラン ３２ ５．脂肪酸グリセリン ４ ６．親油型モノステアリン酸グリセリン ２ ７．ポリオキシエチレンスルビタン ２ モノラウリン酸エステル ８．化合物４ ９ ９．香料 微量 １０．防腐剤 適量 １１．酸化防止剤 適量 １２．精製水 適量 （製法）成分８、１０、１２を攪拌混合し、８０度に保
って水相部を得た。他の成分を混合し、加熱溶解して８
０度とし、油相部を得た。この油相部に水相部を加えて
予備乳化し、ホモミキサーで均一に乳化した後、３０度
まで冷却して製品を得た。Example 4 Preparation of O / W Cream Beeswax 6 (% by weight) 2. Cetanol 4 3. Hydrogenated laurin 8 4. Squalane 32 5. Fatty acid glycerin 4 6. Lipophilic glyceryl monostearate 2 7. 7. polyoxyethylene sulfitan 2 monolaurate ester Compound 49 9 Flavor trace amount 10. Preservative appropriate amount 11. Antioxidant appropriate amount 12. Suitable amount of purified water (Preparation method) Components 8, 10 and 12 were mixed by stirring and maintained at 80 ° to obtain an aqueous phase. Mix other ingredients, heat and dissolve
At 0 °, an oil phase was obtained. The aqueous phase was added to the oil phase, preliminarily emulsified, homogenized with a homomixer, and cooled to 30 ° C. to obtain a product.

【００６８】 実施例５ Ｗ／Ｏクリームの調製 １．化合物８ １０（重量％） ２．シリコン処理酸化チタン １ ３．ｐ−メトキシ桂皮酸オクチル ５ ４．α−モノメチル分岐イソステアリルグリセリルエーテル ２ ５．ジメチルポリシロキサン・メチル ２ （ポリオキシエチレン）シロキサン共重合体 ６．メチルポリシロキサン １０ ７．メチルポリシクロポリシロキサン １０ ８．スクワラン ５ ９．硫酸マグネシウム １ １０．グリセリン ７ １１．防腐剤 適量 １２．香料 適量 １３．精製水 残量 （製法）成分２〜８を攪拌混合し、８０度に保った。こ
れに成分１を攪拌しながら加え、更に成分９〜１３を攪
拌混合して８０度に保ったものを攪拌しながら徐々に加
えて予備乳化し、更にホモミキサーで均一に乳化後３０
度まで冷却し製品を得た。Example 5 Preparation of W / O Cream Compound 8 10 (% by weight) Silicon treated titanium oxide 1 3. Octyl p-methoxycinnamate 5 4. α-monomethyl branched isostearyl glyceryl ether 2 5. 5. Dimethyl polysiloxane / methyl 2 (polyoxyethylene) siloxane copolymer Methyl polysiloxane 10 7. Methyl polycyclopolysiloxane 10 8. Squalane 5 9. Magnesium sulfate 1 10. Glycerin 7 11. Preservative appropriate amount 12. Appropriate amount of fragrance 13. Remaining purified water (Preparation method) Components 2 to 8 were mixed by stirring and maintained at 80 °. To this was added component 1 while stirring, and components 9 to 13 were further mixed with stirring and maintained at 80 °, gradually added with stirring to pre-emulsify, and then homogenized uniformly with a homomixer.
Cooled to a degree to obtain the product.

【００６９】 実施例６ Ｗ／Ｏ乳液の調製 １．化合物６ １０（重量％） ２．シリコン処理酸化チタン １ ３．ｐ−メトキシ桂皮酸オクチル ２ ４．親油型モノオトキシ桂皮酸オクチル ２ ５．グリセリルエーテル ２ ６．ポリオキシエチレンソルビタン １ モノラウリン酸エステル ７．スクワラン １０ ８．ミリスチルオクチルドデシル １５ ９．シリコン処理タルク ５ １０．グリセリン ５ １１．防腐剤 適量 １２．香料 微量 １３．精製水 残量 （製法）成分２〜８を攪拌混合し８０度に保った．これ
に成分１、９を攪拌しながら加え、更に１０〜１３を攪
拌混合して８０度に保ったモノを攪拌しながら徐々に加
えて予備乳化し、更にホモミキサーで均一に乳化した
後、３０度まで冷却し製品を得た。Example 6 Preparation of W / O Emulsion 1. Compound 6 10 (% by weight) Silicon treated titanium oxide 1 3. 3. Octyl p-methoxycinnamate 24 Lipophilic octyl monoethoxycinnamate 25. Glyceryl ether 2 6. 6. Polyoxyethylene sorbitan 1 monolaurate ester Squalane 10 8. Myristyl octyl dodecyl 15 9. Silicon treated talc 5 10. Glycerin 5 11. Preservative appropriate amount 12. Fragrance trace 13. Remaining purified water (Preparation method) Components 2 to 8 were mixed by stirring and maintained at 80 °. Components 1 and 9 were added thereto with stirring, and 10 to 13 were further stirred and mixed, and a thing kept at 80 ° was gradually added with stirring to carry out preliminary emulsification, and further homogenized with a homomixer. Cooled to a degree to obtain the product.

