JPH115253A - 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法 - Google Patents

積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法

Info

Publication number
JPH115253A
JPH115253A JP10047649A JP4764998A JPH115253A JP H115253 A JPH115253 A JP H115253A JP 10047649 A JP10047649 A JP 10047649A JP 4764998 A JP4764998 A JP 4764998A JP H115253 A JPH115253 A JP H115253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask
irradiation
base sheet
sheet layer
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10047649A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3233350B2 (ja
Inventor
Yukio Otsuka
幸男 大塚
Motoaki Ozaki
元亮 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Motor Corp
Original Assignee
Toyota Motor Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Motor Corp filed Critical Toyota Motor Corp
Priority to JP04764998A priority Critical patent/JP3233350B2/ja
Priority to EP98107572A priority patent/EP0874280B1/en
Priority to US09/065,615 priority patent/US6040094A/en
Priority to DE69806093T priority patent/DE69806093T2/de
Priority to KR1019980014625A priority patent/KR100265160B1/ko
Publication of JPH115253A publication Critical patent/JPH115253A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3233350B2 publication Critical patent/JP3233350B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C67/00—Shaping techniques not covered by groups B29C39/00 - B29C65/00, B29C70/00 or B29C73/00
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C35/00—Heating, cooling or curing, e.g. crosslinking or vulcanising; Apparatus therefor
    • B29C35/02—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould
    • B29C35/08—Heating or curing, e.g. crosslinking or vulcanizing during moulding, e.g. in a mould by wave energy or particle radiation
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129—Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00—Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10—Processes of additive manufacturing
    • B29C64/165—Processes of additive manufacturing using a combination of solid and fluid materials, e.g. a powder selectively bound by a liquid binder, catalyst, inhibitor or energy absorber
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Oral & Maxillofacial Surgery (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】製造時間の短縮化、価格の低廉化に有利な積層
造形に用いられるマスク、マスクの製造方法を提供する
こと。 【解決手段】マスク１は島状のマスク部１２をもつ。マ
スク部１２は、紙や樹脂で形成された下地シート層１２
ｃと、下地シート層１２ｃの上面に被覆されたアルミ系
等の金属を基材とする耐照射膜１２ｅとで形成されてい
る。マスク部１２は、下地シート層１２ｃの上面に耐レ
ーザ塗装処理を施して耐照射膜１２ｅを被覆することに
より形成できる。耐照射膜１２ｅは蒸着膜で形成しても
良い。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、積層造形に用いら
れるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、積層造形技術（特開平３−１８３
５３０号公報、米国特許ＵＳＰ４２４７５０８等）が開
発されている。この積層造形技術は、樹脂被覆砂、液状
樹脂等の固化可能物質を用い、レーザビーム、紫外線等
を固化可能物質に照射することにより、薄い固化層を形
成し、固化層を積層成形することにより三次元的な造形
物を形成する造形方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この積層造形技術にお
いて、樹脂被覆砂等をマスクで覆った状態で、マスクの
上方からレーザビームや遠赤外線等の照射エネルギを樹
脂被覆砂等に向けてマスク越しに照射する技術を本出願
人は開発した。この技術によれば、マスクのパターン模
様に相応した造形物が容易に得られるため、積層造形の
生産性が向上する利点が得られる。
【０００４】図１７に示すようにこのマスク１００は、
一般的には、レーザビームや紫外線等の照射を遮るパタ
ーン模様をもつ島状のマスク部１０１と、枠部１０２
と、マスク部１０１を枠部１０２に保持する複数個のサ
ポート腕１０３とを備えている。このマスク１００は、
炭素鋼、ステンレス鋼、アルミ等の比較的厚めの金属板
を用い、金属板にレーザビームを所定のパターン模様で
照射して切り抜くことにより形成されている。
【０００５】ところで積層造形技術では、造形の際に、
固化層を多数枚積層するため、使用するマスクの数が多
い。そのため積層造形技術では、マスクをいかに迅速に
かつ安価に製造することが重要である。しかしながら上
記したマスクは、前述したように、炭素鋼、ステンレス
鋼、アルミ等の比較的厚めの金属板をレーザビームで切
り抜くことにより形成されているため、高出力のレーザ
ビームを必要とし、更に切り抜き時間も長くなりがちで
あった。よって、マスクの製造時間の短縮化、マスクの
価格の低廉化には限界があった。
【０００６】殊に島状のマスク部１０１を複数本のサポ
ート腕１０３で支持する場合には、サポート腕１０３の
ぶんレーザビームの照射軌跡が複雑となり、照射時間の
増大、照射プログラムの複雑化が誘発され、マスク製造
時間の短縮化、マスク価格の低廉化には不利である。本
発明は上記した実情に鑑みなされたものであり、請求項
１〜７は、製造時間の短縮化、価格の低廉化に有利な積
層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法を提供す
ることを課題とする。更に請求項８は、造形物の強度確
保に有利な請求項３に係るマスクの使用方法を提供する
ことを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者は積層造形技術
で使用するマスクについて開発を進めた結果、紙や樹脂
などで形成した下地シート層に、下地シート層よりも照
射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照射膜を被覆し
てマスクを形成すれば、マスク製造時間の短縮化、マス
ク価格の低廉化に有利であることを知見し、本発明を完
成した。
【０００８】即ち、請求項１に係る積層造形に用いられ
るマスクは、照射源から照射される照射エネルギによっ
て固化層を形成し、固化層を積層することにより三次元
造形物を形成する積層造形に用いられるマスクであっ
て、所定のパターン形状をなす下地シート層と、下地シ
ート層のうち照射側に被覆され下地シート層よりも照射
エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照射膜とを具備す
ることを特徴とするものである。
【０００９】請求項２に係る積層造形に用いられるマス
クは、請求項１において、下地シート層は有機系材料を
基材とすることを特徴とするものである。請求項３に係
る積層造形に用いられるマスクは、請求項１において、
下地シート層は網状部材に保持されていることを特徴と
するものである。請求項４に係る積層造形に用いられる
マスクは、請求項１において、耐照射膜は蒸着膜で構成
されていることを特徴とするものである。
【００１０】請求項５に係る積層造形に用いられるマス
クは、請求項１において、下地シート層は、巻回された
ロール形状をなしており、巻回方向に沿って複数のパタ
ーン模様が並設されていることを特徴とするものであ
る。請求項６に係る積層造形に用いられるマスクの製造
方法は、網目部分にシート材を貼りつけた網状部材を用
い、シート材を所定のパターン模様に切り抜いてシート
材の不必要部分を除去することにより、網状部材に貼ら
れた下地シート層を形成し、その後、下地シート層より
も照射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照射膜を下
地シート層に被覆してマスク部を形成することを特徴と
するものである。
【００１１】請求項７に係る積層造形に用いられるマス
クの製造方法は、耐照射膜が被覆されたシート材を所定
のパターン模様に切り抜いてシート材の不必要部分を除
去することによりマスク部を形成し、その後、マスク部
を網状部材に貼りつけることを特徴とするものである。
請求項８に係るマスクの使用方法は、請求項３に係るマ
スクの使用方法であり、請求項３に係る複数枚のマスク
を用い、積層造形において照射エネルギを照射する際
に、各固化層を形成するそれぞれのマスクの網状部材の
線材をマスクの面方向に沿ってずらすことを特徴とする
ものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明に係るマスクを使用する際
には、樹脂被覆砂や液状樹脂等の固化可能物質をマスク
で覆う。この状態で、マスクの外方からレーザビーム
（可視光、非可視光を含む）、紫外線、遠赤外線等の照
射エネルギがマスク越しに固化可能物質に照射される。
照射された固化可能物質は固化する。
【００１３】一方、照射がマスクで遮られた固化可能物
質の部分は、固化しないか、固化が不充分となる。従っ
てマスク部のパターン模様に相応した形状を備えた固化
層が形成される。固化層が順次積層成形され、三次元造
形物が造形される。本発明に係る下地シート層は、レー
ザビームカッタやメカニカルなカッタ刃等の切り抜き手
段で所定のパターン模様に切り抜く際における切り抜き
性を考慮すると、紙や樹脂等の有機系材料を基材とする
ことが好ましい。有機系材料であれば、レーザビームカ
ッタやメカニカルなカッタ刃で切り抜く切り抜き操作が
容易となる。
【００１４】紙としては、洋紙、和紙、合成紙等を適宜
選択できる。樹脂としては、ポリエチレンテレフタレー
ト（ＰＥＴ）、ポリイミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポ
リプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリプ
ロピレン（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等を採用できる。下地
シート層の厚みは下地シート層の材質やマスクの種類な
どに応じて適宜選択でき、例えば、０．０５〜５ｍｍ程
度、特に０．１〜０．４ｍｍ程度にできるが、必ずしも
これに限定されるものではない。
【００１５】本発明に係る下地シート層には、上記した
照射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照射膜が被覆
されている。耐照射膜の材質は、アルミ系、ステンレス
鋼系、鋼系の金属を利用して形成できる。具体的には、
耐照射膜は、金属等の粉末が分散した液状物を下地シー
ト層に塗布した後に乾燥させたり、或いは、金属フィル
ムや金属箔等の薄層を下地シート層に貼ったりすること
により形成できる。
【００１６】本発明の好ましい態様によれば、耐照射膜
は蒸着膜を利用して構成できる。蒸着膜としては金属蒸
着膜を採用できる。蒸着膜を構成する代表的な物質とし
ては、アルミ、亜鉛、スズ、銅、モリブデン、ニッケル
−クロムなどの金属を採用できる。蒸着膜は、一般的に
は、物理的蒸着手段で成膜した膜を採用でき、真空蒸着
で成膜した膜、スパッタリングで成膜した膜、イオンプ
レーティングで成膜した膜を含む。
【００１７】蒸着膜の厚みとしては、マスクの種類、蒸
着物質の種類などに応じて適宜選択できる。蒸着膜の厚
みが過剰に厚い場合には、切り抜きがしにくくなる。蒸
着膜の厚みが過剰に薄い場合には、蒸着膜の耐久性が低
下する。これらの要因等を考慮し、蒸着膜の厚みを選択
する。例えば、蒸着膜の平均厚みは、上限値としては例
えば５００オングストローム、８００オングストロー
ム、１０００オングストローム、１μｍ、２μｍにで
き、下限値としては例えば５０オングストローム、２０
０オングストローム、５００オングストロームにでき
る。従って蒸着膜の平均厚みは５００〜８００オングス
トロームにできるが、必ずしもこれに限定されるもので
はない。
【００１８】蒸着膜の耐摩滅性を向上するには、蒸着膜
を保護層で覆っておくことが好ましい。但し蒸着膜の厚
みが厚ければ、保護層を廃止することもできる。本発明
の好ましい態様によれば、下地シート層は網状部材に保
持する。網状部材としては、線材を編込んだ市販の網状
体を採用しても良いし、或いは、板体にレーザビームを
照射して網状に切り抜いた網状体を採用しても良いし、
或いは、粉末層にレーザビームを網状にスキャン照射
し、照射した粉末部分を結合して形成した網状体を採用
しても良い。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の各実施例を説明する。 （実施例１） （実施例の構成）実施例１を図１〜図５を示す。図１か
ら理解できるように、マスク１は、網状部材１０と、網
状部材１０の所定部位に保持された島状のマスク部１２
とで構成されている。網状部材１０は、枠状をなす基部
１５と、基部１５に張設された網状体１７とをもつ。基
部１５には位置決め孔１５ｃが形成されている。
【００２０】網状体１７では、Ｘ方向にのびる線材１７
ｘと、Ｙ方向にのびる線材１７ｙとが交差している。線
材１７ｘと線材１７ｙとの間は空間となる。線材１７ｘ
の材質は適宜選択できるが、例えば炭素鋼系、ステンレ
ス鋼系、アルミ合金系等の金属を採用できる。線材１７
ｘ、１７ｙの幅（径）は、マスクの種類、マスク部１２
を保持する強度、積層造形の際のレーザビームの波長等
の要因に応じて適宜選択できるが、上限値は例えば２ｍ
ｍ、１ｍｍ、５００μｍ、２００μｍを採用でき、下限
値は例えば１０μｍ、５０μｍ、１００μｍを採用でき
る。但しこれに限定されるものではない。
【００２１】図２に示すように、マスク部１２は、紙で
形成された下地シート層１２ｃと、下地シート層１２ｃ
の上面に被覆されたアルミ系等の金属を基材とする耐照
射膜１２ｅとで形成されている。下地シート層１２ｃは
紙を基材とするため、レーザビームが照射されると焼失
する。よって紙を基材とする下地シート層１２ｃはレー
ザビームに対する耐久性は低い。これに対して、耐照射
膜１２ｅはアルミ系等の金属を基材とするため、レーザ
ビームに対する反射性に富む。従って耐照射膜１２ｅ
は、下地シート層１２ｃよりもレーザビームの照射に対
して高い耐久性をもつ。
【００２２】本実施例に係るマスク部１２は、下地シー
ト層１２ｃの上面に耐レーザ塗装処理を施して耐照射膜
１２ｅを被覆することにより形成できる。或いは、本実
施例に係るマスク部１２は、アルミ層（アルミ蒸着フィ
ルムやアルミ箔など）を紙に積層した市販のラミネート
紙を用いて形成しても良く、この場合には予めアルミ層
が積層されているため、耐レーザ塗装処理を省略でき
る。
【００２３】積層造形技術について図３を参照して説明
する。図３は固化層６０ｍがその厚み方向に多数枚積層
された状態を示す。図３から理解できるように、固化可
能物質として機能する樹脂被覆砂６０ｋｏが薄い層状に
散布され、散布層６０が基礎面６２上に敷設される。樹
脂被覆砂６０ｋｏは、フェノール樹脂などの熱硬化性の
樹脂を砂粒に被覆したものである。
【００２４】図３から理解できるように、散布層６０の
上方にマスク１が配置された状態で、マスク１の上方の
レーザヘッド７０からレーザビームＭ（例えばＣＯ2 レ
ーザビーム）をマスク１越しに散布層６０に照射する。
照射方式としては、細いビーム径をもつレーザビームを
マスク１越しに散布層６０に連続的にスキャン照射する
方式でも良いし、或いは、細いビーム径をもつレーザビ
ームのビーム径を拡大した所謂散光ビームをマスク１越
しに散布層６０に照射する方式でも良い。
【００２５】散布層６０のうち、レーザビームＭが照射
された領域では、樹脂被覆砂６０ｋの樹脂がレーザビー
ムＭにより加熱されて熱硬化する。しかしながら散布層
６０のうち、レーザビームＭの照射がマスク部１２で遮
られた領域、つまり図３においてマスク部１２の寸法Ｐ
で遮光された領域では、樹脂被覆砂６０ｋは基本的には
固化せず、未固化層６０ｘとなる。従ってマスク部１２
のパターン模様に相応した平面形状を備えた固化層６０
ｍが形成される。
【００２６】上記した散布処理、照射処理が交互に繰返
され、これにより固化層６０ｍが順次厚み方向つまり矢
印Ｈ方向に多数枚積層され、三次元的な造形物が形成さ
れる。なお本実施例では造形物は、鋳物を成形するため
の鋳型である。ところで固化層６０ｍが多数枚積層され
る積層造形技術では、マスク１は、固化層６０ｍの枚数
に応じた数必要とされる。しかし図２から理解できるよ
うに、線材１７ｘ、１７ｙを備えた網状体１７をもつマ
スク１では、線材１７ｘ、１７ｙの幅Ｌａに起因して、
線材１７ｘ、１７ｙの裏面１７ｅ側の遮光部分Ｋｓでは
レーザビームＭが遮られるおそれがある。そのため、線
材１７ｘ、１７ｙの幅Ｌａが大きい場合には、図２から
理解できるように、線材１７ｘ、１７ｙによる遮光部分
Ｋｓに起因して、固化層６０ｍのうち硬化不充分部分６
０ｋが生じるおそれがある。そして、図５（Ａ）に示す
ように、多数枚の固化層６０ｍが矢印Ｈ方向に積層され
る際に、各固化層６０ｍの硬化不充分部分６０ｋがマス
ク面方向においてつまりＸ方向において同位置となり、
矢印Ｈ方向に沿って連続的に重なる。この場合には、連
続的に重なった硬化不充分部分６０ｋの箇所の強度が低
下するため、連続的に重なった硬化不充分部分６０ｋの
箇所から三次元造形物が剥離するおそれが生じる。
【００２７】この点本実施例では以下の手段により三次
元造形物の耐剥離性が向上している。耐剥離性を向上さ
せる手段について、順番に使用するマスク１Ａ〜１Ｆを
例にとって説明する。図４は、積層造形の際に使用する
各マスク１Ａ〜１Ｆを重ねた状態の要部の平面形態を模
式的に示す。本実施例では、マスク１Ａ→マスク１Ｂ→
マスク１Ｃ→マスク１Ｄ→マスク１Ｅ→マスク１Ｆの順
番で使用される。
【００２８】図４から理解できるように、マスク１Ａと
次に使用する他のマスク１Ｂとでは、Ｙ方向に沿っての
びる線材１７ｙがマスク面方向つまり矢印Ｘ方向におい
て距離Ｌ１ずらして使用される。同様にマスク１Ｂと次
に使用する他のマスク１Ｃとでは、線材１７ｙが矢印Ｘ
方向において距離Ｌ２ずらして使用される。同様にマス
ク１Ｃと次に使用する他のマスク１Ｄとでは、線材１７
ｙが矢印Ｘ方向において距離Ｌ３ずらして使用される。
同様にマスク１Ｄと次に使用する他のマスク１Ｅとで
は、線材１７ｙが矢印Ｘ方向において距離Ｌ４ずらして
使用される。同様にマスク１Ｅと次に使用される他のマ
スク１Ｆとでは、線材１７ｙが矢印Ｘ方向において距離
Ｌ５ずらして使用される。
【００２９】マスク１Ａ〜１ＦのうちＸ方向にのびる線
材１７ｘについても同様に、矢印Ｙ方向においてＬ１’
〜Ｌ５’ずらして使用される。そのため積層造形の際に
多数枚のマスク１Ａ〜１Ｆが順番に使用される場合であ
っても、各マスク１Ａ〜１Ｆの線材１７ｘ同士の重な
り、各マスク１Ａ〜１Ｆの線材１７ｙ同士の重なりが抑
えられる。従って、図５（Ｂ）から理解できるように、
多数枚の固化層６０ｍが矢印Ｈ方向に積層される際にお
いて、各マスク１Ａ〜１Ｆの線材１７ｙによる遮光によ
り形成された硬化不充分部分６０ｋが面方向つまり矢印
Ｘ方向においてずれる。この結果、図５（Ａ）に示す形
態とは異なり、各固化層６０ｍにおける硬化不充分部分
６０ｋの連続的な重なりが抑えられる。即ち図５（Ｂ）
に示すように、各硬化不充分部分６０ｋが矢印Ｈにおい
て不連続となる。同様に、各マスク１Ａ〜１Ｆの線材１
７ｘに起因する遮光によって形成された硬化不充分部分
の重なりも抑えられる。従って、上記した造形物の耐剥
離性の向上に有利である。
【００３０】（実施例効果）以上説明したように本実施
例によれば、マスク１の下地シート層１２ｃはレーザビ
ームＭで焼失する紙を基材として形成されているもの
の、下地シート層１２ｃに被覆されている金属を基材と
する耐照射膜１２ｅがレーザビームを反射してレーザビ
ームに対して耐久性をもつ。そのため、紙を基材としつ
つも、レーザビームＭを遮る遮光性を備えたマスク１が
得られる。
【００３１】更に本実施例によれば、マスク１の下地シ
ート層１２ｃは紙を基材とするため、比較的厚めの金属
板をレーザビームの照射で切り抜いて形成した従来のマ
スクに比較して、下地シート層１２ｃをレーザビームで
所定のパターン模様に切り抜く切り抜き操作が容易とな
る。従ってマスク１の製造時間の短縮化、マスク１の価
格の低廉化、マスク１の軽量化に有利である。
【００３２】更に本実施例によれば、網状体１７を構成
する多数の線材１７ｘ、１７ｙは島状のマスク部１２を
支持する機能を奏する。従って図１７に示す従来のマス
クにおいて島状のマスク部１０１を支持するために必要
とされていたサポート腕１０３を廃止できる。故に、複
数個のサポート腕１０３をレーザビームで切り抜くため
の複雑なプログラム処理を廃止できる。
【００３３】また本実施例によれば、網状体１７は幅が
小さい線材１７ｘ、１７ｙで形成されているため、図１
７に示す幅広なサポート腕１０３に比較して、線材１７
ｘ、１７ｙの裏面１７ｅにおけるレーザビームの回り込
み性が向上する。更にまた本実施例によれば、積層造形
の際には前述したように、各固化層６０ｍを形成するた
めの各マスク１Ａ〜１Ｆの線材１７ｘ、１７ｙはマスク
面方向においてずらして使用されるため、造形物の耐剥
離性の向上に有利である。
【００３４】（実施例２）実施例２を図６（Ａ）〜
（Ｄ）に示す。実施例２は実施例と基本的には同様の構
成であり、同様の機能を奏する部位は同一の符号を付す
る。実施例２においても実施例１と基本的に同様の効果
が得られる。以下異なる部分を中心として説明する。
【００３５】マスク１の製造にあたっては、図６（Ａ）
に示すように、枠状をなす基部１５に網状体１７を張設
した網状部材１０を用いる。そして図６（Ｂ）に示すよ
うに、網状体１７の線材１７ｘ，１７ｙで構成された網
目部分に、紙で形成された下地シート層１２ｃを接着剤
により貼りつける。その後、下地シート層１２ｃにレー
ザビームＭを照射し、図６（Ｃ）に示すように、照射跡
である切り込み１２ｋを形成する。これにより下地シー
ト層１２ｃは所定のパターン模様に切り抜かれる。そし
て下地シート層１２ｃの不必要部分１２ｍを除去する。
【００３６】その後、下地シート層１２ｃの上面に耐レ
ーザ塗装を施し、これにより耐照射膜１２ｅを下地シー
ト層１２ｃの上面に被覆し、レーザビーム反射性をもつ
マスク部１２を形成する。耐レーザ塗装は、アルミ等の
金属粉を分散した液状物をスプレー塗布したり、刷毛塗
りしたりして実行できる。耐レーザ塗装の塗装厚みは、
下地シート層１２ｃへのレーザビームの到達を抑えるよ
うに、厚目にすることが好ましい。耐レーザ塗装により
形成された耐照射膜１２ｅにより、紙を基材とする下地
シート層１２ｃが補強され、マスク部１２が強化される
効果も期待できる。
【００３７】（実施例３）実施例３を図７（Ａ）〜
（Ｄ）に示す。実施例３は実施例２と基本的には同様の
構成であり、同様の機能を奏する部位は同一の符号を付
する。実施例３においても実施例２と基本的に同様の効
果が得られる。以下異なる部分を中心として説明する。
【００３８】本実施例ではシート材８０を用いる。シー
ト材８０は、紙で形成された下地シート層１２ｃと、こ
れに被覆されたアルミ系のレーザビーム反射性に富む耐
照射膜１２ｅとで形成されている。シート材８０をＸＹ
プロッタにセットし、ＸＹプロッタにセットしたカッタ
刃により切り込み８０ｋを形成する。そして不必要部分
８０ｍを除去し、マスク部１２を形成する。そのため、
このマスク部１２も同様に、紙で形成された下地シート
層１２ｃと、レーザビーム反射性に富む耐照射膜１２ｅ
とで形成されている。
【００３９】更に図７（Ｃ）に示すように枠状の基部１
５に網状体１７を張設した網状部材１０を用い、図７
（Ｄ）に示すように、網状体１７の線材１７ｘ，１７ｙ
で構成された網目部分の所定部位にマスク部１２を接着
剤により貼りつける。これによりマスク１が形成され
る。本実施例では、シート材８０から切り抜いて形成し
たマスク部１２を網状部材１０に貼りつける方式である
ため、マスク部１２の切り抜きの際にメカニカルなカッ
タ刃を使用できる。
【００４０】（実施例４）実施例４を図８〜図１３に示
す。図８に示すシート材２００が用いられる。シート材
２００は、下地シート層として機能するベースフィルム
２０１と、ベースフィルム２０１の表面に積層された表
側の結合剤層２０２と、結合剤層２０２に積層された表
側のアルミ蒸着フィルム２０３と、アルミ蒸着フィルム
２０３に積層された表側の保護層２０４と、ベースフィ
ルム２０１の裏面に積層された裏側の結合剤層２０５
と、結合剤層２０５に積層された裏側のアルミ蒸着フィ
ルム２０６と、アルミ蒸着フィルム２０６に積層された
裏側の保護層２０７とで構成されている。ベースフィル
ム２０１は厚みが０．２〜０．３ｍｍ程度であり、寸法
安定性及び耐熱性等を考慮し、ポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）で形成されている。アルミ蒸着フィルム
２０３,２０６は、フィルム本体と、フィルム本体に積
層されたアルミの蒸着膜とをもつ。アルミ蒸着フィルム
２０３，２０６の蒸着膜の平均厚みは５００〜８００オ
ングストロームである。保護層２０４，２０７はアルミ
蒸着フィルム２０３，２０６の蒸着膜を保護する機能
と、レーザビームを透過する機能とをもち、アクリル樹
脂（厚さ：約０．５μｍ）を主要成分として構成されて
いる。
【００４１】図９及び図１０に示すように、開口１５ｒ
を備えた枠状をなす基部１５にシート材２００を張り付
け、基部１５の開口１５ｒをシート材２００で塞ぐ。そ
の後、図１１に示すように、レーザヘッド７５からのレ
ーザビームＭ（ＣＯ 2レーザビーム）をシート材２００
に走査してマスク切り抜き処理を行い、シート材２００
を切り抜く。これにより島状のマスク部２３１を複数個
のサポート部２３２で保持した構造を備えたマスク２３
０が得られる。なお２３０ｆ，２３０ｈはマスク２３０
に形成された開口を示す。
【００４２】マスク部２３１の内部構造は前記したシー
ト材２００と同じであり、下地シート層として機能する
ベースフィルム２０１と、ベースフィルム２０１の表面
及び裏面に積層された結合剤層２０２，２０５と、各結
合剤層２０２，２０５に積層された耐照射膜として機能
するアルミ蒸着フィルム２０３，２０６と、アルミ蒸着
フィルム２０３，２０６に積層された保護層２０４，２
０７とで構成されている。即ち、マスク部２３１の表側
にはアルミ蒸着フィルム２０３が、裏側にはアルミ蒸着
フィルム２０６が積層されている。
【００４３】積層造形の際には、図１２に示す散布処理
を実行する。即ち、散布装置３００は、樹脂被覆砂６０
ｋｏを収容した容器３０１と、容器３０１の底部に回転
可能に配置された切り出しローラ３０２とをもつ。切り
出しローラ３０２は、周方向に設けられた多数個の溝３
０３をもつ。切り出しローラ３０２が回転しつつ、駆動
手段３１０により容器３０１が矢印Ｓ１方向に移動され
る。これにより樹脂被覆砂６０ｋｏが散布されて散布層
６０が形成される。
【００４４】その後、図１３に示す照射処理を実行す
る。即ち、マスクホルダ３５０の保持ピン３５１にマス
ク２３０の基部１５の位置決め孔１５ｃを挿入して位置
決めした状態で、マスク２３０を保持する。このように
マスクホルダ３５０にマスク２３０を保持した状態で、
マスク２３０を散布層６０の上に配置し、マスク２３０
で散布層６０を覆った状態とする。次にレーザヘッド７
５からレーザビーム（ＣＯ2レーザ）を照射する。
【００４５】散布層６０のうち、マスク２３０の開口２
３０ｆ,２３０ｈを通過したレーザビームが照射された
部分は硬化して固化層６０ｍとなる。散布層６０のう
ち、マスク部２３１による遮光機能によってレーザビー
ムが照射されなかった部分は硬化しない。本実施例では
前記したように、マスク部２３１の表側にアルミ蒸着フ
ィルム２０３が形成されている他に、マスク部２３１の
裏側にもアルミ蒸着フィルム２０６が積層されている。
そのため、マスク２３０の開口２３０ｆ,２３０ｈを透
過して散布層６０で反射されたレーザビームがマスク部
２３１の裏面に当たるとき、裏側のアルミ蒸着フィルム
２０６でこのレーザビームを反射できる。そのため、マ
スク部２３１の裏側が無用なレーザビームを受けること
を抑え得る。従ってマスク部２３１の昇温を抑制するの
に有利となる。よって、マスク部２３１の熱変形を抑制
してマスク部２３１の形状精度を確保するのに有利であ
る。更に、マスク部２３１の熱劣化を抑制でき、耐久性
の向上を図り得る。
【００４６】以下、前記した散布処理及び照射処理を繰
り返して造形物を造形する。本実施例によれば、上記し
たマスク切り抜き処理におけるレーザビームは、出力が
２５Ｗ、スポット径が０．２ｍｍとした。照射処理にお
けるレーザビームは、本実施例では、出力が１０００
Ｗ、スポット径が３０ｍｍとした。照射処理におけるレ
ーザビームと、マスク切り抜き処理におけるレーザビー
ムとは共にＣＯ2レーザビームである。両者のエネルギ
密度を比較すると、マスク切り抜き処理におけるレーザ
ビームのエネルギ密度をＱ１とし、照射処理におけるレ
ーザビームのエネルギ密度をＱ２としたとき、両者の割
合は、（２５／０．２2）＞（１０００／３０2）とな
り、つまり６２５＞１．１となり、Ｑ１＞Ｑ２となる。
従ってマスク部２３１のアルミ蒸着フィルム２０３，２
０６は、エネルギ密度が高いマスク切り抜き処理時のレ
ーザビームによって切り抜き可能であるものの、エネル
ギ密度が低い照射処理時のレーザビームによっては切り
抜かれない。
【００４７】上記した実施例では、マスク切り抜き処理
におけるレーザビームもＣＯ2レーザビームであり、照
射処理におけるレーザビームもＣＯ2レーザビームであ
る。これに代えて、マスク切り抜き処理のレーザビーム
を、アルミを切り抜き易いＹＡＧレーザビームとし、照
射処理におけるレーザビームを樹脂被覆砂の樹脂に吸収
させ易いＣＯ2レーザビームとしても良い。
【００４８】なお本発明者による試験によれば、ＹＡＧ
レーザビームは、ＣＯ2レーザビームに比較して、設備
コスト的に不利であるがアルミを切断し易い利点をも
つ。ＣＯ2レーザビームはＹＡＧレーザビームよりも設
備コスト的に有利であり且つ樹脂被覆砂に吸収され易い
利点をもつ。マスク切り抜き処理にＹＡＧレーザビーム
を用いる場合には、アルミの切断性が高いため、アルミ
蒸着フィルム２０３，２０６の蒸着膜の厚みを厚くして
も切り抜きが容易である。場合によっては、アルミ蒸着
フィルム２０３，２０６に代えてアルミ箔としても良
い。
【００４９】図１４に示す断面構造をもつ実施例５のよ
うなマスク部２６１としても良い。このマスク部２６１
は、ベースフィルム２０１と、ベースフィルム２０１の
表面に積層された表側の結合剤層２０２と、結合剤層２
０２に積層された表側のアルミ蒸着フィルム２０３と、
アルミ蒸着フィルム２０３に積層された表側の保護層２
０４とで構成されている。
【００５０】アルミ蒸着フィルムの有無が及ぼす影響を
本発明者は調べた。この試験では、アルミ蒸着フィルム
が表裏の双方に設けられているマスク部、アルミ蒸着フ
ィルムが表側のみに設けられているマスク部、アルミ蒸
着フィルムが設けられていないマスク部を用いた。試験
結果を図１５に示す。図１５の横軸は、５００ｍｍ×３
００ｍｍの面積をもつ領域を照射するに要する時間を示
し、縦軸はレーザビーム照射後のマスク部の温度を示
す。図１５において特性線Ａ１は、アルミ蒸着フィルム
が表裏の双方に設けられているマスク部の試験結果を示
す。特性線Ａ２は、アルミ蒸着フィルムが表側のみに設
けられているマスク部の試験結果を示す。特性線Ａ３
は、アルミ蒸着フィルムが設けられていないマスク部の
試験結果を示す。アルミ蒸着フィルムが設けられていな
いマスク部では、特性線Ａ３から理解できるように、短
時間の照射でマスク部が高温になる。極端な場合には、
マスク部を構成するベースフィルムが熱変形したり、燃
焼したりし、マスクとして使用するには不向きである。
アルミ蒸着フィルムが表裏の双方に設けられているマス
ク部では、特性線Ａ１から理解できるように、照射時間
が長くなってもマスク部の昇温は抑制される。アルミ蒸
着フィルムがレーザビーム反射性に富むこと、アルミ蒸
着フィルムが良好なる熱伝導性をもつこと等が影響して
いると推察される。アルミ蒸着フィルムが表側のみに設
けられているマスク部では、特性線Ａ２から理解できる
ように、特性線Ａ１よりは昇温しているものの、マスク
部の昇温は抑制される。従って、アルミ蒸着フィルムを
表側にのみ設けた場合には、照射時間が短ければ、使用
可能である。
【００５１】なおアルミ蒸着フィルムに代えて、アルミ
箔をベースフィルムに貼った状態で、同様の条件で試験
を行ったところ、マスク切り抜き処理の際にレーザをか
なり高出力化しなければ、例えば、１０００Ｗ（ＣＯ2
レーザ、スポット径：０．２ｍｍ）にしなければ、切り
抜き処理が実行できなかった。 （実施例６）実施例６を図１６に示す。マスク９は、巻
回されたロール形状をなしている。巻回方向に沿って、
複数のパターン模様が直列に並設されている。このマス
ク９も、紙や樹脂で形成された下地シート層１２ｃと、
これに被覆されたアルミ系等の金属を基材とするレーザ
ビーム反射性に富む耐照射膜１２ｅとで形成されてい
る。マスク９は、島状のマスク部９０と、マスク部９０
を支持する多数個のサポート腕９２とを備えている。本
実施例では、マスク９の巻回方向に沿って、複数のパタ
ーン模様が直列に並設されているため、複数のパターン
模様を有しつつも、マスク９の小型化に有利である。
【００５２】（他の例）上記した図１に示す実施例１で
は、Ｘ方向に沿って延びる線材１７ｘとＹ方向に沿って
延びる線材１７ｙとが交差する網状体１７が採用されて
いるが、これに限らず、Ｘ方向にのびる線材１７ｘで大
部分を構成した網状体でも良いし、或いは、Ｙ方向にの
びる線材１７ｙで大部分を構成した網状体でも良い。あ
るいは矢印Ｘ方向及び矢印Ｙ方向の双方に対して傾斜し
て線材で構成した網状体でも良い。
【００５３】また上記した例では、照射エネルギとして
レーザビームを用い、レーザビーム樹脂被覆砂に照射す
ることにより、樹脂を熱硬化させて固化層を形成する積
層造形技術において使用するマスクに適用しているが、
これに限らず、照射エネルギとしての遠赤外線を樹脂被
覆砂に照射することにより樹脂を熱硬化させて固化層を
形成する積層造形技術において使用するマスクに適用し
ても良い。
【００５４】或いは、照射エネルギとしての紫外線を紫
外線硬化樹脂に照射して固化層を形成する積層造形技術
において使用するマスクに適用することもできる。その
他、本発明は上記しかつ図面に示した実施例のみに限定
されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲内で適宜変
更して実施し得るものである。
【００５５】
【発明の効果】請求項１に係るマスクによれば、所定の
パターン形状をなす下地シート層と、下地シート層のう
ち照射側に被覆され下地シート層よりも照射エネルギに
対して高い耐久性をもつ耐照射膜を具備している。その
ため、厚めの金属板をレーザビームにより切り抜いて形
成した従来に係るマスクに対して新規な方式のマスクを
提供できる。
【００５６】更に請求項１に係るマスクによれば、厚め
の金属板をレーザビームにより切り抜いて形成した従来
に係るマスクに比較して、マスク製造時間の短縮化、マ
スク価格の低廉化に有利である。請求項２に係るマスク
によれば、下地シート層は有機系材料を基材とするた
め、厚めの金属板をレーザビームにより切り抜いて形成
した従来に係るマスクに比較して、マスク製造時間の短
縮化、マスク価格の低廉化及びマスクの軽量化に一層有
利である。更に有機系材料を基材とする下地シート層を
耐照射膜で補強する効果も期待できる。
【００５７】請求項３に係るマスクによれば、下地シー
ト層は網状部材に保持されているため、マスク部の保持
性が良好となる。更にマスク部の肉厚が薄い場合であっ
ても、網状部材がマスク部を補強する効果も期待でき
る。このように網状部材がマスク部を補強する効果も期
待できるため、マスク部の下地シート層が紙や樹脂を基
材とする場合であっても、マスク部の下地シート層が薄
肉である場合であっても、マスク部の強度確保に貢献で
きる。
【００５８】請求項４に係るマスクによれば、耐照射膜
はアルミ蒸着フィルムなどの蒸着膜で構成されている。
アルミなどの金属自体はレーザビームの反射率が高い
が、耐照射膜を、蒸着膜を利用して構成すれば、耐照射
膜の切り抜き処理を容易に実行できる。その理由は、蒸
着膜の場合には、蒸着膜を構成する蒸着物質の粒子間に
おけるレーザビームの透過性が向上するためと推察され
る。
【００５９】請求項５に係るマスクによれば、下地シー
ト層は、巻回されたロール形状をなしており、巻回方向
に沿って複数のパターン模様が並設されている。そのた
め、複数のパターン模様を有しつつも、マスクの小型化
及びマスクの順次交換に有利である。請求項６に係る製
造方法によれば、網目部分にシート材を貼りつけた網状
部材を用い、シート材を所定のパターン模様に切り抜い
てシート材の不必要部分を除去することにより、網状部
材に貼られた下地シート層を形成し、その後、下地シー
ト層よりも照射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照
射膜を下地シート層に被覆してマスク部を形成するた
め、厚めの金属板をレーザビームにより切り抜いてマス
クを形成する従来方法に比較して、マスク製造時間の短
縮化、マスク価格の低廉化に有利である。更に、耐照射
膜の厚みを厚めにすれば、マスク部を補強する効果も期
待できる。また網状部材がマスク部を補強する効果も期
待できるため、マスク部を支持する従来のサポート腕を
廃止したり簡略化したりするのに有利である。
【００６０】請求項７に係る製造方法によれば、耐照射
膜が被覆されたシート材を所定のパターン模様に切り抜
いてシート材の不必要部分を除去することによりマスク
部を形成し、その後、マスク部を網状部材に貼りつけ
る。そのため、厚めの金属板をレーザビームにより切り
抜いてマスクを形成する従来方法に比較して、マスク製
造時間の短縮化、マスク価格の低廉化に有利である。
【００６１】請求項８に係る使用方法によれば、積層造
形において照射エネルギを照射する際に、各前記固化層
を形成するそれぞれのマスクの網状部材の線材をマスク
の面方向に沿ってずらす。そのため各固化層のうち、網
状部材の線材の裏面側に硬化不充分部分が形成される場
合であっても、各固化層の硬化不充分部分がマスクの面
方向においてずれる。よって、硬化不充分部分の連続的
な重なりを抑制できる。従って、硬化不充分部分の連続
的な重なりに起因する三次元造形物の剥離を抑制でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１に係り、マスクを模式的に示す平面図
である。
【図２】実施例１に係り、マスク付近を模式的に示す拡
大断面図である。
【図３】実施例１に係り、レーザビームをマスク越しに
散布層に照射する形態を模式的に示す構成図である。
【図４】各マスクの線材の位置関係を模式的に示す平明
図である。
【図５】硬化不充分部分の位置関係を示す断面図であ
る。
【図６】実施例２に係り、マスクの製造過程を模式的に
示す平面図である。
【図７】実施例３に係り、マスクの製造過程を模式的に
示す平面図である。
【図８】実施例４に係り、アルミ蒸着フィルムをもつシ
ート材を模式的に示す断面図である。
【図９】実施例４に係り、シート材を基部に貼り付ける
前の状態を模式的に示す斜視図である。
【図１０】実施例４に係り、シート材を基部に貼り付け
た状態を模式的に示す斜視図である。
【図１１】実施例４に係り、レーザビームを照射してマ
スク部を切り抜いた状態を模式的に示す斜視図である。
【図１２】実施例４に係り、樹脂被覆砂を散布して散布
層を形成する散布処理を模式的に示す断面図である。
【図１３】実施例４に係り、散布層にレーザビームを照
射して固化層を形成する照射処理を模式的に示す断面図
である。
【図１４】実施例５に係り、アルミ蒸着フィルムをもつ
マスク部を模式的に示す断面図である。
【図１５】試験結果を示すグラフである。
【図１６】実施例６に係るマスクの斜視図である。
【図１７】従来技術に係り、マスクを模式的に示す斜視
図である。
【符号の説明】 図中、１はマスク、１０は網状部材、１２はマスク部、
１２ｃは下地シート層、１２ｅは耐照射膜、１７は網状
体、２００はシート材、２０１はベースフィルム（下地
シート層）、２０３，２０６はアルミ蒸着フィルムを示
す。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】照射源から照射される照射エネルギによっ
    て固化層を形成し、前記固化層を積層することにより三
    次元造形物を形成する積層造形に用いられるマスクであ
    って、 所定のパターン形状をなす下地シート層と、 前記下地シート層のうち照射側に被覆され前記下地シー
    ト層よりも照射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照
    射膜とを具備することを特徴とする積層造形に用いられ
    るマスク。
  2. 【請求項２】請求項１において、前記下地シート層は有
    機系材料を基材とすることを特徴とする積層造形に用い
    られるマスク。
  3. 【請求項３】請求項１において、前記下地シート層は網
    状部材に保持されていることを特徴とする積層造形に用
    いられるマスク。
  4. 【請求項４】請求項１において、前記耐照射膜は蒸着膜
    で構成されていることを特徴とする積層造形に用いられ
    るマスク。
  5. 【請求項５】請求項１において、前記下地シート層は、
    巻回されたロール形状をなしており、巻回方向に沿って
    複数の前記パターン模様が並設されていることを特徴と
    する積層造形に用いられるマスク。
  6. 【請求項６】網目部分にシート材を貼りつけた網状部材
    を用い、 前記シート材を所定のパターン模様に切り抜いて前記シ
    ート材の不必要部分を除去することにより、前記網状部
    材に貼られた下地シート層を形成し、 その後、前記下地シート層よりも照射エネルギに対して
    高い耐久性をもつ耐照射膜を前記下地シート層に被覆し
    てマスク部を形成することを特徴とする積層造形に用い
    られるマスクの製造方法。
  7. 【請求項７】耐照射膜が被覆されたシート材を所定のパ
    ターン模様に切り抜いて前記シート材の不必要部分を除
    去することによりマスク部を形成し、 その後、前記マスク部を網状部材に貼りつけることを特
    徴とする積層造形に用いられるマスクの製造方法。
  8. 【請求項８】請求項３に係る複数枚のマスクを用い、 積層造形において照射エネルギを照射する際に、各前記
    固化層を形成するそれぞれのマスクの網状部材の線材を
    前記マスクの面方向に沿ってずらすことを特徴とする請
    求項３に係るマスクの使用方法。
JP04764998A 1997-04-25 1998-02-27 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法 Expired - Fee Related JP3233350B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04764998A JP3233350B2 (ja) 1997-04-25 1998-02-27 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法
EP98107572A EP0874280B1 (en) 1997-04-25 1998-04-24 Mask for producing three-dimensional laminated objects, mask-producing method ans mask-employing method
US09/065,615 US6040094A (en) 1997-04-25 1998-04-24 Mask for piling process, mask-producing method, and mask-employing method
DE69806093T DE69806093T2 (de) 1997-04-25 1998-04-24 Maske zur Herstellung von laminierten dreidimensionalen Gegenstände, sowie dessen Herstellungs- und Gebrauchsverfahren
KR1019980014625A KR100265160B1 (ko) 1997-04-25 1998-04-24 적층조형에사용되는마스크,이마스크의제조방법및마스크의사용방법

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9-109115 1997-04-25
JP10911597 1997-04-25
JP04764998A JP3233350B2 (ja) 1997-04-25 1998-02-27 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH115253A true JPH115253A (ja) 1999-01-12
JP3233350B2 JP3233350B2 (ja) 2001-11-26

Family

ID=26387815

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP04764998A Expired - Fee Related JP3233350B2 (ja) 1997-04-25 1998-02-27 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6040094A (ja)
EP (1) EP0874280B1 (ja)
JP (1) JP3233350B2 (ja)
KR (1) KR100265160B1 (ja)
DE (1) DE69806093T2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109536870A (zh) * 2018-11-19 2019-03-29 航天材料及工艺研究所 一种激光防护涂层及其制备方法

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6455805B1 (en) * 2001-01-17 2002-09-24 Advanced Micro Devices, Inc. Tray mask plate for laser-trimming apparatus
KR100887933B1 (ko) * 2007-05-30 2009-03-12 제일모직주식회사 광학부재 제조용 필름벨트 및 이를 이용한 광학부재제조장치
SE0701934L (sv) * 2007-08-27 2009-02-28 Sintermask Technologies Ab Tonerkomposition, framkallare innefattande tonerkompositionen och förfarande vid framställning av en volymkropp
US8677929B2 (en) * 2010-12-29 2014-03-25 Intevac, Inc. Method and apparatus for masking solar cell substrates for deposition
WO2015094719A1 (en) * 2013-12-20 2015-06-25 United Technologies Corporation Method and device for manufacturing three dimensional objects utilizing a stationary direct energy source
US11654623B2 (en) * 2015-11-11 2023-05-23 Xerox Corporation Additive manufacturing system with layers of reinforcing mesh
US11633909B2 (en) * 2018-07-28 2023-04-25 CALT Dynamics Limited Methods, systems, and devices for three-dimensional object generation and physical mask curing
CN113715542B (zh) * 2021-10-08 2023-11-03 东莞金杯印刷有限公司 一种无版击凸工艺

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4293624A (en) * 1979-06-26 1981-10-06 The Perkin-Elmer Corporation Method for making a mask useful in X-ray lithography
US4247508B1 (en) * 1979-12-03 1996-10-01 Dtm Corp Molding process
IL95034A (en) * 1990-07-10 1995-03-15 Cubital Ltd Three dimensional modeling.
JP2649520B2 (ja) * 1987-10-01 1997-09-03 株式会社健正堂 メタルマスクスクリーンの製法
AU4504089A (en) * 1988-10-05 1990-05-01 Michael Feygin An improved apparatus and method for forming an integral object from laminations
US5204055A (en) * 1989-12-08 1993-04-20 Massachusetts Institute Of Technology Three-dimensional printing techniques
EP0588580A3 (en) * 1992-09-14 1995-02-15 Riso Kagaku Corp Manufacturing process for original stencils Paper original for a sheet assembly for original stencils and stencil printing device therefor.
DE69633143T2 (de) * 1995-11-09 2005-08-04 Toyota Jidosha K.K., Toyota Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer 3-D Sandform mit Kern durch Ausbildung von Sandschichten

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109536870A (zh) * 2018-11-19 2019-03-29 航天材料及工艺研究所 一种激光防护涂层及其制备方法
CN109536870B (zh) * 2018-11-19 2020-12-18 航天材料及工艺研究所 一种激光防护涂层及其制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69806093T2 (de) 2002-11-14
EP0874280A2 (en) 1998-10-28
EP0874280A3 (en) 1999-07-14
KR19980081688A (ko) 1998-11-25
EP0874280B1 (en) 2002-06-19
US6040094A (en) 2000-03-21
DE69806093D1 (de) 2002-07-25
KR100265160B1 (ko) 2000-09-15
JP3233350B2 (ja) 2001-11-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3233350B2 (ja) 積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法
Beaman et al. Solid freeform fabrication: a new direction in manufacturing
US8192815B2 (en) Methods and systems for forming a dual layer housing
US20040099996A1 (en) Process for manufacturing a shaped article, in particular powder stereolithographic or sintering process
JPH08504139A (ja) 三次元物体作製方法
US7323132B2 (en) Method of making three-dimensional object
JP2018012336A (ja) ３次元積層造形装置、３次元積層造形装置の制御方法および３次元積層造形装置の制御プログラム
US20180147657A1 (en) Housing for computer-numerically-controlled machine
CN101636049B (zh) 壳体的制作方法
JP2003004916A (ja) 表示装置の窓材、その製造方法、及び表示装置
JP6200599B1 (ja) ３次元積層造形装置、３次元積層造形装置の制御方法および３次元積層造形装置の制御プログラム
JP2010052161A (ja) 加飾成形体の製法
JP2017523062A (ja) 垂直補償プロセスを備える光造形法、ならびに前記方法の実現に適した装置及びコンピュータプログラム製品。
JP2001113894A (ja) 織物状凹凸模様を有する化粧材
JP2007242728A (ja) ディスプレイ用光学フィルター及びその製造方法
CN113235046A (zh) 壳体的加工方法、壳体和电子设备
JP3226162B2 (ja) 積層造形用のマスク作製方法
JP3417094B2 (ja) 立体回路の形成方法
JP2018097065A (ja) 立体像結像装置の製造方法及び立体像結像装置
EP0518858A1 (en) A device for manufacturing three-dimensional objects
JPH10166461A (ja) レーザ光照射式積層造形装置
JP2000117838A (ja) 光源装置及びそれを用いる積層造形方法
JP4140281B2 (ja) 包装材の切取り部構造
JPH11245307A (ja) 積層造形用マスク基板
CN104011797B (zh) 具有透明背面涂层的光学介质

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees