JPH1138634A - Photosensitive material - Google Patents
Photosensitive materialInfo
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- JPH1138634A JPH1138634A JP9196195A JP19619597A JPH1138634A JP H1138634 A JPH1138634 A JP H1138634A JP 9196195 A JP9196195 A JP 9196195A JP 19619597 A JP19619597 A JP 19619597A JP H1138634 A JPH1138634 A JP H1138634A
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- Japan
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- layer
- photosensitive
- compound
- photosensitive material
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀、還
元剤および重合性化合物を含有する層が支持体上に設け
られている感光材料に関するものであり、特に溶出処理
性、画像形成性、経時安定性の改良された感光材料に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light-sensitive material in which a layer containing a silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound is provided on a support. The present invention relates to a photosensitive material having improved aging stability.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ハロゲン化銀、還元剤および重合性化合
物を含む感光材料を画像露光し、ハロゲン化銀を現像し
て、これにより画像状に重合性化合物を重合させてポリ
マー画像を形成する方法が、特公昭４５−１１１４９号
公報（米国特許３，６９７，２７５号、西ドイツ特許
１，７２０，６６５号および英国特許１，１３１，２０
０号明細書）に記載されている。この方法においては、
ハロゲン化銀を還元した還元剤の酸化体ラジカル（還元
剤の酸化体の分解によって生じるラジカルであってもよ
い。以下、単にラジカルと呼ぶ。）によって重合が開始
される。2. Description of the Related Art A method for forming a polymer image by imagewise exposing a photosensitive material containing a silver halide, a reducing agent and a polymerizable compound to develop the silver halide and thereby polymerizing the polymerizable compound in an image-like manner. Japanese Patent Publication No. 45-11149 (US Pat. No. 3,697,275, West German Patent 1,720,665 and British Patent 1,131,20).
0 specification). In this method,
Polymerization is initiated by an oxidant radical of a reducing agent that has reduced silver halide (which may be a radical generated by the decomposition of an oxidant of the reducing agent; hereinafter simply referred to as a radical).
【０００３】一方、ハロゲン化銀の現像を加熱によって
行い、乾式処理だけでポリマー画像を形成する方法が特
開昭６１−６９０６２号および同６１−７３１４５号各
公報（米国特許４，６２９，６７６号および欧州特許公
開番号０１７４，６３４Ａ号各明細書）に記載されてい
る。また、この乾式処理の画像形成方法を利用した印刷
板の製造に好適な感光材料が、特開昭６４−１７０４７
号公報（米国特許４，９８５，３３９号および欧州特許
公開番号０２９８，５２２Ａ各明細書）に記載されてい
る。On the other hand, a method in which a silver halide is developed by heating to form a polymer image only by dry processing is disclosed in JP-A-61-69062 and JP-A-61-73145 (US Pat. No. 4,629,676). And European Patent Publication No. 0174,634A). Further, a photosensitive material suitable for manufacturing a printing plate using this dry processing image forming method is disclosed in JP-A-64-17047.
(US Pat. No. 4,985,339 and European Patent Publication No. 0298,522A).
【０００４】以上述べた画像形成方法は、印刷版の製造
に適用することができる。印刷版の製造に好適な感光材
料は、特開平5 −249667号公報（米国特許5122443 号お
よび欧州特許0426192号各明細書）および特開平4 −191
856号公報（米国特許5290659号明細書）に記載されてい
る。印刷版の製造に用いる感光材料では、一般に支持体
上に、重合性化合物および疎水性ポリマーを含む硬化性
層、およびハロゲン化銀および親水性ポリマーを含む感
光性層を設ける。還元剤は、いずれかの層に含まれる。
ハロゲン化銀を用いる印刷版の製造方法では、熱現像に
より重合性化合物を硬化させてから、感光性層を感光材
料から除き、溶出液を用いて硬化性層の未硬化部を除去
し、残存する硬化画像を印刷版の画像として利用する。[0004] The image forming method described above can be applied to the production of a printing plate. Photosensitive materials suitable for the production of printing plates are described in JP-A-5-249667 (U.S. Pat. No. 5,122,443 and European Patent 0426192) and JP-A-4-191.
No. 856 (US Pat. No. 5,290,659). In a photosensitive material used for producing a printing plate, generally, a curable layer containing a polymerizable compound and a hydrophobic polymer, and a photosensitive layer containing silver halide and a hydrophilic polymer are provided on a support. A reducing agent is included in any of the layers.
In the method of manufacturing a printing plate using silver halide, after the polymerizable compound is cured by thermal development, the photosensitive layer is removed from the photosensitive material, and the uncured portion of the curable layer is removed using an eluent, and the remaining layer is removed. The cured image is used as a printing plate image.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、印刷版の
製造に好ましく用いることができる感光材料について研
究を進めたところ、熱現像において十分な酸素遮断性を
確保するためには、９５％以上の高ケン化度ポリビニル
アルコールを使用し、２μｍ以上の高膜厚に設定する必
要があり、加熱処理されたポリビニルアルコールの結晶
化や、高膜厚による水溶性低下で溶出処理に大きな負担
がかかり、場合によっては残膜故障の要因となってい
た。また、熱現像時には乳剤まわりで現像反応が進行す
るが、酸素遮断の目的で設けた最上層へ低分子化合物で
ある還元剤が拡散してしまい、反応効率が低下し、低い
熱現像温度では十分な硬化画像が得られない問題があっ
た。さらに、ポリビニルアルコールに代表される水溶性
高分子は、吸湿性が高く、それに伴う感光材料の感度低
下が避けられない問題として顕在化していた。The present inventors have conducted research on photosensitive materials that can be preferably used in the production of printing plates. As a result, in order to ensure sufficient oxygen barrier properties in thermal development, 95% It is necessary to use the above-mentioned high saponification degree polyvinyl alcohol and set it to a high film thickness of 2 μm or more, and a large burden is imposed on the elution treatment due to crystallization of the heat-treated polyvinyl alcohol and a decrease in water solubility due to the high film thickness. As a result, in some cases, this has been a cause of residual film failure. Further, during thermal development, the development reaction proceeds around the emulsion, but the reducing agent, which is a low-molecular compound, diffuses into the uppermost layer provided for the purpose of blocking oxygen, and the reaction efficiency decreases. There was a problem that a hardened image could not be obtained. Furthermore, a water-soluble polymer represented by polyvinyl alcohol has a high hygroscopicity, and has been evident as a problem that the sensitivity of the photosensitive material is inevitably reduced.
【０００６】従って、本発明の目的は、高膜厚の保護層
を必要とせず、溶出処理性、画像形成性および経時安定
性が良好な感光材料を提供することである。Accordingly, it is an object of the present invention to provide a photosensitive material which does not require a protective layer having a large thickness, and has good elution property, image forming property and stability over time.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的は下記の感光
材料により達成された。即ち、本発明の感光材料は、支
持体上に、ハロゲン化銀、還元剤、塩基プレカーサー及
び重合性または架橋性を有する化合物、無機質層状化合
物の５種からなる物質群から選ばれる少なくとも１つの
化合物を含む複数の層が形成されており、 該複数の層
のうち、最上層に無機質層状化合物を含み、且つ、前記
の他の４種の物質は複数の層のいずれかに存在すること
を特徴とする。The above objects have been attained by the following photographic materials. That is, the light-sensitive material of the present invention comprises, on a support, at least one compound selected from the group consisting of five kinds of silver halide, a reducing agent, a base precursor, a compound having polymerizable or crosslinkable properties, and an inorganic layered compound. A plurality of layers including: an uppermost layer of the plurality of layers containing an inorganic layered compound; and the other four substances are present in any of the plurality of layers. And
【０００８】上記感光材料において最上層に含有される
無機質層状化合物のアスペクト比は２０以上であり、好
ましくは１００以上であり、さらに好ましくは２００以
上である。The aspect ratio of the inorganic layered compound contained in the uppermost layer in the light-sensitive material is 20 or more, preferably 100 or more, and more preferably 200 or more.
【０００９】また、ここで最上層に含有される無機質層
状化合物は、具体的には雲母であり、特に、膨潤性のフ
ッ素系合成雲母であることが好ましい。本発明の感光材
料においては、支持体上に感光性材料や硬化性材料を含
む少なくとも２層以上の層が形成されていれば、複数の
層の最上層に無機質層状化合物が含まれる以外は、その
層構成は任意であり、無機質層状化合物以外の４種の物
質は複数の層のうちのいずれの層に含まれていてもよい
が、（１）支持体上に、重合性化合物または架橋性ポリ
マーを含む硬化性層、ハロゲン化銀、塩基プレカーサー
を含む感光性層さらに、無機質の層状化合物を含むオー
バーコート層が順次設けられており、且つ、還元剤がオ
ーバーコート層以外のいずれかの層に含まれる態様、あ
るいは（２）支持体上に、重合性化合物または架橋性ポ
リマーを含む硬化性層、ハロゲン化銀を含む感光性層、
塩基プレカーサーを含む画像形成促進層および、無機質
層状化合物を含むオーバーコート層が順次設けられてお
り、還元剤がオーバーコート層以外のいずれかの層に含
まれる態様等が、感光材料の保存安定性及び迅速な画像
形成の観点から好ましい。The inorganic layered compound contained in the uppermost layer is specifically mica, particularly preferably a swellable fluorine-based synthetic mica. In the photosensitive material of the present invention, provided that at least two or more layers containing a photosensitive material and a curable material are formed on the support, except that the inorganic layered compound is contained in the uppermost layer of the plurality of layers, The layer constitution is arbitrary, and the four kinds of substances other than the inorganic layered compound may be contained in any of the plural layers. (1) The polymerizable compound or the crosslinkable A curable layer containing a polymer, a silver halide, a photosensitive layer containing a base precursor, and an overcoat layer containing an inorganic layered compound are sequentially provided, and the reducing agent is any layer other than the overcoat layer. Or (2) a curable layer containing a polymerizable compound or a crosslinkable polymer, a photosensitive layer containing silver halide on a support,
An image formation accelerating layer containing a base precursor, and an overcoat layer containing an inorganic stratiform compound are sequentially provided, and an embodiment in which a reducing agent is contained in any layer other than the overcoat layer, such as the storage stability of the photosensitive material It is preferable from the viewpoint of rapid image formation.
【００１０】本発明者らは鋭意研究の結果、感光材料の
最上層へ無機質層状化合物を添加することにより、感光
材料の溶出処理性、画像形成性、経時安定性が改善され
ることを見いだして本発明を完成した。。最上層に含ま
れる無機質層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒
子であり、これを最上層中に含有させることにより、酸
素遮断性に優れた薄膜を形成するため、従来の高ケン化
ポリビニルアルコールを保護層に用いた感光材料に比
べ、薄い膜厚でも酸素遮断性に優れ、画像形成後の保護
層の溶出処理の負荷を軽減できる。さらに、この無機質
層状化合物は各種バインダーとの親和性に優れ、バイン
ダーとして水溶性ポリマー水不溶性ポリマーの何れも使
用でき、加熱処理時の結晶化による溶出不良を改善でき
る。また、本発明の感光材料を熱現像する時に膜中で、
還元剤などの低分子化合物が拡散する現象が起きるが、
最上層に前記層状化合物が含有されているため、最上層
への還元剤の拡散を抑制でき、乳剤まわりの現像中心に
おける反応効率を向上させ、重合率の向上および画像形
成の低温化がはかれ、さらに、水蒸気を効果的に遮断し
うるため、感光材料の経時安定性が向上するという利点
をも有するものとなる。As a result of intensive studies, the present inventors have found that the addition of an inorganic layered compound to the uppermost layer of a light-sensitive material improves the elution processability, image-forming property and stability over time of the light-sensitive material. The present invention has been completed. . The inorganic stratiform compound contained in the uppermost layer is a particle having a thin tabular shape, and by including it in the uppermost layer to form a thin film having excellent oxygen barrier properties, a conventional highly saponified polyvinyl chloride is used. Compared with a photosensitive material using an alcohol for the protective layer, even a thin film has excellent oxygen barrier properties, and can reduce the load of elution of the protective layer after image formation. Further, the inorganic layered compound has excellent affinity with various binders, and any of a water-soluble polymer and a water-insoluble polymer can be used as the binder, and the elution failure due to crystallization during heat treatment can be improved. Further, when the photosensitive material of the present invention is thermally developed,
A phenomenon occurs in which low-molecular compounds such as reducing agents diffuse.
Since the layered compound is contained in the uppermost layer, the diffusion of the reducing agent to the uppermost layer can be suppressed, the reaction efficiency in the development center around the emulsion is improved, the polymerization rate is improved, and the temperature of image formation is reduced. Furthermore, since water vapor can be effectively blocked, there is also an advantage that the temporal stability of the photosensitive material is improved.
【００１１】以下本発明について詳細に説明する。本発
明の感光材料は、支持体上に複数の層が形成されてな
り、その最上層に無機質層状化合物を含有することを特
徴とする。つぎに、個々の構成について説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail. The light-sensitive material of the present invention is characterized in that a plurality of layers are formed on a support, and the uppermost layer contains an inorganic layered compound. Next, each configuration will be described.
【００１２】［無機質層状化合物］本発明の感光材料の
最上層に含有される無機質層状化合物は、感光材料の支
持体上に形成された硬化性層や感光性層の保護層として
の機能を有するものであり、各層を構成する化合物及び
活性光線の露光により感光性層中に生じた化合物への外
気からの影響を阻害するために設られる。このため、空
気中に存在する酸素、水蒸気やその他の低分子化合物及
び感光層中に発生する低分子化合物のいずれに対しても
透過性の低いものであることが好ましい。混入を阻害し
たり、感光層中で生じる反応を阻害する空気中に存在す
る水、塩基、酸、酸素等の化合物の感光層への混入を防
止でき、且つ、露光後の非画像部に残存する保護層が容
易に除去し得るものであることが好ましい。[Inorganic layered compound] The inorganic layered compound contained in the uppermost layer of the light-sensitive material of the present invention has a function as a curable layer formed on a support of the light-sensitive material or a protective layer for the light-sensitive layer. It is provided in order to inhibit the influence of the outside air on the compounds constituting each layer and the compounds generated in the photosensitive layer by exposure to actinic rays. For this reason, it is preferable that the material has low permeability to any of oxygen, water vapor and other low molecular compounds present in the air and low molecular compounds generated in the photosensitive layer. Compounds such as water, bases, acids, and oxygen present in the air that inhibit mixing and inhibit reactions occurring in the photosensitive layer can be prevented from mixing into the photosensitive layer, and remain in non-image areas after exposure. Preferably, the protective layer to be removed can be easily removed.
【００１３】本発明で使用する無機質層状化合物は、極
めて厚みの薄い平板状の形状を有する粒子であり、例え
ば、一般式Ａ（Ｂ，Ｃ）2-5 Ｄ4 Ｏ10（ＯＨ，Ｆ，Ｏ）
2 〔ただし、ＡはＫ，Ｎａ，Ｃａの何れか、Ｂ及びＣは
ＦｅＩＩ，ＦｅＩＩＩ，Ｍｎ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｖの何れか
であり、ＤはＳｉ又はＡｌである。〕で表される天然雲
母、合成雲母等の雲母群、一般式３ＭｇＯ・４ＳｉＯ・
Ｈ2 Ｏで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナ
イト、サポナイト、ヘクトライト、りん酸ジルコニウム
などが挙げられる。The inorganic stratiform compound used in the present invention is a particle having an extremely thin tabular shape. For example, a general formula A (B, C) 2-5 D 4 O 10 (OH, F, O) )
2 [where A is any of K, Na, and Ca, B and C are any of FeII, FeIII, Mn, Al, Mg, and V, and D is Si or Al. Mica groups such as natural mica and synthetic mica represented by the general formula 3MgO.4SiO.
Examples include talc, teniolite, montmorillonite, saponite, hectorite, and zirconium phosphate represented by H 2 O.
【００１４】上記雲母群においては、天然雲母としては
白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げ
られる。また、合成雲母としては、フッ素金雲母ＫＭｇ
3 （ＡｌＳｉ3 Ｏ10）Ｆ2 、カリ四ケイ素雲母ＫＭｇ
2.5 Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2 等の非膨潤性雲母、及びＮａテト
ラシリリックマイカＮａＭｇ2.5 （Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2 、
Ｎａ又はＬｉテニオライト（Ｎａ，Ｌｉ）Ｍｇ2 Ｌｉ
（Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2 、モンモリロナイト系のＮａ又はＬ
ｉヘクトライト（Ｎａ，Ｌｉ）1/8 Ｍｇ2 /5Ｌｉ
1/ 8 （Ｓｉ4 Ｏ10）Ｆ2 等の膨潤性雲母等が挙げられ
る。更に合成スメクタイトも有用である。In the above mica group, natural mica includes muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and scale mica. As synthetic mica, fluorphlogopite mica KMg
3 (AlSi 3 O 10 ) F 2 , potassium tetrasilicic mica KMg
Non-swelling mica, such as 2.5 Si 4 O 10 ) F 2 , and Natetrasilyl mica NaMg 2.5 (Si 4 O 10 ) F 2 ,
Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li
(Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or L
i hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 /5 Li
1/8 (Si 4 O 10 ) swelling mica F 2. Further, synthetic smectite is also useful.
【００１５】本発明においては、上記の無機質層状化合
物の中でも、合成の無機質の層状化合物であるフッ素系
の膨潤性雲母が特に有用である。即ち、この膨潤性合成
雲母や、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライ
ト、ベントナイト等の膨潤性粘度鉱物類等は、１０〜１
５Å程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有
し、格子内金属原子置換が他の粘度鉱物より著しく大き
い。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償
するために層間にＮａ+ 、Ｃａ2+、Ｍｇ2+等の陽イオン
を吸着している。これらの層間に介在している陽イオン
は交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換
する。特に層間の陽イオンがＬｉ+ 、Ｎａ+ の場合、イ
オン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水
により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると
容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。ベント
ナイト及び膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、本発明に
おいて有用であり、特に膨潤性合成雲母が好ましく用い
られる。In the present invention, among the inorganic layered compounds described above, fluorine-based swellable mica, which is a synthetic inorganic layered compound, is particularly useful. That is, the swelling synthetic mica, swelling viscosity minerals such as montmorillonite, saponite, hectorite, bentonite and the like are 10-1.
It has a laminated structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 5 °, and the substitution of metal atoms in the lattice is significantly larger than other viscous minerals. As a result, the lattice layer has a shortage of positive charges, and cations such as Na + , Ca 2+ , and Mg 2+ are adsorbed between the layers to compensate for the shortage. The cations interposed between these layers are called exchangeable cations and exchange with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + and Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak because the ionic radius is small, and the swells greatly with water. When shear is applied in this state, it is easily cleaved and forms a stable sol in water. Bentonite and swellable synthetic mica have a strong tendency and are useful in the present invention. In particular, swellable synthetic mica is preferably used.
【００１６】本発明で使用する無機質層状化合物の形状
としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄い
ほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透
過性を阻害しない限りにおいて大きいほどよい。従っ
て、アスペクト比は２０以上であり、好ましくは１００
以上、特に好ましくは２００以上である。なお、アスペ
クト比は粒子の長径に対する厚さの比であり、たとえ
ば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することが
できる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大き
い。The shape of the inorganic layered compound used in the present invention is preferably as thin as possible from the viewpoint of diffusion control, and the planar size does not impair the smoothness of the coated surface and the transmittance of active rays. The larger the better, the better. Therefore, the aspect ratio is 20 or more, preferably 100
The number is particularly preferably 200 or more. The aspect ratio is a ratio of the thickness to the major axis of the particle, and can be measured, for example, from a projection of a particle by a micrograph. The greater the aspect ratio, the greater the effect obtained.
【００１７】本発明で使用する無機質層状化合物の粒子
径は、その平均長径が０．３〜２０μｍ、好ましくは
０．５〜１０μｍ、特に好ましくは１〜５μｍである。
また、該粒子の平均の厚さは、０．１μｍ以下、好まし
くは、０．０５μｍ以下、特に好ましくは、０．０１μ
ｍ以下である。例えば、無機質層状化合物のうち、代表
的化合物である膨潤性合成雲母のサイズは厚さが１〜５
０ｎｍ、面サイズが１〜２０μｍ程度である。The average particle diameter of the inorganic layered compound used in the present invention is 0.3 to 20 μm, preferably 0.5 to 10 μm, and particularly preferably 1 to 5 μm.
