JPH1157042A

JPH1157042A - 放射線照射装置

Info

Publication number: JPH1157042A
Application number: JP22490097A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Iida; 利昭飯田
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1997-08-21
Filing date: 1997-08-21
Publication date: 1999-03-02

Abstract

(57)【要約】【課題】遮蔽室の面積を縮小して建屋建設コストを削
減するとともに、電子線またはＸ線とイオン粒子線との
近接利用を容易に行うことのできる放射線照射装置を得
る。【解決手段】電子線加速器を含み、電子線加速器から
生成される第１の放射線を照射して利用に供する第１の
利用手段１００Ａと、イオン加速器１ｂを含み、イオン
加速器から生成される第２の放射線αを照射して利用に
供する第２の利用手段１００Ｂと、第１および第２の利
用手段を近接設置するための同一の照射室７とを備え
た。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、物理および化学
の研究または種々の治療などに用いられる放射線照射装
置に関し、特に建設費を削減した経済的な放射線照射装
置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図８〜図１０はたとえば「放射線基礎医
学」（金芳堂、１９９２年７月初版発行）に記載された
従来の電子線照射装置の構成を示す図であり、図８は電
子線照射装置の配置例を示す平面図、図９は電子線照射
装置の全体を示す外観図、図１０は電子線照射装置の断
面図である。

【０００３】図８〜図１０において、１００ａは電子線
照射装置本体、１ａ（図１０参照）は電子線βを生成す
るための電子線生成加速装置、２ａは電子線βを方向付
けるための輸送電磁石、３ａは電子線βまたは電子線β
に基づいて生成されるＸ線γを照射するための照射器、
４ａは電子線βまたはＸ線γが照射される被射体（図示
せず）を位置決めするための被射***置決めステージで
ある。

【０００４】５ａは電子線βまたはＸ線γの照射方向を
可変にするための回転ガントリ装置、６ａは電子線βま
たはＸ線γの照射目標となる照射アイソセンタ、７ａ
（図８参照）は電子線照射装置本体１００ａを包囲する
ための遮蔽壁、８は輸送電磁石２ａと照射器３ａとの間
に配置されたターゲットである。ターゲット８は選択的
に挿入され、挿入時においては、電子線βの照射により
二次的にＸ線γを出射する。

【０００５】また、図１１はたとえば「三菱電機技報」
（三菱電機発行、Ｖｏｌ．６９、Ｎｏ．２）に掲載の
「科学技術庁放射線医学総合研究所重粒子線がん治療
装置（ＨＩＭＡＣ）」（１９９５年２月）に記載された
従来のイオン粒子線照射装置の構成を示す平面図であ
る。

【０００６】図１１において、１００ｂはイオン粒子線
照射装置本体、１ｂはイオン粒子線αを生成するための
イオン粒子線生成加速装置、２ｂはイオン粒子線αを方
向付けるための輸送電磁石、３ｂはイオン粒子線αを照
射するための照射器、４ｂはイオン粒子線αが照射され
る被射体を位置決めするための位置決めステージ、６ｂ
はイオン粒子線αの照射目標となる照射アイソセンタ、
７ｂはイオン粒子線照射装置本体１００ｂを包囲するた
めの遮蔽壁である。

【０００７】また、図１２および図１３はたとえば「プ
ロシーディング・オブ・ＮＩＲＳ・インターナショナル
・セミナー・オン・アプリケーション・オブ・ヘビー・
イオン・アクセラレータ・トゥ・ラディエーション・セ
ラピー・オブ・キャンサー・イン・コネクション・ウィ
ズ・ＸＸＩ・ＰＴＣＯＧ・ミーティング（Ｐｒｏｃｅｅ
ｄｉｎｇｓｏｆＮＩＲＳＩｎｔｅｒｎａｔｉｏｎ
ａｌＳｅｍｉｎａｒｏｎＡｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ
ｏｆＨｅａｖｙＩｏｎＡｃｃｅｌｅｒａｔｏｒ
ｔｏＲａｄｉａｔｉｏｎＴｈｅｒａｐｙｏｆＣ
ａｎｃｅｒｉｎｃｏｎｎｅｃｔｉｏｎｗｉｔｈＸ
ＸＩＰＴＣＯＧＭｅｅｔｉｎｇ）」（放射線医学総
合研究所発行、ＮＩＲＳ−Ｍ−１０３、ＨＩＭＡＣ−０
０８）の第２８８頁に掲載の「ポシブル・ユース・オブ
・ジ・ＡＧＳ・ライナック・フォー・プロトン・セラピ
ー（ＰＯＳＳＩＢＬＥＵＳＥＯＦＴＨＥＡＧＳ
ＬＩＮＡＣＦＯＲＰＲＯＴＯＮＴＨＥＲＡＰ
Ｙ）」に記載された従来の回転ガントリ式のイオン粒子
線照射装置の構成を示す図であり、図１２はイオン粒子
線照射装置の外観を示す斜視図、図１３はイオン粒子線
照射装置の回転ガントリを示す構成図である。

【０００８】図１２および図１３において、１ｂ〜４
ｂ、６ｂおよび７ｂは前述（図１１参照）と同様のもの
であり、１００ｃはイオン粒子線照射装置本体、５ｂは
イオン粒子線αの照射方向を可変にするための回転ガン
トリ装置、Ｃは回転ガントリ装置５ｂの回転中心軸であ
る。以下、同一符号の構成要素については、同一または
相当部分を示すので詳細説明は省略する。

【０００９】次に、従来の放射線照射装置の動作につい
て説明する。まず、図８〜図１０に示した電子線照射装
置において、電子線照射装置本体１００ａ内にターゲッ
ト８を挿入しない場合の動作について説明する。

【００１０】この場合、電子線生成加速装置１ａにより
生成されて加速された電子線βは、輸送電磁石２ａによ
り照射方向が調整されるとともに、照射器３ａにより照
射野および飛程などが調整され、照射アイソセンタ６ａ
に設置された被射体に照射される。

【００１１】このとき、被射体に対する電子線βの照射
位置は、位置決めステージ４ａにより調整される。ま
た、被射体に対する電子線βの照射方向は、図９に示す
ように、回転ガントリ装置５ａにより変更することがで
きる。

【００１２】一方、照射器３ａの手前にターゲット８が
挿入された場合には、タ−ゲット８に電子線βが衝突す
ることによりターゲット８からＸ線γが生成されるの
で、被射体にはＸ線γが照射される。

【００１３】なお、電子線照射装置本体１００ａにおい
て、電子線βがターゲット８や被射体などの物体に衝突
する際には、Ｘ線γのみならず種々の放射線が生成され
るので、電子線照射装置本体１００ａは、図８に示すよ
うに、遮蔽壁７ａにより包囲された部屋に設置される。

【００１４】次に、図１１に示したイオン粒子線照射装
置の動作について説明する。この場合、イオン粒子線生
成加速装置１ｂにより生成されて加速されたイオン粒子
線αは、輸送電磁石２ｂにより方向が調整されるととも
に、照射器３ｂにより照射野および飛程などが調整さ
れ、照射アイソセンタ６ｂに設置された被射体に照射さ
れる。

【００１５】このとき、被射体に対する照射位置は、位
置決めステージ４ｂにより調整される。なお、イオン粒
子線照射装置本体１００ｂにおいても、イオン粒子線α
が物体に衝突する際にＸ線などの放射線が生成されるの
で、イオン粒子線照射装置本体１００ｂは、遮蔽壁７ｂ
に包囲された部屋に設置される。

【００１６】また、図１２および図１３に示した回転ガ
ントリ装置５ｂを備えたイオン粒子線照射装置について
は、被射体に対するイオン粒子αの照射方向を変更可能
に構成されている点を除けば図１１の場合と同様なの
で、ここでは詳述しない。

【００１７】

【発明が解決しようとする課題】従来の放射線照射装置
は以上のように構成されており、電子線β、Ｘ線γまた
はイオン粒子線αを照射して利用に供する場合、必要な
放射線の種類に応じて電子線照射装置またはイオン粒子
線照射装置が個別に設置されるので、遮蔽壁７ａまたは
７ｂを製作するためのコストが２台分かかるとともに、
２台の放射線照射装置を収納する建屋が大形化するの
で、広い敷地が必要となるうえ建屋建設のコストも膨大
になるという問題点があった。