【００７０】 実施例７ Ｏ／Ｗ乳液の調製 １．化合物５ １０（重量％） ２．シリコン処理酸化チタン １ ３．ｐ−メトキシ桂皮酸オクチル ２ ４．ソルビタンセスキオレイン酸エステル １ ５．ポリオキシエチレンオレイルエーテル １ ６．スクワラン ５ ７．ワセリン ２ ８．ミツロウ ０．５ ９．シリコン処理タルク ５ １０．プロピレングリコール ５ １１．エタノール ５ １２．カルボキシビニルポリマー（１０％水溶液） ２０ １３．水酸化カリウム ０．１ １４．精製水 残量 （製法）成分１４、１０を加え加熱混合し、成分１１を
加えて７０度とした。あらかじめ調製しておいた成分１
２水溶液と１３を他の油相成分を混合加熱して７０度と
した。この油相部を前述の水相部に加えて均一に混和し
た後、成分１３を加えて中和後、ホモミキサーにより均
一に乳化後、３０度まで冷却して製品を得た。Example 7 Preparation of O / W Emulsion Compound 5 10 (% by weight) Silicon treated titanium oxide 1 3. 3. Octyl p-methoxycinnamate 24 Sorbitan sesquioleate 1 5. Polyoxyethylene oleyl ether 1 6. Squalane 5 7. Vaseline 2 8. Beeswax 0.59. Silicon treated talc 5 10. Propylene glycol 5 11. Ethanol 5 12. 12. Carboxyvinyl polymer (10% aqueous solution) 20 Potassium hydroxide 0.114. Remaining purified water (Preparation method) Components 14, 10 were added and mixed by heating, and component 11 was added to 70 ° C. Ingredient 1 prepared in advance
The two aqueous solutions and 13 were mixed with other oil phase components and heated to 70 degrees. The oil phase was added to the above-mentioned aqueous phase and uniformly mixed. After neutralizing by adding the component 13, the mixture was uniformly emulsified by a homomixer and cooled to 30 ° C. to obtain a product.

【００７１】 実施例８（日焼け止めクリーム） Ａ．化合物４ １０．０垂量％ ジメチルポリシロキサン 適量 ポリビニルビロリドンーエイコセン誘導体 ２．０ （アンタロンV−220） グリセリルモノステアレート ２．０ セタノール １．０ ステアリン酸 ２．０ 流動パラフイン １５．０ 香料 適量 Ｂ．グリセリン ５．０ メチルパラベン 適量 モンモリロナイト １．０ トリエタノールアミン １．０ 精製水 残量 （製法）Ａ（油相）とＢ（水相）をそれぞれ７０℃に加
熱し、完全溶解する。ＡにＢを加えて、乳化機で乳化す
る。乳化物を熱交換機を用いて冷却して日焼け止めクリ
ームを得た。Example 8 (Sunscreen Cream) Compound 4 10.0 dr% dimethylpolysiloxane suitable amount polyvinylvirolidone-eicosene derivative 2.0 (Antalon V-220) glyceryl monostearate 2.0 cetanol 1.0 stearic acid 2.0 liquid paraffin 15.0 fragrance Suitable amount B. Glycerin 5.0 Appropriate amount of methyl paraben Montmorillonite 1.0 Triethanolamine 1.0 Purified water Remaining (Preparation method) A (oil phase) and B (aqueous phase) are each heated to 70 ° C. and completely dissolved. Add B to A and emulsify with an emulsifier. The emulsion was cooled using a heat exchanger to obtain a sunscreen cream.