The average thickness of the particles is 0.1 μm or less, preferably 0.05 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less.
m or less. For example, among the inorganic stratiform compounds, the swellable synthetic mica which is a representative compound has a thickness of 1 to 5 mm.
0 nm, and the surface size is about 1 to 20 μm.
【００１８】このようにアスペクト比が大きい無機質層
状化合物の粒子を感光材料の最上層に含有させると、塗
膜強度が向上し、また、酸素や水分の透過を効果的に防
止しうるため、変形などによる感光性層等の劣化を防止
し、高湿条件下において長期間保存しても、湿度の変化
による感光材料の画像形成性の低下もなく保存安定性に
優れる。When the particles of the inorganic layered compound having a large aspect ratio are contained in the uppermost layer of the photosensitive material, the strength of the coating film is improved, and the permeation of oxygen and moisture can be effectively prevented. This prevents deterioration of the photosensitive layer and the like due to, for example, and provides excellent storage stability without deterioration in image forming properties of the photosensitive material due to changes in humidity even when stored for a long time under high humidity conditions.
【００１９】無機質層状化合物の最上層としては、保護
層の機能を有するオーバーコート層を形成することが好
ましいが、これらの層に含有される量は、該層に使用さ
れるバインダーにあたる成分量に対し、重量比で５／１
〜１／１００であることが好ましい。無機質の層状化合
物の量が重量比較例で１／１００未満であると、無機質
の層状化合物を添加する効果がなく、５／１を越える
と、塗膜にひび割れが生じる虞れがある。複数種の無機
質層状化合物を併用した場合でも、これらの無機質層状
化合物の合計の量が上記の重量比であることが好まし
い。As the uppermost layer of the inorganic layered compound, it is preferable to form an overcoat layer having the function of a protective layer, but the amount contained in these layers depends on the amount of components corresponding to the binder used in the layer. 5/1 by weight
It is preferable that it is 〜1 / 100. If the amount of the inorganic layered compound is less than 1/100 in the weight comparative example, the effect of adding the inorganic layered compound is not obtained, and if it exceeds 5/1, the coating film may be cracked. Even when a plurality of inorganic stratiform compounds are used in combination, it is preferable that the total amount of these inorganic stratiform compounds is the above-mentioned weight ratio.
【００２０】本発明において、層状化合物が含まれる最
上層に用いられるバインダーとしては、無機質層状化合
物の分散性が良好であり、感光性層などの隣接する層に
密着する均一な被膜を形成し得るものであれば、特に制
限はなく、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれ
をも適宜選択して使用することができる。具体的には例
えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアク
リルアミド、ポリ酢酸ビニルの部分鹸化物、エチレン−
ビニルアルコール共重合体、水溶性セルロース誘導体、
ゼラチン、デンプン誘導体、アラビアゴム等の水溶性ポ
リマーや、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（メタ）アクリロ
ニトリル、ポリサルホン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアミド、セ
ロハン等の水不溶性ポリマー等が挙げられる。これら
は、必要に応じて２種以上を併用して用いることもでき
る。これらのうち、非画像部の溶出除去の容易性及び被
膜形成時のハンドリング性の観点から、水溶性ポリマー
が好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリ
ドン、ポリアクリル酸等の水溶性アクリル樹脂、ゼラチ
ン、アラビアゴム等が好適であり、なかでも、水を溶媒
として塗布可能であり、且つ、印刷時における湿し水に
より容易に除去されるという観点から、ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、アラビアゴ
ム等がさらに好ましい。In the present invention, the binder used for the uppermost layer containing the layered compound has a good dispersibility of the inorganic layered compound and can form a uniform film adhered to an adjacent layer such as a photosensitive layer. There is no particular limitation as long as it is a polymer, and any of a water-soluble polymer and a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specifically, for example, polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, polyacrylamide, partially saponified polyvinyl acetate, ethylene-
Vinyl alcohol copolymer, water-soluble cellulose derivative,
Water-soluble polymers such as gelatin, starch derivatives and gum arabic; and water-insoluble polymers such as polyvinylidene chloride, poly (meth) acrylonitrile, polysulfone, polyvinyl chloride, polyethylene, polycarbonate, polystyrene, polyamide, cellophane and the like. These can be used in combination of two or more as necessary. Among these, water-soluble polymers are preferred from the viewpoint of easy dissolution and removal of non-image areas and handleability during film formation, and water-soluble acrylic resins such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, and polyacrylic acid, gelatin, and gum arabic. And the like, and among these, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, gelatin, gum arabic and the like are more preferable from the viewpoint that they can be applied using water as a solvent and are easily removed by a fountain solution during printing. .
【００２１】本発明に係る最上層に用い得るポリビニル
アルコールは、必要な水溶性を有する実質的量の未置換
ビニルアルコール単位を含有するかぎり、一部がエステ
ル、エーテル、及びアセタールで置換されていてもよ
い。また、同様に一部が他の共重合成分を含有していて
もよい。ポリビニルアルコールの具体例としては、７１
〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の
範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会社クラレ
製のPVA-105,PVA-110,PVA-117,PVA-117H,PVA-120,PVA-1
24,PVA124H,PVA-CS,PVA-CST,PVA-HC,PVA-203,PVA-204,P
VA-205,PVA-210,PVA-217,PVA-220,PVA-224,PVA-217EE,P
VA-217E,PVA-220E,PVA-224E,PVA-405,PVA-420,PVA-613,
L-8 等が挙げられる。上記の共重合体としては、８８〜
１００％加水分解されたポリビニルアセテートクロロア
セテート又はプロピオネート、ポリビニルホルマール及
びポリビニルアセタール及びそれらの共重合体が挙げら
れる。The polyvinyl alcohol which can be used in the uppermost layer according to the present invention is partially substituted with esters, ethers and acetal as long as it contains a substantial amount of unsubstituted vinyl alcohol units having the required water solubility. Is also good. Further, similarly, a part thereof may contain another copolymerization component. As a specific example of polyvinyl alcohol, 71
-100% hydrolyzed and has a polymerization degree in the range of 300 to 2400. Specifically, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-117H, PVA-120, PVA-1 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
24, PVA124H, PVA-CS, PVA-CST, PVA-HC, PVA-203, PVA-204, P
VA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-217EE, P
VA-217E, PVA-220E, PVA-224E, PVA-405, PVA-420, PVA-613,
L-8 and the like. As the above copolymer, 88-
Examples include 100% hydrolyzed polyvinyl acetate chloroacetate or propionate, polyvinyl formal and polyvinyl acetal and copolymers thereof.
【００２２】次に、最上層に用いる無機質層状化合物の
一般的な分散方法の例について述べる。まず、水１００
重量部に先に無機質層状化合物の好ましいものとして挙
げた膨潤性の層状化合物を５〜１０重量部添加し、充分
水になじませ、膨潤させた後、分散機にかけて分散す
る。ここで用いる分散機としては、機械的に直接力を加
えて分散する各種ミル、大きな剪断力を有する高速攪拌
型分散機、高強度の超音波エネルギーを与える分散機等
が挙げられる。具体的には、ボールミル、サンドグライ
ンダーミル、ビスコミル、コロイドミル、ホモジナイザ
ー、ティゾルバー、ポリトロン、ホモミキサー、ホモブ
レンダー、ケディミル、ジェットアジター、毛細管式乳
化装置、液体サイレン、電磁歪式超音波発生機、ポール
マン笛を有する乳化装置等が挙げられる。上記の方法で
分散した無機質層状化合物の５〜１０重量％の分散物は
高粘度あるいはゲル状であり、保存安定性は極めて良好
である。この分散物を用いて保護層塗布液を調製する際
には、水で希釈し、充分攪拌した後、バインダー溶液と
配合して調製するのが好ましい。Next, an example of a general dispersion method of the inorganic layer compound used for the uppermost layer will be described. First, water 100
5 to 10 parts by weight of the swellable layered compound mentioned above as a preferable inorganic layered compound is added to the parts by weight, and the mixture is sufficiently dispersed in water, swelled, and then dispersed by a dispersing machine. Examples of the disperser used here include various mills for dispersing by applying direct mechanical force, a high-speed stirring type disperser having a large shearing force, and a disperser for applying high-intensity ultrasonic energy. Specifically, a ball mill, a sand grinder mill, a biscomil, a colloid mill, a homogenizer, a tisolver, a polytron, a homomixer, a homoblender, a keddy mill, a jet agitator, a capillary emulsifier, a liquid siren, an electromagnetic strain type ultrasonic generator, An emulsifying device having a Paulman whistle is exemplified. The dispersion of 5 to 10% by weight of the inorganic layered compound dispersed by the above method has a high viscosity or a gel state, and has extremely good storage stability. When a protective layer coating solution is prepared using this dispersion, it is preferable that the solution is diluted with water, sufficiently stirred, and then blended with a binder solution to prepare.
【００２３】［感光材料の層構成］本発明の感光材料の
層構成は、支持体上に複数の層を有するものであれば層
構成を問わないが、実用上は、硬化性層、感光性層、オ
ーバーコート層の順序で設けることが好ましい。感光材
料を、硬化性層、感光性層、画像形成促進層およびオー
バーコート層を含む４層以上の構成としてもよく、硬化
性層と感光性層とをひとつの感光性硬化性層とすること
もできる。いずれの層構成においても、画像形成に必要
な還元剤は硬化性層、感光性層あるいは画像形成促進層
のいずれの層にも添加することができる。[Layer Structure of Light-Sensitive Material] The layer structure of the light-sensitive material of the present invention may be any layer structure as long as it has a plurality of layers on a support. It is preferable to provide the layers and the overcoat layer in this order. The photosensitive material may be composed of four or more layers including a curable layer, a photosensitive layer, an image formation accelerating layer, and an overcoat layer, and the curable layer and the photosensitive layer are made into one photosensitive curable layer. Can also. In any layer configuration, the reducing agent necessary for image formation can be added to any of the curable layer, the photosensitive layer and the image formation accelerating layer.