【００１８】また、電子線照射装置およびイオン粒子線
照射装置が別々に設置されることから、電子線βまたは
Ｘ線γの照射利用とイオン粒子線αの照射利用とを関連
づけて、近接して利用することが困難であるという問題
があった。

【００１９】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、放射線を遮蔽する照射室の面積
を縮小して建屋建設コストを削減するとともに、電子線
またはＸ線とイオン粒子線との利用を近接して行うこと
のできる放射線照射装置を得ることを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る放射線照射装置は、電子線加速器を含み、電子線加速
器から生成される第１の放射線を照射して利用に供する
第１の利用手段と、イオン加速器を含み、イオン加速器
から生成される第２の放射線を照射して利用に供する第
２の利用手段と、第１および第２の利用手段を近接設置
するための同一の照射室とを備えたものである。

【００２１】このように、第１の利用手段（電子線照射
装置）および第２の利用手段（イオン粒子線照射装置）
を同一の照射室に設置することにより、遮蔽壁を少なく
して建屋の製作費および維持費を低減させるとともに、
第１および第２の放射線の近接照射利用を容易にする。

【００２２】また、この発明の請求項２に係る放射線照
射装置は、請求項１において、第１の利用手段に設けら
れて、第１の放射線が照射される被射体を位置決め調整
するための第１のステージと、第２の利用手段に設けら
れて、第２の放射線が照射される被射体を位置決め調整
するための第２のステージとを共用したものである。

【００２３】このように、第１および第２の位置決めス
テージを共用することにより、位置決めステージのコス
トを削減するとともに、第１および第２の近接照射利用
をさらに容易にする。

【００２４】また、この発明の請求項３に係る放射線照
射装置は、請求項１または請求項２において、第１の放
射線の照射点までの第１のビームラインと、第２の放射
線の照射点までの第２のビームラインとの少なくとも一
部を共用したものである。

【００２５】このように、電子線加速器から照射点まで
の第１のビームラインとイオン粒子線加速器から照射点
までのビームラインとを共用とすることにより、放射線
照射装置の規模をさらに小形化して、建屋の製作費およ
び維持費を低減させる。

【００２６】また、この発明の請求項４に係る放射線照
射装置は、請求項１から請求項３までのいずれかにおい
て、第２の利用手段は、第２の放射線の被射体に対する
照射方向を変化させるための回転ガントリ装置を備え、
第１の利用手段は、回転ガントリ装置に搭載されたもの
である。

【００２７】このように、第２の放射線の照射方向を変
化させる回転ガントリ装置上に第１の利用手段を搭載す
ることにより、第１および第２のビームラインの共用化
を容易にするとともに、第１および第２の放射線の両方
に対して回転ガントリ機能を持たせる。

【００２８】また、この発明の請求項５に係る放射線照
射装置は、請求項１から請求項４までのいずれかにおい
て、第１および第２の放射線の少なくとも一方が照射さ
れる被射体は人体であり、第１および第２の放射線の少
なくとも一方は、人体に発生する腫瘍を縮減または消滅
させるものである。

【００２９】このように、第１および第２の放射線の照
射対象を人体に発生する腫瘍とすることにより、各放射
線を必要に応じて効率よく照射可能にするとともに、建
屋規模を抑制して低コストで且つコンパクトな放射線治
療装置を実現する。

【００３０】また、この発明の請求項６に係る放射線照
射装置は、請求項１から請求項５までのいずれかにおい
て、第１の放射線として電子線を用い、第２の放射線と
してイオン粒子線を用いたものである。

【００３１】また、この発明の請求項７に係る放射線照
射装置は、請求項１から請求項５までのいずれかにおい
て、電子線加速器は、電子線が照射されるターゲットを
含み、第１の放射線として、ターゲットから生成される
Ｘ線を用いたものである。

【００３２】

【発明の実施の形態】

実施の形態１．以下、この発明の実施の形態１を図につ
いて説明する。図１はこの発明の実施の形態１を示す平
面図であり、１ｂ〜４ｂ、４ａ〜６ａおよび６ｂは前述
と同様のものである。

【００３３】図１において、１００Ａは電子線照射装置
本体であり、図示されない構成は、図８〜図１０に示し
た通りである。すなわち、電子線照射装置本体１００Ａ
は、電子線生成加速装置（電子線加速器）１ａおよび選
択的に挿入されたターゲット８（図１０参照）を含み、
電子線生成加速装置１ａから生成される電子線βまたは
Ｘ線γ（第１の放射線）を照射して利用に供する第１の
利用手段を構成している。

【００３４】また、１００Ｂはイオン粒子線照射装置本
体であり、図示されない構成は、図１１に示した通りで
ある。すなわち、イオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
は、イオン粒子線生成加速装置（イオン加速器）１ｂを
含み、イオン粒子線生成加速装置１ｂから生成されるイ
オン粒子線α（第２の放射線）を照射して利用に供する
第２の利用手段を構成している。

【００３５】位置決めステージ４ａは、電子線照射装置
本体１００Ａおよびイオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
の位置決めステージ（４ｂ）の機能を兼用している。共
用の遮蔽壁７は、電子線照射装置本体１００Ａおよびイ
オン粒子線照射装置本体１００Ｂを近接設置するための
同一の照射室を構成しており、各照射装置本体１００Ａ
および１００Ｂから生成される放射線の外部への漏洩を
防止する。

【００３６】次に、図１に示したこの発明の実施の形態
１の動作について説明する。まず、電子線照射装置本体
１００Ａにおいて、電子線βまたはＸ線γを被射体に照
射して利用に供する手順については、従来装置（図８〜
図１０参照）で説明した通りである。

【００３７】すなわち、電子線照射装置本体１００Ａか
ら生成された電子線βは、回転ガントリ装置５ａにより
照射方向が調整されて照射アイソセンタ６ａに導かれ、
被射体の位置調整は、位置決めステージ４ａにより行わ
れる。このとき生成される放射線は、遮蔽壁７により外
部への漏洩が防止される。

【００３８】また、イオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
において、イオン粒子線αを照射して利用に供する手順
については、従来装置（図１１参照）で説明した通りで
ある。

【００３９】すなわち、イオン粒子線生成加速装置１ｂ
から生成されたイオン粒子線αは、輸送電磁石２ｂで照
射方向が調整されるとともに、照射器３ｂで照射野およ
び飛程などが調整され、照射アイソセンタ６ｂに設置さ
れた被射体に照射され、被射体に対する照射位置は、位
置決めステージ４ｂにより調整される。このとき生成さ
れる放射線は、遮蔽壁７により外部への漏洩が防止され
る。

【００４０】ここで、遮蔽壁７は、電子照射装置および
イオン粒子線照射装置に対して共用なので、遮蔽壁７の
設置量が軽減され、建屋の製作費および維持費を低減さ
せることができる。

【００４１】また、電子線βまたはＸ線γの照射アイソ
センタ６ａと、イオン粒子線αの照射アイソセンタ６ｂ
とを近接設置することができるので、電子線βまたはＸ
線γの照射とイオン粒子線αの照射とを容易に関連づけ
て利用することができる。

【００４２】なお、図１では、各加速装置として、電子
線βの生成には電子線型加速器、イオン粒子線αの生成
にはイオン線シンクロトロンをそれぞれ用いたが、電子
線βの生成には、マイクロトロンまたはベータトロンな
どを用いてもよく、イオン粒子線αの生成には、静電加
速器、サイクロトロンまたは線形加速器などを用いても
よい。

【００４３】また、電子線生成加速装置１ａが、電子線
照射アイソセンタ６ａと同一の部屋に配置される構成と
したが、イオン粒子線生成加速装置１ｂの場合と同様
に、電子線生成加速装置１ａを電子線照射アイソセンタ
６ａとは別室に配置し、電子線βを輸送してもよく、前
述と同様の効果を奏することは言うまでもない。また、
イオン粒子線照射装置本体１００Ｂの照射部が図１２お
よび図１３に示すような回転ガントリ５ｂで構成されて
いる場合でも同様の効果を奏する。

