JPH1143791A - Cleaning agent composition for abrasive liquid - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prepare a cleaning agent composition for abrasive liquid, which has a high penetration to abrasive materials, a high ability to discharge into the drain and an excellent cleaning ability by incorporating a flocculant having an adsorption quantity more than a specific value to abrasive materials and a number average molecular weight more than a specific value and a surfactant into water, and adjusting the surface tension of the aqueous solution to a value lower than a specific value. SOLUTION: The preferable flocculant used in the cleaning agent composition is a polymer flocculant having an adsorption quantity more than 5 mg/m<2> and a number average molecular weight more than 100,000. For example, sodium poly-acrylate, etc., as anionic flocculant and polyacrylamide, etc., as nonionic flocculant are selected as suitable flocculants. On the other hand, Aerosol OT type surfactant, etc., as anionic surfactant and nonylphenol, etc., as nonionic surfactant are selected as preferable surfactant. The cleaning agent composition is used generally as an aqueous solution containing these ingredients in amounts of 0.5-25 vol.%, and the surface tension of 10 vol.% aqueous solution is adjusted to a value not more than 30 dyne/cm at 23 deg.C.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は研磨液用洗浄剤、特
に、コンピュータシステムの外部記憶装置に使用されて
いるハードディスク用基板の表面を迅速かつ高品質の鏡
面に研磨する研磨液用洗浄剤組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing liquid cleaning composition, and more particularly to a polishing liquid cleaning composition for rapidly polishing a surface of a hard disk substrate used for an external storage device of a computer system to a mirror surface of high quality. About things.

【０００２】[0002]

【従来の技術】近年、磁気ディスク装置に使用されてい
るハードディスクは、大容量化、高密度化が進み、磁性
媒体は従来の塗布型媒体からスパッタリングやメッキ法
による薄膜媒体へと移行している。ハードディスクは、
一般的に、アルミ合金等よりなる基板を鏡面研磨加工
し、その上にＮｉＰ層等の非磁性層を設け、更にポリッ
シュ加工等を施し表面を平滑化した後、磁性層、保護層
等の薄膜を設けることにより製造される。なお、各層の
成膜工程間では、必要に応じてテキスチャ加工が行われ
ている。そして、ポリッシュ加工、テキスチャ加工にお
いて、研磨材を含有する研磨液が用いられる。2. Description of the Related Art In recent years, the capacity of hard disks used in magnetic disk devices has been increasing and the density has been increasing, and the magnetic media has shifted from conventional coating media to thin film media by sputtering or plating. . The hard disk is
Generally, a substrate made of an aluminum alloy or the like is mirror-polished, a non-magnetic layer such as a NiP layer is provided thereon, and the surface is smoothed by polishing and the like, and then a thin film such as a magnetic layer and a protective layer is formed. It is manufactured by providing. Note that texture processing is performed as needed between the film forming steps of each layer. In polishing and texturing, a polishing liquid containing an abrasive is used.

【０００３】ところで、近年の高密度化に伴い、ヘッド
の浮上・着陸するためのゾーンと実際に記録するための
ゾーンに機能を分離する傾向にあり、基板上の記録部分
のより一層の平坦化が望まれている。即ち、ハードディ
スクへの情報の記録／再生は磁気ヘッドを介して行い、
その際ハードディスクは高速で回転し該ヘッドを浮上さ
せてハードディスクとの間に微小な間隙を生じせしめて
いる。そして、近年の高密度化に伴いハードディスクと
磁気ヘッドとの間隔、即ち、ヘッド浮上量はますます低
くなってきており、最近では０．１μｍ以下になってい
る。このように、ヘッド浮上量が著しく小さいとハード
ディスク面上の突起によりヘッドクラッシュを招き、メ
モリーハードディスク表面の磁性媒体や磁気ヘッドを損
傷させることがある。又、ヘッドクラッシュに至らない
ような微小な突起でも突起部の磁気特性の乱れによって
情報の読み書きの際に種々のエラーの原因になりやす
い。With the recent increase in density, there has been a tendency to separate the function into a zone for flying and landing of the head and a zone for actually recording, thereby further flattening the recording portion on the substrate. Is desired. That is, recording / reproducing of information on the hard disk is performed via a magnetic head,
At that time, the hard disk rotates at a high speed, and the head floats to generate a minute gap with the hard disk. With the recent increase in the density, the distance between the hard disk and the magnetic head, that is, the flying height of the head, has been increasingly reduced, and has recently been reduced to 0.1 μm or less. As described above, when the head flying height is extremely small, a projection on the hard disk surface causes a head crash, which may damage the magnetic medium or the magnetic head on the surface of the memory hard disk. Further, even a minute projection that does not lead to a head crash tends to cause various errors when reading or writing information due to disturbance of magnetic properties of the projection.

【０００４】従って、薄膜を形成する前の基板表面、Ｎ
ｉＰ層表面等について、従来以上に、微小な突起が少な
く高品質であることが要求されるようになり、この表面
性の改善のために、ポリッシュ加工及びテキスチャ加工
等の表面加工工程においては、より粒径の小さい微粒子
砥粒の研磨材を含有する研磨液が使用されるようになっ
てきている。Accordingly, the surface of the substrate before forming a thin film, N
With respect to the surface of the iP layer and the like, it is required that the quality of the iP layer is smaller than that of the prior art and that the number of fine protrusions is small. In order to improve the surface properties, in the surface processing steps such as polishing and texturing, Polishing liquids containing abrasives of fine particle abrasive grains having a smaller particle size have been used.

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように、粒径の小
さい研磨材を用いることにより、表面状態は改良される
が、加工後の研磨材除去が困難になり、残留した研磨材
が微小突起の原因になる現象が起こっている。即ち、微
粒子研磨材を含有する研磨液を用いて表面加工する場
合、研磨後にハードディスク（以下、薄膜形成前、後を
問わず、研磨に共される状態を総じてディスクという）
を効果的に洗浄して、ディスク表面上に残留する研磨材
を確実に排除し、かつ、排除した研磨材のディスクへの
再付着を確実に防止することにより、研磨工程で付着し
た研磨材による新たな突起の発生を防止することが重要
である。As described above, by using an abrasive having a small particle size, the surface condition is improved, but it is difficult to remove the abrasive after processing, and the remaining abrasive has a small protrusion. The phenomenon that is causing the phenomenon has occurred. That is, when the surface is processed using a polishing liquid containing a fine particle abrasive, a hard disk is polished after polishing (hereinafter, a state commonly used for polishing before or after thin film formation is generally referred to as a disk)
By effectively removing the abrasive remaining on the disk surface, and reliably preventing the removed abrasive from re-adhering to the disk. It is important to prevent the occurrence of new protrusions.

【０００６】このディスク上の研磨材を確実に洗浄除去
するためには、従来よりも研磨材とディスクとの間への
浸透力が強く、かつ剥がした研磨材を排水中に確実に排
出し、ディスク表面への再付着を確実に防止し得る洗浄
剤が必要となる。この洗浄剤による洗浄とは、研磨工程
でディスク上に付着した研磨材とディスクとの間に洗浄
剤が入り込み、ディスク表面から研磨材粒子を剥がす剥
離過程と、剥がれた研磨材粒子表面に対し洗浄剤が吸着
して研磨材粒子表面を覆うことにより、水中への分散性
を高め、ディスク表面への再付着を防止すると共に洗浄
排水中に排出され易くする再付着防止過程との二つの過
程から成り立っている。In order to reliably remove the abrasive on the disk by washing, the penetration of the abrasive between the abrasive and the disk is stronger than in the prior art, and the removed abrasive is reliably discharged into the drain. A cleaning agent that can reliably prevent re-adhesion to the disk surface is required. The cleaning with the cleaning agent is a separation process in which the cleaning agent enters between the disk and the abrasive adhered to the disk in the polishing process and separates the abrasive particles from the disk surface, and a cleaning process for the separated abrasive particle surface. By adsorbing the abrasive and covering the surface of the abrasive particles, it enhances dispersibility in water, prevents re-adhesion to the disk surface, and prevents re-adhesion, which makes it easier to be discharged into the washing wastewater. It is made up.

【０００７】一般に、研磨材粒子の大きさが小さくなる
程、ディスク表面との接着力が強くなり、洗浄剤の浸透
が難しくなることから、上記剥離過程のためには、より
浸透性の高い洗浄剤が必要になってくる。また、如何に
上手に研磨材粒子を浮き上がらせても、微粒子化するほ
ど表面自由エネルギーが大きくなり、ディスク表面へ再
付着して安定化しようとする傾向が高くなるため、上記
再付着防止過程においては、研磨材粒子のディスクへの
再付着を防止し、排水中へ排出を容易にすべく、より研
磨材粒子表面への吸着量が多く、分散特性の優れた洗浄
剤が必要となる。In general, the smaller the size of the abrasive particles, the stronger the adhesion to the disk surface and the more difficult it becomes to penetrate the cleaning agent. Agents are needed. Also, no matter how well the abrasive particles are lifted, the surface free energy increases as the particles become finer, and the tendency to reattach to the disk surface and stabilize increases. In order to prevent re-adhesion of the abrasive particles to the disk and facilitate discharge into the wastewater, a cleaner having a larger amount of adsorption on the surface of the abrasive particles and having excellent dispersion characteristics is required.

【０００８】しかしながら、従来において、このような
要求特性を十分に満足する洗浄剤は提供されていない。
本発明は上記従来の問題点を解決し、この種の微小径研
磨材を含有する研磨液用の洗浄剤組成物であって、研磨
材に対する浸透性、排水中への排出性が高く、洗浄性に
優れた洗浄剤組成物を提供することを目的とする。[0008] However, conventionally, there has not been provided a cleaning agent which sufficiently satisfies such required characteristics.
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and is a cleaning composition for a polishing liquid containing this kind of fine-diameter abrasive, having high permeability to the abrasive, high drainage into drainage, and high cleaning performance. An object of the present invention is to provide a cleaning composition having excellent properties.

【０００９】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、研磨材を含有
する研磨液用の洗浄剤組成物であって、該研磨材に対す
る吸着量が５ｍｇ／ｍ² 以上であり、数平均分子量が１
００，０００以上の凝集剤、及び界面活性剤を含有する
ことを特徴とする２３℃で測定した１０ｖｏｌ％水溶液
の表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下の研磨液用洗浄剤
組成物に関する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a detergent composition for a polishing liquid containing an abrasive, having an amount of adsorption to the abrasive of 5 mg / m ² or more and a number average molecular weight of 1 to 1.
The present invention relates to a polishing liquid cleaning composition having a surface tension of a 10 vol% aqueous solution measured at 23 ° C. of 30 dyne / cm or less, characterized by containing a flocculant of not less than 00000 and a surfactant.

【００１０】本発明は上記の要求に応えるべく、種々の
洗浄剤を検討し、次のような知見を得た。即ち、表面張
力の大きな洗浄剤では、研磨材粒子とディスクとの間に
洗浄剤が浸透するまでに長時間を要し、洗浄時間が長く
なり経済的ではない。また、研磨材粒子の大きさが小さ
くなるにつれて一度剥がれた研磨材粒子のディスク上へ
の再付着が問題になるが、従来の洗浄剤では研磨材粒子
に対する吸着量が少なかったため、研磨材粒子表面に十
分な量の洗浄剤が付着せず、この結果、剥がした研磨材
粒子を排水中へ十分に分散させることができず、基板デ
ィスクへの再付着が起こることがある。The present invention has studied various cleaning agents in order to meet the above-mentioned requirements, and has obtained the following findings. That is, in the case of a cleaning agent having a large surface tension, it takes a long time until the cleaning agent permeates between the abrasive particles and the disk, and the cleaning time is long, which is not economical. In addition, as the size of the abrasive particles becomes smaller, reattachment of the abrasive particles once peeled to the disk becomes a problem, but the amount of adsorption to the abrasive particles was small with the conventional cleaning agent. Does not adhere to a sufficient amount of cleaning agent, and as a result, the removed abrasive particles cannot be sufficiently dispersed in the wastewater, and may reattach to the substrate disk.

【００１１】そこで、この分散性を改善するために、更
に鋭意検討を重ねたところ、研磨材粒子に対する吸着性
の優れた高分子量凝集剤を用いることにより研磨材粒子
を凝集し大きなクラスターを形成させ、これにより、見
掛け上の研磨材粒子の比表面積を小さくすることによ
り、再付着を防止出来ることを見出した。また、本発明
者らは、表面張力を変えた洗浄剤を用いて洗浄性に対す
る表面張力の違いの影響を検討したところ、２３℃での
ディヌイ表面張力計で測定した表面張力の値が３０ｄｙ
ｎｅ／ｃｍ以下の洗浄剤であれば、付着した研磨材粒子
とディスクとの間への浸透力が良く短時間での洗浄に向
いていることを見出した。In order to improve the dispersibility, further studies have been made. As a result, the use of a high-molecular-weight coagulant having excellent adsorptivity to the abrasive particles allows the abrasive particles to aggregate to form large clusters. Thus, it has been found that re-adhesion can be prevented by reducing the apparent specific surface area of the abrasive particles. In addition, the present inventors examined the effect of the difference in surface tension on detergency using a cleaning agent having a changed surface tension, and found that the value of the surface tension measured at 23 ° C. with a Deny surface tensiometer was 30 dy.
It has been found that a cleaning agent having a ne / cm or less has good penetrating power between the attached abrasive particles and the disk and is suitable for cleaning in a short time.

【００１２】本発明はこのような知見に基づいて完成さ
れたものであり、洗浄剤の表面張力が小さいことから研
磨材をディスクから短時間で剥離除去することができ、
さらに研磨材粒子に対する凝集性能を有する高分子量凝
集剤を洗浄剤成分として含有させることにより、研磨材
粒子の排出特性や再付着性を低減した洗浄剤組成物を提
供することを目的としたものである。The present invention has been completed on the basis of such knowledge, and since the surface tension of the cleaning agent is small, the abrasive can be peeled off from the disk in a short time.
Further, the purpose of the present invention is to provide a detergent composition in which the discharge characteristics and reattachability of the abrasive particles are reduced by including a high-molecular weight coagulant having an aggregating performance on the abrasive particles as a detergent component. is there.

【００１３】[0013]

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。本発明の洗浄剤組成物は、ディスクのポリ
ッシュ又はテキスチャリング工程の表面加工工程におい
て用いられるような、微小な研磨材を含有する研磨液で
研磨処理した後の洗浄工程で、表面に付着した研磨材の
除去のために用いられる洗浄剤組成物であって、研磨材
に対する吸着量が研磨材の表面積に対して５ｍｇ／ｍ ²
以上であり、数平均分子量が１００，０００以上の凝集
剤、及び界面活性剤を含有し、２３℃で測定した１０ｖ
ｏｌ％水溶液の表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であ
るものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of the present invention will be described below in detail.
Will be described. The cleaning composition of the present invention comprises
In the surface finishing process of the brush or texturing process
Polishing liquid containing a fine abrasive, such as used in
In the cleaning process after polishing, the abrasive material adhering to the surface
A cleaning composition used for removal, comprising an abrasive
5 mg / m2 to the surface area of the abrasive ^Two
Aggregation with a number average molecular weight of 100,000 or more
Agent, and a surfactant, 10 v measured at 23 ° C.
ol% aqueous solution has a surface tension of 30 dyne / cm or less
Things.

【００１４】本発明の凝集剤は研磨材に対する吸着量
が、５ｍｇ／ｍ² 以上であれば良い。吸着量が多ければ
多いほど凝集特性は良く、研磨材の再付着を防止する。
しかしながら、吸着量を増加するために、凝集剤の官能
基の量を増加しすぎると洗浄剤の粘度が著しく上昇し、
取り扱いが困難となり、経済性も悪くなるため、この吸
着量は、５〜３００ｍｇ／ｍ² 程度が望ましい。The coagulant of the present invention may have an amount of adsorption to the abrasive of 5 mg / m ² or more. The larger the amount of adsorption, the better the cohesion properties and prevent the abrasive from re-adhering.
However, in order to increase the amount of adsorption, if the amount of the functional group of the flocculant is excessively increased, the viscosity of the detergent significantly increases,
Since the handling becomes difficult and the economical efficiency deteriorates, the amount of adsorption is desirably about 5 to 300 mg / m ² .

【００１５】本発明で用いられる凝集剤は、数平均分子
量が１００，０００以上の高分子凝集剤である。数平均
分子量が高いほど研磨材の凝集特性が良いため好ましい
が、高すぎると粘度上昇を起こすため、１００，０００
〜１，０００，０００程度が望ましい。凝集剤として
は、例えば、アニオン性凝集剤としてはポリアクリル酸
ソーダ、アクリルアミドとアクリル酸ソーダの共重合
物、ポリアクリルアミド部分加水分解物等が使用出来
る。また、カチオン性凝集剤としては、ポリビニルイミ
ダゾリン、ポリアルキルアミノ（メタ）アクリレート、
ポリアクリルアミドのマンニッヒ変性物等が挙げられ、
ノニオン性凝集剤としては、ポリアクリルアミド、ポリ
エチレンオキサイド等が用いられる。これらは、研磨粒
子の種類によって適宜選択され、例えば研磨材としてア
ルミナのような金属酸化物を使用した場合は、アニオン
性の凝集剤を使用することにより効率良く凝集させるこ
とが可能である。The flocculant used in the present invention is a polymer flocculant having a number average molecular weight of 100,000 or more. It is preferable that the number average molecular weight is higher because the cohesive properties of the abrasive are better.
Approximately 1,000,000 is desirable. As the coagulant, for example, as an anionic coagulant, sodium polyacrylate, a copolymer of acrylamide and sodium acrylate, a partially hydrolyzed polyacrylamide and the like can be used. In addition, as the cationic coagulant, polyvinyl imidazoline, polyalkylamino (meth) acrylate,
Mannich modified products of polyacrylamide and the like,
As the nonionic coagulant, polyacrylamide, polyethylene oxide or the like is used. These are appropriately selected depending on the type of the abrasive particles. For example, when a metal oxide such as alumina is used as an abrasive, it can be efficiently aggregated by using an anionic coagulant.

【００１６】また、本発明の界面活性剤は特に限定され
るものではないが、表面張力の低減に効果があるものが
好ましく使用され、例えば、アニオン系界面活性剤とし
ては、エアゾルＯＴ型、ドデシルベンゼンスルホン酸ナ
トリウム、ラウリル硫酸エステルナトリウム、アルキル
ナフタレンスルホン酸ナトリウム、オレイン酸ブチルエ
ステルの硫酸化物等が挙げられる。またノニオン系界面
活性剤としては、ノニルフェノールあるいはオクチルフ
ェノールのエチレンオキサイド付加物および炭素鎖の比
較的短いアルコールのＥＯ付加物等が使用可能である。Although the surfactant of the present invention is not particularly limited, those having an effect of reducing the surface tension are preferably used. Examples of the anionic surfactant include aerosol OT type and dodecyl. Examples include sodium benzenesulfonate, sodium lauryl sulfate, sodium alkylnaphthalenesulfonate, and sulfates of butyl oleate. Examples of the nonionic surfactant include an ethylene oxide adduct of nonylphenol or octylphenol, and an EO adduct of alcohol having a relatively short carbon chain.

【００１７】洗浄剤組成物の配合成分としては、上記の
凝集剤、界面活性剤以外に、ｐＨ調整剤、キレート剤等
を用いることができ、これらの成分を使用する研磨液に
応じて、所定の表面張力が得られるように、適宜選択、
配合して使用すれば良い。ただし、研磨液に研削油が含
有されている場合には、ｐＨ９〜１２程度のアルカリ性
の洗浄剤組成物が好ましく、研磨液に研削油が含有され
ていない場合にはｐＨ７〜１２程度の洗浄剤組成物が好
ましい。なお、このような本発明の洗浄剤組成物は、一
般に、配合成分の０．５〜２５ｖｏｌ％、特には１〜２
０ｖｏｌ％水溶液として使用される。この濃度が０．５
ｖｏｌ％未満では洗浄効果が十分でなく、２５ｖｏｌ％
を超えると洗浄後のリンスが容易でなくなる。As a component of the detergent composition, in addition to the above-mentioned coagulant and surfactant, a pH adjuster, a chelating agent and the like can be used. Selected appropriately so that a surface tension of
You may mix and use. However, when the polishing liquid contains grinding oil, an alkaline detergent composition having a pH of about 9 to 12 is preferable, and when the polishing liquid does not contain grinding oil, a detergent having a pH of about 7 to 12 is preferred. Compositions are preferred. In addition, such a cleaning composition of the present invention generally contains 0.5 to 25% by volume of the components, particularly 1 to 2% by volume.
Used as 0 vol% aqueous solution. This concentration is 0.5
If it is less than vol%, the cleaning effect is not sufficient, and 25 vol%
If it exceeds 300, rinsing after washing will not be easy.

【００１８】本発明の洗浄剤組成物は、２３℃で測定し
た１０ｖｏｌ％水溶液の表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ
以下であるため、研磨材粒子と研磨した面との間に短時
間で浸透して、研磨材粒子を効率的に剥離させることが
できる。ただし、この表面張力を低下させるために界面
活性剤配合量を増やし過ぎるとリンス性が低下してしま
い、洗浄後の研磨面にシミが残ったり、曇点の低下によ
り洗浄液の温度を上げられなくなる等の問題を生じる。
従って、この表面張力は１０〜３０ｄｙｎｅ／ｃｍ、特
に、１５〜２７ｄｙｎｅ／ｃｍであれば、洗浄性とリン
ス性等とのバランスがより良好となるため好ましい。The cleaning composition of the present invention has a surface tension of a 10 vol% aqueous solution measured at 23 ° C. of 30 dyne / cm.
Because of the following, the abrasive particles can permeate between the abrasive particles and the polished surface in a short time, and the abrasive particles can be efficiently separated. However, if the amount of the surfactant is excessively increased in order to reduce the surface tension, the rinsing property is reduced, stains remain on the polished surface after cleaning, and the temperature of the cleaning liquid cannot be increased due to a decrease in the cloud point. And so on.
Accordingly, the surface tension is preferably 10 to 30 dyne / cm, particularly preferably 15 to 27 dyne / cm, because the balance between the cleaning property and the rinsing property becomes better.

【００１９】なお、研磨材に対する吸着量及び２３℃で
測定した１０ｖｏｌ％水溶液の表面張力は、例えば、後
述の実施例の項に記載する方法で測定することができ
る。本発明の洗浄剤組成物を用いて、研磨処理後のディ
スクを洗浄するには、例えば、本発明の洗浄剤組成物を
上記濃度となるように溶解した水溶液中にディスクを浸
漬し、２５〜８０℃で１〜４００ｓｅｃ、２０〜１２０
ＫＨｚの超音波洗浄を行えば良い。洗浄後は、超純水等
のリンス液中にディスクを浸漬して同様の条件で２〜４
００ｓｅｃ程度リンスを行い乾燥後、次の成膜工程に供
される。The amount of adsorption to the abrasive and the surface tension of the 10 vol% aqueous solution measured at 23 ° C. can be measured, for example, by the method described in the section of Examples below. In order to wash the disk after the polishing treatment using the cleaning composition of the present invention, for example, the disk is immersed in an aqueous solution in which the cleaning composition of the present invention is dissolved to have the above concentration, and 25 to 25. 1 to 400 sec at 80 ° C, 20 to 120
KHz ultrasonic cleaning may be performed. After the cleaning, the disk is immersed in a rinsing liquid such as ultrapure water, and the same conditions are applied for 2 to 4 times.
After rinsing for about 00 sec and drying, it is provided to the next film forming step.

【００２０】以下に、本発明の洗浄剤組成物を適用する
研磨液について説明する。研磨液としては、研磨材を水
又はグリコール類等の水溶性溶媒に分散させたものが用
いられる。この研磨材は任意であり、具体的には、ダイ
ヤモンド、窒化ホウ素、炭化珪素、アルミナ、酸化ジル
コニウム、酸化鉄、酸化セリウム、酸化クロム、酸化マ
グネシウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、コロイダ
ルシリカ等が挙げられる。これらの研磨材は、１種を単
独或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。The polishing liquid to which the cleaning composition of the present invention is applied will be described below. As the polishing liquid, one obtained by dispersing an abrasive in water or a water-soluble solvent such as glycols is used. This abrasive is optional, and specific examples include diamond, boron nitride, silicon carbide, alumina, zirconium oxide, iron oxide, cerium oxide, chromium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, barium carbonate, and colloidal silica. . These abrasives can be used alone or in combination of two or more.

【００２１】研磨材は一般に研磨液中に１〜２０重量％
程度含有させることが好ましい。これらの研磨液は、ハ
ードディスク製造時におけるポリシュ、テキスチャ加工
のいずれにも使用可能である。ポリシュ加工で使用する
際には、旧モース硬度４〜１０で、比表面積０．１〜５
０ｍ² ／ｇ、平均粒径０．０２〜２μｍ、特には０．１
〜２．０μｍの研磨材を用いるのが好ましい。The abrasive is generally 1 to 20% by weight in the polishing liquid.
It is preferable to contain them to an extent. These polishing liquids can be used for both polishing and texturing during hard disk production. When used for polishing, the old Mohs' hardness is 4 to 10 and the specific surface area is 0.1 to 5
0 m ² / g, average particle size 0.02 to ² μm, especially 0.1
It is preferable to use an abrasive of up to 2.0 μm.

【００２２】研磨液には、必要に応じて、その他、ケミ
カル剤（ｐＨ調整剤）、研削油、粘度調整等のための樹
脂や、消泡剤等が配合される。ケミカルポリッシング等
の表面加工時に用いるケミカル剤としては、任意の無機
塩を使用することができる。具体的には、硝酸アルミニ
ウム、硫酸アルミニウム、硝酸マグネシウム、酢酸マグ
ネシウム、硫酸マグネシウムアンモニウム、硫酸カリウ
ム、硫酸コバルト、チオ硫酸ナトリウム、蟻酸ニッケ
ル、硝酸ニッケル、硝酸アルミニウム、硫酸ニッケル、
硫酸マグネシウム、塩化マグネシウム、硝酸カルシウ
ム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カルシウム、亜硝酸カリ
ウム、硝酸アンモニウム、燐酸水素アンモニウム、塩化
アンモニウム、硫酸アンモニウム、酢酸アンモニウム等
があるが、ハードディスクへの腐食を考慮するとアルミ
ニウム塩類、ニッケル塩類等の金属塩類が望ましい。If necessary, a chemical agent (pH adjusting agent), a grinding oil, a resin for adjusting viscosity, a defoaming agent, and the like are added to the polishing liquid. As a chemical agent used at the time of surface processing such as chemical polishing, any inorganic salt can be used. Specifically, aluminum nitrate, aluminum sulfate, magnesium nitrate, magnesium acetate, magnesium ammonium sulfate, potassium sulfate, cobalt sulfate, sodium thiosulfate, nickel formate, nickel nitrate, aluminum nitrate, nickel sulfate,
Magnesium sulfate, magnesium chloride, calcium nitrate, sodium nitrite, calcium nitrite, potassium nitrite, ammonium nitrate, ammonium hydrogen phosphate, ammonium chloride, ammonium sulfate, ammonium acetate, etc. And the like.

【００２３】研削油としても、任意のものを用いること
ができる。研削油としては、グリコール成分としてポリ
エチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポ
リ（オキシエチレン−オキシプロピレン）誘導体から選
ばれた少なくとも１種類以上と界面活性剤から構成され
たものが挙げられる。研削油の使用量は、少な過ぎると
摩擦低減効果が少なく表面傷等が入り、多すぎると研磨
速度が著しく低下することから、研磨液に対し１〜１０
ｗｔ％とするのが望ましい。As the grinding oil, any one can be used. Examples of the grinding oil include those composed of at least one kind selected from polyethylene glycol, polypropylene glycol and poly (oxyethylene-oxypropylene) derivative as a glycol component and a surfactant. If the amount of the grinding oil used is too small, the effect of reducing friction is small and surface flaws are formed. If the amount is too large, the polishing rate is remarkably reduced.
%.

【００２４】また、研磨液に粘度調整等の目的で樹脂を
使用する場合、樹脂としては、水溶性樹脂であれば任意
のものが使用できる。例えば、ポリビニルアルコール、
ポリビニル酢酸の部分ケン化樹脂、ポリアクリル酸、ポ
リアクリル酸塩、水溶化ポリウレタン、水溶化エポキシ
樹脂等を使用することができ、その分子量としては、数
平均分子量１，０００〜１５０，０００、特に１０，０
００〜８０，０００のものが好ましい。When a resin is used in the polishing liquid for the purpose of viscosity adjustment or the like, any resin can be used as long as it is a water-soluble resin. For example, polyvinyl alcohol,
Partially saponified resin of polyvinyl acetic acid, polyacrylic acid, polyacrylate, water-soluble polyurethane, water-soluble epoxy resin and the like can be used, and as the molecular weight, the number average molecular weight is 1,000 to 150,000, especially 10,0
The thing of 00-80,000 is preferable.

【００２５】また、混合時やポンプ等の送液時の起泡を
防止するための消泡剤としては、一般的な消泡剤を使用
することができ、例えば、消泡剤として使用可能な、Ｈ
ＬＢが１〜５程度の流動パラフィン等の鉱油系消泡剤、
動植物油、ひまし油等の油脂系消泡剤、オレイン酸、ス
テアリン酸等の脂肪酸系消泡剤、ジエチレングリコール
ラウレート、ソルビトールモノラウレート、ポリオキシ
エチレンモノラウレート、天然ワックス等の脂肪酸エス
テル系消泡剤、オクチルアルコール、アセチレンアルコ
ール、アセチレングリコール類、グリコール類、ポリオ
キシアルキレングリコール等のアルコール系消泡剤、ア
クリレートポリアミン、ポリオキシアルキレンアミド等
のアミド系消泡剤、リン酸トリブチル、オクチルリン酸
ナトリウム等のリン酸エステル系消泡剤、ステアリン酸
アルミニウム、オレイン酸カルシウム等の金属セッケン
系消泡剤、ジメチルシリコーン油、シリコーンエマルジ
ョン、有機変性ポリシロキサン、フルオロシリコーン油
等のシリコーン系消泡剤が使用可能である。このうち研
磨液に好適なものとしては、脂肪酸エステル系消泡剤、
アルコール系消泡剤、シリコーン系消泡剤が使用可能で
ある。特に、金属塩類、研削油を含む研磨液を用いて被
研磨面を研磨すると、表面傷が少なくかつ均一な突起の
研磨面が得られることから、精度の高い研磨面品質が実
現でき、好ましい。As a defoaming agent for preventing foaming at the time of mixing or liquid feeding by a pump or the like, a general defoaming agent can be used. For example, a defoaming agent can be used. , H
Mineral oil-based defoaming agents such as liquid paraffin having an LB of about 1 to 5,
Fat and oil defoamers such as animal and vegetable oils and castor oil, fatty acid defoamers such as oleic acid and stearic acid, fatty acid ester defoamers such as diethylene glycol laurate, sorbitol monolaurate, polyoxyethylene monolaurate and natural wax Agents, octyl alcohol, acetylene alcohol, acetylene glycols, glycols, alcohol defoamers such as polyoxyalkylene glycols, acrylate polyamines, amide defoamers such as polyoxyalkylene amides, tributyl phosphate, sodium octyl phosphate Phosphate defoamers, such as aluminum, metal soap defoamers such as aluminum stearate, calcium oleate, etc., silicones such as dimethyl silicone oil, silicone emulsion, organically modified polysiloxane, fluorosilicone oil, etc. Foam agent is available. Among them, those suitable for the polishing liquid include fatty acid ester-based defoamers,
Alcohol-based defoamers and silicone-based defoamers can be used. In particular, when the surface to be polished is polished using a polishing liquid containing a metal salt and a grinding oil, a highly polished surface quality can be realized since a highly polished surface with few surface flaws and uniform projections can be obtained.

【００２６】[0026]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。なお、以下において、研磨材の比
表面積の測定は、ユアサアイオニクス製オートソープ６
（測定孔３．５〜１００ｎｍ）を用いてＮ₂ の吸着量か
ら求めた。また、研磨材への吸着量の測定は、２ｗｔ％
に調整した凝集剤溶液１００ｇに研磨材を１５ｇ加え、
２３℃で振とう機を用いて４時間吸着し、吸着前後の溶
液の上澄みの凝集剤濃度を測定することにより、凝集剤
の研磨材への吸着量を算出した。凝集剤の分子量の測定
は、オストワールドの粘度計を用いて２５℃における粘
度を測定し、還元粘度を測定することにより算出した。
凝集剤添加後の研磨液のメジアン径は、レーザ回折型粒
度分布計（堀場 ＬＡ５００）でフローセルを用いて測
定した。尚、メジアン径が大きい程、凝集能力が高く、
研磨材粒子の除去能力が高いことを表す。また、洗浄剤
の表面張力の測定は、１０ｖｏｌ％に調整した洗浄水溶
液をディヌイ式表面張力計を用いて２３℃で測定するこ
とにより求めた。The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples. In the following, the measurement of the specific surface area of the abrasive was performed using an auto soap 6 manufactured by Yuasa Ionics.
(Measurement hole 3.5～100Nm) using calculated from the adsorption amount of N _2. The amount of adsorption to the abrasive was measured at 2 wt%
15 g of an abrasive is added to 100 g of the flocculant solution adjusted to
The solution was adsorbed for 4 hours using a shaker at 23 ° C., and the amount of the flocculant adsorbed on the abrasive was calculated by measuring the concentration of the flocculant in the supernatant of the solution before and after the adsorption. The molecular weight of the flocculant was measured by measuring the viscosity at 25 ° C. using an Ostworld viscometer and measuring the reduced viscosity.
The median diameter of the polishing liquid after the addition of the coagulant was measured using a laser diffraction type particle size distribution meter (Horiba LA500) using a flow cell. In addition, the larger the median diameter, the higher the coagulation ability,
This indicates that the ability to remove abrasive particles is high. The measurement of the surface tension of the cleaning agent was determined by measuring the cleaning aqueous solution adjusted to 10 vol% at 23 ° C. using a denui type surface tensiometer.

【００２７】実施例１ 研磨材、水を下記配合でサンドミルで１時間分散し、研
磨液を調整し、この研磨液１００重量部に対し研削油と
してユシロ化学製研削油「ＷＳ７Ｂ」３．０重量部を加
えて１時間攪拌することにより研磨液を調整した。Example 1 An abrasive and water were dispersed in a sand mill with the following composition for 1 hour to prepare a polishing liquid, and 3.0 parts by weight of a grinding oil "WS7B" manufactured by Yushiro Chemical Co., Ltd. as a grinding oil per 100 parts by weight of the polishing liquid. The polishing liquid was adjusted by adding the mixture and stirring for 1 hour.

【００２８】研磨液配合 研磨材：α−アルミナ粉末（フジミインコーポレーショ
ン社製「ＷＡ２００００」、平均粒子径０．４５μｍ
（比表面積２ｍ² ／ｇ）、αＡｌ₂ Ｏ₃ 純度９８％以
上） １０重量部 水 ：１００重量部 この研磨液を用いて下記の条件でＮｉＰ層を有するアル
ミ合金基板（３．５インチ径、５枚）のテキスチャリン
グを行った後、表１の条件で洗浄を行った。 Abrasive containing a polishing liquid : α-alumina powder (“WA20000” manufactured by Fujimi Incorporation, average particle diameter 0.45 μm)
(Specific surface area 2 m ² / g), αAl ₂ O ₃ purity 98% or more) 10 parts by weight Water: 100 parts by weight An aluminum alloy substrate having a NiP layer (3.5 inch diameter, (5 sheets), and then washed under the conditions shown in Table 1.