【００７２】 実施例９（日焼け止め乳液） Ａ．精製水 ５８．０重量％ Ｂ．プロビレングリコール ４．０ メチルパラベン ０．２ プロビルパラベン ０．１ Ｃ．酸化チタン ５．０ （水酸化アルミニウム／ステアリン酸処埋） Ｄ．化合物７ ８．０ ジメチルポリシロキサン 適量 トリメチルシロキシケイ酸樹脂 ２．０ トリオクチルドデシルコハク酸 １０．０ オクチルパルミテート ７．０ フエニルトリメチコーン １．０ ステアリン酸 ３．０ 香料 適量 Ｅ．ヒドロキシエチルセルロース ０．５ トリエタノールアミン ０．７５ （製法）Ａを７５℃に加熱して、これにＢを混ぜて溶解
する。Ｄを７５℃に加熱し完全溶解し、これにＣを加
え、分散機で分散する。Ｄ、ＣをＡ、Ｂに加えて攪枠乳
化し、Ｅを加えた後に分散機を用い分散混合する。乳化
物を熱交換機を用いて冷却し日焼け止め乳液を得た。Example 9 (Sunscreen Emulsion) Purified water 58.0% by weight Provylene glycol 4.0 methyl paraben 0.2 provyl paraben 0.1 C.I. Titanium oxide 5.0 (aluminum hydroxide / stearic acid treatment) Compound 7 8.0 Dimethylpolysiloxane qs Trimethylsiloxysilicate resin 2.0 trioctyldodecylsuccinate 10.0 octyl palmitate 7.0 phenyltrimethicone 1.0 stearic acid 3.0 perfume qs Hydroxyethyl cellulose 0.5 Triethanolamine 0.75 (Preparation method) A is heated to 75 ° C., and B is mixed and dissolved therein. D is heated to 75 ° C. and completely dissolved, C is added thereto, and the mixture is dispersed with a disperser. D and C are added to A and B, and are stirred and emulsified. After adding E, the mixture is dispersed and mixed using a disperser. The emulsion was cooled using a heat exchanger to obtain a sunscreen emulsion.

【００７３】 実施例１０（紫外線防止ネールエナメル） Ａ．シクロヘキサン系アルキツド樹脂 １０．０重量％ クエン酸アセチルトリブチル ５．０ Ｂ．顔料 適量 Ｃ．化合物９ ３．０ ジメチルポリシロキサン 適量 酢酸エチル ２０．０ 醐酸ブチル １０．０ エチルアルコール ５．０ トルエン ３５．０ 沈殿防止剤 適量 （製法）ＡにＢを加えよく練り合わせる。Ｃを混合溶解
し、これにＡ、Ｂを加えよくかきまぜて、分散機にて均
一に分散して紫外線防止ネールエナメルを得た。Example 10 (UV Protection Nail Enamel) Cyclohexane-based alkyl resin 10.0% by weight acetyltributyl citrate 5.0 Suitable amount of pigment C.I. Compound 9 3.0 Dimethylpolysiloxane proper amount Ethyl acetate 20.0 butyl citrate 10.0 Ethyl alcohol 5.0 Toluene 35.0 Precipitating inhibitor proper amount (Production method) Add B to A and knead well. C was mixed and dissolved, A and B were added thereto, mixed well, and uniformly dispersed by a disperser to obtain an ultraviolet ray preventing nail enamel.

【００７４】 実施例１１（日焼け止めヘアージェル） Ａ．カーボポール９４０ ０．６重量％ Ｂ．精製水 ６８．０ Ｃ．トリエタノールアミン ０．１ Ｄ．エタノール １４．０ ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン− ５−スルホン酸 ５．０ 化合物８ ５．０ ジメチルポリシロキサン 適量 アクリル酸メトキシエチル／アクリル酸ヒドロキシエチル／ アクリル酸ブチル共重合体 １．０ ポリエチレングリコール １．０ ジメチコーン共重合体 ３．０ メチルパラペン ０．２５ プロビルパラベン ０．０５ （製法）ＡをＢに攪拌溶解し、Ｃを加えた後、分散機に
て分散する。これにＤを加え、攪拌し、目的のヘアージ
ェルを得た。Example 11 (Sunscreen Hair Gel) Carbopol 940 0.6% by weight Purified water 68.0 C.I. Triethanolamine 0.1 D. Ethanol 14.0 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid 5.0 Compound 8 5.0 Dimethylpolysiloxane Suitable amount methoxyethyl acrylate / hydroxyethyl acrylate / butyl acrylate copolymer 1.0 polyethylene glycol 1.0 Dimethicone copolymer 3.0 Methyl parapen 0.25 Provir paraben 0.05 (Preparation method) A is dissolved in B with stirring, and after C is added, it is dispersed by a dispersing machine. D was added thereto and stirred to obtain a desired hair gel.