【００４４】実施の形態２．なお、上記実施の形態１で
は、電子線β（または、Ｘ線γ）およびイオン粒子線α
に対して、それぞれ、位置決めステージ４ａおよび４ｂ
と、照射アイソセンタ６ａおよび６ｂとを個別に設けた
が、共通の位置決めステージおよび照射アイソセンタを
設けてもよい。

【００４５】以下、位置決めステージおよび照射アイソ
センタを共用にしたこの発明の実施の形態２を図につい
て説明する。図２はこの発明の実施の形態２を示す平面
図であり、図２において、４は電子線β（または、Ｘ線
γ）とイオン粒子線αとに対して共通の位置決めステー
ジ、６は電子線β（または、Ｘ線γ）とイオン粒子線α
に対して共通の照射アイソセンタである。

【００４６】次に、図２に示したこの発明の実施の形態
２の動作について説明する。まず、電子線照射装置本体
１００Ａで生成された電子線βは、回転ガントリ装置５
ａによって方向が調整され、共通の照射アイソセンタ６
に導かれる。このとき、被射体の位置調整は、共通の位
置決めステージ４により行われる。

【００４７】また、イオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
内のイオン粒子線生成加速装置１ｂにより生成されたイ
オン粒子線αは、輸送電磁石２ｂおよび照射器３ｂを介
して、共通の照射アイソセンタ６に設置された被射体に
照射される。この場合も、被射体に対する照射位置は、
共通の位置決めステージ４により調整される。

【００４８】このように、電子線β（または、Ｘ線γ）
とイオン粒子線αに対して共通の位置決めステージを設
けることにより、必要スペースがさらに低減されるとと
もに、位置決めステージ４の１台分の装置コストを削減
することができ、経済的効果が向上する。

【００４９】なお、ここでは、照射アイソセンタ６も共
通としたが、同一の照射点に設定しなくても、両者の照
射点が近接していれば位置決めステージ４を共用化する
ことができるので、同様の効果が期待できる。

【００５０】また、この場合も、イオン粒子線照射装置
本体１００Ｂの照射部が図１２および図１３に示すよう
な回転ガントリ５ｂで構成されている場合でも同様の効
果を奏する。

【００５１】実施の形態３．なお、上記実施の形態２で
は、位置決めステージ４のみを共通に構成したが、電子
線β（または、Ｘ線γ）の照射点までの第１のビームラ
インと、イオン粒子線αの照射点までの第２のビームラ
インとの少なくとも一部を共通に構成してもよい。

【００５２】以下、各ビームラインの少なくとも一部を
共用にしたこの発明の実施の形態３を図について説明す
る。図３はこの発明の実施の形態３を示す平面図であ
り、図３において、１００は電子線照射装置本体１００
Ａおよびイオン粒子線照射装置本体１００Ｂの機能を一
部共用した照射装置本体である。３は兼用の照射器であ
り、電子線β（または、Ｘ線γ）およびイオン粒子線α
の各ビームラインに設けられている。

【００５３】次に、図３に示したこの発明の実施の形態
３の動作について説明する。まず、電子線βまたはＸ線
γを照射する場合、電子線生成加速装置１ａで生成され
た電子線βは、輸送電磁石２ａおよび共用の照射器３を
介して、照射アイソセンタ６に位置された被射体に照射
される。

【００５４】また、イオン粒子線生成加速装置１ｂで生
成されたイオン粒子線αは、輸送電磁石２ｂおよび共用
の照射器３を介して、照射アイソセンタ６に設置された
被射体に照射される。

【００５５】このように、電子線β（または、Ｘ線γ）
およびイオン粒子線αのビームラインを共通化すること
により、照射器３を共用することができ、必要スペース
がさらに低減されるとともに、照射器３などの装置コス
トを削減することができ、経済的効果がさらに向上す
る。

【００５６】実施の形態４．なお、上記実施の形態１で
は、電子線照射装置本体１００Ａのみに回転ガントリ装
置５ａを設けたが、イオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
にも回転ガントリ装置を設けて、イオン粒子線αの被射
体に対する照射方向を変化させてもよい。

【００５７】以下、イオン粒子線照射装置本体１００Ｂ
にも回転ガントリ装置を設けたこの発明の実施の形態４
を図について説明する。図４はこの発明の実施の形態４
の回転ガントリ装置部分を示す平面図であり、図４にお
いて、５は電子線β（または、Ｘ線）およびイオン粒子
線αに対して兼用の回転ガントリ装置、Ｃは回転ガント
リ装置５の回転中心軸である。

【００５８】この場合、照射器３、位置決めステージ
４、回転ガントリ装置５および照射アイソセンタ６が、
各ビームに対して共用構成されている。また、電子線照
射装置本体１００Ａ内の電子線生成加速装置１ａは、回
転ガントリ装置５に搭載されている。

【００５９】次に、図４に示したこの発明の実施の形態
４の動作について説明する。まず、電子線βは、電子線
生成加速装置１ａで生成され、輸送電磁石２ａおよび照
射器３を介して、照射アイソセンタ６に設置された被射
体に照射される。

【００６０】このとき、電子線βの照射方向は、回転ガ
ントリ装置５により調整される。一方、イオン粒子線α
を照射する場合の動作は、図１２および図１３において
説明した通りである。

【００６１】このように、イオン粒子線αの照射方向を
調整するための回転ガントリ装置５上に、電子線生成加
速装置１ａを搭載することにより、回転ガントリ装置５
を共用することができるので、必要スペースを拡大する
ことなく、電子線βおよびイオン粒子線αの照射方向を
調整可能に構成することができる。

【００６２】なお、ここでは、照射器３を共用構成とし
たが、電子線βおよびイオン粒子線αの照射ラインをず
らして個別の照射器３ａおよび３ｂを設けてもよい、こ
の場合、照射器３ａおよび３ｂの必要スペースが若干増
えるものの、回転ガントリ装置５の共用による効果が損
なわれることはない。

【００６３】実施の形態５．なお、上記実施の形態１〜
４では、ビーム照射対象となる被射体について特に言及
しなかったが、人体を照射対象として種々の治療などに
適用してもよい。以下、被射体として人体を対象とした
この発明の実施の形態５を図について説明する。

【００６４】図５はこの発明の実施の形態５を示す平面
図であり、図５において、９は患者すなわち人体（被射
体）の位置を調整する治療台（前述の位置決めステージ
４に相当する）である。この場合、治療台９上の人体に
対する照射ビームは、人体に発生する腫瘍を縮減または
消滅させるために適用される。

【００６５】次に、図６および図７を参照しながら、図
５に示したこの発明の実施の形態５の動作について説明
する。図６および図７は電子線β、Ｘ線γ、イオン粒子
線αなど各種放射線を、治療台９上の人体に照射したと
きの影響を示す説明図である。

【００６６】図６は生物組織の深さ方向（横軸）に対す
る各種放射線の到達照射線量（縦軸）をグラフで示して
おり、実線は陽子線（イオン粒子線）αの特性曲線、一
点鎖線は（８ＭＶの）Ｘ線γの特性曲線、二点鎖線は遠
中性子線の特性曲線、破線は電子線βの特性曲線であ
る。

【００６７】また、図７は単位線量あたりの生物細胞へ
の照射効果比ＲＢＥと、正常細胞と酸素の少ない腫瘍細
胞との照射効果比ＯＥＲとを示しており、放射線とし
て、Ｘ線、陽子、ヘリウム、負パイ中間子、炭素、速中
性子、ネオン、シリコン、アルゴンを用いた場合を示し
ている。

【００６８】図５において、電子線β（または、Ｘ線
γ）で治療する場合、電子線生成加速装置１ａで生成さ
れた電子線βは、輸送電磁石２ａおよび共用の照射器３
を介して、治療台９上に位置決めされた人体の腫瘍に照
射される。

【００６９】同様に、イオン粒子線αで治療する場合、
イオン粒子線生成加速装置１ｂで生成されたイオン粒子
線αは、輸送電磁石２ｂおよび共用の照射器３を介し
て、治療台９上に位置決めされた人体の腫瘍に照射され
る。

【００７０】このとき、図６に示すように、イオン粒子
線α（陽子線）は、電子線βやＸ線γに比べて、人体の
深くの腫瘍細胞で照射線量をピークとすることができ
る。また、図７に示すように、炭素などの重いイオン粒
子線αを用いた場合には、単位線量あたりの生物細胞へ
の照射効果比ＲＢＥが比較的有利であり、且つ、正常細
胞と酸素の少ない腫瘍細胞との照射効果比ＯＥＲが有利
であり、より効果的な治療が可能となる。

【００７１】一方、電子線βやＸ線γを用いた治療にお
いては、イオン粒子線αを用いた治療と比べて、電力費
など維持稼働させるための費用を少なくすることができ
るうえ、電子線生成加速装置１ａの調整時間が少なくて
済むという効果がある。

【００７２】このように、同一の被射体（人体）に対し
て、要求に応じて、電子線βまたはＸ線γを用いた治療
と、イオン粒子線αを用いた治療とを選択的に行うこと
ができる。

【００７３】すなわち、個々の患者の症例による要求に
応じて、各ビームの照射時間や照射回数を調整すること
により、上記両者の長所を生かして効率よく照射できる
とともに、コンパクトな構成により建屋規模およびコス
トを抑制し、建屋の製作費および維持費を低減させるこ
とができる。

【００７４】なお、ここでは、実施の形態３（図３参
照）の構成を放射線治療装置に適用した場合を示した
が、実施の形態１（図１参照）、実施の形態２（図２参
照）、実施の形態４（図４参照）の構成を適用しても、
それぞれ同様の効果を奏することは言うまでもない。

【００７５】また、図７に示すように、単位照射線量あ
たりの生物細胞への効果比（ＲＢＥ）は、Ｘ線γおよび
陽子線αの間で差がほとんどないので、Ｘ線γおよび陽
子線αを治療に採用することにより、治療計画などを共
通化することができ、さらに低コストで治療し易い放射
線治療装置を実現することができる。

【００７６】さらに、各実施の形態を任意に組み合わせ
れば、それぞれの作用効果が得られることは言うまでも
ない。

【００７７】

【発明の効果】以上のようにこの発明の請求項１によれ
ば、電子線加速器を含み、電子線加速器から生成される
第１の放射線を照射して利用に供する第１の利用手段
と、イオン加速器を含み、イオン加速器から生成される
第２の放射線を照射して利用に供する第２の利用手段
と、第１および第２の利用手段を近接設置するための同
一の照射室とを備えたので、遮蔽室の面積を縮小して建
屋建設コストを削減するとともに、電子線またはＸ線と
イオン粒子線との利用を近接して行うことのできる放射
線照射装置が得られる効果がある。

【００７８】また、この発明の請求項２によれば、請求
項１において、第１の利用手段に設けられて、第１の放
射線が照射される被射体を位置決め調整するための第１
のステージと、第２の利用手段に設けられて、第２の放
射線が照射される被射体を位置決め調整するための第２
のステージとを共用したので、各放射線の近接利用をさ
らに容易にし且つコストを削減した放射線照射装置が得
られる効果がある。

【００７９】また、この発明の請求項３によれば、請求
項１または請求項２において、第１の放射線の照射点ま
での第１のビームラインと、第２の放射線の照射点まで
の第２のビームラインとの少なくとも一部を共用したの
で、さらにコストを削減した放射線照射装置が得られる
効果がある。

【００８０】また、この発明の請求項４によれば、請求
項１から請求項３までのいずれかにおいて、第２の利用
手段は、第２の放射線の被射体に対する照射方向を変化
させるための回転ガントリ装置を備え、第１の利用手段
を回転ガントリ装置に搭載したので、ビームラインの共
用化を容易にするとともに、さらにコストを削減した放
射線照射装置が得られる効果がある。

【００８１】また、この発明の請求項５によれば、請求
項１から請求項４までのいずれかにおいて、第１および
第２の放射線の少なくとも一方が照射される被射体は人
体であり、第１および第２の放射線の少なくとも一方
は、人体に発生する腫瘍を縮減または消滅させるように
したので、各放射線を必要に応じて効率よく照射するこ
とができ、治療装置として有効に機能する放射線照射装
置が得られる効果がある。

【００８２】また、この発明の請求項６によれば、請求
項１から請求項５までのいずれかにおいて、第１の放射
線として電子線を用い、第２の放射線としてイオン粒子
線を用いたので、各放射線の共用を有効に利用可能な放
射線照射装置が得られる効果がある。

【００８３】また、この発明の請求項７によれば、請求
項１から請求項５までのいずれかにおいて、電子線加速
器は、電子線が照射されるターゲットを含み、第１の放
射線として、ターゲットから生成されるＸ線を用いたの
で、各放射線の共用を有効に利用可能な放射線照射装置
が得られる効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施の形態１を示す平面図であ
る。

【図２】この発明の実施の形態２を示す平面図であ
る。

【図３】この発明の実施の形態３を示す平面図であ
る。

【図４】この発明の実施の形態４の回転ガントリ装置
部分を示す平面図である。

【図５】この発明の実施の形態５を示す平面図であ
る。

【図６】この発明の実施の形態５により生成される放
射線を人体に照射したときの影響を示す説明図である。

【図７】この発明の実施の形態５により生成される放
射線を人体に照射したときの影響を示す説明図である。

【図８】一般的な電子放射線照射装置を示す平面図で
ある。

【図９】一般的な電子放射線照射装置を示す斜視図で
ある。

【図１０】一般的な電子放射線照射装置を示す側面図
である。

【図１１】従来の放射線照射装置を示す平面図であ
る。

【図１２】従来のイオン粒子線照射装置の構成を示す
斜視図である。

【図１３】従来のイオン粒子線照射装置の回転ガント
リを示す構成図である。

【符号の説明】

１ａ電子線生成加速装置（電子線加速器）、１ｂイ
オン粒子線生成加速装置（イオン加速器）、２、２ａ、
２ｂ輸送電磁石、３、３ａ、３ｂ照射器、４、４
ａ、４ｂ位置決めステージ、５、５ａ回転ガントリ
装置、６、６ａ、６ｂ照射アイソセンタ、７遮蔽壁
（照射室）、８ターゲット、９治療台、１００照
射装置本体、１００Ａ電子線照射装置本体、１００Ｂ
イオン粒子線照射装置本体、α イオン粒子線、β
電子線、γ Ｘ線。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電子線加速器を含み、前記電子線加速器
から生成される第１の放射線を照射して利用に供する第
１の利用手段と、イオン加速器を含み、前記イオン加速器から生成される
第２の放射線を照射して利用に供する第２の利用手段
と、前記第１および第２の利用手段を近接設置するための同
一の照射室とを備えた放射線照射装置。
【請求項２】前記第１の利用手段に設けられて、前記
第１の放射線が照射される被射体を位置決め調整するた
めの第１のステージと、前記第２の利用手段に設けられて、前記第２の放射線が
照射される被射体を位置決め調整するための第２のステ
ージとを共用したことを特徴とする請求項１に記載の放
射線照射装置。
【請求項３】前記第１の放射線の照射点までの第１の
ビームラインと、前記第２の放射線の照射点までの第２
のビームラインとの少なくとも一部を共用したことを特
徴とする請求項１または請求項２に記載の放射線照射装
置。
【請求項４】前記第２の利用手段は、前記第２の放射
線の被射体に対する照射方向を変化させるための回転ガ
ントリ装置を備え、前記第１の利用手段は、前記回転ガントリ装置に搭載さ
れたことを特徴とする請求項１から請求項３までのいず
れかに記載の放射線照射装置。
【請求項５】前記第１および第２の放射線の少なくと
も一方が照射される被射体は人体であり、前記第１および第２の放射線の少なくとも一方は、前記
人体に発生する腫瘍を縮減または消滅させることを特徴
とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の放
射線照射装置。
【請求項６】前記第１の放射線は電子線であり、前記
第２の放射線は、イオン粒子線であることを特徴とする
請求項１から請求項５までのいずれかに記載の放射線照
射装置。
【請求項７】前記電子線加速器は、電子線が照射され
るターゲットを含み、前記第１の放射線は、前記ターゲ
ットから生成されるＸ線であることを特徴とする請求項
１から請求項５までのいずれかに記載の放射線照射装
置。