【００２４】以下、代表的な層構成を図面を参照しなが
ら説明する。図１は、代表的な感光材料の層構成を示す
概略断面図である。図１に示される感光材料では、アル
ミニウム支持体１上に、感光性硬化性層２およびオーバ
ーコート層３が順次設けられている。感光性硬化性層２
は、重合性化合物、疎水性ポリマー、ハロゲン化銀、還
元剤、塩基プレカーサーおよび親水性ポリマーを含むも
のであり、記録に必要な化合物の全てがこの層に含有さ
れる。オーバーコート層３は、無機質層状化合物および
バインダーとしての親水性ポリマーを含み、酸素遮断
性、水蒸気遮断性が良好であり、感光性硬化性層２の保
護層としての機能をもつものであり、本発明の感光材料
の最上層にあたる。Hereinafter, a typical layer configuration will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing the layer structure of a typical photosensitive material. In the photosensitive material shown in FIG. 1, a photosensitive curable layer 2 and an overcoat layer 3 are sequentially provided on an aluminum support 1. Photosensitive curable layer 2
Contains a polymerizable compound, a hydrophobic polymer, a silver halide, a reducing agent, a base precursor and a hydrophilic polymer, and all the compounds necessary for recording are contained in this layer. The overcoat layer 3 contains an inorganic layered compound and a hydrophilic polymer as a binder, has good oxygen barrier properties and water vapor barrier properties, and has a function as a protective layer of the photosensitive curable layer 2. This corresponds to the uppermost layer of the photosensitive material of the present invention.
【００２５】また、同様の層構成で、オーバーコート層
３に無機質層状化合物および塩基性プレカーサーを含
み、感光性硬化性層２は、重合性化合物、疎水性ポリマ
ー、ハロゲン化銀、還元剤、および親水性ポリマーを含
むこともできる。この態様においては、無機質層状化合
物および塩基性プレカーサーを含む層が、本発明の感光
材料の最上層にあたる。この態様においては、感光性硬
化性層２中に含まれる低分子量の還元剤が拡散してオー
バーコート層３界面において発生する塩基と反応し、容
易に現像進行が行われる。In the same layer configuration, the overcoat layer 3 contains an inorganic layered compound and a basic precursor, and the photosensitive curable layer 2 comprises a polymerizable compound, a hydrophobic polymer, silver halide, a reducing agent, It can also include a hydrophilic polymer. In this embodiment, the layer containing the inorganic layered compound and the basic precursor corresponds to the uppermost layer of the light-sensitive material of the present invention. In this embodiment, the low-molecular-weight reducing agent contained in the photosensitive curable layer 2 diffuses and reacts with the base generated at the interface of the overcoat layer 3 so that development proceeds easily.
【００２６】図２に示される感光材料では、アルミニウ
ム支持体上に、硬化性層４、感光性層５およびオーバー
コート層３が順次設けられている。硬化性層４は、重合
性化合物および疎水性ポリマーを含む。感光性層５は、
ハロゲン化銀、還元剤、塩基プレカーサーおよび親水性
ポリマーを含む。オーバーコート層３は、無機質層状化
合物および親水性ポリマーを含み、酸素遮断性、水蒸気
遮断性などの機能をもつものであり、本発明の感光材料
の最上層にあたる。In the photosensitive material shown in FIG. 2, a curable layer 4, a photosensitive layer 5, and an overcoat layer 3 are sequentially provided on an aluminum support. The curable layer 4 contains a polymerizable compound and a hydrophobic polymer. The photosensitive layer 5
Including silver halide, reducing agent, base precursor and hydrophilic polymer. The overcoat layer 3 contains an inorganic layered compound and a hydrophilic polymer and has functions such as oxygen barrier property and water vapor barrier property, and corresponds to the uppermost layer of the photosensitive material of the present invention.
【００２７】また、同様の層構成で、オーバーコート層
３に無機質層状化合物および塩基性プレカーサーを含
み、硬化性層４に重合性化合物および疎水性ポリマーを
含み、感光性層５にハロゲン化銀、還元剤および親水性
ポリマーを含むこともできる。この態様においては、無
機質層状化合物および塩基性プレカーサーを含む層が、
本発明の感光材料の最上層にあたる。この態様において
も、感光性層５中に含まれる低分子量の還元剤が拡散し
てオーバーコート層３界面において発生する塩基と反応
し、容易に現像進行が行われる。In the same layer structure, the overcoat layer 3 contains an inorganic layered compound and a basic precursor, the curable layer 4 contains a polymerizable compound and a hydrophobic polymer, the photosensitive layer 5 contains silver halide, It can also include a reducing agent and a hydrophilic polymer. In this embodiment, the layer containing the inorganic layered compound and the basic precursor,
This corresponds to the uppermost layer of the light-sensitive material of the present invention. Also in this embodiment, the low molecular weight reducing agent contained in the photosensitive layer 5 diffuses and reacts with the base generated at the interface of the overcoat layer 3 so that development proceeds easily.
【００２８】図３に示される感光材料では、アルミニウ
ム支持体１上に、硬化性層４、感光性層５、画像形成促
進層６およびオーバーコート層３が順次設けられてい
る。硬化性層４は、重合性化合物および疎水性ポリマー
を含む。感光性層５は、ハロゲン化銀、還元剤および親
水性ポリマーを含む。画像形成促進層６は、塩基プレカ
ーサーおよび親水性ポリマーを含む。オーバーコート層
３は、無機質層状化合物および親水性ポリマーを含み、
酸素遮断性、水蒸気遮断性などの機能をもつものであ
り、本発明の感光材料の最上層にあたる。さらに本発明
の感光材料には、前記の各層の他、所望により他の機能
を有する層、例えば、粘着性層、剥離層、下塗り層およ
び中間層等の層を設けてもよい。In the photosensitive material shown in FIG. 3, a curable layer 4, a photosensitive layer 5, an image formation accelerating layer 6, and an overcoat layer 3 are sequentially provided on an aluminum support 1. The curable layer 4 contains a polymerizable compound and a hydrophobic polymer. Photosensitive layer 5 contains silver halide, a reducing agent and a hydrophilic polymer. The image formation promoting layer 6 contains a base precursor and a hydrophilic polymer. The overcoat layer 3 contains an inorganic layered compound and a hydrophilic polymer,
It has functions such as oxygen barrier property and water vapor barrier property, and corresponds to the uppermost layer of the photosensitive material of the present invention. Further, in addition to the above layers, the light-sensitive material of the present invention may be provided with a layer having another function as required, for example, a layer such as an adhesive layer, a release layer, an undercoat layer, and an intermediate layer.
【００２９】以下、本発明の感光材料を構成する各層及
びそれに含有される化合物について説明する。 ［硬化性層］硬化性層は、重合性または架橋性を有する
化合物を含有する層であり、重合性または架橋性を有す
る化合物としては、エチレン性不飽和重合性化合物、エ
チレン性不飽和架橋性ポリマーの少なくとも１種が挙げ
られる。硬化性層には、これらのうち１種が含有され、
エチレン性不飽和重合性化合物及びエチレン性不飽和架
橋性ポリマーの両方を含むことが好ましい。本発明に用
いられるエチレン性不飽和重合性化合物とは、フリーラ
ジカルによって付加重合しうるエチレン性不飽和基を有
する化合物（モノマーまたはオリゴマー）を指す。用い
得るエチレン性不飽和重合性化合物については、特開平
５−２４９６６７号公報に具体的に記載されている。エ
チレン性不飽和重合性化合物の例としては、例えば、ア
クリル酸およびその塩、アクリル酸エステル類、アクリ
ルアミド類、メタクリル酸およびその塩、メタクリル酸
エステル類、メタクリルアミド類、無水マレイン酸、マ
レイン酸エステル類、イタコン酸エステル類、スチレン
類、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、Ｎ−ビニル
複素環類、アリルエーテル類およびアリルエステル類を
挙げることができる。アクリル酸エステル類もしくはメ
タクリル酸エステル類が特に好ましい。（メタ）アクリ
ル酸エステル類の具体例としては、ペンタエリスリトー
ルテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）ア
クリレートおよびポリウレタン（メタ）アクリレートを
挙げることができる。この硬化性層には、二種類以上の
エチレン性不飽和重合性化合物を併用することができ
る。The layers constituting the light-sensitive material of the present invention and the compounds contained therein will be described below. [Curable layer] The curable layer is a layer containing a polymerizable or crosslinkable compound. Examples of the polymerizable or crosslinkable compound include an ethylenically unsaturated polymerizable compound and an ethylenically unsaturated crosslinkable compound. At least one polymer is included. The curable layer contains one of these,
It is preferable to include both an ethylenically unsaturated polymerizable compound and an ethylenically unsaturated crosslinkable polymer. The ethylenically unsaturated polymerizable compound used in the present invention refers to a compound (monomer or oligomer) having an ethylenically unsaturated group capable of undergoing addition polymerization by a free radical. The ethylenically unsaturated polymerizable compound that can be used is specifically described in JP-A-5-249667. Examples of ethylenically unsaturated polymerizable compounds include, for example, acrylic acid and its salts, acrylates, acrylamides, methacrylic acid and its salts, methacrylic esters, methacrylamides, maleic anhydride, maleic esters , Itaconic esters, styrenes, vinyl ethers, vinyl esters, N-vinyl heterocycles, allyl ethers and allyl esters. Acrylic esters or methacrylic esters are particularly preferred. Specific examples of (meth) acrylates include pentaerythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate and polyurethane (meth) acrylate Can be mentioned. In the curable layer, two or more kinds of ethylenically unsaturated polymerizable compounds can be used in combination.
【００３０】また、本発明においてエチレン性不飽和架
橋性ポリマーとは、酸性基を有する疎水性ポリマーを指
し、この酸性基を有する疎水性ポリマーは、架橋性を有
していることが好ましい。架橋性は、エチレン性不飽和
結合を分子の主鎖中または側鎖中に導入することが好ま
しく、架橋性は、共重合により導入してもよい。分子の
主鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマーの例と
しては、ポリ−１，４−ブタジエン、ポリ−１，４−イ
ソプレン、天然および合成ゴムを挙げることができる。
分子の側鎖中にエチレン性不飽和結合を有するポリマー
の例としては、アクリル酸またはメタクリル酸のエステ
ルまたはアミドのポリマーであって、エステルまたはア
ミドの残基（−ＣＯＯＲまたは−ＣＯＮＨＲのＲ）がエ
チレン性不飽和結合を有するポリマーを挙げることがで
きるエチレン性不飽和結合を有する残基（上記のＲ）の
例としては、-(CH2)n -CR1=CR2R3、-(CH2O) n -CH2CR1=
CR2R3 、-(CH2CH2O)n -CH2CR1=CR2R3 、-(CH2)n -NH-CO
-O-CH2CR1=CR2R3 、-(CH2)n -O-CO-CR1=CR2R3 および-
(CH2CH2O)2-X(R1〜R3はそれぞれ、水素原子、ハロゲン
原子、炭素原子数がｌ〜２０のアルキル基、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、Ｒ1 とＲ
2 またはＲ3 は互いに結合して環を形成してもよく、ｎ
は１〜１０の整数であり、そしてＸはジシクロペンタジ
エニル残基である）を挙げることができる。In the present invention, the ethylenically unsaturated crosslinkable polymer refers to a hydrophobic polymer having an acidic group, and the hydrophobic polymer having an acidic group preferably has crosslinkability. The crosslinkability is preferably such that an ethylenically unsaturated bond is introduced into the main chain or side chain of the molecule, and the crosslinkability may be introduced by copolymerization. Examples of polymers having an ethylenically unsaturated bond in the main chain of the molecule include poly-1,4-butadiene, poly-1,4-isoprene, and natural and synthetic rubbers.
