JPH1154417A - Lighting device and projection and exposure device - Google Patents
Lighting device and projection and exposure deviceInfo
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- JPH1154417A JPH1154417A JP9219086A JP21908697A JPH1154417A JP H1154417 A JPH1154417 A JP H1154417A JP 9219086 A JP9219086 A JP 9219086A JP 21908697 A JP21908697 A JP 21908697A JP H1154417 A JPH1154417 A JP H1154417A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路や
液晶などの製造に使用される照明装置及び投影露光装置
に関し、特に照度均一性が要求される照明装置及び投影
露光装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an illumination device and a projection exposure device used for manufacturing semiconductor integrated circuits and liquid crystals, and more particularly to an illumination device and a projection exposure device that require uniform illuminance.
【０００２】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路や液晶などの製造は、レ
チクルやマスクなどの投影原版（以下、本明細書におい
てレチクルと総称する。）上に形成された回路パターン
を照明装置で照明し、このパターンを投影光学系でレジ
ストなどの感光剤を塗布したウエハやガラスプレートな
どの感光性基板（以下、本明細書においてウエハと総称
する。）に結像転写することによって行なわれている
が、近年、回路パターンの微細化に対応すべく、ウエハ
上へ照射される光の照度均一性の要求はますます高まっ
ている。従来よりウエハ上へ照射される光の照度を均一
にする方法としては、特開平７−１３０６００号公報に
開示されているように、ウエハと共役な位置に、ウエハ
上での照度分布とは逆の傾向の透過率分布を有するフィ
ルタを挿入し、ウエハ上での照度分布を均一に調整する
方法が知られている。2. Description of the Related Art In the manufacture of semiconductor integrated circuits and liquid crystals, a circuit pattern formed on a projection original (hereinafter, collectively referred to as a "reticle") such as a reticle or a mask is illuminated by an illumination device. It is performed by transferring an image of a pattern onto a photosensitive substrate such as a wafer or a glass plate coated with a photosensitive agent such as a resist by a projection optical system (hereinafter, collectively referred to as a wafer in this specification). In order to cope with miniaturization of circuit patterns, the demand for uniformity of illuminance of light irradiated on a wafer is increasing more and more. Conventionally, as a method of making the illuminance of light irradiated on a wafer uniform, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-130600, an illuminance distribution opposite to the wafer is provided at a position conjugate with the wafer. There is known a method of inserting a filter having a transmittance distribution having the above tendency to uniformly adjust the illuminance distribution on a wafer.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ウエハ
上での照度分布とは逆の傾向の透過率分布を有するフィ
ルタを形成する方法として、フィルタ面を微小領域に分
割し、それぞれの微小領域に求められる透過率を求め、
その透過率に基づいて配置すべき微小遮光ドットの数を
計算し、各微小領域内において算出された数のドットを
ランダムに配置する方法を用いた場合には、制御不能な
照度分布むらが発生することが判明した。この現象は、
フィルタによる補正量が大きい程に顕著であった。However, as a method of forming a filter having a transmittance distribution having a tendency opposite to the illuminance distribution on a wafer, a filter surface is divided into minute regions and each of the minute regions is determined. Required transmittance,
If the method of calculating the number of minute light-shielding dots to be arranged based on the transmittance and randomly arranging the calculated number of dots in each minute area is used, uncontrollable illumination distribution unevenness occurs. It turned out to be. This phenomenon is
This was more noticeable as the amount of correction by the filter was larger.
【０００４】この現象は、以下の原因で発生すると考え
られる。問題を単純化するために、図５に示すように、
透過率を制御すべきフィルタを面ではなく次元を１つ落
して線とし、この上にドット３１を並べた線フィルタ３
０のモデルを考える。ドット３１が１個だけ配置できる
長さを１画素Ｅと呼ぶこととし、８画素を単位微小長さ
Ｌとする。線フィルタ３０は、１ドットを配置する毎に
単位微小長さＬ当りの透過率が５％低減すると仮定す
る。また、線フィルタ３０全体の長さは単位微小長さＬ
と比較してほぼ無限に長いとする。ここで、ドット３１
は解像しない程に微小であり、また線フィルタ３０の透
過率を測定する測定機の線センサー３２の長さは、微小
長さＬの２倍であるとする。すなわち、この線センサー
３２はドット１個に対して、その位置での透過率を２．
５％ずつ低く測定することとなる。[0004] This phenomenon is considered to occur for the following reasons. To simplify the problem, as shown in FIG.
The filter whose transmittance is to be controlled is not a surface but a line with one dimension dropped, and a line filter 3 on which dots 31 are arranged.
Consider a model of zero. The length in which only one dot 31 can be arranged is called one pixel E, and eight pixels are a unit minute length L. It is assumed that the line filter 30 reduces the transmittance per unit minute length L by 5% every time one dot is arranged. The length of the entire line filter 30 is a unit minute length L.
It is assumed to be almost infinitely long compared to. Here, dot 31
Is small enough not to be resolved, and the length of the line sensor 32 of the measuring device for measuring the transmittance of the line filter 30 is twice the minute length L. That is, the line sensor 32 sets the transmittance at that position for one dot to 2.
It will be measured 5% lower.
【０００５】ここで、例えば、前述した線センサー３２
によって測定される透過率を１０％低減するような線フ
ィルタ３０を設計する場合を考える。この場合には、線
フィルタ３０上において単位微小長さＬ当たり２個のド
ットを配置する必要がある。この条件を満足するよう作
成されたドットの配列状態を図６に示す。図６に示した
ドットの配列は、単位微小長さＬ当たり２個のドットが
配置されているが、２個のドットの位置についてはラン
ダムに配置したものである。この場合、線センサー３２
の配置された領域において、透過率低減率を５％〜１５
％と判断する可能性がある。すなわち、単位微小長さＬ
当たり２個のドットを配置するとしても、図６（ａ）で
はセンサー領域２Ｌに２個のドット３１が配置されるた
めに、透過率の低減が５％と判断され、図６（ｂ）では
センサー領域２Ｌに６個のドット３１が配置されるため
に、透過率の低減が１５％と判断され、図６（ｃ）のよ
うに４個のドット３１が配置されてはじめて、透過率の
低減が１０％と判断される。単位微小長さＬ当たり２個
のドットを配置する組み合わせのうち、透過率が５％又
は１５％となる確率は、９／１９６となる。すなわち、
このセンサーにより線フィルタ３０の全長のうちの２０
点の領域を測定すれば、５％の領域と１５％の領域が、
およそ１つずつ測定される計算になる。一方、設計値で
ある透過率が１０％低減される確率は４１／９８とな
り、線フィルタ３０のおよそ４０％の領域において、１
０％の透過率が実現されているにすぎない。Here, for example, the aforementioned line sensor 32
Consider a case where the line filter 30 is designed to reduce the transmittance measured by 10%. In this case, it is necessary to arrange two dots per unit minute length L on the line filter 30. FIG. 6 shows an arrangement state of dots formed so as to satisfy this condition. In the dot arrangement shown in FIG. 6, two dots are arranged per unit minute length L, but the positions of the two dots are arranged randomly. In this case, the line sensor 32
In the area where the transmission is performed, the transmittance reduction rate is 5% to 15%.
%. That is, the unit minute length L
Even if two dots per dot are arranged, in FIG. 6A, since two dots 31 are arranged in the sensor area 2L, the reduction in transmittance is determined to be 5%, and in FIG. 6B, Since the six dots 31 are arranged in the sensor area 2L, the reduction of the transmittance is determined to be 15%, and the reduction of the transmittance is not performed until the four dots 31 are arranged as shown in FIG. Is determined to be 10%. Among the combinations in which two dots are arranged per unit minute length L, the probability that the transmittance is 5% or 15% is 9/196. That is,
With this sensor, 20 out of the total length of the line filter 30 is
If you measure the area of the point, 5% area and 15% area will be
It is a calculation that is measured approximately one by one. On the other hand, the probability that the transmittance, which is the design value, is reduced by 10% is 41/98.
Only 0% transmission is achieved.
【０００６】同様に、透過率を２０％低減するような線
フィルタ３０を設計する場合を考える。この場合には、
図７に例を示したように、センサーは透過率の低減を１
０％〜４０％と判断する可能性がある。すなわち、図７
（ａ）ではセンサー領域２Ｌに５個のドット３１が配置
されるために、透過率の低減が１２．５％と判断され、
図７（ｂ）ではセンサー領域２Ｌに１０個のドット３１
が配置されるために、透過率の低減が２５％と判断さ
れ、図７（ｃ）のように８個のドット３１が配置されて
はじめて、透過率の低減が２０％と判断される。透過率
が１０％又は４０％となる確率は１／４９００と小さい
ものの、設計値である透過率が２０％になる確率も１８
１／４９０となり、設計値を１０％とした場合より、確
率は更に低くなる。Similarly, consider a case where a line filter 30 is designed to reduce the transmittance by 20%. In this case,
As shown in FIG. 7, the sensor reduces the transmittance by 1%.
There is a possibility that it is determined to be 0% to 40%. That is, FIG.
In (a), since five dots 31 are arranged in the sensor area 2L, the reduction in transmittance is determined to be 12.5%,
In FIG. 7B, ten dots 31 are provided in the sensor area 2L.
Are arranged, the reduction in transmittance is determined to be 25%, and the reduction in transmittance is determined to be 20% only after eight dots 31 are arranged as shown in FIG. 7C. Although the probability that the transmittance becomes 10% or 40% is as small as 1/4900, the probability that the transmittance, which is the design value, becomes 20% is also 18.
1/490, which is even lower than the case where the design value is 10%.
【０００７】照度均一性の測定のためには複数点の測定
が必要であり、被照射物体面上での照度むらの傾向を見
るためには、経験的に１０×１０個程度の測定ポイント
が必要となる。その際に、上記の方法によって透過率制
御を行うと、何点かの測定ポイントでは、一定の確率で
照度むらの大きな領域が発生することとなる。これが前
述した制御不能な照度分布むらの発生の原因であると考
えられる。これは、単位微小領域Ｌあたりのドット３１
の密度を調整することによって透過率を制御する場合
に、本質的に発生する問題である。これに対し、ドット
のサイズを縮小して単位微小領域あたりのドットの数を
増やせば、この現象は軽減されることが知られている。
しかしながら、ドットのサイズを縮小する方法は、その
ドットを描画するプリンターの解像力に限界があり、製
造上の理由から実現は困難である。そこで、本発明は、
上記意図しない不規則な照度むらの発生を防止し、均一
な照度分布を実現した、照明装置及び投影露光装置の提
供を課題とする。To measure the uniformity of illuminance, it is necessary to measure a plurality of points. To observe the tendency of uneven illuminance on the surface of an object to be illuminated, about 10 × 10 measurement points are empirically determined. Required. At this time, if the transmittance is controlled by the above-described method, an area with large illuminance unevenness occurs at a certain probability at some measurement points. This is considered to be the cause of the uncontrollable illuminance distribution unevenness described above. This means that the dots 31 per unit minute area L
This is a problem that occurs essentially when the transmittance is controlled by adjusting the density of the light. On the other hand, it is known that this phenomenon can be reduced by reducing the dot size and increasing the number of dots per unit minute area.
However, the method of reducing the size of a dot has a limitation in the resolving power of a printer that draws the dot, and is difficult to realize for manufacturing reasons. Therefore, the present invention
It is an object of the present invention to provide an illumination apparatus and a projection exposure apparatus which prevent the occurrence of unintended irregular illumination unevenness and realize a uniform illumination distribution.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、光束を供給する光源手段と、光源手段か
らの光束を被照射物体に照射する照明光学系とを有する
照明装置において、照明光学系の光路中の被照射物体と
共役な位置若しくはその近傍、又は被照射物体の入射側
近傍にフィルタが配置され、フィルタは、被照射物体上
で解像しない程度の微小な遮光ドット又は減光ドットを
透明基板上に配置してなり、ドットは、フィルタ全面に
亘りランダムでない規則をもつようにして配列されたこ
とを特徴とする照明装置である。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention relates to an illuminating apparatus having a light source means for supplying a light beam, and an illumination optical system for irradiating the object to be irradiated with the light beam from the light source means. A filter is arranged at or near a position conjugate with the object to be irradiated in the optical path of the illumination optical system, or near the incident side of the object to be irradiated, and the filter is a small light-shielding dot that does not resolve on the object to be irradiated. Alternatively, an illuminating device in which light-attenuating dots are arranged on a transparent substrate, and the dots are arranged so as to have a non-random rule over the entire surface of the filter.
【０００９】本発明は、また、光束を供給する光源手段
と、光源手段からの光束を被照射物体に照明する照明光
学系と、被照射物体上に形成されたパターンを感光性基
板上に転写する投影光学系を有する投影露光装置におい
て、投影露光装置の光路中の感光性基板と共役な位置若
しくはその近傍、又は感光性基板の入射側近傍にフィル
タが配置され、フィルタは、感光性基板上で解像しない
程度の微小な遮光ドット又は減光ドットを透明基板上に
配置してなり、ドットは、フィルタ全面に亘りランダム
でない規則をもつようにして配列されたことを特徴とす
る投影露光装置である。The present invention also provides a light source for supplying a light beam, an illumination optical system for illuminating the object with the light from the light source, and a pattern formed on the object to be transferred onto a photosensitive substrate. In a projection exposure apparatus having a projection optical system, a filter is disposed at or near a position conjugate with the photosensitive substrate in the optical path of the projection exposure apparatus, or near the incident side of the photosensitive substrate, and the filter is disposed on the photosensitive substrate. A projection exposure apparatus characterized in that minute light-shielding dots or darkening dots that are not resolved by the above are arranged on a transparent substrate, and the dots are arranged so as to have a non-random rule over the entire surface of the filter. It is.
【００１０】その際、上記照明装置又は投影露光装置に
おいて、ドットを配列する規則としては、被照射物体上
に均一な照度分布を与えるためのフィルタ上での透過率
の低減率分布を求め、フィルタ上の微小領域毎の透過率
低減率をノイズパターンでフィルタリングすることによ
って透過率低減率を二値化し、二値化された透過率低減
率に基づいてフィルタの微小領域へのドットの形成の有
無を決定するものとすることができる。そしてノイズパ
ターンとしては、ベイヤーマトリックスの繰り返しパタ
ーンとすることができる。At this time, in the above-mentioned illumination device or projection exposure device, the rule for arranging dots is to find a distribution of reduction rate of transmittance on a filter for giving a uniform illuminance distribution on an object to be illuminated. The transmittance reduction rate is binarized by filtering the transmittance reduction rate of each of the above minute areas with a noise pattern, and whether or not dots are formed in the minute area of the filter based on the binarized transmittance reduction rate. Is determined. The noise pattern may be a Bayer matrix repetition pattern.
【００１１】また、上記照明装置又は投影露光装置にお
いて、ドットを配列する規則としては、被照射物体上に
均一な照度分布を与えるためのフィルタ上での透過率の
低減率分布とフィルタ上に１ドットを配置した際の１ド
ットによる透過率の低減率とを求め、フィルタ上での一
の微小領域の透過率低減率を１ドット透過率低減率でフ
ィルタリングすることによって透過率低減率を二値化
し、一の微小領域の透過率低減率と１ドット透過率低減
率との誤差を一の微小領域の周辺の微小領域の透過率低
減率に振り分けて加算し、周辺微小領域をフィルタリン
グして二値化する工程を順次行い、二値化された透過率
低減率に基づいてフィルタの微小領域へのドットの形成
の有無を決定するものとすることもできる。そして上記
比率としては、微小領域毎にランダムに設定することが
できる。In the above-mentioned illumination apparatus or projection exposure apparatus, the rules for arranging the dots are as follows: the distribution of the reduction rate of the transmittance on the filter for giving a uniform illuminance distribution on the irradiation object; The transmittance reduction rate by one dot when the dots are arranged is obtained, and the transmittance reduction rate of one minute area on the filter is filtered by the one-dot transmittance reduction rate to obtain a binary transmittance reduction rate. The error between the transmittance reduction rate of one minute area and the transmittance reduction rate of one dot is divided and added to the transmittance reduction rate of the minute area around the one minute area, and the surrounding minute area is filtered. It is also possible to sequentially perform the value conversion step and determine the presence or absence of the formation of dots in the minute area of the filter based on the binarized transmittance reduction rate. The ratio can be set randomly for each minute area.
【００１２】また、上記照明装置又は投影露光装置にお
いて、照明光学系はフライアイレンズを有し、フライア
イレンズの入射面又はその近傍は被照射物体又は感光性
基板と共役となるように配置され、フライアイレンズの
入射面又はその近傍にフィルタが配置された構成とする
こともできる。In the above-mentioned illumination apparatus or projection exposure apparatus, the illumination optical system has a fly-eye lens, and the entrance surface of the fly-eye lens or its vicinity is arranged so as to be conjugate with the object to be irradiated or the photosensitive substrate. Alternatively, a configuration in which a filter is arranged on the incident surface of the fly-eye lens or in the vicinity thereof may be adopted.
【００１３】[0013]
【発明の実施の形態】本発明の一実施例に係る投影露光
装置を図１に示す。本実施例の投影露光装置において
は、光源１として水銀ランプを用い、回転楕円面からな
る集光鏡２の第１焦点１６に配置する。光源１から放出
された光束は、ミラー３を介して第２焦点１７に一度集
光する。第２焦点１７から発散した光束は、コリメータ
ーレンズ４でほぼ平行な光束に変換され、バンドパスフ
ィルタ５によって水銀の輝線４３６ｎｍ（ｇ線）、３６
５ｎｍ（ｉ線）等の露光波長が選択される。バンドパス
フィルタ５を透過した光束は、多数のレンズ要素からな
るフライアイレンズ（２次光源手段）６に入射し、その
射出面１９に多数の２次光源像を形成する。２次光源か
ら発散する光束は、開口絞り７により光束径が制限され
た後、折り返しミラー１１を挟んで配置されたコンデン
サーレンズ８、１０、１２により集光されて、パターン
が描画されたレチクル１３を重畳的に均一照明する。照
明光によって均一照明されたレチクル１３上のパターン
は、投影レンズ１４によって感光性基板であるウエハ１
５上に投影される。FIG. 1 shows a projection exposure apparatus according to one embodiment of the present invention. In the projection exposure apparatus of this embodiment, a mercury lamp is used as the light source 1 and is arranged at the first focal point 16 of the condenser mirror 2 having a spheroidal surface. The light beam emitted from the light source 1 is once collected at the second focal point 17 via the mirror 3. The luminous flux diverging from the second focal point 17 is converted into a substantially parallel luminous flux by the collimator lens 4, and the mercury emission line 436 nm (g-line), 36 by the band-pass filter 5.
An exposure wavelength such as 5 nm (i-line) is selected. The luminous flux transmitted through the band-pass filter 5 enters a fly-eye lens (secondary light source means) 6 composed of a number of lens elements, and forms a number of secondary light source images on an exit surface 19 thereof. The luminous flux diverging from the secondary light source is condensed by condenser lenses 8, 10, and 12 arranged with a folding mirror 11 after the luminous flux diameter is limited by the aperture stop 7, and the reticle 13 on which a pattern is drawn Are uniformly illuminated in a superimposed manner. The pattern on the reticle 13 uniformly illuminated by the illumination light is projected onto the wafer 1 as a photosensitive substrate by the projection lens 14.
5 is projected.
【００１４】本実施例の投影露光装置において、フライ
アイレンズ６の入射面１８はレチクル１３又はウエハ１
５と共役な位置に配置され、フライアイレンズ６の入射
面１８近傍にはフィルタ２０が配置されている。フィル
タ２０面にはレチクル１３又はウエハ１５上で解像され
ない程度の大きさのドットが多数配置され、レチクル１
３又はウエハ１５上に照射される照明光の照度分布が均
一となる透過率分布を実現するように、ドットの配置密
度が調整されている。フィルタ２０面上のドット配置
は、フィルタ２０面上で分割された小領域毎に必要とさ
れる透過率に基づいて、ランダムでない規則をもつよう
に決定される。このように、ランダムでない規則をもつ
ようにドット配置を決定することによって、透過率を均
一に調整することが可能となる。In the projection exposure apparatus of this embodiment, the entrance surface 18 of the fly-eye lens 6 is
5, and a filter 20 is disposed near the incident surface 18 of the fly-eye lens 6. On the surface of the filter 20, a large number of dots having a size that cannot be resolved on the reticle 13 or the wafer 15 are arranged.
The dot arrangement density is adjusted so as to realize a transmittance distribution in which the illuminance distribution of the illumination light irradiated onto the wafer 3 or the wafer 15 becomes uniform. The dot arrangement on the surface of the filter 20 is determined to have a non-random rule based on the transmittance required for each of the small areas divided on the surface of the filter 20. Thus, by determining the dot arrangement so as to have a rule that is not random, it is possible to uniformly adjust the transmittance.
【００１５】前述した線フィルタ３０のモデルを用いて
ランダムでない規則をもつようにドット３１を配置した
状態を、図２及び図３に示す。図２は、透過率を１０％
低減するように線フィルタ３０を設計する場合を示し、
図３は透過率を２０％低減するように設計する場合を示
している。両図の（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、線センサ
３２の位置が異なる３種類のケースを示している。両図
より明らかなように、線センサ３２の位置に拘らず、セ
ンサ面に対応した領域に配置されるドット３１の数が常
に一定となり、均一な透過率分布を実現することが可能
である。FIGS. 2 and 3 show a state in which the dots 31 are arranged so as to have non-random rules using the above-described line filter 30 model. FIG. 2 shows that the transmittance is 10%.
A case where the line filter 30 is designed so as to reduce
FIG. 3 shows a case in which the transmittance is designed to be reduced by 20%. (A), (b), and (c) of both figures show three types of cases in which the position of the line sensor 32 is different. As is clear from both figures, regardless of the position of the line sensor 32, the number of dots 31 arranged in the area corresponding to the sensor surface is always constant, and a uniform transmittance distribution can be realized.
【００１６】具体的に、フィルタ２０面上のドット配置
を決定する第１の実施例について説明する。本実施例で
は、組織的ディザ法を用いてドットを配置する。まず本
発明に係る投影露光装置からフィルタ２０を光路外に除
去し、ウエハ１５面から光源１側とは２ｍｍだけ反対側
に離した位置に照度むらセンサ（センサ受光面の直径
０．５ｍｍ）を配置する。この照度むらセンサを用い
て、ＮＡ＝０．１５の入射光により、ウエハ１５面上で
分割された小領域毎の照度分布を測定し、照度分布マッ
プを作成する。本実施例では、レチクルパターンがウエ
ハ１５面上に投影される２０×２４ｍｍの領域を１１×
１３の小領域に分割し、この小領域を単位として照度を
測定する。More specifically, a first embodiment for determining the dot arrangement on the surface of the filter 20 will be described. In the present embodiment, dots are arranged by using the systematic dither method. First, the filter 20 is removed outside the optical path from the projection exposure apparatus according to the present invention, and an illuminance unevenness sensor (diameter of the sensor light receiving surface: 0.5 mm) is located at a position separated from the surface of the wafer 15 by 2 mm opposite to the light source 1 side. Deploy. Using this uneven illuminance sensor, the illuminance distribution is measured for each of the small areas divided on the surface of the wafer 15 by the incident light with NA = 0.15, and an illuminance distribution map is created. In this embodiment, an area of 20 × 24 mm where the reticle pattern is projected on the surface of the wafer 15 is 11 ×
The image is divided into 13 small areas, and the illuminance is measured in units of the small areas.
【００１７】さらに小領域の照度分布に対して複数回の
補間を行い、ｋｎ×ｍｎ個の画素からなる照度むらマッ
プを作成する。本実施例では、画素面積を０．２５×
０．２５ｍｍ2と設定した。つぎに、フィルタ２０面を
同様にｋｎ×ｍｎの画素に分割し、ウエハ１５面上での
照度むらマップに対応したフィルタ２０面の画素毎に付
与すべき透過率を計算する。この透過率に基づいて、ド
ットを配置することによって低減すべき透過率の値（以
下、透過率低減値という。）を画素毎に計算し、透過率
低減値マトリックスを作成する。ここで、透過率低減値
マトリックスのｋｎ×ｍｎの画素について、左からｘ番
目、上からｙ番目の画素の透過率低減値をＣ（ｘ，ｙ）
とする。Further, the illuminance distribution of the small area is interpolated a plurality of times to create an illuminance unevenness map including kn × mn pixels. In this embodiment, the pixel area is 0.25 ×
It was set to 0.25 mm 2 . Next, the filter 20 surface is similarly divided into kn × mn pixels, and the transmittance to be given to each pixel of the filter 20 surface corresponding to the illuminance unevenness map on the wafer 15 surface is calculated. Based on the transmittance, a value of the transmittance to be reduced by arranging the dots (hereinafter referred to as a transmittance reduction value) is calculated for each pixel, and a transmittance reduction value matrix is created. Here, for kn × mn pixels of the transmittance reduction value matrix, the transmittance reduction values of the x-th pixel from the left and the y-th pixel from the top are represented by C (x, y).
And
【００１８】一方、ｎ×ｎのベイヤーマトリックスを用
いて、ｋｎ×ｍｎのマトリックスを作成する。すなわ
ち、ｎ×ｎのベイヤーマトリックスをｋ×ｍ個配列して
ｋｎ×ｍｎのマトリックスを作成する。マトリックスの
各要素には、１を加算しておく。さらに、フィルタ２０
上のｎ×ｎ画素領域内に１ドットを配置するとした場合
の、その領域でのフィルタの透過率低減率を予め測定し
ておき、その透過率低減率をマトリックスのすべての要
素に掛け、これをノイズパターンとする。本実施例にお
いては、透過率低減率を１．２２６％とした。このノイ
ズパターンについて、左からｘ番目、上からｙ番目の要
素の値をＥ（ｘ，ｙ）とする。フィルタ２０面の透過率
低減値マトリックスをノイズパターンでフィルタリング
し、Ｃ（ｘ，ｙ）＞Ｅ（ｘ，ｙ）なる条件を満足する場
合に、ドットを配置する。On the other hand, a kn × mn matrix is created using an n × n Bayer matrix. That is, k × m n × n Bayer matrices are arranged to create a kn × mn matrix. One is added to each element of the matrix. Further, the filter 20
If one dot is arranged in the upper n × n pixel area, the transmittance reduction rate of the filter in that area is measured in advance, and the transmittance reduction rate is multiplied by all elements of the matrix. Is a noise pattern. In this embodiment, the transmittance reduction rate is 1.226%. For this noise pattern, the value of the x-th element from the left and the y-th element from the top is E (x, y). The transmittance reduction matrix of the filter 20 is filtered by a noise pattern, and if the condition of C (x, y)> E (x, y) is satisfied, dots are arranged.
【００１９】ここで、ベイヤーマトリックスとは、 として、ｎ×ｎのベイヤーマトリックスは、以下の式で
表される。 例えば、ｎ＝４では以下のようになる。 Here, the Bayer matrix is , The n × n Bayer matrix is represented by the following equation. For example, at n = 4:
【００２０】なお、ノイズパターンとしてベイヤーマト
リクスの繰り返しパターンを使用したが、ドットの１点
１点は解像しない大きさであっても、同一マトリクスの
繰り返しパターンを閾値として使用することに起因して
発生するテクスチャーや、明確なパターン透過率の境界
が解像可能な大きさを持つために発生する転写を防止す
るため、ディザフィルタ作成時に多少乱数を混ぜること
も有効である。Although the repeated pattern of the Bayer matrix is used as the noise pattern, even if each dot has a size that cannot be resolved, the repeated pattern of the same matrix is used as a threshold value. It is also effective to mix random numbers at the time of dither filter creation in order to prevent the generated texture and the transfer that occurs because the boundary of the clear pattern transmittance has a resolvable size.
【００２１】次に、フィルタ２０面上のドット配置を決
定する第２の実施例について説明する。本実施例では、
誤差拡散法を用いてドットを配置する。本実施例におい
ても、前述した第１の実施例と同様に、フィルタ２０面
をｋｎ×ｍｎ個の画素に分割し、ウエハ１５面上での照
度むらマップに対応したフィルタ２０面の画素に付与す
べき透過率を計算し、透過率低減値マトリックスを作成
する。ここでも、透過率低減値マトリックスのｋｎ×ｍ
ｎ個の画素について、左からｘ番目、上からｙ番目の画
素の透過率低減値をＣ（ｘ，ｙ）とする。Next, a second embodiment for determining the dot arrangement on the filter 20 will be described. In this embodiment,
The dots are arranged using the error diffusion method. Also in this embodiment, similarly to the first embodiment, the filter 20 is divided into kn × mn pixels, and the divided filters are assigned to the pixels of the filter 20 corresponding to the illuminance unevenness map on the wafer 15. The transmittance to be calculated is calculated, and a transmittance reduction value matrix is created. Again, the transmission reduction value matrix kn × m
For n pixels, the transmittance reduction values of the x-th pixel from the left and the y-th pixel from the top are C (x, y).
【００２２】つぎに、１画素に１ドットを配置した場合
のフィルタ２０の透過率低減率を計算し、この値をＤと
する。透過率低減値マトリックスを透過率低減率Ｄでフ
ィルタリングする。まず、透過率低減値マトリックスの
最上行最左列の画素での透過率低減値、すなわちＣ
（１，１）に関して、Ｃ（１，１）＞Ｄであればドット
を配置し、Ｃ（１，１）≦Ｄであればドットを配置しな
い。Next, the transmittance reduction rate of the filter 20 when one dot is arranged in one pixel is calculated, and this value is set to D. The transmittance reduction value matrix is filtered by the transmittance reduction ratio D. First, the transmittance reduction value at the pixel in the uppermost row and the leftmost column of the transmittance reduction value matrix, that is, C
Regarding (1,1), if C (1,1)> D, dots are arranged, and if C (1,1) ≦ D, no dots are arranged.
【００２３】さらに、この際に、Ｃ（１，１）とＤの誤
差Ｆを求めておく。すなわち、 Ｃ（１，１）＞Ｄの場合：Ｆ＝Ｃ（１，１）−Ｄ Ｃ（１，１）≦Ｄの場合：Ｆ＝Ｃ（１，１） とし、誤差ＦをＣ（１，１）に隣接する画素、すなわち
Ｃ（１，２）、Ｃ（２，１）、Ｃ（２，２）に一定の比
率で振り分ける。これにより、２値化によって生じる誤
差を全体として最小限に抑えることができ、より忠実な
透過率を得ることができる。誤差の振り分けを式で表す
と、次のようになる。この場合、Ｃ（１，１）に上下左
右に隣接する画素Ｃ（１，２）、Ｃ（２，１）には０．
４、斜めで隣接する画素Ｃ（２，２）には０．２の比率
で振り分けを行っている。 Ｃ（１，２）＝Ｃ（１，２）＋０．４×Ｆ Ｃ（２，１）＝Ｃ（２，１）＋０．４×Ｆ Ｃ（２，２）＝Ｃ（２，２）＋０．２×Ｆ このように、誤差が加算された画素について順次透過率
低減率Ｄとの前記比較を行って、ドットの配置の有無を
決定する。Further, at this time, an error F between C (1, 1) and D is obtained. That is, when C (1,1)> D: F = C (1,1) -D When C (1,1) ≦ D: F = C (1,1), and the error F is C (1,1). , 1), ie, C (1,2), C (2,1), C (2,2) at a fixed ratio. As a result, errors caused by binarization can be minimized as a whole, and a more faithful transmittance can be obtained. The error distribution is expressed by the following equation. In this case, pixels C (1,2) and C (2,1) adjacent to C (1,1) vertically and horizontally have 0.
4. Pixels C (2, 2) which are diagonally adjacent to each other are sorted at a ratio of 0.2. C (1,2) = C (1,2) + 0.4 × FC (2,1) = C (2,1) + 0.4 × FC (2,2) = C (2,2) +0 .2 × F As described above, the comparison with the transmittance reduction rate D is sequentially performed on the pixels to which the error has been added, and the presence or absence of the dot arrangement is determined.
【００２４】一般に、透過率マトリックスの透過率低減
値Ｃ（ｘ，ｙ）については、次の処理を繰り返すことで
ドットの配置の有無を決定する。すでに処理された周辺
画素の誤差が繰り入れられたＣ（ｘ，ｙ）を、透過率低
減率Ｄと比較して、ドットの配置の有無を決定する。す
なわち、Ｃ（ｘ，ｙ）＞Ｄであればドットを配置し、Ｃ
（ｘ，ｙ）≦Ｄであればドットを配置しない。つぎに、
Ｃ（ｘ，ｙ）とＤの誤差Ｆを求める。 Ｃ（ｘ，ｙ）＞Ｄの場合：Ｆ＝Ｃ（１，１）−Ｄ Ｃ（ｘ，ｙ）≦Ｄの場合：Ｆ＝Ｃ（１，１） さらに、次のように、一定の比率で誤差Ｆを振り分け
る。 Ｃ（ｘ，ｙ＋１）＝Ｃ（ｘ，ｙ＋１）＋０．４×Ｆ Ｃ（ｘ＋１，ｙ）＝Ｃ（ｘ＋１，ｙ）＋０．４×Ｆ Ｃ（ｘ＋１，ｙ＋１）＝Ｃ（ｘ＋１，ｙ＋１）＋０．２
×Ｆ なお、最下行最左右列の画素での透過率Ｃ（ｋｎ，ｍ
ｎ）では、誤差の振り分けは行わない。In general, for the transmittance reduction value C (x, y) of the transmittance matrix, the following processing is repeated to determine the presence / absence of dot arrangement. C (x, y) in which the error of the peripheral pixels already processed has been added is compared with the transmittance reduction rate D to determine the presence or absence of the dot arrangement. That is, if C (x, y)> D, dots are arranged, and
If (x, y) ≦ D, no dot is arranged. Next,
An error F between C (x, y) and D is obtained. When C (x, y)> D: F = C (1,1) -D When C (x, y) ≦ D: F = C (1,1) Further, a fixed ratio is as follows. Divide the error F. C (x, y + 1) = C (x, y + 1) + 0.4 × FC (x + 1, y) = C (x + 1, y) + 0.4 × FC (x + 1, y + 1) = C (x + 1, y + 1) +0 .2
× F The transmittance C (kn, m) of the pixels in the bottom row and the left and right columns
In (n), no error is sorted.
【００２５】本実施例のフィルタでは、透過率低減率Ｄ
との誤差を周辺画素へ振り分ける比率を、上下左右に隣
接する画素には０．４、斜めで隣接する画素には０．２
としたが、各画素毎にランダムに設定することで、一般
にワームと呼ばれるノイズの発生を防止することができ
る。In the filter of this embodiment, the transmittance reduction rate D
The ratio of distributing the error to the surrounding pixels is 0.4 for pixels vertically and horizontally adjacent and 0.2 for pixels obliquely adjacent.
However, by randomly setting each pixel, it is possible to prevent the occurrence of noise generally called a worm.
【００２６】本実施例に係るフィルタ２０を配置した投
影露光装置について、ウエハ１５面上での照度分布を表
１、従来のフィルタを用いた場合の照度分布を表２、フ
ィルタを用いなかった場合の照度分布を表３に示す。さ
らに、比較を容易にするために、それぞれウエハ１５面
上での投影領域の中央部横１列の照度分布の測定値を図
４に図示した。本実施例に係るフィルタ２０を配置した
投影露光装置の場合の照度分布を図４（ａ）、従来のフ
ィルタを用いた場合の照度分布を図４（ｂ）、フィルタ
を用いなかった場合の照度分布を図４（ｃ）に示す。表
１及び図４（ａ）に示したように、本発明によってウエ
ハ面上での照度分布の均一性を格段に向上させることが
可能となった。Table 1 shows the illuminance distribution on the surface of the wafer 15 in the projection exposure apparatus in which the filter 20 according to the present embodiment is arranged, Table 2 shows the illuminance distribution when a conventional filter is used, and the case where no filter is used. Is shown in Table 3. Further, for ease of comparison, FIG. 4 shows the measured values of the illuminance distribution in one horizontal line at the center of the projection area on the wafer 15 surface. FIG. 4A shows the illuminance distribution in the case of the projection exposure apparatus in which the filter 20 according to the present embodiment is arranged, FIG. 4B shows the illuminance distribution in the case of using the conventional filter, and the illuminance in the case where no filter is used. The distribution is shown in FIG. As shown in Table 1 and FIG. 4A, the present invention has made it possible to significantly improve the uniformity of the illuminance distribution on the wafer surface.
【００２７】[0027]
【表１】 639 637 635 634 634 634 636 639 644 640 638 637 637 637 637 636 638 639 640 643 639 638 638 637 637 637 638 638 639 640 639 637 638 638 638 637 637 638 638 639 639 637 637 639 639 638 638 638 638 639 639 639 636 638 639 639 639 639 639 638 639 639 639 637 638 640 639 639 639 639 639 639 640 639 636 638 640 639 639 639 640 639 640 640 640 637 638 639 640 639 639 638 639 640 640 640 637 638 638 638 639 639 638 639 639 639 639 637 636 637 638 638 637 638 638 639 639 640 639 639 637 636 636 637 637 637 638 638 641 642 638 636 634 634 635 635 636 638 642[Table 1] 639 637 635 634 634 634 636 639 644 640 638 637 637 637 637 636 636 638 639 640 643 639 638 638 637 637 637 637 638 638 639 640 639 637 638 638 638 637 637 638 638 639 639 637 637 639 639 638 638 638 638 639 639 639 636 638 639 639 639 639 639 638 639 639 639 637 638 640 639 639 639 639 639 639 640 639 636 638 640 639 639 639 640 639 640 640 640 637 638 639 640 639 639 640 640 637 638 638 638 639 639 638 639 639 639 639 637 636 637 638 638 637 638 638 639 639 640 639 639 637 636 636 637 637 637 637 638 638 641 642 638 636 634 634 635 635 635 636 638 642
【００２８】[0028]
【表２】 671 685 687 688 691 689 688 685 674 682 690 692 691 689 693 694 690 690 694 682 692 691 694 693 692 696 694 690 690 690 692 692 693 694 692 691 689 690 688 690 691 692 695 695 691 695 685 685 689 689 694 686 689 692 696 694 690 689 692 691 690 694 687 690 691 691 692 686 692 689 690 692 688 688 694 690 690 689 689 690 690 683 688 688 691 688 687 689 686 687 692 692 691 685 686 686 687 684 682 681 686 689 694 690 684 683 685 683 682 681 679 683 687 691 685 678 680 678 683 673 678 678 684 685 687 680 678 679 680 676 674 676 678 681 682 675 673 678 678[Table 2] 671 685 687 688 691 689 688 685 674 682 690 692 691 689 693 694 690 690 694 682 692 691 694 693 692 696 694 690 690 690 690 692 692 693 694 692 691 689 690 688 690 691 692 695 695 691 695 685 685 689 689 694 686 689 692 696 694 690 689 692 691 690 694 687 690 691 691 692 686 692 689 690 692 688 688 694 690 690 690 689 689 690 690 683 688 688 688 691 688 687 689 686 687 692 692 691 685 686 687 684 682 681 686 689 694 690 684 683 685 683 682 681 679 683 687 691 685 678 680 678 683 673 678 678 684 685 687 680 678 679 679 680 676 674 676 678 681 682 675 673 678 678
【００２９】[0029]
【表３】 688 701 708 713 714 714 711 705 696 709 718 724 730 733 734 733 730 726 720 714 718 728 736 742 744 745 744 741 736 729 720 725 736 744 749 752 752 752 749 744 736 726 731 743 750 755 758 758 758 755 750 743 732 735 747 754 759 762 763 761 758 753 746 735 736 749 756 760 763 764 763 760 754 747 737 736 747 755 760 763 763 762 759 754 747 736 732 744 751 757 759 760 759 756 751 744 733 726 738 744 750 753 754 753 750 745 738 729 718 730 737 742 745 746 745 742 737 731 723 708 720 726 732 735 736 735 733 728 722 718 710 714 718 722 723 722 720 717 713[Table 3] 688 701 708 713 714 714 711 705 696 709 709 718 724 730 733 734 733 730 726 720 714 718 728 736 742 744 745 744 744 741 736 729 720 725 736 744 749 752 752 752 749 744 736 726 732 743 750 758 758 758 755 750 743 732 735 747 754 759 759 762 763 761 758 753 746 735 736 749 756 760 763 764 763 760 754 747 737 736 747 747 755 755 760 763 763 762 759 754 747 736 732 744 751 757 759 759 760 759 756 751 733 726 738 744 750 753 754 753 750 745 738 729 718 730 737 742 745 746 745 742 737 731 723 708 720 726 732 735 736 735 733 733 728 722 718 710 710 714 718 722 723 722 720 717 713
【００３０】さらに、比較のため、表４乃至表９に従来
のフィルタによって透過率を低減させた場合の透過率む
ら分布を表す。表４は、透過率低減率を１．２２６％と
した場合、表５は、透過率低減率を１．８３９％とした
場合、表６は、透過率低減率を６．１３％とした場合、
表７は、透過率低減率を１２．２６％とした場合、表８
は、透過率低減率を２４．５２％とした場合、表９は、
透過率低減率を３６．７８％とした場合をそれぞれ表
し、数値はフィルタ中央の点の透過率を１００％とし
た。これに対し、本発明に係るフィルタによって透過率
を低減させた場合の透過率むら分布を表１０に表す。透
過率低減率を１．２２６％、１．８３９％、６．１３
％、１２．２６％、３６．７８％とした場合のすべてに
ついて、表１０に表した結果が得られ、透過率のむらは
生じない。Further, for comparison, Tables 4 to 9 show transmittance distribution distributions when transmittance is reduced by a conventional filter. Table 4 shows the case where the transmittance reduction rate is 1.226%, Table 5 shows the case where the transmittance reduction rate is 1.839%, and Table 6 shows the case where the transmittance reduction rate is 6.13%. ,
Table 7 shows that when the transmittance reduction rate is 12.26%, Table 8
Table 9 shows that the transmittance reduction rate is 24.52%.
The case where the transmittance reduction rate is 36.78% is shown, and the numerical value is that the transmittance at the center of the filter is 100%. On the other hand, Table 10 shows the transmittance unevenness distribution when the transmittance is reduced by the filter according to the present invention. 1.226%, 1.839%, 6.13% transmittance reduction rate
%, 12.26%, and 36.78%, the results shown in Table 10 are obtained, and the transmittance does not become uneven.
【００３１】[0031]
【表４】 0.09 0.11 0.06 0.03 0.03 -0.04 0.06 0.03 0.07 0.07 0.06 0.10 0.07 0.00 0.05 0.04 0.05 0.06 0.07 0.03 0.01 0.11 0.07 0.02 0.11 0.01 0.04 0.05 0.05 0.02 0.03 0.05 0.05 0.02 0.03 0.02 -0.03 0.12 0.09 0.08 0.07 0.00 0.03 0.11 0.04 -0.01 0.11 0.12 0.05 0.03 0.08 0.09 0.01 0.09 -0.01 -0.03 0.11 0.10 0.02 0.11 0.04 0.09 0.03 0.12 0.02 0.05 0.03 -0.03 0.06 0.09 0.07 0.00 0.06 0.00 0.09 0.04 0.11 0.06 0.04 0.13 0.04 0.09 0.05 0.08 0.11 0.06 0.07 0.08 0.01 0.02 0.00 -0.01 0.02 0.06 0.08 0.05 -0.02 0.06 0.09 0.08 0.11 0.07 0.07 0.16 0.07 0.00 0.13 0.01 0.00 0.08 0.03 0.08 0.00 0.09 0.06 -0.02 0.03 0.02 0.11 -0.01 0.05 0.05 0.11 0.07 0.04 0.04 0.10 0.02 0.05 0.01 0.09 0.03 -0.01 0.07 0.11 0.07 0.02 -0.01 0.07 0.03 0.08 0.04 0.04[Table 4] 0.09 0.11 0.06 0.03 0.03 -0.04 0.06 0.03 0.07 0.07 0.06 0.10 0.07 0.00 0.05 0.04 0.05 0.06 0.07 0.03 0.01 0.11 0.07 0.02 0.11 0.01 0.04 0.05 0.05 0.02 0.03 0.05 0.05 0.02 0.03 0.02 -0.03 0.12 0.09 0.08 0.07 0.00 0.03 0.11 0.04 -0.01 0.11 0.12 0.05 0.03 0.08 0.09 0.01 0.09 -0.01 -0.03 0.11 0.10 0.02 0.11 0.04 0.09 0.03 0.12 0.02 0.05 0.03 -0.03 0.06 0.09 0.07 0.00 0.06 0.00 0.09 0.04 0.11 0.06 0.04 0.13 0.04 0.09 0.05 0.08 0.11 0.06 0.07 0.08 0.01 0.02 0.00 -0.01 0.02 0.06 0.08 0.05 -0.02 0.06 0.09 0.08 0.11 0.07 0.07 0.16 0.07 0.00 0.13 0.01 0.00 0.08 0.03 0.08 0.00 0.09 0.06 -0.02 0.03 0.02 0.11 -0.01 0.05 0.05 0.11 0.07 0.04 0.04 0.10 0.02 0.05 0.01 0.09 0.03 -0.01 0.07 0.11 0.07 0.02 -0.01 0.07 0.03 0.08 0.04 0.04
【００３２】[0032]
【表５】 0.16 0.03 0.06 0.07 0.11 0.09 0.07 0.11 0.22 0.12 0.13 0.13 0.07 0.11 0.21 0.07 0.15 0.11 0.07 0.06 0.13 0.00 -0.18 0.24 0.11 0.14 0.10 0.08 0.12 0.18 0.04 0.03 0.08 0.03 0.05 0.04 0.07 -0.01 -0.05 -0.02 0.02 0.02 0.27 0.06 0.00 -0.01 0.19 0.00 0.01 0.06 0.10 0.07 0.08 0.09 0.10 0.16 0.02 0.09 0.07 0.14 0.00 -0.05 0.17 0.06 0.15 -0.07 -0.03 0.14 0.06 0.08 0.05 0.00 0.00 0.10 0.03 -0.02 0.15 0.13 0.07 -0.05 0.07 0.20 0.14 0.08 0.16 0.08 0.11 0.10 0.02 0.11 0.07 0.08 0.02 -0.04 0.17 0.04 -0.10 0.16 0.14 0.09 0.15 0.21 0.09 0.03 0.07 0.21 0.01 0.07 0.05 0.11 0.05 0.13 0.12 0.13 0.12 0.17 -0.01 0.00 0.04 -0.02 0.09 0.03 0.07 0.08 0.00 -0.07 0.11 0.13 0.00 0.11 0.11 -0.03 0.12 0.11 0.07 0.09 -0.03 0.22 0.15 0.01 0.10 0.13 0.02[Table 5] 0.16 0.03 0.06 0.07 0.11 0.09 0.07 0.11 0.22 0.12 0.13 0.13 0.07 0.11 0.21 0.07 0.15 0.11 0.07 0.06 0.13 0.00 -0.18 0.24 0.11 0.14 0.10 0.08 0.12 0.18 0.04 0.03 0.08 0.03 0.05 0.04 0.07 -0.01 -0.05 -0.02 0.02 0.02 0.27 0.06 0.00 -0.01 0.19 0.00 0.01 0.06 0.10 0.07 0.08 0.09 0.10 0.16 0.02 0.09 0.07 0.14 0.00 -0.05 0.17 0.06 0.15 -0.07 -0.03 0.14 0.06 0.08 0.05 0.00 0.00 0.10 0.03 -0.02 0.15 0.13 0.07 -0.05 0.07 0.20 0.14 0.08 0.16 0.08 0.11 0.10 0.02 0.11 0.07 0.08 0.02 -0.04 0.17 0.04 -0.10 0.16 0.14 0.09 0.15 0.21 0.09 0.03 0.07 0.21 0.01 0.07 0.05 0.11 0.05 0.13 0.12 0.13 0.12 0.17 -0.01 0.00 0.04 -0.02 0.09 0.03 0.07 0.08 0.00 -0.07 0.11 0.13 0.00 0.11 0.11 -0.03 0.12 0.11 0.07 0.09 -0.03 0.22 0.15 0.01 0.10 0.13 0.02
【００３３】[0033]
【表６】 0.08 -0.09 -0.09 -0.26 -0.10 -0.01 -0.12 -0.06 0.04 -0.12 0.06 0.00 -0.04 0.05 -0.05 -0.20 0.00 0.05 0.12 -0.11 0.06 -0.05 -0.01 0.12 -0.06 0.01 0.01 -0.20 0.12 -0.21 -0.03 0.06 0.12 -0.03 -0.18 0.06 -0.03 -0.03 0.15 -0.07 -0.04 0.06 -0.18 0.02 0.01 -0.09 -0.06 0.05 -0.16 -0.16 -0.07 -0.21 -0.12 -0.03 -0.13 -0.03 0.08 -0.07 0.01 -0.08 0.07 -0.09 -0.06 -0.14 0.05 -0.17 -0.11 0.09 0.03 -0.05 0.02 0.00 -0.10 -0.18 -0.14 -0.02 0.04 0.00 -0.15 -0.05 0.07 -0.27 -0.16 -0.08 -0.11 -0.17 0.01 -0.11 -0.07 -0.04 0.00 -0.16 -0.04 -0.05 0.14 0.03 0.03 0.02 -0.14 -0.15 -0.02 -0.05 -0.02 0.04 0.04 -0.29 -0.11 -0.03 0.10 -0.12 0.15 0.02 -0.18 -0.07 -0.03 0.09 0.27 0.28 -0.25 0.13 -0.09 -0.03 -0.06 0.02 -0.05 -0.21 0.09 -0.23 -0.12 0.15 -0.19 0.02 -0.09 0.14 0.03 0.02 -0.01 -0.11 -0.06 -0.10 0.02 0.02 0.06[Table 6] 0.08 -0.09 -0.09 -0.26 -0.10 -0.01 -0.12 -0.06 0.04 -0.12 0.06 0.00 -0.04 0.05 -0.05 -0.20 0.00 0.05 0.12 -0.11 0.06 -0.05 -0.01 0.12 -0.06 0.01 0.01 -0.20 0.12- 0.21 -0.03 0.06 0.12 -0.03 -0.18 0.06 -0.03 -0.03 0.15 -0.07 -0.04 0.06 -0.18 0.02 0.01 -0.09 -0.06 0.05 -0.16 -0.16 -0.07 -0.21 -0.12 -0.03 -0.13 -0.03 0.08 -0.07 0.01- 0.08 0.07 -0.09 -0.06 -0.14 0.05 -0.17 -0.11 0.09 0.03 -0.05 0.02 0.00 -0.10 -0.18 -0.14 -0.02 0.04 0.00 -0.15 -0.05 0.07 -0.27 -0.16 -0.08 -0.11 -0.17 0.01 -0.11 -0.07- 0.04 0.00 -0.16 -0.04 -0.05 0.14 0.03 0.03 0.02 -0.14 -0.15 -0.02 -0.05 -0.02 0.04 0.04 -0.29 -0.11 -0.03 0.10 -0.12 0.15 0.02 -0.18 -0.07 -0.03 0.09 0.27 0.28 -0.25 0.13 -0.09- 0.03 -0.06 0.02 -0.05 -0.21 0.09 -0.23 -0.12 0.15 -0.19 0.02 -0.09 0.14 0.03 0.02 -0.01 -0.11 -0.06 -0.10 0.02 0.02 0.06
【００３４】[0034]
【表７】 0.24 0.26 0.32 0.13 0.26 0.61 0.26 0.15 0.31 0.30 0.29 0.37 0.22 0.59 0.35 0.32 0.51 0.42 0.28 0.61 0.44 0.24 0.29 0.46 0.48 0.33 0.48 0.45 0.31 0.36 0.44 0.17 0.45 0.32 0.24 0.20 0.51 0.37 0.32 0.36 0.32 0.26 0.53 0.47 0.35 0.22 0.29 0.27 0.50 0.46 0.12 0.45 0.20 0.19 0.02 0.05 0.45 0.32 0.28 0.17 0.27 0.27 0.69 0.34 0.61 0.37 0.34 0.10 0.16 0.30 0.29 0.00 0.34 0.48 0.25 0.35 0.17 0.57 0.31 0.23 0.29 0.37 0.34 0.38 0.21 0.49 0.23 0.07 0.20 0.24 0.40 0.25 0.34 0.19 0.32 0.40 0.16 0.34 0.23 0.39 0.09 0.23 0.27 0.29 0.17 0.26 0.44 0.24 0.18 0.39 0.36 0.27 0.40 0.22 0.36 0.34 0.59 0.28 0.37 0.27 0.27 0.45 0.29 0.26 0.43 0.46 0.39 0.27 0.14 0.31 0.30 0.17 0.31 0.33 0.47 0.48 0.19 0.20 0.32 0.53 0.26 0.52 0.23[Table 7] 0.24 0.26 0.32 0.13 0.26 0.61 0.26 0.15 0.31 0.30 0.29 0.37 0.22 0.59 0.35 0.32 0.51 0.42 0.28 0.61 0.44 0.24 0.29 0.46 0.48 0.33 0.48 0.45 0.31 0.36 0.44 0.17 0.45 0.32 0.24 0.20 0.51 0.37 0.32 0.36 0.32 0.26 0.53 0.47 0.35 0.22 0.29 0.27 0.50 0.46 0.12 0.45 0.20 0.19 0.02 0.05 0.45 0.32 0.28 0.17 0.27 0.27 0.69 0.34 0.61 0.37 0.34 0.10 0.16 0.30 0.29 0.00 0.34 0.48 0.25 0.35 0.17 0.57 0.31 0.23 0.29 0.37 0.34 0.38 0.21 0.49 0.23 0.07 0.20 0.24 0.40 0.25 0.34 0.19 0.32 0.40 0.16 0.34 0.23 0.39 0.09 0.23 0.27 0.29 0.17 0.26 0.44 0.24 0.18 0.39 0.36 0.27 0.40 0.22 0.36 0.34 0.59 0.28 0.37 0.27 0.27 0.45 0.29 0.26 0.43 0.46 0.39 0.27 0.14 0.31 0.30 0.17 0.31 0.33 0.47 0.48 0.19 0.20 0.32 0.53 0.26 0.52 0.23
【００３５】[0035]
【表８】 0.35 -0.22 0.28 -0.16 0.36 -0.12 -0.31 0.11 0.10 0.20 -0.13 -0.03 -0.16 0.39 0.20 0.25 0.00 0.17 0.23 0.02 0.08 0.04 -0.06 0.15 0.28 -0.17 0.14 0.03 0.01 0.00 0.18 0.14 0.07 0.08 0.01 0.27 -0.11 0.05 0.14 -0.08 -0.04 -0.12 -0.02 0.61 0.35 0.18 0.10 -0.04 0.40 0.14 -0.14 0.15 0.08 0.17 0.15 0.31 0.20 -0.02 0.44 0.03 -0.16 0.03 0.29 0.18 0.20 -0.10 0.14 0.11 0.20 -0.23 -0.29 0.00 0.10 -0.13 0.00 -0.05 0.18 -0.09 0.00 0.13 0.43 0.02 -0.23 0.10 0.63 0.04 -0.02 0.23 0.29 0.29 -0.01 -0.05 0.09 0.27 0.11 0.13 0.09 0.12 0.10 0.00 0.08 0.03 0.09 0.11 0.04 0.49 -0.10 -0.59 0.28 0.17 0.19 0.02 0.17 0.31 0.13 0.12 0.15 0.03 0.13 0.07 0.06 0.41 0.06 0.08 -0.13 0.05 -0.14 0.10 0.52 0.05 0.31 0.54 0.08 0.14 0.14 -0.21 -0.02 -0.16 0.09 0.35 -0.07 0.16 -0.01[Table 8] 0.35 -0.22 0.28 -0.16 0.36 -0.12 -0.31 0.11 0.10 0.20 -0.13 -0.03 -0.16 0.39 0.20 0.25 0.00 0.17 0.23 0.02 0.08 0.04 -0.06 0.15 0.28 -0.17 0.14 0.03 0.01 0.00 0.18 0.14 0.07 0.08 0.01 0.27- 0.11 0.05 0.14 -0.08 -0.04 -0.12 -0.02 0.61 0.35 0.18 0.10 -0.04 0.40 0.14 -0.14 0.15 0.08 0.17 0.15 0.31 0.20 -0.02 0.44 0.03 -0.16 0.03 0.29 0.18 0.20 -0.10 0.14 0.11 0.20 -0.23 -0.29 0.00 0.10 -0.13 0.00 -0.05 0.18 -0.09 0.00 0.13 0.43 0.02 -0.23 0.10 0.63 0.04 -0.02 0.23 0.29 0.29 -0.01 -0.05 0.09 0.27 0.11 0.13 0.09 0.12 0.10 0.00 0.08 0.03 0.09 0.11 0.04 0.49 -0.10 -0.59 0.28 0.17 0.19 0.02 0.17 0.31 0.13 0.12 0.15 0.03 0.13 0.07 0.06 0.41 0.06 0.08 -0.13 0.05 -0.14 0.10 0.52 0.05 0.31 0.54 0.08 0.14 0.14 -0.21 -0.02 -0.16 0.09 0.35 -0.07 0.16 -0.01
【００３６】[0036]
【表９】 -0.21 -0.18 -0.40 -0.21 -0.69 -0.23 -0.65 -0.67 -0.21 -0.29 -0.06 -0.67 -0.05 -0.73 -0.28 -0.35 -0.06 -0.36 -0.03 -0.69 -0.27 -0.55 -0.32 -0.61 -0.57 -0.06 -0.94 -0.18 0.01 -0.50 -0.48 -0.49 0.09 -0.39 -0.30 -0.37 -0.50 0.20 -0.29 -0.44 -0.57 -0.35 -0.34 -0.43 -0.44 -0.10 -0.24 -0.08 -0.36 -0.13 -0.19 -0.23 -0.46 0.03 -0.51 -0.51 -0.58 -0.35 -0.27 -0.37 -0.80 -0.19 -0.38 -0.86 -0.32 -0.41 -0.08 -0.45 -0.18 -0.54 -0.13 0.00 -0.31 -0.55 -0.49 -0.61 -0.48 -0.06 -0.11 -0.65 -0.08 -0.54 -0.51 -0.46 -0.55 -0.38 -0.52 -0.14 -0.34 -0.39 -0.59 -0.54 -0.46 -0.15 -0.02 -0.37 -0.70 -0.27 -0.28 -0.26 -0.19 -0.28 -0.25 -0.35 0.16 -0.34 -0.21 -0.41 -0.23 -0.33 -0.61 -0.68 -0.36 -0.15 -0.32 -0.59 -0.49 0.05 -0.13 -0.56 -0.27 -0.51 0.09 -0.40 -0.45 -0.37 -0.38 -0.58 -0.36 -0.67 -0.41 -0.07 -0.13 -0.15 -0.03 -0.10 -0.42 -0.17 -0.35 -0.63 -0.22 -0.36 -0.17[Table 9] -0.21 -0.18 -0.40 -0.21 -0.69 -0.23 -0.65 -0.67 -0.21 -0.29 -0.06 -0.67 -0.05 -0.73 -0.28 -0.35 -0.06 -0.36 -0.03 -0.69 -0.27 -0.55 -0.32 -0.61 -0.57 -0.06 -0.94 -0.18 0.01 -0.50 -0.48 -0.49 0.09 -0.39 -0.30 -0.37 -0.50 0.20 -0.29 -0.44 -0.57 -0.35 -0.34 -0.43 -0.44 -0.10 -0.24 -0.08 -0.36- 0.13 -0.19 -0.23 -0.46 0.03 -0.51 -0.51 -0.58 -0.35 -0.27 -0.37 -0.80 -0.19 -0.38 -0.86 -0.32 -0.41 -0.08 -0.45 -0.18 -0.54 -0.13 0.00 -0.31 -0.55 -0.49- 0.61 -0.48 -0.06 -0.11 -0.65 -0.08 -0.54 -0.51 -0.46 -0.55 -0.38 -0.52 -0.14 -0.34 -0.39 -0.59 -0.54 -0.46 -0.15 -0.02 -0.37 -0.70 -0.27 -0.28 -0.26- 0.19 -0.28 -0.25 -0.35 0.16 -0.34 -0.21 -0.41 -0.23 -0.33 -0.61 -0.68 -0.36 -0.15 -0.32 -0.59 -0.49 0.05 -0.13 -0.56 -0.27 -0.51 0.09 -0.40 -0.45 -0.37 -0.38 -0.58 -0.36 -0.67 -0.41 -0.07 -0.13 -0.15 -0.03 -0.10 -0.42 -0.17 -0.35 -0.63 -0.22 -0.36 -0.17
【００３７】[0037]
【表１０】 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00[Table 10] 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00 0.00
【００３８】なお、本発明の実施例では、組織的ディザ
法と誤差拡散法を用いてドットを形成したフィルタを使
用したが、例えば乱数を用いてドットをランダムでない
規則をもつように配列することも可能である。この場合
にも、単位面積内で２つ目のドットは極力１つ目のドッ
トから離れた位置に配置する等、ドットの配置に規則性
を付与することにより、ウエハ面上での照度分布の均一
性を改善することが可能である。In the embodiment of the present invention, a filter in which dots are formed by using the systematic dither method and the error diffusion method is used. For example, dots are arranged so as to have a non-random rule using random numbers. Is also possible. In this case as well, the second dot is placed at a position as far as possible from the first dot within the unit area, for example, by giving regularity to the dot arrangement, the illuminance distribution on the wafer surface can be improved. It is possible to improve the uniformity.
【００３９】なお本発明の実施例に係る照明装置及び投
影露光装置においては、フィルタ２０をフライアイレン
ズ６の入射面１８近傍に配したが、感光性基板１５と共
役な位置であればどこでも配置可能であり、図１におい
て視野絞り９近傍、レチクル１３近傍、ウエハ１５近傍
が選択可能である。In the illumination apparatus and the projection exposure apparatus according to the embodiment of the present invention, the filter 20 is arranged near the incident surface 18 of the fly-eye lens 6, but may be arranged anywhere as long as it is conjugate with the photosensitive substrate 15. 1, the vicinity of the field stop 9, the vicinity of the reticle 13, and the vicinity of the wafer 15 can be selected.
【００４０】[0040]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、フィルタ
表面にランダムでない規則をもつように遮光ドット又は
減光ドットを配列し、このフィルタをレチクル又はウエ
ハの近傍、又はこれらと共役な位置、若しくはその近傍
に配置することで、不規則な照度むらの発生を防止し、
均一な照度分布を実現した、照明装置及び投影露光装置
を実現することが可能となった。As described above, according to the present invention, light-shielding dots or darkening dots are arranged on the filter surface so as to have a non-random rule, and this filter is positioned near the reticle or wafer or at a position conjugate with them. , Or by placing it near it to prevent irregular illuminance unevenness,
It has become possible to realize an illumination device and a projection exposure device that realize a uniform illuminance distribution.
【図１】本発明の一実施例に係る投影露光装置を示す概
略断面図FIG. 1 is a schematic sectional view showing a projection exposure apparatus according to one embodiment of the present invention.
【図２】本発明に係るフィルタにおいて透過率を１０％
低減するドット配列の一例を示す模式図FIG. 2 shows a transmittance of 10% in the filter according to the present invention.
Schematic diagram showing an example of the dot arrangement to be reduced
【図３】本発明に係るフィルタにおいて透過率を２０％
低減するドット配列の一例を示す模式図FIG. 3 shows a transmittance of 20% in the filter according to the present invention.
Schematic diagram showing an example of the dot arrangement to be reduced
【図４】（ａ）本実施例にフィルタを用いた場合、
（ｂ）従来のフィルタを用いた場合、（ｃ）フィルタを
用いなかった場合のウエハ面上での照度分布を示す図FIG. 4A shows a case where a filter is used in the present embodiment.
(B) A diagram showing the illuminance distribution on the wafer surface when a conventional filter is used and (c) when no filter is used.
【図５】フィルタ面の１つの直線上にドットを並べた線
フィルタを説明する図FIG. 5 is a diagram illustrating a line filter in which dots are arranged on one straight line on a filter surface.
【図６】従来例に係るフィルタにおいて透過率を１０％
低減するドット配列の一例を示す模式図FIG. 6 shows a conventional filter having a transmittance of 10%.
Schematic diagram showing an example of the dot arrangement to be reduced
【図７】従来例に係るフィルタにおいて透過率を２０％
低減するドット配列の一例を示す模式図FIG. 7 shows a conventional filter having a transmittance of 20%.
Schematic diagram showing an example of the dot arrangement to be reduced
１…光源 ２…集光鏡 ３…ミラー ４…コリメーターレ
ンズ ５…バンドパスフィルタ ６…フライアイレン
ズ ７…開口絞り ８、１０、１２…コ
ンデンサーレンズ ９…視野絞り １１…折り返しミラ
ー １３…レチクル １４…投影レンズ １５…ウエハ １６…第１焦点 １７…第２焦点 １８…入射面 １９…射出面 ２０…フィルタ ３０…線フィルタ ３１…ドット ３２…線センサDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Light source 2 ... Condensing mirror 3 ... Mirror 4 ... Collimator lens 5 ... Bandpass filter 6 ... Fly-eye lens 7 ... Aperture stop 8, 10, 12 ... Condenser lens 9 ... Field stop 11 ... Folding mirror 13 ... Reticle 14 ... Projection lens 15 ... Wafer 16 ... First focal point 17 ... Second focal point 18 ... Incident surface 19 ... Exit surface 20 ... Filter 30 ... Line filter 31 ... Dot 32 ... Line sensor
Claims (7)
らの光束を被照射物体に照射する照明光学系とを有する
照明装置において、 前記照明光学系の光路中の前記被照射物体と共役な位置
若しくはその近傍、又は前記被照射物体の入射側近傍に
フィルタが配置され、 該フィルタは、前記被照射物体上で解像しない程度の微
小な遮光ドット又は減光ドットを透明基板上に配置して
なり、 前記ドットは、前記フィルタ全面に亘りランダムでない
規則をもつようにして配列されたことを特徴とする照明
装置。1. An illumination apparatus comprising: a light source unit for supplying a light beam; and an illumination optical system for irradiating the object with the light beam from the light source unit, wherein the illumination system is conjugated to the object to be irradiated in an optical path of the illumination optical system. A filter or a light-shielding dot or a dimming dot on the transparent substrate that is small enough not to be resolved on the object to be illuminated. The lighting device, wherein the dots are arranged so as to have non-random rules over the entire surface of the filter.
照射物体上に均一な照度分布を与えるための前記フィル
タ上での透過率の低減率分布を求め、フィルタ上の微小
領域毎の前記透過率低減率をノイズパターンでフィルタ
リングすることによって前記透過率低減率を二値化し、
該二値化された透過率低減率に基づいてフィルタの前記
微小領域へのドットの形成の有無を決定するものであ
る、請求項１記載の照明装置。2. The rule for arranging the dots includes determining a distribution of a reduction rate of transmittance on the filter for providing a uniform illuminance distribution on the object to be illuminated; Binarizing the transmittance reduction rate by filtering the transmittance reduction rate with a noise pattern,
The lighting device according to claim 1, wherein whether or not dots are formed in the minute area of the filter is determined based on the binarized transmittance reduction rate.
クスの繰り返しパターンである、請求項２記載の照明装
置。3. The lighting device according to claim 2, wherein said noise pattern is a repeating pattern of a Bayer matrix.
照射物体上に均一な照度分布を与えるための前記フィル
タ上での透過率の低減率分布とフィルタ上に１ドットを
配置した際の該１ドットによる透過率の低減率とを求
め、フィルタ上での一の微小領域の透過率低減率を前記
１ドット透過率低減率でフィルタリングすることによっ
て前記透過率低減率を二値化し、前記一の微小領域の透
過率低減率と１ドット透過率低減率との誤差を該一の微
小領域の周辺の微小領域の透過率低減率に振り分けて加
算し、該周辺微小領域をフィルタリングして二値化する
工程を順次行い、該二値化された透過率低減率に基づい
てフィルタの前記微小領域へのドットの形成の有無を決
定するものである、請求項１記載の照明装置。4. The rule for arranging the dots includes: a distribution of a reduction ratio of transmittance on the filter for providing a uniform illuminance distribution on the object to be irradiated; and a rule for arranging one dot on the filter. The transmittance reduction rate by the one dot is obtained, and the transmittance reduction rate of one minute area on the filter is filtered by the one dot transmittance reduction rate, thereby binarizing the transmittance reduction rate. An error between the transmittance reduction rate of one minute area and the transmittance reduction rate of one dot is allocated to the transmittance reduction rate of the minute area around the one minute area and added. The lighting device according to claim 1, wherein the step of performing a value conversion is sequentially performed, and whether or not dots are formed in the minute area of the filter is determined based on the binarized transmittance reduction rate.
ト透過率低減率との誤差を前記周辺微小領域の透過率低
減率に振り分ける比率は、前記微小領域毎にランダムに
設定されている、請求項４記載の照明装置。5. A ratio for distributing an error between the transmittance reduction rate of the one minute area and the transmittance reduction rate of one dot to the transmittance reduction rate of the peripheral minute area is set randomly for each of the minute areas. The lighting device according to claim 4, wherein
し、該フライアイレンズの入射面又はその近傍は前記被
照射物体と共役となるように配置され、フライアイレン
ズの前記入射面又はその近傍に前記フィルタが配置され
た、請求項１〜５のいずれか１項記載の照明装置。6. The illumination optical system has a fly-eye lens, and an incident surface of the fly-eye lens or its vicinity is disposed so as to be conjugate with the object to be illuminated. The lighting device according to claim 1, wherein the filter is arranged near the lighting device.
らの光束を被照射物体に照明する照明光学系と、該被照
射物体上に形成されたパターンを感光性基板上に転写す
る投影光学系を有する投影露光装置において、 前記投影露光装置の光路中の前記感光性基板と共役な位
置若しくはその近傍、又は前記感光性基板の入射側近傍
にフィルタが配置され、 該フィルタは、前記感光性基板上で解像しない程度の微
小な遮光ドット又は減光ドットを透明基板上に配置して
なり、 前記ドットは、前記フィルタ全面に亘りランダムでない
規則をもつようにして配列されたことを特徴とする投影
露光装置。7. A light source for supplying a light beam, an illumination optical system for illuminating a light beam from the light source device on an object to be irradiated, and a projection for transferring a pattern formed on the object to be irradiated onto a photosensitive substrate. In a projection exposure apparatus having an optical system, a filter is disposed at or near a position conjugate with the photosensitive substrate in an optical path of the projection exposure apparatus or near an incident side of the photosensitive substrate. Microscopic light-shielding dots or darkening dots that are not resolved on a transparent substrate are arranged on a transparent substrate, and the dots are arranged so as to have a non-random rule over the entire surface of the filter. Projection exposure apparatus.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219086A JPH1154417A (en) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | Lighting device and projection and exposure device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9219086A JPH1154417A (en) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | Lighting device and projection and exposure device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1154417A true JPH1154417A (en) | 1999-02-26 |
Family
ID=16730049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9219086A Pending JPH1154417A (en) | 1997-07-29 | 1997-07-29 | Lighting device and projection and exposure device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1154417A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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