【００７５】化合物５、化合物６、化合物７及び化合物
８の合成法を以下参考例として示す。 参考例１ 化合物５の合成 アルゴン雰囲気下、-60℃のN-(2,3-メトキシメチレン-
ジオキソ-1-プロピル)サルファモイルベンゼン(1.37g,
5mmol)のTHF40ml溶液に、n-ブチルリチウム(1.6M-nヘキ
サン溶液6.8ml, 11.4mmol)を滴下して-50℃で90分攪拌
する。これにジフェニルビスマス トリフレート-HMPA
(2.18g, 2.5mmol)のTHF10ml溶液を滴下して-50℃で10分
攪拌したのち1時間かけて-20℃まで昇温する。反応液に
水40mlを加えて酢酸エチル(50ml×2)及びクロロホルム
(50ml×2)抽出、無水硫酸マグネシウム乾燥ののち溶媒
を減圧除去して粗生成物を得る。これを中圧カラム(シ
リカゲル100g, ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製すると
化合物５が透明油状物として得られる(0.93g, 収率59
%)。 (分析データ)¹H-NMR(diastereomer mixture, 500MHz, C
DCl₃, ref=TMS):δ=8.00-8.10(m, 2H), 7.75-7.90(m, 4
H), 7.30-7.60(m, 8H), 5.50-5,80(m, 2H), 3.80-4.10
(m, 3H), 3.30(s, 3×0.6H), 3.27(s, 3×0.4H),The methods for synthesizing Compound 5, Compound 6, Compound 7 and Compound 8 are shown below as Reference Examples. Reference Example 1 Synthesis of Compound 5 N- (2,3-methoxymethylene-
Dioxo-1-propyl) sulfamoylbenzene (1.37 g,
N-Butyl lithium (6.8 ml of a 1.6 Mn hexane solution, 11.4 mmol) is added dropwise to a solution of 5 mmol) in 40 ml of THF, and the mixture is stirred at -50 ° C for 90 minutes. Diphenylbismuth triflate-HMPA
(2.18 g, 2.5 mmol) in THF (10 ml) was added dropwise, and the mixture was stirred at -50 ° C for 10 minutes and then heated to -20 ° C over 1 hour. 40 ml of water was added to the reaction solution, and ethyl acetate (50 ml × 2) and chloroform were added.
After extracting (50 ml × 2) and drying over anhydrous magnesium sulfate, the solvent is removed under reduced pressure to obtain a crude product. This was purified by a medium pressure column (silica gel 100 g, hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain Compound 5 as a clear oil (0.93 g, yield 59).
%). (Analytical data) ¹ H-NMR (diastereomer mixture, 500MHz, C
DCl ₃ , ref = TMS): δ = 8.00-8.10 (m, 2H), 7.75-7.90 (m, 4
H), 7.30-7.60 (m, 8H), 5.50-5,80 (m, 2H), 3.80-4.10
(m, 3H), 3.30 (s, 3 × 0.6H), 3.27 (s, 3 × 0.4H),