Examples of the polymer having an ethylenically unsaturated bond in a side chain of a molecule include a polymer of an ester or amide of acrylic acid or methacrylic acid, wherein a residue of the ester or amide (R of —COOR or —CONHR) is used. Examples of the residue having the ethylenically unsaturated bond (the above-mentioned R) include a polymer having an ethylenically unsaturated bond. Examples of — (CH 2 ) n —CR 1 = CR 2 R 3 and — (CH 2 O) n -CH 2 CR 1 =
CR 2 R 3 ,-(CH 2 CH 2 O) n -CH 2 CR 1 = CR 2 R 3 ,-(CH 2 ) n -NH-CO
-O-CH 2 CR 1 = CR 2 R 3 ,-(CH 2 ) n -O-CO-CR 1 = CR 2 R 3 and-
(CH 2 CH 2 O) 2 -X (R 1 ~R 3 , respectively, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having a carbon number of L～20, aryl group, alkoxy group, an aryloxy group, R 1 And R
2 or R 3 may combine with each other to form a ring;
Is an integer of 1 to 10, and X is a dicyclopentadienyl residue).
【００３１】エステル残基の具体例には、−ＣＨ2 ＣＨ
＝ＣＨ2 （特公平７−２１６３３号公報記載）、-CH2CH
2O-CH2CH=CH2、-CH2C(CH3)=CH2、-CH2CH=CH-C6H5、-CH2
CH2OCOCH=CH-C6H5、-CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2 および-C
H2CH2O-X（Ｘはジシクロペンタジエニル残基）が含まれ
る。アミド残基の具体例には、-CH2CH=CH2、-CH2CH2-l-
Y （Ｙはシクロヘキセン残基）および-CH2CH2-OCO-CH=C
H2が含まれる。以上のような架橋性ポリマーは、その不
飽和結合基にフリーラジカル（重合開始ラジカルまたは
エチレン性不飽和重合性化合物の重合過程の生長ラジカ
ル）が付加し、ポリマー間で直接、またはエチレン性不
飽和重合性化合物の重合連鎖を介して付加重合して、ポ
リマー分子間に架橋が形成されて硬化する。あるいは、
ポリマー中の原子（例えば不飽和結合基に隣接する炭素
原子上の水素原子）がフリーラジカルにより引き抜かれ
てポリマーラシカルが生成し、それが互いに結合するこ
とによって、ポリマー分子間に架橋が形成されて硬化す
る。Specific examples of the ester residue include —CH 2 CH
= CH 2 (described in Japanese Patent Publication No. Hei 7-21633), -CH 2 CH
2 O-CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 C (CH 3 ) = CH 2 , -CH 2 CH = CH-C 6 H 5 , -CH 2
CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5 , -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and -C
H 2 CH 2 OX (X is a dicyclopentadienyl residue) is included. Specific examples of the amide residue include -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 -l-
Y (Y is cyclohexene residue) and -CH 2 CH 2 -OCO-CH = C
H 2 is included. In the crosslinkable polymer as described above, a free radical (a polymerization initiation radical or a growing radical in the polymerization process of an ethylenically unsaturated polymerizable compound) is added to the unsaturated bonding group, and the polymer is directly or polymerically unsaturated between the polymers. Addition polymerization is carried out via a polymerization chain of the polymerizable compound, and a crosslink is formed between polymer molecules to be cured. Or,
The atoms in the polymer (eg, the hydrogen atoms on the carbon atoms adjacent to the unsaturated linking groups) are abstracted by free radicals to form a polymer radical, which bonds together to form crosslinks between polymer molecules. To cure.
【００３２】非架橋性（架橋性のない、または架橋性の
弱い）ポリマーとしては、前記のエチレン性不飽和結合
を有する残基（Ｒ）の代わりに、飽和脂肪族残基または
芳香族残基を有するポリアクリル酸エステル、ポリメタ
クリル酸エステル（例、ポリメチルメタクリレート、ポ
リベンジルメタクリレート）、ポリアクリルアミドおよ
びポリメタクリルアミドを用いることができる。その他
の非架橋性ポリマーの例には、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアクリロニトリ
ル、ボリメタクリロニトリル、ポリエチレン、ポリビニ
ルピリジン、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルブチ
ラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルピロリド
ン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ
エステル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリカーボネー
ト、セルロースエーテル（例、エチルセルロース）およ
びセルロースエステル（例、セルローストリアセテー
ト、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブ
チレート）が含まれる。As the non-crosslinkable (non-crosslinkable or weakly crosslinkable) polymer, a saturated aliphatic residue or an aromatic residue may be used in place of the above-mentioned residue (R) having an ethylenically unsaturated bond. , Polymethacrylic esters (eg, polymethyl methacrylate, polybenzyl methacrylate), polyacrylamide, and polymethacrylamide. Examples of other non-crosslinkable polymers include polyvinyl acetate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyacrylonitrile, polymethacrylonitrile, polyethylene, polyvinyl pyridine, polyvinyl imidazole, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl pyrrolidone, chlorinated It includes polyethylene, chlorinated polypropylene, polyester, polyamide, polyurethane, polycarbonate, cellulose ether (eg, ethyl cellulose) and cellulose ester (eg, cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate butyrate).
【００３３】本発明では、以上のような疎水性（かつ架
橋性または非架橋性）ポリマーに、酸性基を導入して使
用する。酸性基の例としては、カルボキシル基、酸無水
物基、フェノール性水酸基、スルホン酸基、スルホンア
ミド基およびスルホンイミド基を挙げることができる。
カルボキシル基が特に好ましい。具体的には、（メタ）
アクリル酸、スチレンスルフォン酸あるいは無水マレノ
ン酸のモノマーを、ポリマーの合成時に共重合させて、
これらの酸性基を硬化性層のポリマーに組み込むことが
できる。コポリマーにおける、酸性基を持つモノマーの
モル含有量は、１乃至６０％であることが好ましく、５
乃至５０％であることがさらに好ましく、ｌ０乃至４０
％であることが最も好ましい。疎水性ポリマーの分子量
は、１０００乃至５０万の範囲であることが好ましい。
二種類以上のポリマーを併用してもよい。エチレン性不
飽和重合性化合物の量は、酸性基を有する疎水性ポリマ
ーの量の３乃至２００重量％の範囲であることが好まし
く、１０乃至１００重量％の範囲であることがさらに好
ましい。エチレン性不飽和架橋性ポリマーの量は、硬化
性層全体の３０乃至９５重量％であることが好ましく、
５０乃至９０重量％であることがさらに好ましい。硬化
性層の膜厚は、０．１乃至２０μｍであることが好まし
く、０．３乃至７μｍであることがさらに好ましい。In the present invention, an acidic group is introduced into the above-mentioned hydrophobic (and crosslinkable or non-crosslinkable) polymer for use. Examples of the acidic group include a carboxyl group, an acid anhydride group, a phenolic hydroxyl group, a sulfonic acid group, a sulfonamide group, and a sulfonimide group.
Carboxyl groups are particularly preferred. Specifically, (meta)
Acrylic acid, styrene sulfonic acid or maleic anhydride monomer is copolymerized during polymer synthesis,
These acidic groups can be incorporated into the polymer of the curable layer. The molar content of the monomer having an acidic group in the copolymer is preferably 1 to 60%,
And more preferably 50 to 50%, and 10 to 40%.
% Is most preferred. The molecular weight of the hydrophobic polymer is preferably in the range of 1,000 to 500,000.
Two or more polymers may be used in combination. The amount of the ethylenically unsaturated polymerizable compound is preferably in the range of 3 to 200% by weight, more preferably 10 to 100% by weight, based on the amount of the hydrophobic polymer having an acidic group. The amount of the ethylenically unsaturated crosslinkable polymer is preferably 30 to 95% by weight of the entire curable layer,
More preferably, it is 50 to 90% by weight. The thickness of the curable layer is preferably from 0.1 to 20 μm, more preferably from 0.3 to 7 μm.
【００３４】［感光性層］感光性層は、ハロゲン化銀お
よび親水性ポリマーを含む層である。ハロゲン化銀とし
ては、塩化銀、臭化銀、ヨウ化銀、あるいは塩臭化銀、
塩ヨウ化銀、ヨウ臭化銀、塩ヨウ臭化銀のいずれの粒子
も用いることができる。ハロゲン化銀粒子の形状は好ま
しくは立方体または１４面体であるが、規則的な結晶形
を有するものに限らず、変則的な結晶形を有するもの、
あるいは、それらの複合形でもよい。変則的な結晶形に
は、じゃがいも状、球状、板状および平板状の結晶形が
含まれる。平板状粒子では、一般に粒子径が粒子厚の５
倍以上の値になる。ハロゲン化銀の粒子サイズについて
特に制限はない。０．０１μｍ以下の微粒子も利用可能
である。一方、１０μｍ程度の大粒子も利用できる。粒
子サイズ分布に関しては、単分散粒子の方が多分散乳剤
よりも好ましい。単分散乳剤については、米国特許３５
７４６２８号、同３６５５３９４号および英国特許１４
１３７４８号の各明細書に記載がある。[Photosensitive layer] The photosensitive layer is a layer containing silver halide and a hydrophilic polymer. As silver halide, silver chloride, silver bromide, silver iodide, or silver chlorobromide,
Any grains of silver chloroiodide, silver bromoiodide, and silver chloroiodobromide can be used. The shape of the silver halide grains is preferably cubic or tetradecahedral, but not limited to those having a regular crystal form, those having an irregular crystal form,
Alternatively, a composite form thereof may be used. Anomalous crystal forms include potato, spherical, plate and plate crystal forms. In the case of tabular grains, the grain size is generally 5 times the grain thickness.
