JPH1149954A - 離型剤 - Google Patents
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- JPH1149954A JPH1149954A JP9220080A JP22008097A JPH1149954A JP H1149954 A JPH1149954 A JP H1149954A JP 9220080 A JP9220080 A JP 9220080A JP 22008097 A JP22008097 A JP 22008097A JP H1149954 A JPH1149954 A JP H1149954A
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- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/56—Coatings, e.g. enameled or galvanised; Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/60—Releasing, lubricating or separating agents
- B29C33/62—Releasing, lubricating or separating agents based on polymers or oligomers
- B29C33/64—Silicone
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
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- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/045—Polysiloxanes containing less than 25 silicon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
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- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
- Processes Of Treating Macromolecular Substances (AREA)
- Fixing For Electrophotography (AREA)
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- Adhesive Tapes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性および離型性に優れ、かつ、熱分解に
よるホルムアルデヒドの発生が抑制された離型剤を提供
する。 【解決手段】 （Ａ）ジメチルポリシロキサンと（Ｂ）
フェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサンからな
る混合物であり、該混合物の平均フェノール当量が１
０,０００〜５,０００,０００の範囲であり、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が５,０００ppm以下であり、２５℃における粘度が５０
〜１００,０００センチストークスであることを特徴と
する離型剤。
よるホルムアルデヒドの発生が抑制された離型剤を提供
する。 【解決手段】 （Ａ）ジメチルポリシロキサンと（Ｂ）
フェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサンからな
る混合物であり、該混合物の平均フェノール当量が１
０,０００〜５,０００,０００の範囲であり、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が５,０００ppm以下であり、２５℃における粘度が５０
〜１００,０００センチストークスであることを特徴と
する離型剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は離型剤に関し、詳し
くは、耐熱性および離型性に優れ、かつ、熱分解による
ホルムアルデヒドの発生が抑制された離型剤に関する。
くは、耐熱性および離型性に優れ、かつ、熱分解による
ホルムアルデヒドの発生が抑制された離型剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、オルガノポリシロキサン油は耐熱
性および離型性が良好であることから、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂または各種ゴムの成型時に使用される金型
離型剤や、静電複写装置のトナー用離型剤として広く使
用されている。しかし、オルガノポリシロキサン油の中
でも代表的なジメチルポリシロキサン油を金型離型剤と
して使用した場合に、金型表面の温度が１５０℃程度に
なると徐々に熱分解し、さらに２００℃以上の高温度に
なるとかなり急激に熱分解して粘着性のゲル状物が発生
したり、有害物質であるホルムアルデヒドが発生したり
するという問題点があった。また、高速のゼログラフィ
ー複写機においてはヒートロールを２００℃程度の高温
度条件下で使用するため、トナー離型剤として使用され
ているジメチルポリシロキサン油が熱分解してホルムア
ルデヒドを発生することがあるという問題点があった。
さらに最近では、成型時の生産性を上げたり定着時間を
短縮したりするために、金型や複写機のヒートロールの
温度を一段と上昇させる傾向にある。そのため本発明者
らは既に、耐熱性を向上させた離型剤として、フェノー
ル基含有ジオルガノポリシロキサンからなる離型剤（特
開平７―２１６３７６号公報参照）を提案している。し
かしながら、この離型剤はケイ素原子数２０以下のジメ
チルシロキサンオリゴマーを２０,０００〜２００,００
０ppmと多量に含有するものであった。そのため、これ
を高温度条件下で長時間使用すると、該ジメチルシロキ
サンオリゴマーが蒸発して排気ファンなどに付着して油
状の汚れとなったり、さらにその油状物が落下して成型
物を汚染するという欠点があった。その上、該ジメチル
シロキサンオリゴマーが酸化して二酸化ケイ素粉末とな
り、周辺の電気電子部品に悪影響を与えるという重大な
欠点があり、特にゼログラフィー複写機においては、コ
ロトロン上にこの二酸化ケイ素粉末が付着して鮮明なコ
ピーが取れないという欠点があった。
性および離型性が良好であることから、熱可塑性樹脂、
熱硬化性樹脂または各種ゴムの成型時に使用される金型
離型剤や、静電複写装置のトナー用離型剤として広く使
用されている。しかし、オルガノポリシロキサン油の中
でも代表的なジメチルポリシロキサン油を金型離型剤と
して使用した場合に、金型表面の温度が１５０℃程度に
なると徐々に熱分解し、さらに２００℃以上の高温度に
なるとかなり急激に熱分解して粘着性のゲル状物が発生
したり、有害物質であるホルムアルデヒドが発生したり
するという問題点があった。また、高速のゼログラフィ
ー複写機においてはヒートロールを２００℃程度の高温
度条件下で使用するため、トナー離型剤として使用され
ているジメチルポリシロキサン油が熱分解してホルムア
ルデヒドを発生することがあるという問題点があった。
さらに最近では、成型時の生産性を上げたり定着時間を
短縮したりするために、金型や複写機のヒートロールの
温度を一段と上昇させる傾向にある。そのため本発明者
らは既に、耐熱性を向上させた離型剤として、フェノー
ル基含有ジオルガノポリシロキサンからなる離型剤（特
開平７―２１６３７６号公報参照）を提案している。し
かしながら、この離型剤はケイ素原子数２０以下のジメ
チルシロキサンオリゴマーを２０,０００〜２００,００
０ppmと多量に含有するものであった。そのため、これ
を高温度条件下で長時間使用すると、該ジメチルシロキ
サンオリゴマーが蒸発して排気ファンなどに付着して油
状の汚れとなったり、さらにその油状物が落下して成型
物を汚染するという欠点があった。その上、該ジメチル
シロキサンオリゴマーが酸化して二酸化ケイ素粉末とな
り、周辺の電気電子部品に悪影響を与えるという重大な
欠点があり、特にゼログラフィー複写機においては、コ
ロトロン上にこの二酸化ケイ素粉末が付着して鮮明なコ
ピーが取れないという欠点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記問
題点を解消するために鋭意検討した結果、フェノール性
水酸基含有オルガノポリシロキサンとジメチルポリシロ
キサンを混合して、該混合物の平均フェノール当量とケ
イ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの
含有量と粘度を特定の範囲内に設定すれば、上記問題点
が解決されると同時に、有害物質であるホルムアルデヒ
ドの発生を抑制することができることを見出し、本発明
に到達した。すなわち、本発明の目的は、耐熱性および
離型性に優れ、かつ、熱分解によるホルムアルデヒドの
発生が抑制された離型剤を提供することにある。
題点を解消するために鋭意検討した結果、フェノール性
水酸基含有オルガノポリシロキサンとジメチルポリシロ
キサンを混合して、該混合物の平均フェノール当量とケ
イ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの
含有量と粘度を特定の範囲内に設定すれば、上記問題点
が解決されると同時に、有害物質であるホルムアルデヒ
ドの発生を抑制することができることを見出し、本発明
に到達した。すなわち、本発明の目的は、耐熱性および
離型性に優れ、かつ、熱分解によるホルムアルデヒドの
発生が抑制された離型剤を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）ジメチ
ルポリシロキサンと（Ｂ）フェノール性水酸基含有オル
ガノポリシロキサンからなる混合物であり、該混合物の
平均フェノール当量が１０,０００〜５,０００,０００
の範囲であり、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキ
サンオリゴマーの含有量が５,０００ppm以下であり、２
５℃における粘度が５０〜１００,０００センチストー
クスであることを特徴とする離型剤に関する。
ルポリシロキサンと（Ｂ）フェノール性水酸基含有オル
ガノポリシロキサンからなる混合物であり、該混合物の
平均フェノール当量が１０,０００〜５,０００,０００
の範囲であり、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキ
サンオリゴマーの含有量が５,０００ppm以下であり、２
５℃における粘度が５０〜１００,０００センチストー
クスであることを特徴とする離型剤に関する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明に使用される（Ａ）成分の
ジメチルポリシロキサンは、直鎖状または一部分岐鎖を
有する直鎖状の分子構造を有するものであり、その分子
鎖末端は、通常、メチル基もしくは水酸基である。そし
て２５℃における粘度は、５０〜１００,０００センチ
ストークスの範囲であることが好ましく、より好ましく
は、１００〜５０,０００センチストークスの範囲であ
る。これは、５０センチストークス未満であると揮発性
を示して離型性が不十分となり、また、１００,０００
センチストークスを越えると粘性が大きすぎるために離
型剤としての取り扱いに不便が生じるためである。ま
た、本成分のジメチルポリシロキサンは、ケイ素原子数
２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量が５
００ppm以下であることが好ましい。ここで、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーとは、一
般式：
ジメチルポリシロキサンは、直鎖状または一部分岐鎖を
有する直鎖状の分子構造を有するものであり、その分子
鎖末端は、通常、メチル基もしくは水酸基である。そし
て２５℃における粘度は、５０〜１００,０００センチ
ストークスの範囲であることが好ましく、より好ましく
は、１００〜５０,０００センチストークスの範囲であ
る。これは、５０センチストークス未満であると揮発性
を示して離型性が不十分となり、また、１００,０００
センチストークスを越えると粘性が大きすぎるために離
型剤としての取り扱いに不便が生じるためである。ま
た、本成分のジメチルポリシロキサンは、ケイ素原子数
２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量が５
００ppm以下であることが好ましい。ここで、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーとは、一
般式：
【化３】 （式中、Ｒ3は水酸基もしくはメチル基であり、ｐは０
〜１９の整数である。）で示される直鎖状ジメチルシロ
キサンオリゴマー、および式：
〜１９の整数である。）で示される直鎖状ジメチルシロ
キサンオリゴマー、および式：
【化４】 （式中、ｑは３〜２０の整数である。）で示される環状
ジメチルシロキサンオリゴマーを示している。本成分に
おいて、このケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサ
ンオリゴマーの含有量は５００ppm以下であることが好
ましく、より好ましくは４００ppm以下であり、さらに
好ましくは１００ppm以下である。これは、該ジメチル
シロキサンオリゴマーの含有量が５００ppmを越える
と、本発明の離型剤を例えば金型離型剤として高温度条
件下で使用したときに、該ジメチルシロキサンオリゴマ
ーが蒸発して排気ファンなどに付着して油状物の汚れと
なったり、さらにその油状物が落下して成型品を汚染し
たり、また、該ジメチルシロキサンオリゴマーが熱によ
り酸化して二酸化ケイ素粉末となり、これが周辺の種々
の電気電子部品に悪影響を及ぼしたりすることがあるた
めである。なお、ケイ素原子数が２０である直鎖状ジメ
チルシロキサンオリゴマーは、その沸点が８３０℃であ
り揮発性である。このような本成分のジメチルポリシロ
キサンは、例えば、環状のジメチルシロキサンオリゴマ
ーを、末端封鎖剤存在下で酸触媒または塩基触媒により
平衡化重合した後、ストリッピングすることによりケイ
素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーを
５,０００〜３０,０００ppm含有するジメチルポリシロ
キサンを得、次いで、２７０〜３５０℃、０.１〜１５m
mHgの条件下で薄膜蒸発機により該ジメチルシロキサン
オリゴマーを除去する方法、または、メタノール，エタ
ノール，ｎ−ブタノール，イソプロピルアルコールのよ
うなアルコール；アセトン，メチルエチルケトンのよう
なケトン；ヘキサン，ベンゼン，トルエン，キシレン等
の各種有機溶剤もしくはこれらの混合有機溶媒を用いて
該ジメチルシロキサンオリゴマーを抽出除去する方法、
または、これらの方法を組み合わせて該ジメチルシロキ
サンオリゴマーを除去する方法等により製造することが
できる。好ましくは、有機溶媒抽出によりジメチルシロ
キサンオリゴマーを除去する方法であり、より好ましく
は、薄膜蒸発機および有機溶媒抽出によりジメチルシロ
キサンオリゴマーを除去する方法である。
ジメチルシロキサンオリゴマーを示している。本成分に
おいて、このケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサ
ンオリゴマーの含有量は５００ppm以下であることが好
ましく、より好ましくは４００ppm以下であり、さらに
好ましくは１００ppm以下である。これは、該ジメチル
シロキサンオリゴマーの含有量が５００ppmを越える
と、本発明の離型剤を例えば金型離型剤として高温度条
件下で使用したときに、該ジメチルシロキサンオリゴマ
ーが蒸発して排気ファンなどに付着して油状物の汚れと
なったり、さらにその油状物が落下して成型品を汚染し
たり、また、該ジメチルシロキサンオリゴマーが熱によ
り酸化して二酸化ケイ素粉末となり、これが周辺の種々
の電気電子部品に悪影響を及ぼしたりすることがあるた
めである。なお、ケイ素原子数が２０である直鎖状ジメ
チルシロキサンオリゴマーは、その沸点が８３０℃であ
り揮発性である。このような本成分のジメチルポリシロ
キサンは、例えば、環状のジメチルシロキサンオリゴマ
ーを、末端封鎖剤存在下で酸触媒または塩基触媒により
平衡化重合した後、ストリッピングすることによりケイ
素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーを
５,０００〜３０,０００ppm含有するジメチルポリシロ
キサンを得、次いで、２７０〜３５０℃、０.１〜１５m
mHgの条件下で薄膜蒸発機により該ジメチルシロキサン
オリゴマーを除去する方法、または、メタノール，エタ
ノール，ｎ−ブタノール，イソプロピルアルコールのよ
うなアルコール；アセトン，メチルエチルケトンのよう
なケトン；ヘキサン，ベンゼン，トルエン，キシレン等
の各種有機溶剤もしくはこれらの混合有機溶媒を用いて
該ジメチルシロキサンオリゴマーを抽出除去する方法、
または、これらの方法を組み合わせて該ジメチルシロキ
サンオリゴマーを除去する方法等により製造することが
できる。好ましくは、有機溶媒抽出によりジメチルシロ
キサンオリゴマーを除去する方法であり、より好ましく
は、薄膜蒸発機および有機溶媒抽出によりジメチルシロ
キサンオリゴマーを除去する方法である。
【０００６】本発明に使用される（Ｂ）成分のフェノー
ル性水酸基含有オルガノポリシロキサンとしては、例え
ば、平均組成式：
ル性水酸基含有オルガノポリシロキサンとしては、例え
ば、平均組成式：
【化５】 で示される化合物が挙げられる。上式中、Ｒは置換もし
くは非置換の１価炭化水素基であり、メチル基，エチル
基，プロピル基，ヘキシル基，オクチル基などのアルキ
ル基；ビニル基，アリル基，ヘキセニル基のようなアル
ケニル基；フェニル基のようなアリール基；式：―ＣＨ
2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｃ6Ｈ5で表されるようなアリーレン
アルキル基；３,３,３−トリフルオロプロピル基のよう
な置換炭化水素基が例示される。これらの中でもメチル
基が最も一般的である。Ｒ1は２価炭化水素基であり、
エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，イソブチレン
基のようなアルキレン基；式：―（ＣＨ2）2―Ｃ6Ｈ4−
で示されるようなアルキレンアリーレン基が例示され
る。これらの中でもエチレン基またはプロピレン基が最
も一般的である。Ｒ2は１価有機基であり、上記Ｒで示
されるような置換もしくは非置換の１価炭化水素基，水
酸基，メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基など
が挙げられる。Ａは上記Ｒで示されるような置換もしく
は非置換の１価炭化水素基または式：
くは非置換の１価炭化水素基であり、メチル基，エチル
基，プロピル基，ヘキシル基，オクチル基などのアルキ
ル基；ビニル基，アリル基，ヘキセニル基のようなアル
ケニル基；フェニル基のようなアリール基；式：―ＣＨ
2−ＣＨ（ＣＨ3）−Ｃ6Ｈ5で表されるようなアリーレン
アルキル基；３,３,３−トリフルオロプロピル基のよう
な置換炭化水素基が例示される。これらの中でもメチル
基が最も一般的である。Ｒ1は２価炭化水素基であり、
エチレン基，プロピレン基，ブチレン基，イソブチレン
基のようなアルキレン基；式：―（ＣＨ2）2―Ｃ6Ｈ4−
で示されるようなアルキレンアリーレン基が例示され
る。これらの中でもエチレン基またはプロピレン基が最
も一般的である。Ｒ2は１価有機基であり、上記Ｒで示
されるような置換もしくは非置換の１価炭化水素基，水
酸基，メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基など
が挙げられる。Ａは上記Ｒで示されるような置換もしく
は非置換の１価炭化水素基または式：
【化６】 （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じであり、ａは０〜４
の整数である。）で示されるフェノール性水酸基であ
る。フェノール環中の水酸基は、オルト，メタ，パラの
どの位置に結合していてもよい。かかるフェノール性水
酸基としては、下記式で示される基が例示される。
の整数である。）で示されるフェノール性水酸基であ
る。フェノール環中の水酸基は、オルト，メタ，パラの
どの位置に結合していてもよい。かかるフェノール性水
酸基としては、下記式で示される基が例示される。
【化７】 ａは０〜４の整数であり、ｍは１以上の整数であり、ｎ
は０以上の整数であり、ｍ＋ｎは２５℃における粘度が
５０〜１００,０００センチストークスになる数であ
る。尚、ｎが０である場合に、Ａは上式で示されるフェ
ノール性水酸基である。また、本成分のフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンは、ケイ素原子数２０
以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量が５０,
０００ppm以下であることが好ましく、このようなフェ
ノール性水酸基含有オルガノポリシロキサンは、例え
ば、ケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロ
キサンに、ｐ―アリルフェノールを塩化白金酸等の付加
反応触媒の存在下で付加反応させた後、１５０〜１８０
℃，２０〜５０mmHgの減圧下でストリッピング処理し
て、できるだけジメチルシロキサンオリゴマーを除去す
る。しかる後に、これを薄膜化してケイ素原子数２０以
下のジメチルシロキサンオリゴマーを蒸発させて除去す
ることにより製造することができる。
は０以上の整数であり、ｍ＋ｎは２５℃における粘度が
５０〜１００,０００センチストークスになる数であ
る。尚、ｎが０である場合に、Ａは上式で示されるフェ
ノール性水酸基である。また、本成分のフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンは、ケイ素原子数２０
以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量が５０,
０００ppm以下であることが好ましく、このようなフェ
ノール性水酸基含有オルガノポリシロキサンは、例え
ば、ケイ素原子結合水素原子を有するオルガノポリシロ
キサンに、ｐ―アリルフェノールを塩化白金酸等の付加
反応触媒の存在下で付加反応させた後、１５０〜１８０
℃，２０〜５０mmHgの減圧下でストリッピング処理し
て、できるだけジメチルシロキサンオリゴマーを除去す
る。しかる後に、これを薄膜化してケイ素原子数２０以
下のジメチルシロキサンオリゴマーを蒸発させて除去す
ることにより製造することができる。
【０００７】本発明の離型剤は上記（Ａ）成分と（Ｂ）
成分を混合して、平均フェノール当量を１０,０００〜
５,０００,０００の範囲にし、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーの含有量を５,０００ppm
以下とし、２５℃における粘度を５０〜１００,０００
センチストークスの範囲に調整したものである。このよ
うな本発明の離型剤は、例えば、（Ａ）成分としてケイ
素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含
有量が０ppmである粘度１,０００センチストークスのジ
メチルポリシロキサン１８０部に、（Ｂ）成分の平均組
成式：
成分を混合して、平均フェノール当量を１０,０００〜
５,０００,０００の範囲にし、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーの含有量を５,０００ppm
以下とし、２５℃における粘度を５０〜１００,０００
センチストークスの範囲に調整したものである。このよ
うな本発明の離型剤は、例えば、（Ａ）成分としてケイ
素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含
有量が０ppmである粘度１,０００センチストークスのジ
メチルポリシロキサン１８０部に、（Ｂ）成分の平均組
成式：
【化８】 で表される粘度２５０センチストークス、平均フェノー
ル当量３,９００、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量が２,５００ppmであるフェ
ノール性水酸基含有オルガノポリシロキサン１２０部を
添加配合して、平均フェノール当量１０,０００、粘度
５７５センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメ
チルシロキサンオリゴマーの含有量を１,０００ppmに調
節することにより製造することができる。
ル当量３,９００、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量が２,５００ppmであるフェ
ノール性水酸基含有オルガノポリシロキサン１２０部を
添加配合して、平均フェノール当量１０,０００、粘度
５７５センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメ
チルシロキサンオリゴマーの含有量を１,０００ppmに調
節することにより製造することができる。
【０００８】本発明の離型剤は上記（Ａ）成分と（Ｂ）
成分からなる混合物であるが、これらの成分に加えて、
マイカ，タルク，酸化亜鉛，炭酸カルシウムのような無
機粉体；パラフィン，ワックスのような有機物；トルエ
ン，キシレン，ヘキサン，ヘプタン，ゴム揮発油のよう
な有機溶剤を添加混合してもよい。また、本発明の離型
剤を乳化することにより、エマルジョンとして使用する
こともできる。エマルジョンの調製は、例えば、上記
（Ａ）成分と（Ｂ）成分からなる混合物に、ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル類，ポリオキシアルキレン
アルキルフェノールエーテル類，ポリオキシアルキレン
アルキルエステル類，ソルビタンアルキルエステル類，
ポリオキシアルキレンソルビタンアルキルエステル類の
ような非イオン系界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩，高級アルコール硫酸エステル塩等のアニオン系
界面活性剤の１種または２種以上と水を加えて通常の方
法により乳化すればよい。
成分からなる混合物であるが、これらの成分に加えて、
マイカ，タルク，酸化亜鉛，炭酸カルシウムのような無
機粉体；パラフィン，ワックスのような有機物；トルエ
ン，キシレン，ヘキサン，ヘプタン，ゴム揮発油のよう
な有機溶剤を添加混合してもよい。また、本発明の離型
剤を乳化することにより、エマルジョンとして使用する
こともできる。エマルジョンの調製は、例えば、上記
（Ａ）成分と（Ｂ）成分からなる混合物に、ポリオキシ
アルキレンアルキルエーテル類，ポリオキシアルキレン
アルキルフェノールエーテル類，ポリオキシアルキレン
アルキルエステル類，ソルビタンアルキルエステル類，
ポリオキシアルキレンソルビタンアルキルエステル類の
ような非イオン系界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホ
ン酸塩，高級アルコール硫酸エステル塩等のアニオン系
界面活性剤の１種または２種以上と水を加えて通常の方
法により乳化すればよい。
【０００９】以上のような本発明の離型剤は、合成繊維
の口金用離型剤，ゼログラフィー複写機用トナー離型
剤，ダイキャスト，鋳物成型用離型剤，ゴム製マット，
ホース，タイヤ等の成型用離型剤，プラスチック成型用
離型剤として有用である。 また、これを例えば、フェノ
ール樹脂，エポキシ樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂のよ
うな熱硬化性樹脂；ポリ塩化ビニル，ポリエチレン，ポ
リプロピレン，酢酸ビニルおよびこれらの共重合体，ナ
イロン，ポリエステル，ポリスチレン，アクリロニトリ
ル／スチレン共重合体，アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレン共重合体，ポリアクリル酸エステル，ポリカ
ーボネート，ポリウレタン，ポリアセタールのような熱
可塑性樹脂；シリコーンゴム，イソプレンゴム，スチレ
ン・ブタジエンゴム，クロロプロピレンゴムのような有
機ゴムまたは天然ゴムに添加配合して、その離型性を向
上させるための内部添加型離型剤としても有用である。
の口金用離型剤，ゼログラフィー複写機用トナー離型
剤，ダイキャスト，鋳物成型用離型剤，ゴム製マット，
ホース，タイヤ等の成型用離型剤，プラスチック成型用
離型剤として有用である。 また、これを例えば、フェノ
ール樹脂，エポキシ樹脂，尿素樹脂，メラミン樹脂のよ
うな熱硬化性樹脂；ポリ塩化ビニル，ポリエチレン，ポ
リプロピレン，酢酸ビニルおよびこれらの共重合体，ナ
イロン，ポリエステル，ポリスチレン，アクリロニトリ
ル／スチレン共重合体，アクリロニトリル／ブタジエン
／スチレン共重合体，ポリアクリル酸エステル，ポリカ
ーボネート，ポリウレタン，ポリアセタールのような熱
可塑性樹脂；シリコーンゴム，イソプレンゴム，スチレ
ン・ブタジエンゴム，クロロプロピレンゴムのような有
機ゴムまたは天然ゴムに添加配合して、その離型性を向
上させるための内部添加型離型剤としても有用である。
【００１０】
【実施例】次に本発明を実施例にて説明する。実施例
中、部とあるのは重量部を意味し、粘度は２５℃におけ
る値である。なお、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量は、ガスクロマトグラフィ
により測定した。また、得られた離型剤の耐熱性，離型
性，ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸発の有無，ホル
ムアルデヒドの発生量の測定は、次の方法に従って行っ
た。 ○耐熱性 離型剤２グラムを、直径５ｃｍ×深さ２ｃｍのアルミニ
ウム製カップに入れ、これを２００℃の熱風循環式オー
ブンに入れて所定時間（１００時間，２００時間，３０
０時間）経過後の外観を観察した。耐熱性の判定は次の
ように表示した。 ○：良好（粘度の上昇がなく、ゲル化も見られなかっ
た。） △：やや不良（表面に薄い膜ができた。ただし、内部は
流動性があった。） ×：不良（完全にゲル化して全体がゴム状になった。） ○離型性 ２５ｃｍ×２５ｃｍ×０.５ｃｍのゴム片成型用の鉄製
の金型（鏡面仕上げ）に離型剤を塗布した後、２００℃
で１５時間加熱処理した。これを冷却後、トルエン溶剤
を入れた槽に浸漬し、軽く振とうして洗浄した。この金
型に、スチレン−ブタジエンの未加硫ゴムを充填し、圧
力２０ｋｇ／ｃｍ2，温度１５０℃の条件下で１５分間
加硫した。そして加硫後のゴムの離型性を測定した。 ○ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸発の有無 １００ｃｃのビーカーに離型剤を２５ｃｃ入れて、これ
を３００ｃｃのビーカーで覆った後、２００℃で５時間
加熱して、ビーカー内側のジメチルシロキサンオリゴマ
ーの付着状況を観察することにより、蒸発の有無を測定
した。 ○ホルムアルデヒドの発生量 離型剤を試料容器に精秤した後、２００℃に加熱して、
１００ｍｌ／ｍｉｎの空気を流しながら５時間加熱処理
した。そして発生するホルムアルデヒドを液体捕集
（０.２％，２,４−ＤＮＰ，２Ｎ−ＨＣｌ溶液）で誘導
体化した。生成した誘導体化物をクロロホルムで抽出し
た後、ＨＰＬＣ法で分析してホルムアルデヒドの発生量
（ｐｐｍ）を測定した。
中、部とあるのは重量部を意味し、粘度は２５℃におけ
る値である。なお、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量は、ガスクロマトグラフィ
により測定した。また、得られた離型剤の耐熱性，離型
性，ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸発の有無，ホル
ムアルデヒドの発生量の測定は、次の方法に従って行っ
た。 ○耐熱性 離型剤２グラムを、直径５ｃｍ×深さ２ｃｍのアルミニ
ウム製カップに入れ、これを２００℃の熱風循環式オー
ブンに入れて所定時間（１００時間，２００時間，３０
０時間）経過後の外観を観察した。耐熱性の判定は次の
ように表示した。 ○：良好（粘度の上昇がなく、ゲル化も見られなかっ
た。） △：やや不良（表面に薄い膜ができた。ただし、内部は
流動性があった。） ×：不良（完全にゲル化して全体がゴム状になった。） ○離型性 ２５ｃｍ×２５ｃｍ×０.５ｃｍのゴム片成型用の鉄製
の金型（鏡面仕上げ）に離型剤を塗布した後、２００℃
で１５時間加熱処理した。これを冷却後、トルエン溶剤
を入れた槽に浸漬し、軽く振とうして洗浄した。この金
型に、スチレン−ブタジエンの未加硫ゴムを充填し、圧
力２０ｋｇ／ｃｍ2，温度１５０℃の条件下で１５分間
加硫した。そして加硫後のゴムの離型性を測定した。 ○ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸発の有無 １００ｃｃのビーカーに離型剤を２５ｃｃ入れて、これ
を３００ｃｃのビーカーで覆った後、２００℃で５時間
加熱して、ビーカー内側のジメチルシロキサンオリゴマ
ーの付着状況を観察することにより、蒸発の有無を測定
した。 ○ホルムアルデヒドの発生量 離型剤を試料容器に精秤した後、２００℃に加熱して、
１００ｍｌ／ｍｉｎの空気を流しながら５時間加熱処理
した。そして発生するホルムアルデヒドを液体捕集
（０.２％，２,４−ＤＮＰ，２Ｎ−ＨＣｌ溶液）で誘導
体化した。生成した誘導体化物をクロロホルムで抽出し
た後、ＨＰＬＣ法で分析してホルムアルデヒドの発生量
（ｐｐｍ）を測定した。
【００１１】
【合成例１】（Ａ）成分として次の２種類のジメチルポ
リシロキサンを製造した。 ○サンプルＡ 平衡化重合法により製造した、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーを２７,６００ppm含有す
る粘度１００センチストークスのトリメチルシロキシ基
封鎖ジメチルポリシロキサンを、温度２７０℃の薄膜蒸
発機（塔長４.５ｍ）に３〜４mmHgの減圧下で２回通過
させて、該ジメチルシロキサンオリゴマー量を３,４０
０ppmまで低減した。更にエタノールを３倍量用いて、
振とう２時間、静置２時間のアルコール抽出を７回繰り
返して、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオ
リゴマーの含有量が８ppmであり、粘度が１０９センチ
ストークスであるトリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポ
リシロキサンを調製した。 ○サンプルＢ 平衡化重合法により製造した、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーを３,４３０ppm含有する
粘度１０,０００センチストークスのトリメチルシロキ
シ基封鎖ジメチルポリシロキサンを、上記サンプルＡと
同様に処理して、該ジメチルシロキサンオリゴマーの含
有量が０ppmであり、粘度が１０,０１０センチストーク
スであるトリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキ
サンを調製した。
リシロキサンを製造した。 ○サンプルＡ 平衡化重合法により製造した、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーを２７,６００ppm含有す
る粘度１００センチストークスのトリメチルシロキシ基
封鎖ジメチルポリシロキサンを、温度２７０℃の薄膜蒸
発機（塔長４.５ｍ）に３〜４mmHgの減圧下で２回通過
させて、該ジメチルシロキサンオリゴマー量を３,４０
０ppmまで低減した。更にエタノールを３倍量用いて、
振とう２時間、静置２時間のアルコール抽出を７回繰り
返して、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオ
リゴマーの含有量が８ppmであり、粘度が１０９センチ
ストークスであるトリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポ
リシロキサンを調製した。 ○サンプルＢ 平衡化重合法により製造した、ケイ素原子数２０以下の
ジメチルシロキサンオリゴマーを３,４３０ppm含有する
粘度１０,０００センチストークスのトリメチルシロキ
シ基封鎖ジメチルポリシロキサンを、上記サンプルＡと
同様に処理して、該ジメチルシロキサンオリゴマーの含
有量が０ppmであり、粘度が１０,０１０センチストーク
スであるトリメチルシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキ
サンを調製した。
【００１２】
【合成例２】（Ｂ）成分として次の２種類のフェノール
性水酸基含有オルガノポリシロキサンを製造した。 ○サンプルＣ 平衡化重合法により製造した平均組成式：
性水酸基含有オルガノポリシロキサンを製造した。 ○サンプルＣ 平衡化重合法により製造した平均組成式：
【化９】 で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンに、
ｐ−アリルフェノールを付加反応させることにより得
た、平均組成式：
ｐ−アリルフェノールを付加反応させることにより得
た、平均組成式：
【化１０】 で示され、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサン
オリゴマーを１３６,７００ppm含有するフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンを、卓上型の薄膜蒸留
装置［神鋼ファウドラー（株）製］に２００℃、２〜３
mmHgの減圧下で２回通過させて、該ジメチルシロキサン
オリゴマーの含有量が８,５００ppmであり、フェノール
当量が４,４４０であり、粘度が７０２センチストーク
スであるフェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサ
ンを調製した。 ○サンプルＤ 平衡化重合法により製造した平均組成式：
オリゴマーを１３６,７００ppm含有するフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンを、卓上型の薄膜蒸留
装置［神鋼ファウドラー（株）製］に２００℃、２〜３
mmHgの減圧下で２回通過させて、該ジメチルシロキサン
オリゴマーの含有量が８,５００ppmであり、フェノール
当量が４,４４０であり、粘度が７０２センチストーク
スであるフェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサ
ンを調製した。 ○サンプルＤ 平衡化重合法により製造した平均組成式：
【化１１】 で示されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンに、
ｐ−アリル（２−メトキシ）フェノールを付加反応させ
ることにより得た、平均組成式：
ｐ−アリル（２−メトキシ）フェノールを付加反応させ
ることにより得た、平均組成式：
【化１２】 で表され、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサン
オリゴマーを１４３,２００ppm含有するフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンを、卓上型の薄膜蒸留
装置［神鋼ファウドラー（株）製］に２００℃、２〜３
mmHgの減圧下で２回通過させて、該ジメチルシロキサン
オリゴマーの含有量が７,６００ppmであり、フェノール
当量が１,５００であり、粘度が１０７センチストーク
スであるフェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサ
ンを調製した。
オリゴマーを１４３,２００ppm含有するフェノール性水
酸基含有オルガノポリシロキサンを、卓上型の薄膜蒸留
装置［神鋼ファウドラー（株）製］に２００℃、２〜３
mmHgの減圧下で２回通過させて、該ジメチルシロキサン
オリゴマーの含有量が７,６００ppmであり、フェノール
当量が１,５００であり、粘度が１０７センチストーク
スであるフェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサ
ンを調製した。
【００１３】
【実施例１】合成例１および合成例２で製造したサンプ
ルＡ９０部とサンプルＣ１０部を均一に混合して、平均
フェノール当量４４,４００、粘度１２１センチストー
クス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリ
ゴマーの含有量が８５７ppmである離型剤を調製した。
この離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリゴ
マーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定し
た。それらの結果を表１に示し、離型剤としての総合評
価を併記した。
ルＡ９０部とサンプルＣ１０部を均一に混合して、平均
フェノール当量４４,４００、粘度１２１センチストー
クス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリ
ゴマーの含有量が８５７ppmである離型剤を調製した。
この離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリゴ
マーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定し
た。それらの結果を表１に示し、離型剤としての総合評
価を併記した。
【００１４】
【比較例１】実施例１において、サンプルＡのジメチル
ポリシロキサンの代わりに、ケイ素原子数２０以下のジ
メチルシロキサンオリゴマーの含有量が２７,６００pp
m、粘度１００センチストークスのジメチルポリシロキ
サンを用いた以外は実施例１と同様にして、平均フェノ
ール当量４４,４００、粘度１２０センチストークス、
ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマー
の含有量が２５,６９０ppmである離型剤を調製した。得
られた離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリ
ゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定
した。それらの結果を表１に示し、離型剤としての総合
評価を併記した。
ポリシロキサンの代わりに、ケイ素原子数２０以下のジ
メチルシロキサンオリゴマーの含有量が２７,６００pp
m、粘度１００センチストークスのジメチルポリシロキ
サンを用いた以外は実施例１と同様にして、平均フェノ
ール当量４４,４００、粘度１２０センチストークス、
ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマー
の含有量が２５,６９０ppmである離型剤を調製した。得
られた離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリ
ゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定
した。それらの結果を表１に示し、離型剤としての総合
評価を併記した。
【００１５】
【比較例２】実施例１において、サンプルＣを配合しな
かった以外は実施例１と同様にして、粘度１０９センチ
ストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサ
ンオリゴマーの含有量が８ppmである離型剤を調製し
た。得られた離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサ
ンオリゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量
を測定した。それらの結果を表１に示し、離型剤として
の総合評価を併記した。
かった以外は実施例１と同様にして、粘度１０９センチ
ストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサ
ンオリゴマーの含有量が８ppmである離型剤を調製し
た。得られた離型剤について耐熱性、ジメチルシロキサ
ンオリゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの発生量
を測定した。それらの結果を表１に示し、離型剤として
の総合評価を併記した。
【００１６】
【比較例３】実施例１において、サンプルＡを配合しな
かった以外は実施例１と同様にして、平均フェノール当
量４,４４０、粘度７０２センチストークス、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が８,５００ppmである離型剤を調製した。得られた離型
剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸
発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定した。それ
らの結果を表１に示し、離型剤としての総合評価を併記
した。
かった以外は実施例１と同様にして、平均フェノール当
量４,４４０、粘度７０２センチストークス、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が８,５００ppmである離型剤を調製した。得られた離型
剤について耐熱性、ジメチルシロキサンオリゴマーの蒸
発の有無、ホルムアルデヒドの発生量を測定した。それ
らの結果を表１に示し、離型剤としての総合評価を併記
した。
【００１７】
【比較例４】合成例１および合成例２で製造したサンプ
ルＡ９９９.９５部とサンプルＣ０.０５部を均一に混合
して、平均フェノール当量８,８８０,０００、粘度１０
９センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチル
シロキサンオリゴマーの含有量が９ppmである離型剤を
調製した。得られた離型剤について耐熱性、ジメチルシ
ロキサンオリゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの
発生量を測定した。それらの結果を表１に示し、離型剤
としての総合評価を併記した。
ルＡ９９９.９５部とサンプルＣ０.０５部を均一に混合
して、平均フェノール当量８,８８０,０００、粘度１０
９センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチル
シロキサンオリゴマーの含有量が９ppmである離型剤を
調製した。得られた離型剤について耐熱性、ジメチルシ
ロキサンオリゴマーの蒸発の有無、ホルムアルデヒドの
発生量を測定した。それらの結果を表１に示し、離型剤
としての総合評価を併記した。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【実施例２】合成例１および合成例２で製造したサンプ
ルＢ９９部とサンプルＤ１部を均一に混合して、平均フ
ェノール当量１５０,０００、粘度９,５４０センチスト
ークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオ
リゴマーの含有量が７６ppmである離型剤を調製した。
この離型剤について耐熱性、離型性およびホルムアルデ
ヒドの発生量を測定した。それらの結果を表２に示し、
離型剤としての総合評価を併記した。
ルＢ９９部とサンプルＤ１部を均一に混合して、平均フ
ェノール当量１５０,０００、粘度９,５４０センチスト
ークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオ
リゴマーの含有量が７６ppmである離型剤を調製した。
この離型剤について耐熱性、離型性およびホルムアルデ
ヒドの発生量を測定した。それらの結果を表２に示し、
離型剤としての総合評価を併記した。
【００２０】
【比較例５】実施例２において、サンプルＤを配合しな
かった以外は実施例２と同様にして、粘度１０,０１０
センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量が０ppmである離型剤を調
製した。得られた離型剤について耐熱性、離型性および
ホルムアルデヒドの発生量を測定した。それらの結果を
表２に示し、離型剤としての総合評価を併記した。
かった以外は実施例２と同様にして、粘度１０,０１０
センチストークス、ケイ素原子数２０以下のジメチルシ
ロキサンオリゴマーの含有量が０ppmである離型剤を調
製した。得られた離型剤について耐熱性、離型性および
ホルムアルデヒドの発生量を測定した。それらの結果を
表２に示し、離型剤としての総合評価を併記した。
【００２１】
【比較例６】実施例２において、サンプルＢを配合しな
かった以外は実施例２と同様にして、平均フェノール当
量１,５００、粘度１０７センチストークス、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が７,６００ppmである離型剤を調製した。得られた離型
剤について耐熱性、離型性およびホルムアルデヒドの発
生量を測定した。それらの結果を表２に示し、離型剤と
しての総合評価を併記した。
かった以外は実施例２と同様にして、平均フェノール当
量１,５００、粘度１０７センチストークス、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が７,６００ppmである離型剤を調製した。得られた離型
剤について耐熱性、離型性およびホルムアルデヒドの発
生量を測定した。それらの結果を表２に示し、離型剤と
しての総合評価を併記した。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【実施例３】実施例１で調製したサンプルＡ９０部とサ
ンプルＣ１０部の混合物である本発明の離型剤３０部
に、ポリオキシエチレン（８.５モル付加）ノニルフェ
ノールエーテル系乳化剤１.３部、ポリオキシエチレン
（６モル付加）ラウリルエーテル系乳化剤３.５部およ
び水６５.２部を加えて、コロイドミル型乳化機で乳化
して、エマルジョンを調製した。得られたエマルジョン
を水で３０倍に希釈して、これを、トレッドが複雑であ
る乗用車用スノータイヤのモールド用離型剤として使用
した。一方、比較例３で調製した離型剤（サンプルＣの
み）についても上記と同様にしてエマルジョンを調製し
て、乗用車用スノータイヤのモールド用離型剤として使
用した。その結果、２種のエマルジョンとも初期の離型
性能には差がみられなかった。しかしこれらのエマルジ
ョンを継続して使用したところ、比較例３のエマルジョ
ンからは、ＢＡＧ−Ｏ−ＭＡＴＩＣ型加硫機の上型にわ
ずかのタール分と同時にケイ素原子数２０以下のジメチ
ルシロキサンオリゴマーが検出された。さらに比較例３
のエマルジョンを用いて継続して成型を行ったところ、
タイヤ表面に該ジメチルシロキサンオリゴマーによるシ
ミ状の汚れが発生した。一方、実施例１のエマルジョン
を継続して使用しても、該ジメチルシロキサンオリゴマ
ーによる汚れは全く見られなかった。
ンプルＣ１０部の混合物である本発明の離型剤３０部
に、ポリオキシエチレン（８.５モル付加）ノニルフェ
ノールエーテル系乳化剤１.３部、ポリオキシエチレン
（６モル付加）ラウリルエーテル系乳化剤３.５部およ
び水６５.２部を加えて、コロイドミル型乳化機で乳化
して、エマルジョンを調製した。得られたエマルジョン
を水で３０倍に希釈して、これを、トレッドが複雑であ
る乗用車用スノータイヤのモールド用離型剤として使用
した。一方、比較例３で調製した離型剤（サンプルＣの
み）についても上記と同様にしてエマルジョンを調製し
て、乗用車用スノータイヤのモールド用離型剤として使
用した。その結果、２種のエマルジョンとも初期の離型
性能には差がみられなかった。しかしこれらのエマルジ
ョンを継続して使用したところ、比較例３のエマルジョ
ンからは、ＢＡＧ−Ｏ−ＭＡＴＩＣ型加硫機の上型にわ
ずかのタール分と同時にケイ素原子数２０以下のジメチ
ルシロキサンオリゴマーが検出された。さらに比較例３
のエマルジョンを用いて継続して成型を行ったところ、
タイヤ表面に該ジメチルシロキサンオリゴマーによるシ
ミ状の汚れが発生した。一方、実施例１のエマルジョン
を継続して使用しても、該ジメチルシロキサンオリゴマ
ーによる汚れは全く見られなかった。
【００２４】
【実施例４】実施例１で調製したサンプルＡ９０部とサ
ンプルＣ１０部の混合物である本発明の離型剤０.５kg
と６ナイロン樹脂チップ４.５kgを準備した。そして本
発明の離型剤の含有量がチップに対して１０重量％とな
るように、それぞれ小型ペレタイザーの定量ポンプ、計
量機を調整し、セット温度を２６０℃にして両成分を一
定量ずつ流しながらナイロン樹脂チップを溶融混練し
た。次いで、冷却して直径３ｍｍのスリットにより３ｍ
ｍの長さにカットして、本発明の離型剤を１０重量％含
む樹脂成型用離型剤添加のマスターチップを作製した。
このチップ２kgを各バットに分散して、これを１５０℃
に設定した、幅３０cm×奥行き３０cm×高さ２５cmの大
きさのミニジェットオーブン（ニクロム線で加熱）で２
４時間乾燥させた。乾燥後、オーブンの天井に全く汚れ
はなく、ニクロム線であるヒーター表面への二酸化ケイ
素粉末の付着も全く認められなかった。比較例として、
比較例３で調製した離型剤（サンプルＣのみ）を用いて
上記と同様にしてマスターチップを作製し、乾燥実験を
おこなった。乾燥後のオーブンの天井にはケイ素原子数
２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの付着が認め
られ、ニクロム線であるヒーター表面にはわずかに二酸
化ケイ素の白い粉末が付着していた。
ンプルＣ１０部の混合物である本発明の離型剤０.５kg
と６ナイロン樹脂チップ４.５kgを準備した。そして本
発明の離型剤の含有量がチップに対して１０重量％とな
るように、それぞれ小型ペレタイザーの定量ポンプ、計
量機を調整し、セット温度を２６０℃にして両成分を一
定量ずつ流しながらナイロン樹脂チップを溶融混練し
た。次いで、冷却して直径３ｍｍのスリットにより３ｍ
ｍの長さにカットして、本発明の離型剤を１０重量％含
む樹脂成型用離型剤添加のマスターチップを作製した。
このチップ２kgを各バットに分散して、これを１５０℃
に設定した、幅３０cm×奥行き３０cm×高さ２５cmの大
きさのミニジェットオーブン（ニクロム線で加熱）で２
４時間乾燥させた。乾燥後、オーブンの天井に全く汚れ
はなく、ニクロム線であるヒーター表面への二酸化ケイ
素粉末の付着も全く認められなかった。比較例として、
比較例３で調製した離型剤（サンプルＣのみ）を用いて
上記と同様にしてマスターチップを作製し、乾燥実験を
おこなった。乾燥後のオーブンの天井にはケイ素原子数
２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの付着が認め
られ、ニクロム線であるヒーター表面にはわずかに二酸
化ケイ素の白い粉末が付着していた。
【００２５】
【発明の効果】本発明の離型剤は、上記（Ａ）成分と
（Ｂ）成分からなる混合物であり、該混合物の平均フェ
ノール当量が１０,０００〜５,０００,０００であり、
ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマー
の含有量が５,０００ppm以下であることから、耐熱性お
よび離型性に優れ、かつ、高温度条件下で使用しても油
状揮発物や二酸化ケイ素粉末の発生がなく、有害物質で
あるホルムアルデヒドの発生が抑制されるという特徴を
有する。
（Ｂ）成分からなる混合物であり、該混合物の平均フェ
ノール当量が１０,０００〜５,０００,０００であり、
ケイ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマー
の含有量が５,０００ppm以下であることから、耐熱性お
よび離型性に優れ、かつ、高温度条件下で使用しても油
状揮発物や二酸化ケイ素粉末の発生がなく、有害物質で
あるホルムアルデヒドの発生が抑制されるという特徴を
有する。
フロントページの続き (72)発明者 小名 功 千葉県市原市千種海岸２番２ 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内
Claims (3)
- 【請求項１】 （Ａ）ジメチルポリシロキサンと（Ｂ）
フェノール性水酸基含有オルガノポリシロキサンからな
る混合物であり、該混合物の平均フェノール当量が１
０,０００〜５,０００,０００の範囲であり、ケイ素原
子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの含有量
が５,０００ppm以下であり、２５℃における粘度が５０
〜１００,０００センチストークスであることを特徴と
する離型剤。 - 【請求項２】 （Ａ）成分がケイ素原子数２０以下のジ
メチルシロキサンオリゴマーの含有量が５００ppm以下
であるジメチルポリシロキサンであり、（Ｂ）成分がケ
イ素原子数２０以下のジメチルシロキサンオリゴマーの
含有量が５０,０００ppm以下であるフェノール性水酸基
含有オルガノポリシロキサンである、請求項１に記載の
離型剤。 - 【請求項３】 （Ｂ）成分のフェノール性水酸基含有オ
ルガノポリシロキサンが、平均組成式： 【化１】 ［式中、Ｒは置換もしくは非置換の１価炭化水素基であ
り、Ｒ1は２価炭化水素基であり、Ｒ2は１価有機基であ
り、Ａは置換もしくは非置換の１価炭化水素基または
式： 【化２】 （式中、Ｒ1およびＲ2は前記と同じであり、ａは０〜４
の整数である。）で示されるフェノール性水酸基であ
る。ａは０〜４の整数であり、ｍは１以上の整数であ
り、ｎは０以上の整数であり、ｍ＋ｎは２５℃における
粘度が５０〜１００,０００センチストークスになる数
である。尚、ｎが０である場合に、Ａは上式で示される
フェノール性水酸基である。］で示される請求項１また
は請求項２に記載の離型剤。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220080A JPH1149954A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 離型剤 |
| EP98114195A EP0894597A3 (en) | 1997-07-31 | 1998-07-29 | Release agent |
| US09/124,143 US5919290A (en) | 1997-07-31 | 1998-07-29 | Release agent |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9220080A JPH1149954A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 離型剤 |
Publications (1)
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|---|---|
| JPH1149954A true JPH1149954A (ja) | 1999-02-23 |
Family
ID=16745627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9220080A Pending JPH1149954A (ja) | 1997-07-31 | 1997-07-31 | 離型剤 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5919290A (ja) |
| EP (1) | EP0894597A3 (ja) |
| JP (1) | JPH1149954A (ja) |
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- 1997-07-31 JP JP9220080A patent/JPH1149954A/ja active Pending
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1998
- 1998-07-29 US US09/124,143 patent/US5919290A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-29 EP EP98114195A patent/EP0894597A3/en not_active Withdrawn
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