【００７６】参考例２ 化合物６の合成法 化合物５(0.90g, 1.42mmol)の40mlジクロロメタン/メタ
ノール(1/1)溶液にパラトルエンスルホン酸一水和物(54
mg, 0.28mmol)を添加し、室温で90分間攪拌する。1N-Na
OH/メタノール溶液を加えて中和(pH=7)し、そのまま溶
媒を減圧除去して粗生成物を得る。これを中圧カラム
(シリカゲル80g, クロロホルム/メタノール=50/1)で精
製すると化合物６が白色結晶として得られる(0.48g, 収
率57%)。 (分析データ)¹H-NMR(500MHz, CDCl₃, ref=TMS) :δ=8.0
1(dd, J=7.82, 0.97Hz, 1H), 7.98(d, J=7.33, 0.98Hz,
1H), 7.71(d, J=7.81Hz, 4H), 7.25-7.45(m, 8H), 5.2
7(bs, 1H), 3.79(bs, 1H), 3.54(bs, 1H), 3.41-3.45
(m, 1H), 3.30-3.40(m, 2H), 2.60-2.75(m, 2H) ICP発光分析: ビスマス含有率32.8% (理論値35.2%)REFERENCE EXAMPLE 2 Synthesis of Compound 6 Paratoluenesulfonic acid monohydrate (54%) was added to a solution of Compound 5 (0.90 g, 1.42 mmol) in 40 ml of dichloromethane / methanol (1/1).
mg, 0.28 mmol) and stir at room temperature for 90 minutes. 1N-Na
An OH / methanol solution is added for neutralization (pH = 7), and the solvent is directly removed under reduced pressure to obtain a crude product. This is a medium pressure column
Purification with silica gel (80 g, chloroform / methanol = 50/1) gives compound 6 as white crystals (0.48 g, 57% yield). (Analytical data) ¹ H-NMR (500 MHz, CDCl ₃ , ref = TMS): δ = 8.0
1 (dd, J = 7.82, 0.97Hz, 1H), 7.98 (d, J = 7.33, 0.98Hz,
1H), 7.71 (d, J = 7.81Hz, 4H), 7.25-7.45 (m, 8H), 5.2
7 (bs, 1H), 3.79 (bs, 1H), 3.54 (bs, 1H), 3.41-3.45
(m, 1H), 3.30-3.40 (m, 2H), 2.60-2.75 (m, 2H) ICP emission analysis: bismuth content 32.8% (theoretical 35.2%)

【００７７】参考例３ 化合物７の合成法 アルゴン雰囲気下、-60℃の(4.35g, 5mmol)のTHF50ml溶
液に、n-ブチルリチウム(1.6M-nヘキサン溶液3.8ml,6mm
ol)を滴下して-78℃で90分攪拌する。これにジフェニル
ビスマス トリフレート-HMPA(4.36g, 5.0mmol)のTHF10m
l溶液を滴下して-78℃で60分攪拌したのち3時間かけて-
40℃まで昇温する。反応液に水40mlを加えて酢酸エチル
(50ml×2)及びクロロホルム(50ml×2)抽出、無水硫酸マ
グネシウム乾燥ののち溶媒を減圧除去して粗生成物を得
る。これを中圧カラム(シリカゲル100g, ヘキサン/酢酸
エチル=3/1)で精製すると化合物7が透明油状物として得
られる(2.45g, 収率40%)。 (分析データ)¹H-NMR(60MHz, CDCl₃, ref=TMS):δ 8.30
(s,1H),8.10(d,1H,J=7.7Hz),7.6-7.8(m,4H),7.2-7.5(m,
7H),3.5-3.8(m,8H),3.2-3.4(m,8H),0.8-0.9(m,36H),-0.
1-0.1(m,24H).Reference Example 3 Synthesis method of compound 7 Under argon atmosphere, n-butyllithium (3.8 ml, 1.6 Mn hexane solution, 3.8 ml, 6 mm) was added to a solution of (4.35 g, 5 mmol) in THF (50 ml) at −60 ° C.
ol) was added dropwise and the mixture was stirred at -78 ° C for 90 minutes. Add diphenylbismuth triflate-HMPA (4.36g, 5.0mmol) in THF10m
l The solution was added dropwise and stirred at -78 ° C for 60 minutes, and then over 3 hours
Raise the temperature to 40 ° C. 40 ml of water was added to the reaction solution, and ethyl acetate was added.
(50 ml × 2) and chloroform (50 ml × 2) extraction, drying over anhydrous magnesium sulfate, and then removing the solvent under reduced pressure to obtain a crude product. This is purified by a medium pressure column (silica gel 100 g, hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain Compound 7 as a transparent oil (2.45 g, yield: 40%). (Analytical data) ¹ H-NMR (60 MHz, CDCl ₃ , ref = TMS): δ 8.30
(s, 1H), 8.10 (d, 1H, J = 7.7Hz), 7.6-7.8 (m, 4H), 7.2-7.5 (m,
7H), 3.5-3.8 (m, 8H), 3.2-3.4 (m, 8H), 0.8-0.9 (m, 36H),-0.
1-0.1 (m, 24H).

【００７８】参考例４ 化合物８の合成法 化合物７(1.0g)の40mlジクロロメタン/メタノール(1/1)
溶液にパラトルエンスルホン酸一水和物(54mg, 0.28mmo
l)を添加し、40℃で90分間攪拌する。1N-NaOH/メタノー
ル溶液を加えて中和(pH=7)し、そのまま溶媒を減圧除去
して粗生成物を得る。これを中圧カラム(シリカゲル80
g, クロロホルム/メタノール=50/1)で精製すると化合物
６が白色結晶として得られる(0.48g, 収率%)。 (分析データ)¹H-NMR(60MHz, CDCl₃, ref=TMS):δ 8.30
(s,1H),8.10(d,1H,J=7.7Hz),7.6-7.8(m,4H),7.2-7.5(m,
7H),3.5-3.8(m,8H),3.2-3.4(m,8H)Reference Example 4 Synthesis method of compound 8 Compound 7 (1.0 g) in 40 ml of dichloromethane / methanol (1/1)
Add paratoluenesulfonic acid monohydrate (54mg, 0.28mmo
l) and stir at 40 ° C. for 90 minutes. The mixture is neutralized (pH = 7) by adding a 1N-NaOH / methanol solution, and the solvent is directly removed under reduced pressure to obtain a crude product. Apply this to a medium pressure column (silica gel 80).
g, chloroform / methanol = 50/1) to give compound 6 as white crystals (0.48 g, yield%). (Analytical data) ¹ H-NMR (60 MHz, CDCl ₃ , ref = TMS): δ 8.30
(s, 1H), 8.10 (d, 1H, J = 7.7Hz), 7.6-7.8 (m, 4H), 7.2-7.5 (m,
7H), 3.5-3.8 (m, 8H), 3.2-3.4 (m, 8H)

【００７９】[0079]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】 化合物１の紫外線吸収率を示す。（横軸：紫
外線波長、縦軸：紫外線吸収率）FIG. 1 shows the ultraviolet absorptivity of Compound 1. (Horizontal axis: ultraviolet wavelength, vertical axis: ultraviolet absorption)

【図２】 化合物２の紫外線吸収率を示す。（横軸：紫
外線波長、縦軸：紫外線吸収率）FIG. 2 shows the ultraviolet absorptivity of Compound 2. (Horizontal axis: ultraviolet wavelength, vertical axis: ultraviolet absorption)

Claims (17)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘ¹はＹＮＲ¹Ｒ²｛ＹはＳＯ₂−又はＣ（Ｏ）−
を示す。Ｒ¹は、C_1-10アルキル基、C_2-10アルケニル基
又はC_2-10アルキニル基（該アルキル基、アルケニル基
及びアルキニル基は１〜５個の水酸基で置換されていて
もよい）を示し、Ｒ²は水素原子、C_1-10アルキル基、C
_2-10アルケニル基又はC_2-10アルキニル基（該アルキル
基、アルケニル基及びアルキニル基は１〜５個の水酸基
で置換されていてもよい）を示す｝を示す。Ｘ²及びＸ³
はそれぞれ独立に、水素原子、C_1-4アルキル基、C_1-4ア
ルケニル基、C_1-4アルキニル基、C_1-4アルコキシ基、C
_1-4アルキルスルホニル基、C_2-4アルケニルスルホニル
基、C_2-4アルキニルスルホニル基、C_1-4アルキルカルボ
ニル基、C_2-4アルケニルカルボニル基、C_2-4アルキニル
カルボニル基、ニトロ基又はシアノ基を示すかＸ¹と同
じ意味を示す。Ａｒは、フェニル基、C_1-4アルキル基、
C_2-4アルケニル基、C_2-4アルキニル基、C_1-4アルコキシ
基、C_1-4アルキルスルホニル基、C_2-4アルケニルスルホ
ニル基、C_2-4アルキニルスルホニル基、C_1-4アルキルカ
ルボニル基、C_2-4アルケニルカルボニル基、C_2-4アルキ
ニルカルボニル基、ニトロ基又はシアノ基で置換されて
いてもよいフェニル基を示す。ｎは１から３の整数を示
す〕で表されるトリアリールビスマス化合物を含む紫外
線吸収剤。1. A compound of the formula (I) [Wherein X ¹ is YNR ¹ R ² ｛Y is SO ₂ — or C (O) —
Is shown. R ¹ represents a C _1-10 alkyl group, a C _2-10 alkenyl group or a C _2-10 alkynyl group (the alkyl group, the alkenyl group and the alkynyl group may be substituted with 1 to 5 hydroxyl groups). R ² represents a hydrogen atom, a C _1-10 alkyl group,
_{Represents a 2-10} alkenyl group or a C _2-10 alkynyl group (the alkyl group, alkenyl group and alkynyl group may be substituted with 1 to 5 hydroxyl groups). X ² and X ³
Are each independently a hydrogen atom, a C _1-4 alkyl group, a C _1-4 alkenyl group, a C _1-4 alkynyl group, a C _1-4 alkoxy group,
_1-4 alkylsulfonyl group, _C2-4 alkenylsulfonyl group, _C2-4 alkynylsulfonyl group, _C1-4 alkylcarbonyl group, _C2-4 alkenylcarbonyl group, _C2-4 alkynylcarbonyl group, nitro group or It represents a cyano group or has the same meaning as X ¹ . Ar is a phenyl group, a C _1-4 alkyl group,
_C2-4 alkenyl group, _C2-4 alkynyl group, _C1-4 alkoxy group, _C1-4 alkylsulfonyl group, _C2-4 alkenylsulfonyl group, _C2-4 alkynylsulfonyl group, _C1-4 alkyl And a phenyl group which may be substituted with a carbonyl group, a C _2-4 alkenylcarbonyl group, a C _2-4 alkynylcarbonyl group, a nitro group or a cyano group. and n represents an integer of 1 to 3]. 【請求項２】 請求項１記載の水酸基が保護されている
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。2. An ultraviolet absorbent comprising the hydroxyl-protected triarylbismuth compound according to claim 1. 【請求項３】 ＹがＳＯ₂−である請求項１記載のトリ
アリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。3. The ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 1, wherein Y is SO ₂ —. 【請求項４】 ＹがＳＯ₂−である請求項２記載のトリ
アリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。4. An ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim _{2, wherein} Y is SO ₂ —. 【請求項５】 ｎ＝３である請求項３記載のトリアリー
ルビスマス化合物を含む紫外線吸収剤又は該紫外線吸収
剤を含有する化粧品。5. An ultraviolet absorbent containing the triarylbismuth compound according to claim 3, wherein n = 3, or a cosmetic containing the ultraviolet absorbent. 【請求項６】 ｎ＝３である請求項４記載のトリアリー
ルビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。6. An ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 4, wherein n = 3. 【請求項７】 Ｘ³が水素原子である請求項５記載のト
リアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。7. An ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 5, wherein X ³ is a hydrogen atom. 【請求項８】 Ｘ³が水素原子である請求項６記載のト
リアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。8. An ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 6, wherein X ³ is a hydrogen atom. 【請求項９】 Ｘ²が水素原子である請求項７記載のト
リアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。9. An ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 7, wherein X ² is a hydrogen atom. 【請求項１０】 Ｘ²が水素原子である請求項８記載の
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。10. An ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 8, wherein X ² is a hydrogen atom. 【請求項１１】 ｎ＝１である請求項３記載のトリアリ
ールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。11. An ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 3, wherein n = 1. 【請求項１２】 ｎ＝１である請求項４記載のトリアリ
ールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。12. An ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 4, wherein n = 1. 【請求項１３】 Ｘ³が水素原子である請求項11記載の
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。13. The ultraviolet absorber comprising the triarylbismuth compound according to claim 11, wherein X ³ is a hydrogen atom. 【請求項１４】 Ｘ³が水素原子である請求項12記載の
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。14. The ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 12, wherein X ³ is a hydrogen atom. 【請求項１５】 Ｘ²が水素原子である請求項13記載の
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。15. The ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 13, wherein X ² is a hydrogen atom. 【請求項１６】 Ｘ²が水素原子である請求項14記載の
トリアリールビスマス化合物を含む紫外線吸収剤。16. An ultraviolet absorbent comprising the triarylbismuth compound according to claim 14, wherein X ² is a hydrogen atom. 【請求項１７】 請求項１ないし１６のいずれかに記載
の紫外線吸収剤を含有する化粧品。17. A cosmetic comprising the ultraviolet absorbent according to claim 1. Description: