JPH1152121A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
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- JPH1152121A JPH1152121A JP20666497A JP20666497A JPH1152121A JP H1152121 A JPH1152121 A JP H1152121A JP 20666497 A JP20666497 A JP 20666497A JP 20666497 A JP20666497 A JP 20666497A JP H1152121 A JPH1152121 A JP H1152121A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、カラー液晶表示装
置に使用されるカラーフィルタの製造法に関する。The present invention relates to a method for manufacturing a color filter used in a color liquid crystal display device.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示用カラーフィルタの製造方法に
おいて、透明基板上のブラックマトリクス（以下、Ｂ
Ｍ）パターンの無い部分を透明層で埋めて平坦化し、画
素層あるいはオーバーコート層を平坦化する方法として
は、以下の方法が知られている。 （１）特開昭６３−２４３９０２号公報に、ＢＭを形成
した透明基板の上から全面に透明な感光性樹脂を塗布
し、ＢＭパターンをマスクとして透明基板から露光して
（あるいはマスクを用いて透明基板に向かって露光し
て）ＢＭパターンの無い部分のみ感光性樹脂を残存して
透明樹脂層を設ける。 （２）特開平５−８８００８号公報に、透明層の材料と
して酸化シリコンあるいはポリイミド樹脂、アクリル樹
脂が示され、樹脂を用いる場合、透明層の形成にはスピ
ンコート法を用いる。すなわち、例えば、ポリイミド樹
脂をスピンナーを用いて塗布し乾燥、硬化させ、次いで
ＢＭパターンに重なる部分の透明膜を除去する。また、
透明層の他の形成方法としては、例えば、ポリイミド等
の樹脂を転写印刷する方法が、同特許に示されている。 （３）特開平７−２８７１１２号公報に、顔料分散フォ
トレジストを用いて形成したＢＭパターンの上から全面
に透明樹脂液を塗布して透明樹脂層を形成し、該透明樹
脂層を乾燥固化した後に、該透明樹脂層を平坦に研磨し
て、ＢＭパターン層表面と透明樹脂層表面とを同一面に
仕上げる。2. Description of the Related Art In a method of manufacturing a color filter for a liquid crystal display, a black matrix (hereinafter referred to as B
M) The following method is known as a method of filling a flat portion without a pattern with a transparent layer and flattening the pixel layer or the overcoat layer. (1) JP-A-63-243902 discloses a method in which a transparent photosensitive resin is applied to the entire surface of a transparent substrate on which a BM is formed and exposed from the transparent substrate using the BM pattern as a mask (or using a mask). A transparent resin layer is provided by leaving the photosensitive resin only in a portion having no BM pattern (by exposing to a transparent substrate). (2) Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-88008 discloses silicon oxide, a polyimide resin, or an acrylic resin as a material for a transparent layer. When a resin is used, a spin coating method is used for forming the transparent layer. That is, for example, a polyimide resin is applied using a spinner, dried and cured, and then the portion of the transparent film overlapping the BM pattern is removed. Also,
As another method of forming the transparent layer, a method of transferring and printing a resin such as polyimide is disclosed in the patent. (3) As disclosed in JP-A-7-287112, a transparent resin liquid is applied over the entire surface of a BM pattern formed using a pigment-dispersed photoresist to form a transparent resin layer, and the transparent resin layer is dried and solidified. Thereafter, the transparent resin layer is polished flat to finish the BM pattern layer surface and the transparent resin layer surface on the same plane.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】ＢＭパターンの無い部
分に透明層を形成する際、樹脂を塗布して乾燥、硬化す
るまでの間に樹脂の粘着性のためごみが付着しやすく、
また、付着したごみを除去しにくいという問題がある。
本発明は、透明層をＢＭパターンの無いところに形成す
る際、ごみが付着しにくく、また、付着したごみを除去
しやすい、カラーフィルタの製造法を提供するものであ
る。When a transparent layer is formed on a portion where there is no BM pattern, dust easily adheres due to the tackiness of the resin before the resin is applied, dried and cured.
In addition, there is a problem that it is difficult to remove attached dust.
The present invention provides a method for manufacturing a color filter, in which dust is hardly attached when a transparent layer is formed without a BM pattern, and the attached dust is easily removed.
【０００４】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造法は、ブラックマトリックスパターンが形成され
た透明基板上のブラックマトリックスパターンの無い部
分を透明層で埋めて平坦化する工程を備えるカラーフィ
ルタの製造法において、前記透明層をネガ型透明樹脂層
を含むフィルムを用いたフィルム転写法で形成すること
を特徴とする。本発明は、透明基板上にブラックマトリ
クス、着色画素を形成してなるカラーフィルタ、あるい
は前記着色画素上にオーバーコートを形成してなるカラ
ーフィルタにおいて、透明基板上のブラックマトリクス
パターンの無い部分を透明層で埋めて平坦化するカラー
フィルタの製造法であって、前記透明層をネガ型透明樹
脂層を含むフィルムを用いたフィルム転写法で形成する
ものである。すなわち本発明は、透明基板上にＢＭパタ
ーンを形成した基板上に、ベースフィルムとネガ型透明
樹脂層とからなる樹脂フィルムを、前記透明樹脂層が前
記ＢＭパターン形成基板のＢＭ形成面に面するように張
り合わせ、前記ベースフィルムを剥がすというフィルム
転写法で、透明樹脂層を積層することを特徴とするカラ
ーフィルタの製造法である。A method of manufacturing a color filter according to the present invention comprises a step of burying a portion of a transparent substrate having a black matrix pattern on which a black matrix pattern is not formed with a transparent layer to flatten the portion. Wherein the transparent layer is formed by a film transfer method using a film including a negative transparent resin layer. The present invention provides a color filter formed by forming a black matrix and a colored pixel on a transparent substrate, or a color filter formed by forming an overcoat on the colored pixel. A method of manufacturing a color filter which is filled with a layer and flattened, wherein the transparent layer is formed by a film transfer method using a film including a negative type transparent resin layer. That is, the present invention provides a resin film comprising a base film and a negative transparent resin layer on a substrate having a BM pattern formed on a transparent substrate, wherein the transparent resin layer faces the BM forming surface of the BM pattern forming substrate. A method of manufacturing a color filter, comprising laminating a transparent resin layer by a film transfer method of laminating and peeling the base film as described above.
【０００５】[0005]
【発明の実施の形態】本発明に用いられる型樹脂フィル
ムは、剥離性ベースフィルム、例えばポリエチレンテレ
フタレート等のフィルム上にネガ型透明樹脂を塗布し、
乾燥させて透明樹脂層を形成させたものである。透明樹
脂層は未硬化状であるため、傷つきやすいため、透明樹
脂層の上にさらにポリエチレンフィルム等の保護フィル
ムを張り合わせて外部からの損傷を防止することが好ま
しい。樹脂フィルムに形成されたネガ型透明樹脂層は、
保護フィルムを剥がしながらＢＭ形成基板上に張り合わ
され、またこの透明樹脂層表面のベースフィルム剥離
後、フォトマスクを用いて露光し、ＢＭパターン上の不
要な透明樹脂を除去する。あるいは、ＢＭパターンをマ
スクとし、基板の背面から露光してもよい。樹脂フィル
ムは、予め検査して異物や欠陥がないことを確認して用
いるのが良い。透明樹脂としては、アクリル系樹脂、エ
ポキシ樹脂、ポリイミド系樹脂等を用いることができる
が、画素形成用材料組成から色材成分のみ除いたものを
用いることができる。すなわち、画素形成用材料が顔料
分散樹脂系の場合、該樹脂組成から顔料を除いた樹脂系
を用いることができる。透明層の膜厚は、ＢＭパターン
の厚さとほぼ同等の厚さである必要があるが、具体的に
はＢＭと透明層との膜厚差が、±０．１μｍ以内がよ
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A mold resin film used in the present invention is obtained by applying a negative transparent resin on a peelable base film, for example, a film such as polyethylene terephthalate.
The transparent resin layer was formed by drying. Since the transparent resin layer is in an uncured state and is easily damaged, it is preferable to further protect the transparent resin layer with a protective film such as a polyethylene film to prevent external damage. The negative-type transparent resin layer formed on the resin film,
The protective film is peeled off while being adhered to the BM-formed substrate. After the base film on the surface of the transparent resin layer is peeled off, exposure is performed using a photomask to remove unnecessary transparent resin on the BM pattern. Alternatively, exposure may be performed from the back surface of the substrate using the BM pattern as a mask. It is preferable that the resin film is inspected in advance to confirm that there is no foreign matter or defect, and then used. As the transparent resin, an acrylic resin, an epoxy resin, a polyimide resin, or the like can be used. However, a resin obtained by removing only a coloring material component from a pixel forming material composition can be used. That is, when the pixel forming material is a pigment-dispersed resin system, a resin system obtained by removing the pigment from the resin composition can be used. The thickness of the transparent layer needs to be approximately the same as the thickness of the BM pattern, but specifically, the difference in thickness between the BM and the transparent layer is preferably within ± 0.1 μm.
【０００６】[0006]
【実施例】樹脂フィルムの形成方法 日立化成工業（株）製の画素形成用樹脂であるネガ型ア
クリル系樹脂と、顔料を加えないこと以外は同じ樹脂溶
液を、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート上に
均一な厚さに塗布し、１００℃の乾燥機で２分間乾燥
し、保護フィルムとして厚さ３０μｍのポリエチレンフ
ィルムを張り合わせて樹脂フィルムを得た。乾燥後のネ
ガ型樹脂層の厚さは、０．８μｍであった。 ＢＭパターン形成基板の作成方法（樹脂ＢＭ、膜厚０．
８μｍ） 厚さ０．７ｍｍのガラス板上に、日立化成工業（株）製
のカーボン顔料分散感光性アクリル系樹脂液をスピンナ
ーを用いて全面に塗布、乾燥し、所定のパターンのマス
クを通して露光機（大日本スクリーン製）で露光した
後、３０℃で０．３重量％のＫＯＨ水溶液でスプレー現
像し、１５０℃、３０分間加熱してＢＭパターン形成基
板を得た。このＢＭパターンの膜厚は、０．８μｍであ
った。次に、前記ＢＭパターン形成基板を８０℃に保持
し、前記ネガ型樹脂フィルムの保護フィルムを剥がしな
がら、該樹脂層をロール温度１００℃、ロール圧４ｋｇ
／ｃｍ2 、速度２ｍ／ｍｉｎでラミネートした。次い
で、所定のパターンのマスクを通して露光した後、ポリ
エチレンテレフタレートフィルムを除去し、３０℃で２
重量％のＮａ2 ＣＯ3 水溶液でスプレー現像して、ＢＭ
パターン上の未露光部を除去し、ＢＭパターンの無い部
分を透明層で埋めた構造基板を作成した。形成したＢＭ
パターンの膜厚と透明層の膜厚は、どちらも０．８μｍ
で等しく、全面に渡り平坦化されたＢＭパターン無し部
分平坦化基板を得た。前記平坦化基板の透明層上にフィ
ルム転写法を用いて、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素をＢＭの端部と
画素の端部が重なるように形成し図１に示すカラーフィ
ルタを得た。得られたカラーフィルタの表面形状を段差
計れ（日本真空技術製 Ｄｅｋｔａｋ）で測定した結
果、ＢＭパターン上の画素端部においても、画素の盛り
上がりが無く平坦なものとなっており、画素の無い部分
を除く画素表面の最大の段差は、０．１μｍであった。
また、このものは透明層、画素において問題となる程度
の異物は見られなかった。EXAMPLE A method of forming a resin film A negative acrylic resin, which is a pixel forming resin manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., and the same resin solution except that no pigment was added were applied to a 25 μm-thick polyethylene terephthalate. It was applied to a uniform thickness and dried for 2 minutes in a dryer at 100 ° C., and a polyethylene film having a thickness of 30 μm was laminated as a protective film to obtain a resin film. The thickness of the negative resin layer after drying was 0.8 μm. A method for forming a BM pattern forming substrate (resin BM, film thickness of 0.
8 μm) On a glass plate 0.7 mm in thickness, a carbon pigment-dispersed photosensitive acrylic resin solution manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. is applied to the entire surface using a spinner, dried, and exposed through a mask having a predetermined pattern. After exposure with (manufactured by Dainippon Screen), it was spray-developed with a 0.3% by weight aqueous KOH solution at 30 ° C. and heated at 150 ° C. for 30 minutes to obtain a BM pattern-formed substrate. The thickness of this BM pattern was 0.8 μm. Next, while holding the BM pattern forming substrate at 80 ° C. and peeling off the protective film of the negative type resin film, the resin layer was rolled at a temperature of 100 ° C. and a roll pressure of 4 kg.
/ Cm 2 at a speed of 2 m / min. Next, after exposing through a mask of a predetermined pattern, the polyethylene terephthalate film was removed and
Spray development with an aqueous solution of Na 2 CO 3 by weight
An unexposed portion on the pattern was removed, and a structure substrate in which a portion having no BM pattern was filled with a transparent layer was prepared. BM formed
Both the thickness of the pattern and the thickness of the transparent layer are 0.8 μm
And a partially planarized substrate without a BM pattern planarized over the entire surface. R, G, and B pixels were formed on the transparent layer of the flattened substrate using a film transfer method so that the ends of the BM and the ends of the pixels overlapped each other to obtain a color filter shown in FIG. As a result of measuring the surface shape of the obtained color filter with a step measurement (Dektak, manufactured by Japan Vacuum Technology), the pixel end portion on the BM pattern is flat without any bulge of the pixel, and has no pixel. The largest step on the pixel surface except for was 0.1 μm.
In this case, no foreign matter of a problem level was observed in the transparent layer and the pixel.
【０００７】[0007]
【効果】本発明によれば、ＢＭ形成基板に積層する透明
樹脂は乾燥状態であるため、樹脂液を塗布する場合と比
較してごみが付着しにくく、また、軽くのったごみはエ
アーブロー等で簡単に除去できるため、高い歩留りでカ
ラーフィルタを製造することができる。According to the present invention, since the transparent resin laminated on the BM-formed substrate is in a dry state, dust is less likely to adhere as compared with a case where a resin liquid is applied, and lightly-dusted dust is air blown. For example, a color filter can be manufactured with a high yield.
【図１】本発明のカラーフィルタの断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a color filter of the present invention.
１ ガラス基板 ２ ブラックマトリクス（ＢＭ）パターン層 ３ 透明樹脂層 ４ 着色画素 Reference Signs List 1 glass substrate 2 black matrix (BM) pattern layer 3 transparent resin layer 4 colored pixel
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伴野 秀邦 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社筑波開発研究所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hidekuni Banno 48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Within Tsukuba Development Laboratory, Hitachi Chemical Co., Ltd.
Claims (2)
れた透明基板上のブラックマトリックスパターンの無い
部分を透明層で埋めて平坦化する工程を備えるカラーフ
ィルタの製造法において、前記透明層をネガ型透明樹脂
層を含むフィルムを用いたフィルム転写法で形成するこ
とを特徴とするカラ−フィルタの製造法。1. A method for producing a color filter, comprising a step of filling a portion of a transparent substrate on which a black matrix pattern is not formed with a black matrix pattern with a transparent layer and flattening the transparent layer, wherein the transparent layer is a negative type transparent resin layer. A method for producing a color filter, wherein the color filter is formed by a film transfer method using a film containing:
から色材成分のみ除いたものである請求項１のカラーフ
ィルタの製造法。2. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the resin composition of the transparent layer is obtained by removing only a color material component from a pixel forming material composition.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20666497A JPH1152121A (en) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20666497A JPH1152121A (en) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1152121A true JPH1152121A (en) | 1999-02-26 |
Family
ID=16527097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20666497A Pending JPH1152121A (en) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1152121A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007030906A2 (en) | 2005-09-12 | 2007-03-22 | FIAT AUTOMÓVEIS S.A. - Filial Mecânica | Cold start up auxiliary system for alcohol and flex engines with air-inlet and alcohol warm up |
| CN108594511A (en) * | 2018-04-03 | 2018-09-28 | 东旭（昆山）显示材料有限公司 | Color membrane substrates, the preparation method of color membrane substrates and display panel |
-
1997
- 1997-07-31 JP JP20666497A patent/JPH1152121A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007030906A2 (en) | 2005-09-12 | 2007-03-22 | FIAT AUTOMÓVEIS S.A. - Filial Mecânica | Cold start up auxiliary system for alcohol and flex engines with air-inlet and alcohol warm up |
| CN108594511A (en) * | 2018-04-03 | 2018-09-28 | 东旭（昆山）显示材料有限公司 | Color membrane substrates, the preparation method of color membrane substrates and display panel |
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