【００２９】テキスチャリング条件 研磨機 ： ＥＤＣ社製「１８００Ａ」 研磨テープ ： 植毛タイプ 研磨条件 ： 研磨時間 ２０ｓｅｃ 回転数 ５００ｒｐｍ 加工圧力 ２００ｇ／ｃｍ² 研磨液供給量 ５ｍｌ／ｍｉｎTexturing conditions Polishing machine: "1800A" manufactured by EDC Polishing tape: Flocked type Polishing conditions: Polishing time 20 sec Rotation speed 500 rpm Processing pressure 200 g / cm ² Polishing solution supply 5 ml / min

【００３０】洗浄条件 温度 ： 室温 超音波周波数： ３７〜９０ＫＨｚ 洗浄時間 ： １２０ｓｅｃ リンス時間 ： ３０ｓｅｃ Cleaning conditions Temperature: room temperature Ultrasonic frequency: 37 to 90 KHz Cleaning time: 120 sec Rinse time: 30 sec

【００３１】なお、洗浄剤は５ｖｏｌ％に水に溶解して
使用した。また、リンス液としては超純水を用いた。リ
ンス後、ディスクを風乾し、各サンプル５枚のディスク
について、表面を１５０万ルクスのスーパーマイクロラ
イトを用いて観察することによりシミの有無を調べるこ
とによりリンス性を評価した。即ち、リンス性が悪く、
洗浄剤がディスク表面に残留していると部分的に薄く膜
が張ったシミのようなものが認められる。従って、シミ
の無いものがリンス性良好、シミの有るものがリンス性
不良となる。また、この風乾したディスクを光学顕微鏡
を用いて５００倍の倍率で観察することにより、基板上
に残存する研磨材粒子の個数（ディスク５枚、合計１０
面の平均値）を調べ、洗浄性を評価した。この研磨材粒
子個数が少ないほど、洗浄性が高い。これらの結果を表
２に示す。The detergent was dissolved in water at 5 vol% and used. Also, ultrapure water was used as the rinsing liquid. After rinsing, the discs were air-dried, and the rinsing properties of the five discs of each sample were evaluated by observing the surface with a 1.5 million lux super microlite to check for the presence or absence of stains. That is, the rinsing property is poor,
If the cleaning agent remains on the disk surface, a spot-like spot with a thin film is partially observed. Therefore, those without stains have good rinsing properties, and those with stains have poor rinsing properties. The air-dried disk was observed at a magnification of 500 times using an optical microscope to determine the number of abrasive particles remaining on the substrate (5 disks, 10 disks in total).
The average value of the surface was examined, and the cleaning property was evaluated. The smaller the number of abrasive particles, the higher the cleanability. Table 2 shows the results.

【００３２】実施例２〜５、比較例１〜４ 表１に示す研磨材、洗浄剤を用いたこと以外は実施例１
と同様にしてテキスチャリング、洗浄を行い、リンス性
及び洗浄性を調べた。これらの結果を表２に示す。Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 to 4 Example 1 except that the abrasives and cleaning agents shown in Table 1 were used.
The texturing and washing were carried out in the same manner as described above, and the rinsing property and the washing property were examined. Table 2 shows the results.

【００３３】[0033]

【表１】 [Table 1]

【００３４】[0034]

【表２】 [Table 2]

【００３５】表２より、本発明の洗浄剤組成物は、リン
ス性、洗浄性が共に良好で、洗浄効率に優れることが明
らかである。なお、上記実施例においてはハードディス
ク用基板として広く用いられているＮｉＰメッキアルミ
基板の表面研磨を例示して説明したが、本発明の研磨液
用洗浄剤組成物は、被研磨面がＮｉＰメッキ層上に下地
層、磁性層、保護層等の薄膜層が形成された後の研磨処
理であっても良い。また、被洗浄物はハードディスクの
表面に限らず、微小径の研磨材を用いた研磨処理後の洗
浄であれば、本発明による洗浄液を適用することができ
る。From Table 2, it is apparent that the cleaning composition of the present invention has good rinsing properties and cleaning properties, and is excellent in cleaning efficiency. In the above embodiment, the surface polishing of a NiP-plated aluminum substrate, which is widely used as a substrate for a hard disk, has been described as an example. Polishing may be performed after thin film layers such as an underlayer, a magnetic layer, and a protective layer are formed thereon. The object to be cleaned is not limited to the surface of the hard disk, and the cleaning liquid according to the present invention can be applied as long as the cleaning is performed after polishing using a fine abrasive.

【００３６】[0036]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の洗浄剤組成
物によれば、微粒子の研磨材を含む研磨液を用いた場合
であっても、十分な洗浄性を得ることができ、最近のよ
り一層の記録の高密度化に適応する高精度、高品質のハ
ードディスクを提供することができる。As described above in detail, according to the detergent composition of the present invention, sufficient detergency can be obtained even when a polishing liquid containing fine abrasive particles is used. It is possible to provide a high-precision, high-quality hard disk adapted to higher recording density.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 研磨材を含有する研磨液用の洗浄剤組成
物であって、該研磨材に対する吸着量が５ｍｇ／ｍ² 以
上であり、数平均分子量が１００，０００以上の凝集
剤、及び界面活性剤を含有することを特徴とする２３℃
で測定した１０ｖｏｌ％水溶液の表面張力が３０ｄｙｎ
ｅ／ｃｍ以下である研磨液用洗浄剤組成物。1. A cleaning composition for a polishing liquid containing an abrasive, wherein the coagulant has an amount of adsorption to the abrasive of 5 mg / m ² or more and a number average molecular weight of 100,000 or more; and 23 ° C. characterized by containing a surfactant
The surface tension of the 10 vol% aqueous solution measured at 30 dyn
e / cm or less, a cleaning composition for a polishing liquid.