JPH1143354A - ガラス部材の接合方法 - Google Patents
ガラス部材の接合方法Info
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- JPH1143354A JPH1143354A JP9197229A JP19722997A JPH1143354A JP H1143354 A JPH1143354 A JP H1143354A JP 9197229 A JP9197229 A JP 9197229A JP 19722997 A JP19722997 A JP 19722997A JP H1143354 A JPH1143354 A JP H1143354A
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 接合面に金属膜が形成されているガラス等の
部材の接合面に他のガラス部材を接合する場合において
も、接合面が容易に剥離することのないガラス部材の接
合方法を提供する。 【解決手段】 接合面の一部あるいは全面に金属膜が形
成されている第１のガラス部材の接合面の少なくとも一
部に、ＳｉＯ2からなる膜を形成した後、所定の圧力お
よび所定の温度で、上記接合面に第２のガラス部材を熱
圧着する。
部材の接合面に他のガラス部材を接合する場合において
も、接合面が容易に剥離することのないガラス部材の接
合方法を提供する。 【解決手段】 接合面の一部あるいは全面に金属膜が形
成されている第１のガラス部材の接合面の少なくとも一
部に、ＳｉＯ2からなる膜を形成した後、所定の圧力お
よび所定の温度で、上記接合面に第２のガラス部材を熱
圧着する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、接合面の一部ある
いは全面に金属膜が形成されているガラス等の部材の接
合面に、他のガラス部材を接合するための、ガラス部材
の接合方法に関するものである。
いは全面に金属膜が形成されているガラス等の部材の接
合面に、他のガラス部材を接合するための、ガラス部材
の接合方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ガラス部材を接合する方法と
して、ガラス間の融着により接合する方法、低融ガラス
を介して接合する方法、有機接着剤を用いて接合する方
法などが知られている。ガラス間の融着により接合する
方法は、ガラス部材の接合面を鏡面研磨後、適切な温度
で密接圧着保持し、ガラス部材を相互融着させる方法で
ある。また、低融ガラスを介して接合する方法は、接合
しようとするガラス部材と比較して粘度の小さい低融ガ
ラスを、特定の接着温度のもとでガラス部材の接合面に
介在させ、徐冷することによりガラス部材を接着させる
方法である。また、有機接着剤を用いて接合する方法
は、ガラス部材の接合面にポリビニルブチラールなどの
有機接着剤を介在させ、ガラス部材を接着させる方法で
ある。これらの方法を用いることにより、ガラス部材を
強固に接合することが可能である。
して、ガラス間の融着により接合する方法、低融ガラス
を介して接合する方法、有機接着剤を用いて接合する方
法などが知られている。ガラス間の融着により接合する
方法は、ガラス部材の接合面を鏡面研磨後、適切な温度
で密接圧着保持し、ガラス部材を相互融着させる方法で
ある。また、低融ガラスを介して接合する方法は、接合
しようとするガラス部材と比較して粘度の小さい低融ガ
ラスを、特定の接着温度のもとでガラス部材の接合面に
介在させ、徐冷することによりガラス部材を接着させる
方法である。また、有機接着剤を用いて接合する方法
は、ガラス部材の接合面にポリビニルブチラールなどの
有機接着剤を介在させ、ガラス部材を接着させる方法で
ある。これらの方法を用いることにより、ガラス部材を
強固に接合することが可能である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一方、昨今の薄膜形成
技術の進歩はめざましく、ガラス部材の表面に金属膜を
形成することが可能となった。表面に金属膜が形成され
たガラス部材は、その金属膜が反射層として作用するこ
とから、様々な光学部品として利用されるものとなっ
た。例えば、図２４に示すような、表面に金属膜３が形
成されたガラス部材１を複数個並べて接合することによ
り、図２５に示すようなストライプ状反射面を有する光
学窓２が形成できる。この、ストライプ状反射面を有す
る光学窓２は、例えば光電子増倍管の光入射面に接続さ
れ、光の各入射位置における光強度を検出するために用
いられる。
技術の進歩はめざましく、ガラス部材の表面に金属膜を
形成することが可能となった。表面に金属膜が形成され
たガラス部材は、その金属膜が反射層として作用するこ
とから、様々な光学部品として利用されるものとなっ
た。例えば、図２４に示すような、表面に金属膜３が形
成されたガラス部材１を複数個並べて接合することによ
り、図２５に示すようなストライプ状反射面を有する光
学窓２が形成できる。この、ストライプ状反射面を有す
る光学窓２は、例えば光電子増倍管の光入射面に接続さ
れ、光の各入射位置における光強度を検出するために用
いられる。
【０００４】しかし、表面に金属膜が形成されているガ
ラス部材に他のガラス部材を接合する場合、上記従来技
術に示した方法を用いると、接合面が容易に剥離してし
まう、又は金属膜が破壊されて反射面をなさないという
現象が認められる。そのため、上記従来の方法を用いて
製造された光学窓あるいは電子管などの光学部品は耐久
性に劣り、実用上問題であった。
ラス部材に他のガラス部材を接合する場合、上記従来技
術に示した方法を用いると、接合面が容易に剥離してし
まう、又は金属膜が破壊されて反射面をなさないという
現象が認められる。そのため、上記従来の方法を用いて
製造された光学窓あるいは電子管などの光学部品は耐久
性に劣り、実用上問題であった。
【０００５】そこで、本発明は上記課題を解決し、接合
面に金属膜が形成されているガラス等の部材の接合面に
他のガラス部材を接合する場合において、接合面が容易
に剥離せず、金属膜が破壊されることのない、ガラス部
材の接合方法を提供することを目的とする。
面に金属膜が形成されているガラス等の部材の接合面に
他のガラス部材を接合する場合において、接合面が容易
に剥離せず、金属膜が破壊されることのない、ガラス部
材の接合方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のガラス部材の接合方法は、接合面の一部あ
るいは全面に金属膜が形成されている第１のガラス等の
部材の接合面の少なくとも一部に、ＳｉＯ2からなる膜
を形成した後、所定の圧力および所定の温度のもとで、
上記接合面に第２のガラス部材を熱圧着することを特徴
としている。
に、本発明のガラス部材の接合方法は、接合面の一部あ
るいは全面に金属膜が形成されている第１のガラス等の
部材の接合面の少なくとも一部に、ＳｉＯ2からなる膜
を形成した後、所定の圧力および所定の温度のもとで、
上記接合面に第２のガラス部材を熱圧着することを特徴
としている。
【０００７】接合面に金属膜が形成されている第１のガ
ラス等の部材の接合面に、ＳｉＯ2膜を介して第２のガ
ラス部材を熱圧着することにより、２つのガラス部材が
強固に接合され、接合面が剥離しにくくなるとともに、
金属膜が破壊されることが無くなる。
ラス等の部材の接合面に、ＳｉＯ2膜を介して第２のガ
ラス部材を熱圧着することにより、２つのガラス部材が
強固に接合され、接合面が剥離しにくくなるとともに、
金属膜が破壊されることが無くなる。
【０００８】また、本発明のガラス部材の接合方法は、
ＳｉＯ2からなる膜を、ＣＶＤ法（化学気相成長法）に
よって形成することを特徴としても良い。
ＳｉＯ2からなる膜を、ＣＶＤ法（化学気相成長法）に
よって形成することを特徴としても良い。
【０００９】さらに、本発明のガラス部材の接合方法
は、第２のガラス部材が少なくとも１種以上のアルカリ
元素を含むガラスから成り、第１のガラス等の部材の熱
膨張係数と第２のガラスの熱膨張係数との差が−１．０
×１０-6〜＋１．０×１０-6／℃の範囲であることを特
徴としても良い。
は、第２のガラス部材が少なくとも１種以上のアルカリ
元素を含むガラスから成り、第１のガラス等の部材の熱
膨張係数と第２のガラスの熱膨張係数との差が−１．０
×１０-6〜＋１．０×１０-6／℃の範囲であることを特
徴としても良い。
【００１０】また、本発明のガラス部材の接合方法は、
第１のガラス等の部材が、ガラス、サファイア、スピネ
ル、セラミックス、シリコン及びIII−V族化合物半導体
からなる群から選択されるいずれかの材料から形成され
ていることを特徴とすることが好適である。
第１のガラス等の部材が、ガラス、サファイア、スピネ
ル、セラミックス、シリコン及びIII−V族化合物半導体
からなる群から選択されるいずれかの材料から形成され
ていることを特徴とすることが好適である。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施形態に係るガラス部
材の接合方法を図面を参照して説明する。本実施形態に
係るガラス部材の接合方法は、金属膜が形成されている
第１のガラス部材の接合面にＳｉＯ2からなる膜を形成
する第１の工程と、上記第１の工程において接合面にＳ
ｉＯ2膜が形成された第１のガラス部材の接合面上に、
第２のガラス部材を重ねて熱圧着する第２の工程から成
っている。以下、順を追って各工程を説明する。
材の接合方法を図面を参照して説明する。本実施形態に
係るガラス部材の接合方法は、金属膜が形成されている
第１のガラス部材の接合面にＳｉＯ2からなる膜を形成
する第１の工程と、上記第１の工程において接合面にＳ
ｉＯ2膜が形成された第１のガラス部材の接合面上に、
第２のガラス部材を重ねて熱圧着する第２の工程から成
っている。以下、順を追って各工程を説明する。
【００１２】まず、第１の工程について説明する。本実
施形態に係るガラス部材の接合方法で用いる第１のガラ
ス部材１０は、少なくとも１種以上のアルカリ元素を含
むガラスからなっており、図２に示されるような形状の
ものである。すなわち、接合面に金属膜、例えばＣｒ膜
１２が形成されている面状のガラス部材である。Ｃｒ膜
１２は、１０００Å程度の一様な厚さを持って形成され
ている。
施形態に係るガラス部材の接合方法で用いる第１のガラ
ス部材１０は、少なくとも１種以上のアルカリ元素を含
むガラスからなっており、図２に示されるような形状の
ものである。すなわち、接合面に金属膜、例えばＣｒ膜
１２が形成されている面状のガラス部材である。Ｃｒ膜
１２は、１０００Å程度の一様な厚さを持って形成され
ている。
【００１３】本工程では、上記第１のガラス部材１０の
接合面に形成されたＣｒ膜１２の上に、ＣＶＤ法を用い
てＳｉＯ2を蒸着し、厚さが１０００Å程度のＳｉＯ2膜
１４を形成する。その結果、第１のガラス部材１０は、
図３に示すような構造になる。
接合面に形成されたＣｒ膜１２の上に、ＣＶＤ法を用い
てＳｉＯ2を蒸着し、厚さが１０００Å程度のＳｉＯ2膜
１４を形成する。その結果、第１のガラス部材１０は、
図３に示すような構造になる。
【００１４】次に、第２の工程について説明する。本工
程ではまず、第１の工程で接合面にＳｉＯ2膜１４が形
成された第１のガラス部材１０と第２のガラス部材２０
を図４のように上下に配置し、真空熱処理炉に挿入す
る。この際、第１のガラス部材１０と第２のガラス部材
２０を重ねてもよいが、接合面に付着したガスを脱離さ
せるために、ガス抜き処理が終了するまでは、図４に示
すように第１のガラス部材１０と第２のガラス部材２０
との間隔を開けておく方が好ましい。また、材質の面に
おいては、第１のガラス部材１０の熱膨張係数と第２の
ガラス部材の熱膨張係数との差が−１．０×１０-6〜＋
１．０×１０-6／℃の範囲であることが好ましい。
程ではまず、第１の工程で接合面にＳｉＯ2膜１４が形
成された第１のガラス部材１０と第２のガラス部材２０
を図４のように上下に配置し、真空熱処理炉に挿入す
る。この際、第１のガラス部材１０と第２のガラス部材
２０を重ねてもよいが、接合面に付着したガスを脱離さ
せるために、ガス抜き処理が終了するまでは、図４に示
すように第１のガラス部材１０と第２のガラス部材２０
との間隔を開けておく方が好ましい。また、材質の面に
おいては、第１のガラス部材１０の熱膨張係数と第２の
ガラス部材の熱膨張係数との差が−１．０×１０-6〜＋
１．０×１０-6／℃の範囲であることが好ましい。
【００１５】ガス抜き処理終了後、第１のガラス部材１
０と第２のガラス部材２０を、それらの接合面が密着す
るように重ね、炉内温度を第１のガラス部材１０と第２
のガラス部材２０の屈服点温度付近にし、加重圧力を１
００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態で３０分〜１時間密
着保持することにより熱圧着する。熱圧着された第１の
ガラス部材１０と第２のガラス部材２０は、図１に示す
ように相互に接合され、接合体が形成される。
０と第２のガラス部材２０を、それらの接合面が密着す
るように重ね、炉内温度を第１のガラス部材１０と第２
のガラス部材２０の屈服点温度付近にし、加重圧力を１
００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態で３０分〜１時間密
着保持することにより熱圧着する。熱圧着された第１の
ガラス部材１０と第２のガラス部材２０は、図１に示す
ように相互に接合され、接合体が形成される。
【００１６】この方法によって接合された２つのガラス
部材の接合面は、容易に剥離することがなく、よって、
金属の反射膜あるいは電極等を有する様々な光学部品を
製造する場合に用いることができる。以下、本実施形態
に係るガラス部材の接合方法を用いて光学部品を製造す
る具体例について説明する。
部材の接合面は、容易に剥離することがなく、よって、
金属の反射膜あるいは電極等を有する様々な光学部品を
製造する場合に用いることができる。以下、本実施形態
に係るガラス部材の接合方法を用いて光学部品を製造す
る具体例について説明する。
【００１７】第１の具体例は、本発明の実施形態に係る
ガラス部材の接合方法を用いた、ストライプ状反射面を
有する光学窓の製造方法である。ストライプ状反射面を
有する光学窓を製造するためには、まず、面状のガラス
部材１０を洗浄し、その後、その一方の主面にＣＶＤ法
にを用いてＣｒを蒸着し、１０００Å程度の厚みを持っ
たＣｒ膜１２を形成する。その結果、面状のガラス部材
１０は、図２に示すような形状となる。
ガラス部材の接合方法を用いた、ストライプ状反射面を
有する光学窓の製造方法である。ストライプ状反射面を
有する光学窓を製造するためには、まず、面状のガラス
部材１０を洗浄し、その後、その一方の主面にＣＶＤ法
にを用いてＣｒを蒸着し、１０００Å程度の厚みを持っ
たＣｒ膜１２を形成する。その結果、面状のガラス部材
１０は、図２に示すような形状となる。
【００１８】次に、Ｃｒ膜１２上にＳｉＯ2膜１４を形
成する。ＳｉＯ2膜１４は、上記実施形態における第１
の工程の欄で説明したように、ＣＶＤ法を用いて、Ｃｒ
膜１４上にＳｉＯ2を蒸着させることにより形成され
る。ＳｉＯ2膜１４を形成した面状のガラス部材１０は
図３に示すような構造になる。
成する。ＳｉＯ2膜１４は、上記実施形態における第１
の工程の欄で説明したように、ＣＶＤ法を用いて、Ｃｒ
膜１４上にＳｉＯ2を蒸着させることにより形成され
る。ＳｉＯ2膜１４を形成した面状のガラス部材１０は
図３に示すような構造になる。
【００１９】続いて、Ｃｒ膜１２及びＳｉＯ2膜１４が
形成された面状のガラス部材１０を、図５のように多数
枚重ねて配置する。重ねて配置する面状のガラス部材１
０の枚数は、光学窓を接合して用いる電子管の画素数に
よって決定され、使用する面状のガラス部材１０の厚み
は、電子管の解像度によって決定される。また、使用す
る面状のガラス部材１０の面積は、製造する光学窓の大
きさ、および枚数などによって決定される。
形成された面状のガラス部材１０を、図５のように多数
枚重ねて配置する。重ねて配置する面状のガラス部材１
０の枚数は、光学窓を接合して用いる電子管の画素数に
よって決定され、使用する面状のガラス部材１０の厚み
は、電子管の解像度によって決定される。また、使用す
る面状のガラス部材１０の面積は、製造する光学窓の大
きさ、および枚数などによって決定される。
【００２０】更に、図５のように配置された多数枚の面
状のガラス部材１０を真空熱処理炉内に挿入し、熱圧着
する。具体的には、上記実施形態における第２の工程で
説明したように、上記多数枚の面状のガラス部材１０
を、それぞれの接合面が密着するように重ね、炉内温度
をガラス部材１０の屈服点温度付近にし、加重圧力を１
００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態で３０分〜１時間密
着保持することにより熱圧着する。熱圧着された多数枚
の面状のガラス部材１０は図６に示すような接合体とな
る。
状のガラス部材１０を真空熱処理炉内に挿入し、熱圧着
する。具体的には、上記実施形態における第２の工程で
説明したように、上記多数枚の面状のガラス部材１０
を、それぞれの接合面が密着するように重ね、炉内温度
をガラス部材１０の屈服点温度付近にし、加重圧力を１
００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態で３０分〜１時間密
着保持することにより熱圧着する。熱圧着された多数枚
の面状のガラス部材１０は図６に示すような接合体とな
る。
【００２１】次に、この熱圧着されたガラス部材１０の
接合体を、図７に示すように圧着面に垂直に切断する。
切断された一片は、図８に示すような形状のストライプ
状反射面を有する光学窓３０となり、電子管の光学窓と
して用いられる。
接合体を、図７に示すように圧着面に垂直に切断する。
切断された一片は、図８に示すような形状のストライプ
状反射面を有する光学窓３０となり、電子管の光学窓と
して用いられる。
【００２２】第１の具体例のストライプ状反射面を有す
る光学窓３０を形成する場合、図２に示すように接合面
全面にＣｒ膜１２を設けたガラス部材１０を用いていた
が、これは図９に示すように、Ｃｒ膜１２を接合面の全
面ではなく、長方形の部分に分割して形成したガラス部
材１０を用いてもよい。このようなガラス部材１０の上
面にＳｉＯ2膜を形成すると、ガラス部材１０は図１０
に示すような形状となり、これを重ねて接合し、接合面
に垂直、かつ、Ｃｒ膜１２と切断面が交差しないように
切断することにより、図１１に示すようなストライプ状
反射面を有する光学窓３０が形成される。図１１に示す
ようなストライプ状反射面を有する光学窓３０は、金属
反射膜（Ｃｒ膜１２）が光入射面あるいはその反対側の
面に露出していないため、電子管などに接着して使用す
る場合、反射層による電気的な短絡への配慮が不要とな
る。
る光学窓３０を形成する場合、図２に示すように接合面
全面にＣｒ膜１２を設けたガラス部材１０を用いていた
が、これは図９に示すように、Ｃｒ膜１２を接合面の全
面ではなく、長方形の部分に分割して形成したガラス部
材１０を用いてもよい。このようなガラス部材１０の上
面にＳｉＯ2膜を形成すると、ガラス部材１０は図１０
に示すような形状となり、これを重ねて接合し、接合面
に垂直、かつ、Ｃｒ膜１２と切断面が交差しないように
切断することにより、図１１に示すようなストライプ状
反射面を有する光学窓３０が形成される。図１１に示す
ようなストライプ状反射面を有する光学窓３０は、金属
反射膜（Ｃｒ膜１２）が光入射面あるいはその反対側の
面に露出していないため、電子管などに接着して使用す
る場合、反射層による電気的な短絡への配慮が不要とな
る。
【００２３】第２の具体例は、本発明の実施形態に係る
ガラス部材の接合方法を用いた格子状反射面を有する光
学窓の製造方法である。格子状反射面を有する光学窓を
形成するには、上記第１の具体例において作成したスト
ライプ状反射面を有する光学窓３０を用いる。ストライ
プ状反射面を有する光学窓３０の一方の主面に、ＣＶＤ
法を用いて、Ｃｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１４を順次形成す
る。Ｃｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１４の厚みは、双方とも１
０００Å程度である。一方の主面にＣｒ膜１２、ＳｉＯ
2膜１４を形成したストライプ状反射面を有する光学窓
３０は、図１２のような形状になる。
ガラス部材の接合方法を用いた格子状反射面を有する光
学窓の製造方法である。格子状反射面を有する光学窓を
形成するには、上記第１の具体例において作成したスト
ライプ状反射面を有する光学窓３０を用いる。ストライ
プ状反射面を有する光学窓３０の一方の主面に、ＣＶＤ
法を用いて、Ｃｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１４を順次形成す
る。Ｃｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１４の厚みは、双方とも１
０００Å程度である。一方の主面にＣｒ膜１２、ＳｉＯ
2膜１４を形成したストライプ状反射面を有する光学窓
３０は、図１２のような形状になる。
【００２４】次に、Ｃｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１４を形成
したストライプ状反射面を有する光学窓３０を多数枚重
ねて熱圧着する。具体的には、上記実施形態の第２の工
程で説明したように、真空熱処理炉内で上記多数枚の面
状のガラス部材１０を、それぞれの接合面が密着するよ
うに重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈服点温度付近
にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態
で３０分〜１時間密着保持することにより熱圧着する。
その結果、多数枚のストライプ状反射面を有する光学窓
３０は相互に接合され、図１３に示すような接合体を形
成する。
したストライプ状反射面を有する光学窓３０を多数枚重
ねて熱圧着する。具体的には、上記実施形態の第２の工
程で説明したように、真空熱処理炉内で上記多数枚の面
状のガラス部材１０を、それぞれの接合面が密着するよ
うに重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈服点温度付近
にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ2にした状態
で３０分〜１時間密着保持することにより熱圧着する。
その結果、多数枚のストライプ状反射面を有する光学窓
３０は相互に接合され、図１３に示すような接合体を形
成する。
【００２５】上記の接合体を、図１４に示すように、ガ
ラス部材１０の接合面およびストライプ状反射面を有す
る光学窓３０の接合面の双方に垂直な切断面を有するよ
うに切断すると、図１５に示すような格子状反射面を有
する光学窓４０となる。格子状反射面を有する光学窓４
０は、Ｃｒによる格子状の反射層を持ち、電子管の光学
窓として用いられる。
ラス部材１０の接合面およびストライプ状反射面を有す
る光学窓３０の接合面の双方に垂直な切断面を有するよ
うに切断すると、図１５に示すような格子状反射面を有
する光学窓４０となる。格子状反射面を有する光学窓４
０は、Ｃｒによる格子状の反射層を持ち、電子管の光学
窓として用いられる。
【００２６】第３の具体例は、本発明の実施形態に係る
ガラス部材の接合方法を利用した電子管の製造方法であ
る。面状のガラス部材１０にＣｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１
４を形成する所までは、上記第１の具体例と同様であ
る。
ガラス部材の接合方法を利用した電子管の製造方法であ
る。面状のガラス部材１０にＣｒ膜１２、ＳｉＯ2膜１
４を形成する所までは、上記第１の具体例と同様であ
る。
【００２７】次に、リソグラフィ技術を用いて、Ｃｒ膜
１２、ＳｉＯ2膜１４が所定の形状になるようにエッチ
ング処理をする。ＳｉＯ2をエッチング処理するために
はＨＦなどを、また、Ｃｒをエッチング処理するために
は、硝酸第２セリウム・アンモニウムと過塩素酸と水の
混合物、または、赤血塩とＮａＯＨ（もしくはＫＯＨ）
と水の混合物を用いればよい。エッチング処理をした結
果、面状のガラス部材１０の形状は図１６に示すように
なる。
１２、ＳｉＯ2膜１４が所定の形状になるようにエッチ
ング処理をする。ＳｉＯ2をエッチング処理するために
はＨＦなどを、また、Ｃｒをエッチング処理するために
は、硝酸第２セリウム・アンモニウムと過塩素酸と水の
混合物、または、赤血塩とＮａＯＨ（もしくはＫＯＨ）
と水の混合物を用いればよい。エッチング処理をした結
果、面状のガラス部材１０の形状は図１６に示すように
なる。
【００２８】エッチング処理後、カソード用、あるいは
アノード用の電極用金属材料１６をＣＶＤ法、あるいは
他の蒸着法によって所定の形状に形成する。ここで電極
用金属材料１６としては、Ｎｉ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｓｎ、Ａ
ｕなどが挙げられる。その結果、面状のガラス部材１０
は図１７に示すような形状になる。
アノード用の電極用金属材料１６をＣＶＤ法、あるいは
他の蒸着法によって所定の形状に形成する。ここで電極
用金属材料１６としては、Ｎｉ、Ｍｇ、Ａｇ、Ｓｎ、Ａ
ｕなどが挙げられる。その結果、面状のガラス部材１０
は図１７に示すような形状になる。
【００２９】続いて、カソード用、あるいはアノード用
の電極用金属材料１６をそれぞれ蒸着した面状のガラス
部材１０を、支持ガラス１８を用いて、図１８のように
配置する。
の電極用金属材料１６をそれぞれ蒸着した面状のガラス
部材１０を、支持ガラス１８を用いて、図１８のように
配置する。
【００３０】その後、上記実施形態における第２の工程
にて説明したように、真空熱処理炉内で２枚の面状のガ
ラス部材１０と支持ガラス１８とを、それぞれの接合面
が密着するように重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈
服点温度付近にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ
2にした状態で３０分〜１時間密着保持することにより
熱圧着する。
にて説明したように、真空熱処理炉内で２枚の面状のガ
ラス部材１０と支持ガラス１８とを、それぞれの接合面
が密着するように重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈
服点温度付近にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ
2にした状態で３０分〜１時間密着保持することにより
熱圧着する。
【００３１】最後にＣｒ膜１２部分に外部電極１９を引
き出し、図１９に示すように電子管５０が形成できる。
き出し、図１９に示すように電子管５０が形成できる。
【００３２】第４の具体例は、本発明の実施形態に係る
ガラス部材の接合方法を利用した電子管の製造方法であ
る。
ガラス部材の接合方法を利用した電子管の製造方法であ
る。
【００３３】本方法では、まず、図２０に示すように、
カソード用材料となるＧａＡｓ半導体結晶から成る面状
部材５２の接合面にＳｉＯ2膜１４を形成する。ＳｉＯ2
膜１４の形成は、第１の具体例と同様に、ＣＶＤ法を用
いて面状部材５２の接合面にＳｉＯ2を蒸着する方法で
行う。
カソード用材料となるＧａＡｓ半導体結晶から成る面状
部材５２の接合面にＳｉＯ2膜１４を形成する。ＳｉＯ2
膜１４の形成は、第１の具体例と同様に、ＣＶＤ法を用
いて面状部材５２の接合面にＳｉＯ2を蒸着する方法で
行う。
【００３４】次に、図２１に示すように、真空熱処理炉
内で面状部材５２の接合面とガラス部材１０の接合面が
密着するように重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈服
点温度付近にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ2
にした状態で３０分〜１時間密着保持することにより熱
圧着する。
内で面状部材５２の接合面とガラス部材１０の接合面が
密着するように重ね、炉内温度をガラス部材１０の屈服
点温度付近にし、加重圧力を１００〜２００ｇ／ｃｍ2
にした状態で３０分〜１時間密着保持することにより熱
圧着する。
【００３５】続いて、図２２に示すように、ガラス部材
１０上に電極となるＣｒ膜１２を蒸着し、さらに、図２
３に示すように、所定の位置にＳｉＯ2膜１４を形成す
る。
１０上に電極となるＣｒ膜１２を蒸着し、さらに、図２
３に示すように、所定の位置にＳｉＯ2膜１４を形成す
る。
【００３６】以降の処理は、具体例３と同様で、２つの
ガラス部材１０を、支持ガラス１８を用いて熱圧着し、
外部電極１９を引き出すことにより、電子管５０を形成
する。 上記第１〜第４の具体例に示すように、本実施
形態に係るガラス部材の接合方法を用いて、ガラス部材
を接合することにより、接合面が容易に剥離せず、かつ
金属膜が破壊されないため、耐久性能が高く、良好な反
射面あるいは電極を持った光学窓、あるいは電子管を製
造することが可能となる。
ガラス部材１０を、支持ガラス１８を用いて熱圧着し、
外部電極１９を引き出すことにより、電子管５０を形成
する。 上記第１〜第４の具体例に示すように、本実施
形態に係るガラス部材の接合方法を用いて、ガラス部材
を接合することにより、接合面が容易に剥離せず、かつ
金属膜が破壊されないため、耐久性能が高く、良好な反
射面あるいは電極を持った光学窓、あるいは電子管を製
造することが可能となる。
【００３７】また、上記実施形態において、第１のガラ
ス部材１０の接合面に形成されている金属膜はＣｒから
形成されていたが、これはＣｒでなくても良い。例え
ば、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａからなる膜が形成さ
れていても、本実施形態に係るガラス部材の接合方法を
用いることにより、２つのガラス部材を効果的に接合す
ることができる。
ス部材１０の接合面に形成されている金属膜はＣｒから
形成されていたが、これはＣｒでなくても良い。例え
ば、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｔａからなる膜が形成さ
れていても、本実施形態に係るガラス部材の接合方法を
用いることにより、２つのガラス部材を効果的に接合す
ることができる。
【００３８】また、上記実施形態において、第１のガラ
ス部材の接合面にＳｉＯ2を蒸着させる方法として、Ｃ
ＶＤ法を用いていたが、これはＰＶＤ法など、別の蒸着
方法であっても良い。
ス部材の接合面にＳｉＯ2を蒸着させる方法として、Ｃ
ＶＤ法を用いていたが、これはＰＶＤ法など、別の蒸着
方法であっても良い。
【００３９】また、上記実施形態においては、接合面の
全面にＳｉＯ2を蒸着し、ＳｉＯ2膜１４を形成していた
が、接合強度が所望の強度を満たすのであれば、接合面
の全面ではなく一部にＳｉＯ2膜１４を形成し、熱圧着
を行っても良い。
全面にＳｉＯ2を蒸着し、ＳｉＯ2膜１４を形成していた
が、接合強度が所望の強度を満たすのであれば、接合面
の全面ではなく一部にＳｉＯ2膜１４を形成し、熱圧着
を行っても良い。
【００４０】さらに、上記実施形態において、ガラス部
材を接合させる対象であるガラス等の部材として、ガラ
ス、III−V族化合物半導体についての具体例を示した
が、本方法においてガラス部材を接合することがするこ
とができるガラス等の部材としては、サファイア、スピ
ネル、セラミックス、シリコンからなる部材などが考え
られる。これらの部材に、ガラス部材を接合するとき
も、上記実施形態に係る方法において、２つの部材を強
固に接合することが可能となる。
材を接合させる対象であるガラス等の部材として、ガラ
ス、III−V族化合物半導体についての具体例を示した
が、本方法においてガラス部材を接合することがするこ
とができるガラス等の部材としては、サファイア、スピ
ネル、セラミックス、シリコンからなる部材などが考え
られる。これらの部材に、ガラス部材を接合するとき
も、上記実施形態に係る方法において、２つの部材を強
固に接合することが可能となる。
【００４１】
【発明の効果】本発明のガラス部材の接合方法を用いる
ことにより、接合面に金属膜が形成されているガラス等
の部材の接合面に、他のガラス部材を接合する場合にお
いて、２つの部材を頑強に接合することが可能となり、
接合面が容易に剥離することがなくなり、また、金属膜
が破壊されることもなくなる。
ことにより、接合面に金属膜が形成されているガラス等
の部材の接合面に、他のガラス部材を接合する場合にお
いて、２つの部材を頑強に接合することが可能となり、
接合面が容易に剥離することがなくなり、また、金属膜
が破壊されることもなくなる。
【図１】本発明の実施形態に係るガラス部材の接合方法
によって接合された面状のガラス部材の状態を表した図
である。
によって接合された面状のガラス部材の状態を表した図
である。
【図２】本発明の実施形態に係るガラス部材の接合方法
において用いられる面状のガラス部材を表した図であ
る。
において用いられる面状のガラス部材を表した図であ
る。
【図３】本発明の実施形態に係るガラス部材の接合方法
の第１の工程を表した図である。
の第１の工程を表した図である。
【図４】本発明の実施形態に係るガラス部材の接合方法
の第２の工程を表した図である。
の第２の工程を表した図である。
【図５】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射面
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図６】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射面
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図７】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射面
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図８】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射面
を有する光学窓の完成図である。
を有する光学窓の完成図である。
【図９】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射面
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
を有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図１０】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射
面を有する光学窓の製造工程を表す図である。
面を有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図１１】本発明の第１の具体例に係るストライプ反射
面を有する光学窓の完成図である。
面を有する光学窓の完成図である。
【図１２】本発明の第２の具体例に係る格子状反射面を
有する光学窓の製造工程を表す図である。
有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図１３】本発明の第２の具体例に係る格子状反射面を
有する光学窓の製造工程を表す図である。
有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図１４】本発明の第２の具体例に係る格子状反射面を
有する光学窓の製造工程を表す図である。
有する光学窓の製造工程を表す図である。
【図１５】本発明の第２の具体例に係る格子状反射面を
有する光学窓の完成図である。
有する光学窓の完成図である。
【図１６】本発明の第３の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図１７】本発明の第３の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図１８】本発明の第３の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図１９】本発明の第３の具体例に係る電子管の完成図
である。
である。
【図２０】本発明の第４の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図２１】本発明の第４の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図２２】本発明の第４の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図２３】本発明の第４の具体例に係る電子管の製造工
程を表す図である。
程を表す図である。
【図２４】ストライプ反射面を有する光学窓を構成する
ガラス部材を表す図である。
ガラス部材を表す図である。
【図２５】ストライプ反射面を有する光学窓の完成図で
ある。
ある。
１、１０、２０…ガラス部材、２、３０…ストライプ状
反射面を有する光学窓、３…金属膜、１２…Ｃｒ膜、１
４…ＳｉＯ2膜、１６…電極用金属材料、１８…支持ガ
ラス、１９…外部電極、４０…格子状反射面を有する光
学窓、５０…電子管、５２…面状部材
反射面を有する光学窓、３…金属膜、１２…Ｃｒ膜、１
４…ＳｉＯ2膜、１６…電極用金属材料、１８…支持ガ
ラス、１９…外部電極、４０…格子状反射面を有する光
学窓、５０…電子管、５２…面状部材
Claims (4)
- 【請求項１】 接合面の一部あるいは全面に金属膜が形
成されている第１のガラス等の部材の接合面の少なくと
も一部に、ＳｉＯ2からなる膜を形成した後、所定の圧
力および所定の温度のもとで、前記接合面に第２のガラ
ス部材を熱圧着することを特徴とするガラス部材の接合
方法。 - 【請求項２】 前記ＳｉＯ2からなる膜を、ＣＶＤ法
（化学気相成長法）によって形成することを特徴とする
請求項１に記載のガラス部材の接合方法。 - 【請求項３】 前記第２のガラス部材は、 少なくとも１種以上のアルカリ元素を含むガラスから成
り、 前記第１のガラス等の部材の熱膨張係数と前記第２のガ
ラス部材の熱膨張係数との差が−１．０×１０-6〜＋
１．０×１０-6／℃の範囲であることを特徴とする請求
項１または請求項２に記載のガラス部材の接合方法。 - 【請求項４】 前記第１のガラス等の部材は、ガラス、
サファイア、スピネル、セラミックス、シリコン及びII
I−V族化合物半導体からなる群から選択されるいずれか
の材料から形成されていることを特徴とする請求項１〜
３のいずれか１項に記載のガラス部材の接合方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19722997A JP4108790B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガラス部材の接合方法 |
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| DE69812971T DE69812971T2 (de) | 1997-07-23 | 1998-07-10 | Verfahren zur verbindung von glaselementen |
| US09/355,102 US6314759B1 (en) | 1997-07-23 | 1998-07-10 | Method of bonding glass members |
| EP98931047A EP1008567B1 (en) | 1997-07-23 | 1998-07-10 | Method of bonding glass members |
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|---|---|---|---|
| JP19722997A JP4108790B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガラス部材の接合方法 |
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|---|---|
| JPH1143354A true JPH1143354A (ja) | 1999-02-16 |
| JP4108790B2 JP4108790B2 (ja) | 2008-06-25 |
Family
ID=16371000
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|---|---|---|---|
| JP19722997A Expired - Fee Related JP4108790B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガラス部材の接合方法 |
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| US (1) | US6314759B1 (ja) |
| EP (1) | EP1008567B1 (ja) |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020074419A (ja) * | 2013-07-08 | 2020-05-14 | ルミレッズ ホールディング ベーフェー | 波長変換式半導体発光デバイス |
| JP2021006780A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-21 | 株式会社ミツトヨ | 格子部品およびその製造方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6548375B1 (en) * | 2000-03-16 | 2003-04-15 | Hughes Electronics Corporation | Method of preparing silicon-on-insulator substrates particularly suited for microwave applications |
| GB0123731D0 (en) * | 2001-10-03 | 2001-11-21 | Qinetiq Ltd | Optical bonding technique |
| US20030164006A1 (en) * | 2001-10-26 | 2003-09-04 | Buchanan Karl H. | Direct bonding of glass articles for drawing |
| SE525657C2 (sv) | 2002-04-08 | 2005-03-29 | Vaelinge Innovation Ab | Golvskivor för flytande golv framställda av åtminstone två olika materialskikt samt halvfabrikat för tillverkning av golvskivor |
| JP2006301585A (ja) | 2005-03-22 | 2006-11-02 | Seiko Epson Corp | 光学製品および光学製品の製造方法 |
| WO2008149305A2 (en) | 2007-06-05 | 2008-12-11 | Udayan Kanade | Method of manufacturing multicolored illuminator |
| US8935899B2 (en) * | 2012-02-02 | 2015-01-20 | Valinge Innovation Ab | Lamella core and a method for producing it |
| US8875464B2 (en) | 2012-04-26 | 2014-11-04 | Valinge Innovation Ab | Building panels of solid wood |
| US9140010B2 (en) | 2012-07-02 | 2015-09-22 | Valinge Flooring Technology Ab | Panel forming |
| RU2525777C2 (ru) * | 2012-12-25 | 2014-08-20 | Таймасхан Амиралиевич Арсланов | Дополнительная теплосберегающая съемная накладка окна |
| US9975267B2 (en) | 2013-08-27 | 2018-05-22 | Valinge Innovation Ab | Method for producing a lamella core |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3589965A (en) * | 1968-11-27 | 1971-06-29 | Mallory & Co Inc P R | Bonding an insulator to an insulator |
| JPS51993B2 (ja) | 1971-08-31 | 1976-01-13 | ||
| US3962597A (en) * | 1974-07-01 | 1976-06-08 | International Business Machines Corporation | Gas discharge display panel including electrode connections in plurality of non-conductive layers |
| JPS5124612A (en) * | 1974-08-23 | 1976-02-28 | Hitachi Ltd | Garasuno handazukehoho |
| JPS5924958A (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-08 | Sumitomo Special Metals Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド用基板の製造方法 |
| JPS62297247A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-24 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
| JPS62297370A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-24 | Canon Inc | 光学素子の接着方法 |
| JPS63379A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-05 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
| JPS62297369A (ja) * | 1986-06-18 | 1987-12-24 | Canon Inc | 光学素子の製造方法 |
| US5725626A (en) * | 1986-06-18 | 1998-03-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing an optical element by bonding a plurality of elements |
| US5038242A (en) * | 1988-05-13 | 1991-08-06 | Citizen Watch Co., Ltd. | Magnetic head containing a barrier layer |
| JPH0292685A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-03 | Canon Inc | 感熱転写材 |
| JPH04123302A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-23 | Minebea Co Ltd | 磁気ヘッド |
| JPH0556789A (ja) * | 1990-10-29 | 1993-03-09 | Juzo Udaka | テルムス アクアテイカスのキシロースイソメラーゼ遺伝子、キシロースイソメラーゼ及びそれを用いたフラクトースの製造方法 |
| JP2701183B2 (ja) * | 1991-08-09 | 1998-01-21 | 株式会社小松製作所 | 液晶マスク式レーザマーカ |
| KR0137125B1 (ko) * | 1992-11-16 | 1998-06-15 | 모리시타 요이찌 | 광도파로소자와 그 제조방법 |
| JP3060928B2 (ja) * | 1995-12-13 | 2000-07-10 | 双葉電子工業株式会社 | 電界放出カソードとその製造方法 |
| US5876614A (en) * | 1997-04-18 | 1999-03-02 | Storage Technology Corporation | Method of wet etching aluminum oxide to minimize undercutting |
-
1997
- 1997-07-23 JP JP19722997A patent/JP4108790B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-10 EP EP98931047A patent/EP1008567B1/en not_active Expired - Lifetime
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020074419A (ja) * | 2013-07-08 | 2020-05-14 | ルミレッズ ホールディング ベーフェー | 波長変換式半導体発光デバイス |
| JP2021006780A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-21 | 株式会社ミツトヨ | 格子部品およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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