The value is more than double. There is no particular limitation on the grain size of the silver halide. Fine particles of 0.01 μm or less can also be used. On the other hand, large particles of about 10 μm can be used. With respect to grain size distribution, monodisperse grains are preferred over polydisperse emulsions. For monodisperse emulsions, see US Pat.
No. 74628, No. 3655394 and British Patent No. 14
No. 13748 is described in each specification.
【００３５】ハロゲン化銀粒子の結晶構造は、均一で
も、内部と外部とが異質なハロゲン組成からなるもので
もよい。層状構造を有していてもよい。また、エピタキ
シャル接合によって組成の異なるハロゲン化銀が接合さ
れていてもよい。さらに、ハロゲン化銀以外の化合物と
接合していてもよい。ハロゲン化銀以外の化合物の例に
は、ロダン銀および酸化鉛が含まれる。ハロゲン化銀粒
子には、他の元素の塩が含まれていても良い。他の元素
の例としては、銅、タリウム、鉛、ビスマス、カドミウ
ム、亜鉛、カルコゲン（例、硫黄、セレニウム、テルリ
ウム）、金および第VIII族貴金属（例、ロジウム、イリ
ジウム、鉄、白金、パラジウム）を挙げることができ
る。これらの元素の塩は、ハロゲン化銀の粒子形成時ま
たは粒子形成後に添加して、粒子内に含ませることがで
きる。具体的な方法は、米国特許１１９５４３２号、同
１９５１９３３号、同２４４８０６０号、同２６２８１
６７号、同２９５０９７２号、同３４８８７０９号、同
３７３７３１３号、同３７７２０３１号、同４２６９９
２７号の各明細書およびリサーチ・ディスクロージャー
（ＲＤ）誌、第１３４巻、No. １３４５２（１９７５年
６月）に記載がある。The crystal structure of the silver halide grains may be uniform, or the interior and exterior may have different halogen compositions. It may have a layered structure. Further, silver halides having different compositions may be joined by epitaxial joining. Further, it may be bonded to a compound other than silver halide. Examples of compounds other than silver halide include silver rhodan and lead oxide. The silver halide grains may contain salts of other elements. Examples of other elements include copper, thallium, lead, bismuth, cadmium, zinc, chalcogens (eg, sulfur, selenium, tellurium), gold and Group VIII noble metals (eg, rhodium, iridium, iron, platinum, palladium) Can be mentioned. Salts of these elements can be added during or after the formation of silver halide grains and included in the grains. Specific methods are described in U.S. Patent Nos. 1195432, 1951933, 2448860 and 26281.
Nos. 67, 2950972, 3488709, 3737313, 37372031, 42699
No. 27 and in Research Disclosure (RD), Vol. 134, No. 13452 (June 1975).
【００３６】ハロゲン化銀乳剤の調製時に、イリジウム
化合物の水溶液を乳剤に添加することで、イリジウムイ
オンをハロゲン化銀粒子に導入することができる。水溶
性イリジウム化合物の例としては、ヘキサクロロイリジ
ウム（III)酸塩およびヘキサクロロイリジウム（IV）酸
塩を挙げることができる。同様に、ロジウム化合物の水
溶液を乳剤に添加することで、ロジウムイオンをハロゲ
ン化銀粒子に導入しても良い。水溶性ロジウム化合物の
例としては、ロジウムアンモニウムクロライド、ロジウ
ムトリクロライドおよびロジウムクロライドを挙げるこ
とができる。イリジウム化合物またはロジウム化合物
を、ハロゲン化銀粒子形成のためのハロゲン化物の水溶
液に溶解して用いてもよい。また、イリジウム化合物ま
たはロジウム化合物の水溶液を、粒子が形成される前に
添加しても、粒子が形成されている間に添加してもよ
い。さらに、粒子形成から化学増感処理までの間に添加
してもよい。粒子が形成されている間に添加るすことが
特に好ましい。イリジウムイオンまたロジウムイオン
は、ハロゲン化銀１モル当たり１０-8乃至１０-3モル用
いることが好ましく、１０-7乃至１０-5モル用いること
がさらに好ましい。By adding an aqueous solution of an iridium compound to the emulsion during the preparation of the silver halide emulsion, iridium ions can be introduced into the silver halide grains. Examples of the water-soluble iridium compound include hexachloroiridium (III) and hexachloroiridium (IV). Similarly, rhodium ions may be introduced into silver halide grains by adding an aqueous solution of a rhodium compound to the emulsion. Examples of the water-soluble rhodium compound include rhodium ammonium chloride, rhodium trichloride and rhodium chloride. An iridium compound or a rhodium compound may be used by dissolving it in an aqueous solution of a halide for forming silver halide grains. Further, the aqueous solution of the iridium compound or the rhodium compound may be added before the particles are formed, or may be added during the formation of the particles. Further, it may be added during the period from grain formation to chemical sensitization treatment. It is particularly preferred to add while the particles are being formed. The iridium ion or the rhodium ion is preferably used in an amount of 10 -8 to 10 -3 mol, more preferably 10 -7 to 10 -5 mol, per 1 mol of silver halide.
【００３７】ハロゲン組成、晶癖、粒子サイズが異なっ
た２種以上のハロゲン化銀粒子を組み合わせて用いるこ
ともできる。ハロゲン化銀は乳剤として用いることが好
ましい。ハロゲン化銀乳剤は、リサーチ・ディスクロー
ジャー（ＲＤ）誌、No. １７６４３（１９７８年１２
月）、２２〜２３頁、“Ｉ．乳剤製造（Ｅｍｕｌｓｉｏ
ｎ ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎａｎｄ ｔｙｐｅｓ）”、
および同Ｎｏ．１８７１６（１９７９年１１月）、６４
８頁に記載された方法を用いて調製することができる。
ハロゲン化銀乳剤は、通常、物理熟成後に化学増感を行
う。比較的低いカブリ値のハロゲン化銀粒子を用いるこ
とが好ましい。このような工程で使用される添加剤はリ
サーチ・ディスクロージャー誌、Ｎｏ．１７６４３およ
び同Ｎｏ．１８７１６に記載されている。化学増感剤に
ついては、Ｎｏ．１７６４３（２３頁）およびＮｏ．１
８７１６（６４８頁右欄）に、それぞれ記載されてい
る。また、上記以外の公知の添加剤も上記の２つのリサ
ーチ・ディスクロージャー誌に記載されている。例え
ば、感度上昇剤については、Ｎｏ．１８７１６（６４８
頁右欄）に、かぶり防止剤および安定剤については、Ｎ
ｏ．１７６４３（２４〜２５頁）およびＮｏ．１８７１
６（６４９頁右欄〜）にそれぞれ記載されている。Two or more kinds of silver halide grains having different halogen compositions, crystal habits and grain sizes can be used in combination. Silver halide is preferably used as an emulsion. Silver halide emulsions are described in Research Disclosure (RD), No. 17643 (December 1978)
Mon., pp. 22-23, "I. Emulsion Production (Emulsio)
n preparation and types) ",
And No. 18716 (November 1979), 64
It can be prepared using the method described on page 8.
The silver halide emulsion is usually subjected to chemical sensitization after physical ripening. It is preferable to use silver halide grains having a relatively low fog value. Additives used in such a process are described in Research Disclosure Magazine, No. No. 17643 and the same No. 18716. As for the chemical sensitizers, 17643 (p. 23) and 1
8716 (page 648, right column). Known additives other than those described above are also described in the above two Research Disclosures. For example, for the sensitivity enhancer, 18716 (648
In the right column of the page), for the antifoggant and the stabilizer, N
o. 17643 (pages 24 to 25) and 1871
6 (from page 649, right column).
【００３８】ハロゲン化銀乳剤は、通常、分光増感を行
ってから使用する。感光材料に使用する増感色素は、写
真技術において公知のハロゲン化銀の増感色素を用いる
ことができる。増感色素の例としては、シアニン色素、
メロシアニン色素、複合メロシアニン色素、ホロポーラ
ーシアニン色素、ヘミシアニン色素、スチリル色素およ
びヘミオキソノール色素を挙げることができる。分光増
感色素は、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘリ
ウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウ
ムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）や発光ダイオ
ードのような異なる光源波長に感光材料の分光感度を対
応させるためにも用いることができる。例えば、分光波
長の異なる複数種の分光増感色素を同一のまたは異なる
感光性層中のハロゲン化銀に適用して、異なる波長の光
源を用いて同一の感光材料への書き込みを可能とするこ
ともできる。増感色素とともに、それ自身、分光増感作
用を持たない色素あるいは可視光を実質的に吸収しない
化合物であって強色増感を示す化合物（強色増感剤）を
乳剤に添加してもよい。分光増感色素については、リサ
ーチ・ディスクロージャー誌、No. １７６４３（１９７
８年１２月）、２３〜２４頁、強色増感剤については、
同No. １８７１６（１９７９年１１月）、６４９頁に、
それぞれ記載されている。また、ハロゲン化銀とんかと
もに用いられる親水性ポリマーとしては、分子構造内に
親水性基または親水性結合を有する高分子化合物であれ
ば、いずれも用いることができる。親水性基の例には、
カルボキシル、アルコール性水酸基、フェノール性水酸
基、スルホン、スルホンアミド基、スルホンイミドおよ
びアミドが含まれる。親水性結合の例には、ウレタン結
合、エーテル結合およびアミド結合が含まれる。親水性
ポリマーとして、水溶性ポリマーまたは水膨潤性ポリマ
ーを用いることが好ましい。水膨潤性ポリマーとは、水
に対して親和性を有するが、ポリマーの架橋構造のため
に、水には完全には溶解しないものを言う。水膨潤性ポ
リマーよりも水溶性ポリマーの方が好ましい。水溶性も
しくは水膨潤性のポリマーとしては、天然、合成または
半合成の高分子化合物が使用できる。親水性ポリマーに
ついては、特開平５−２４９６６７号公報に記載があ
る。The silver halide emulsion is usually used after spectral sensitization. As the sensitizing dye used in the light-sensitive material, a silver halide sensitizing dye known in the photographic art can be used. Examples of sensitizing dyes include cyanine dyes,
Examples include merocyanine dyes, complex merocyanine dyes, holopolar cyanine dyes, hemicyanine dyes, styryl dyes, and hemioxonol dyes. Spectral sensitizing dyes are used to adjust the spectral sensitivity of photosensitive materials to different light source wavelengths such as various lasers (eg, semiconductor laser, helium neon laser, argon ion laser, helium cadmium laser, YAG laser) and light emitting diodes. Can also be used. For example, applying a plurality of spectral sensitizing dyes having different spectral wavelengths to silver halide in the same or different photosensitive layers to enable writing on the same photosensitive material using light sources having different wavelengths. Can also. In addition to the sensitizing dye, a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a compound which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization (supersensitizer) can be added to the emulsion. Good. Spectral sensitizing dyes are described in Research Disclosure, No. 17643 (197).
December, 8), pp. 23-24, for supersensitizers
No. 18716 (November 1979), p. 649,
Each is listed. As the hydrophilic polymer used together with silver halide, any high molecular compound having a hydrophilic group or a hydrophilic bond in the molecular structure can be used. Examples of hydrophilic groups include
Includes carboxyl, alcoholic hydroxyl, phenolic hydroxyl, sulfone, sulfonamide, sulfonimide and amide. Examples of the hydrophilic bond include a urethane bond, an ether bond and an amide bond. It is preferable to use a water-soluble polymer or a water-swellable polymer as the hydrophilic polymer. A water-swellable polymer is one that has an affinity for water but is not completely soluble in water due to the crosslinked structure of the polymer. Water-soluble polymers are preferred over water-swellable polymers. As the water-soluble or water-swellable polymer, a natural, synthetic or semi-synthetic polymer compound can be used. The hydrophilic polymer is described in JP-A-5-249667.
【００３９】ポリビニルアルコールが特に好ましい親水
性ポリマーである。ポリビニルアルコールは、種々のケ
ン化度のものが使用できる。ただし、酸素の透過率を低
下させるためには、ケン化度を７０％以上とすることが
好ましく、８０％以上とすることがさらに好ましい。共
重合変性ポリビニルアルコールも使用できる。共重合変
性は、酢酸ビニルと他のモノマーとの共重合体をケン化
して、変性ポリビニルアルコールを合成する方法であ
る。共重合するモノマーの例としては、エチレン、高級
カルボン酸ビニル、高級アルキルビニルエーテル、メチ
ルメタクリレートおよびアクリルアミドを挙げることが
できる。[0039] Polyvinyl alcohol is a particularly preferred hydrophilic polymer. Polyvinyl alcohol having various degrees of saponification can be used. However, in order to reduce the oxygen permeability, the degree of saponification is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. Copolymerized modified polyvinyl alcohol can also be used. Copolymerization modification is a method of saponifying a copolymer of vinyl acetate and another monomer to synthesize a modified polyvinyl alcohol. Examples of monomers to be copolymerized include ethylene, higher vinyl carboxylate, higher alkyl vinyl ether, methyl methacrylate and acrylamide.
【００４０】また、後変性したポリビニルアルコールも
使用できる。後変性とは、ポリビニルアルコールの水酸
基に対して反応性を有する化合物を用いて、ポリビニル
アルコールの合成後に高分子反応によって変性させる方
法である。具体的には、ポリビニルアルコールの水酸基
を、エーテル化、エステル化あるいはアセタール化によ
り修飾する。さらに、架橋化したポリビニルアルコール
を使用することもできる。架橋剤としては、アルデヒ
ド、メチロール化合物、エポキシ化合物、ジイソシアネ
ート、ジビニル化合物、ジカルボン酸類あるいは無機系
架橋剤（例、ホウ酸）を使用することができる。親水性
ポリマーの分子量は、３０００〜５０万の範囲であるこ
とが好ましい。感光性層におけるハロゲン化銀の塗布量
は、銀換算で０．０１乃至５ｇ／ｍ2であることが好ま
しく、０．０３乃至１ｇ／ｍ2 であるこどかさらに好ま
しく、０．０５乃至０．３ｇ／ｍ2 であることが最も好
ましい。感光性層には、ハロゲン化銀に加えて、有機金
属塩を添加することができる。有機銀塩を併用すること
は、感度向上の観点から好ましい。有機銀塩を形成する
のに使用される有機化合物としては、トリアゾール類、
テトラゾール類、イミダゾール類、インダゾール類、チ
アゾール類、チアジアゾール類、アザインデン類、メル
カプト基を置換基として有する脂肪族、芳香族または複
素環化合物を挙げることができる。また、カルボン酸の
銀塩やアセチレン銀も有機銀塩として用いることができ
る。有機銀塩は２種以上を併用してもよい。有機銀塩
は、ハロゲン化銀１モルあたり、１０-5乃至１０モル、
好ましくは１０-4乃至１モル使用される。本発明の感光
材料において、感光性層の膜厚は、０．０７乃至１３μ
ｍであることが好ましく、０．２乃至５μｍであること
がさらに好ましい。 ［感光性硬化性層］本発明の感光材料においては、前記
感光性層及び硬化性層に換えて、これらの層の機能を併
せ持つ感光性硬化性層を設けることもできる。この感光
性硬化性層には、重合性化合物、疎水性ポリマー、ハロ
ゲン化銀、還元剤、塩基プレカーサーおよび親水性ポリ
マー等の記録に必要な化合物及び併用される添加剤等が
含まれる。 ［画像形成促進層］本発明の感光材料においては、感光
性層及び硬化性層、あるいは双方の機能を有する感光性
硬化性層が必須であるが、感度向上等の目的で、画像形
成を促進する成分、例えば、塩基、塩基プレカーサー、
熱現像促進剤を含有する画像形成促進層を、感光性層、
あるいは感光性硬化性層に隣接して設けることができ
る。画像形成促進層の膜厚は、０．３乃至２０μｍであ
ることが好ましく、０．５乃至７μｍであることがさら
に好ましい。Also, post-modified polyvinyl alcohol can be used. The post-modification is a method in which a compound having reactivity with a hydroxyl group of polyvinyl alcohol is used to modify polyvinyl alcohol by a polymer reaction after synthesis. Specifically, the hydroxyl group of polyvinyl alcohol is modified by etherification, esterification, or acetalization. Furthermore, crosslinked polyvinyl alcohol can also be used. As the cross-linking agent, an aldehyde, a methylol compound, an epoxy compound, a diisocyanate, a divinyl compound, a dicarboxylic acid, or an inorganic cross-linking agent (eg, boric acid) can be used. The molecular weight of the hydrophilic polymer is preferably in the range of 3000 to 500,000. The coating amount of silver halide in the photosensitive layer is preferably from 0.01 to 5 g / m 2 in terms of silver, more preferably from 0.03 to 1 g / m 2 , and still more preferably from 0.05 to 0.3 g / m 2. / M 2 is most preferred. An organic metal salt can be added to the photosensitive layer in addition to the silver halide. It is preferable to use an organic silver salt in combination from the viewpoint of improving sensitivity. Organic compounds used to form organic silver salts include triazoles,
Examples thereof include tetrazoles, imidazoles, indazoles, thiazoles, thiadiazoles, azaindenes, and aliphatic, aromatic or heterocyclic compounds having a mercapto group as a substituent. Further, silver salts of carboxylic acids and silver acetylene can also be used as organic silver salts. Two or more organic silver salts may be used in combination. The organic silver salt is 10 −5 to 10 mol per mol of silver halide,
Preferably, it is used in an amount of 10 -4 to 1 mol. In the photosensitive material of the present invention, the thickness of the photosensitive layer is 0.07 to 13 μm.
m, more preferably 0.2 to 5 μm. [Photosensitive curable layer] In the photosensitive material of the present invention, a photosensitive curable layer having the functions of these layers may be provided in place of the photosensitive layer and the curable layer. The photosensitive curable layer contains compounds necessary for recording, such as a polymerizable compound, a hydrophobic polymer, silver halide, a reducing agent, a base precursor and a hydrophilic polymer, and additives used in combination. [Image formation accelerating layer] In the light-sensitive material of the present invention, a photosensitive layer and a curable layer, or a photosensitive curable layer having both functions are essential, but image formation is promoted for the purpose of improving sensitivity and the like. Components, for example, a base, a base precursor,
An image formation accelerating layer containing a thermal development accelerator, a photosensitive layer,
Alternatively, it can be provided adjacent to the photosensitive curable layer. The thickness of the image formation promoting layer is preferably from 0.3 to 20 μm, more preferably from 0.5 to 7 μm.
【００４１】［オーバーコート層］オーバーコート層
は、感光材料を保護するとともに、空気中の酸素の侵入
を防いで硬化性層の硬化度を高める機能を有する。本発
明におけるオーバーコート層には、前記の無機質層状化
合物が含有される。本発明においては、最上層をオーバ
ーコート層とする場合、層の厚みは０．１μｍ乃至１０
μｍであることが好ましく、０．５μｍ乃至５μｍであ
ることがさらに好ましい。[Overcoat Layer] The overcoat layer has a function of protecting the photosensitive material and of preventing the intrusion of oxygen in the air to increase the degree of curing of the curable layer. The overcoat layer in the present invention contains the above-mentioned inorganic layered compound. In the present invention, when the uppermost layer is an overcoat layer, the thickness of the layer is 0.1 μm to 10 μm.
μm, more preferably 0.5 μm to 5 μm.
【００４２】［支持体］本発明の感光材料に用いられる
支持体としては、公知のものを任意に選択して用いるこ
とができる。支持体の材料としては、紙、合成紙、合成
樹脂（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン）をラミネートした紙、プラスチックフィルム（例、
ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリ
イミド、ナイロン、セルローストリアセテート）、金属
板（例、アルミニウム、アルニウム合金、亜鉛、鉄、
銅）、これらの金属がラミネートあるいは蒸着された紙
やプラスチックフイルムを用いることができる。感光材
料を平版印刷版の製造に用いる場合、好ましい支持体の
材料は、アルミニウム板、ポリエチレンテレフタレート
フイルム、ポリカーボネートフイルム、紙および合成紙
である。また、ポリエチレンテレフタレートフイルム上
にアルミニウムシートがラミネートされた複合シートも
好ましい。[Support] As the support used in the light-sensitive material of the present invention, a known support can be arbitrarily selected and used. As the material of the support, paper, synthetic paper, paper laminated with synthetic resin (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene), plastic film (eg,
Polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyimide, nylon, cellulose triacetate), metal plate (eg, aluminum, aluminum alloy, zinc, iron,
Copper), paper or plastic film on which these metals are laminated or evaporated. When the light-sensitive material is used for producing a lithographic printing plate, preferable materials for the support are an aluminum plate, a polyethylene terephthalate film, a polycarbonate film, paper and synthetic paper. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is laminated on a polyethylene terephthalate film is also preferable.
【００４３】アルミニウム板を支持体に用いる場合につ
いて、以下で説明する。アルミニウム支持体は、必要に
応じて表面粗面化処理（砂目たて処理）あるいは表面親
水化処理などの表面処理が施される。表面粗面化処理
は、電気化学的砂目たて法（例えば、アルミニウム板を
塩酸または硝酸電解液中で電流を流して砂目たてをする
方法）および／または機械的砂目たて法（例えば、アル
ミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシ
グレイン法、研磨球と研磨剤とでアルミニウム表面を砂
目たてするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤
とで表面を砂目たてするブラシグレイン法）によって実
施される。The case where an aluminum plate is used as the support will be described below. The aluminum support is subjected to a surface treatment such as a surface roughening treatment (graining treatment) or a surface hydrophilic treatment as necessary. The surface roughening treatment may be performed by an electrochemical sanding method (for example, a method of sanding an aluminum plate by passing an electric current in a hydrochloric acid or nitric acid electrolyte) and / or a mechanical sanding method. (For example, a wire brush grain method in which the aluminum surface is scratched with a metal wire, a ball grain method in which the aluminum surface is sanded with a polishing ball and an abrasive, a brush grain in which the surface is sanded with a nylon brush and an abrasive) Method).
【００４４】次に、砂目たて処理を施されたアルミニウ
ム板は、酸またはアルカリによって化学的にエッチング
される。工業的に有利な方法は、アルカリを用いるエッ
チングである。アルカリ剤の例としては、炭酸ナトリウ
ム、アルミン酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、リン
酸ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムおよ
び水酸化リチウムが挙げられる。アルカリ溶液の濃度は
１乃至５０重量％の範囲が好ましい。アルカリ処理の温
度は、２０乃至１００℃の範囲が好ましい。さらに、ア
ルミニウムの溶解量が５乃至２０ｇ／ｍ2 となるよう
に、処理条件を調整することが好ましい。通常、アルカ
リエッチングの後、アルミニウム板は、表面に残る汚れ
（スマット）を除去するために酸によって洗浄される。
好ましい酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸
およびホウフッ酸である。電気化学的粗面化処理後のス
マット除去処理は、５０乃至９０℃で１５乃至６５重量
％の濃度の硫酸と接触させる方法等の公知の方法によっ
て実施することができる。Next, the grained aluminum plate is chemically etched with an acid or an alkali. An industrially advantageous method is etching using an alkali. Examples of the alkaline agent include sodium carbonate, sodium aluminate, sodium metasilicate, sodium phosphate, sodium hydroxide, potassium hydroxide and lithium hydroxide. The concentration of the alkaline solution is preferably in the range of 1 to 50% by weight. The temperature of the alkali treatment is preferably in the range of 20 to 100 ° C. Further, it is preferable to adjust the processing conditions so that the amount of aluminum dissolved is 5 to 20 g / m 2 . Usually, after the alkali etching, the aluminum plate is washed with an acid to remove dirt (smut) remaining on the surface.
Preferred acids are nitric, sulfuric, phosphoric, chromic, hydrofluoric and borofluoric acids. The smut removal treatment after the electrochemical graining treatment can be carried out by a known method such as a method of contacting with sulfuric acid having a concentration of 15 to 65% by weight at 50 to 90 ° C.
【００４５】以上のように表面粗面化処理されたアルミ
ニウム板には、必要に応じて、陽極酸化処理あるいは化
成処理を施すことができる。陽極酸化処理は公知の方法
によって行うことができる。具体的には、酸溶液中で、
アルミニウム板に直流または交流電流を流すことによ
り、アルミニウム表面に陽極酸化皮膜を形成する。酸の
例としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スル
ファミン酸およびベンゼンスルボンホン酸を挙げること
ができる。陽極酸化の条件は、使用される電解液によっ
て変化する。一般的には、電解液の濃度が１乃至８０重
量％、電解液の温度が５乃至７０℃、電流密度が０．５
乃至６０アンペア／ｄｍ2 、電圧が１乃至１００ｖ、そ
して電解時間が１０乃至１００秒の範囲であることが好
ましい。特に好ましい陽極酸化法は、硫酸中で高電流密
度で陽極酸化する方法およびリン酸を電解浴として陽極
酸化する方法である。陽極酸化処理後、アルミニウム板
にアルカリ金属シリケート処理（例えば、アルミニウム
板をケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬する処理）を実施し
てもよい。また、アルミニム支持体と硬化性層の接着や
印刷特性を改良するために、支持体表面に下塗層を設け
てもよい。The aluminum plate subjected to the surface roughening treatment as described above can be subjected to an anodic oxidation treatment or a chemical conversion treatment, if necessary. The anodic oxidation treatment can be performed by a known method. Specifically, in an acid solution,
An anodic oxide film is formed on the aluminum surface by passing a direct current or an alternating current through the aluminum plate. Examples of acids include sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulphamic acid and benzenesulphonic acid. Anodizing conditions vary depending on the electrolyte used. Generally, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by weight, the temperature of the electrolyte is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5%.
To 60 amps / dm 2, a voltage of from 1 to 100v, and electrolysis time is preferably in the range of 10 to 100 seconds. Particularly preferred anodic oxidation methods are a method of performing anodization at a high current density in sulfuric acid and a method of performing anodization using phosphoric acid as an electrolytic bath. After the anodizing treatment, the aluminum plate may be subjected to an alkali metal silicate treatment (for example, a treatment of immersing the aluminum plate in an aqueous solution of sodium silicate). Further, in order to improve the adhesion between the aluminum support and the curable layer and the printing characteristics, an undercoat layer may be provided on the surface of the support.
【００４６】［下塗り層］下塗り層を構成する成分とし
ては、ポリマー（例、カゼイン、ポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、フェノール樹脂、スチレン−無
水マレイン酸樹脂、ポリアクリル酸）；アミン（例、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、トリプロパノールアミン）およびそれらの
塩酸塩；モノアミノモノカルボン酸（例、シュウ酸塩、
リン酸塩、アミノ酢酸、アラニン）；オキシアミノ酸
（例、セリン、スレオニン、ジヒドロキシエチルグリシ
ン）；含硫アミノ酸（例、システイン、シスチン）；モ
ノアミノジカルボン酸（例、アスパラギン酸、グルタミ
ン酸）；ジアミノモノカルボン酸（例、リシン）；芳香
族核を持つアミノ酸（例、ｐ−ヒドロキシフェニルグリ
シン、フェニルアラニン、アントラニル）；脂肪族アミ
ノスルホン酸（例、スルファミン酸、シクロヘキシルス
ルファミン酸）；および（ポリ）アミノポリ酢酸（例、
エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢
酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、ヒドロキシエチル
エチレンジアミン酢酸、エチレンジアミン二酢酸、シク
ロエチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢
酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸）を挙げること
ができる。以上の化合物の酸基の一部または全部が、塩
（例、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩）と
なったものも用いることができる。以上の成分は、２種
以上組み合わせて用いることもできる。[Undercoat layer] As components constituting the undercoat layer, polymers (eg, casein, polyvinyl alcohol, ethyl cellulose, phenolic resin, styrene-maleic anhydride resin, polyacrylic acid); amines (eg, monoethanolamine, Diethanolamine, triethanolamine, tripropanolamine) and their hydrochlorides; monoaminomonocarboxylic acids (eg, oxalates,
Phosphate, aminoacetic acid, alanine); oxyamino acids (eg, serine, threonine, dihydroxyethylglycine); sulfur-containing amino acids (eg, cysteine, cystine); monoaminodicarboxylic acids (eg, aspartic acid, glutamic acid); diaminomono Carboxylic acids (eg, lysine); amino acids having an aromatic nucleus (eg, p-hydroxyphenylglycine, phenylalanine, anthranil); aliphatic aminosulfonic acids (eg, sulfamic acid, cyclohexylsulfamic acid); and (poly) aminopolyacetic acid (E.g.,
Ethylenediaminetetraacetic acid, nitrilotriacetic acid, iminodiacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, hydroxyethylethylenediamineacetic acid, ethylenediaminediacetic acid, cycloethylenediaminetetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycol etherdiaminetetraacetic acid). A compound in which some or all of the acid groups of the above compounds have become salts (eg, sodium salt, potassium salt, ammonium salt) can also be used. The above components can be used in combination of two or more.
【００４７】［還元剤］本発明の感光材料においては、
先に述べたように、還元剤は前記複数の層のうちいずれ
の層に含まれてもよいが、感度及び画像形成効率の観点
から最上層には含まれないことが好ましい。還元剤は、
ハロゲン化銀を還元する機能または重合性化合物の重合
（または架橋性ポリマーの架橋）を促進する機能を有す
る。還元剤としては、ヒドラジン類、ハイドロキノン
類、カテコール類、ｐ−アミノフェノール類、ｐ−フェ
ニレンジアミン類、３−ピラゾリドン類、３−アミノピ
ラゾール類、４−アミノ−５−ピラゾロン類、５−アミ
ノウラシル類、４，５−ジヒドロキシ−６−アミノピリ
ミジン類、レダクトン類、アミノレダクトン類、ｏ−ま
たはｐ−スルホンアミドフェノール類、ｏ−またはｐ−
スルホンアミドナフトール類、ｏ−またはｐ−アシルア
ミノフェノール類、２−スルホンアミドインダノン類、
４−スルホンアミド−５−ピラゾロン類、３−スルホン
アミドインドール類、スルホンアミドピラゾロベンズイ
ミダゾール類ねスルホンアミドピラゾロトリアゾール類
やα−スルホンアミドケトン類が用いられる。[Reducing Agent] In the light-sensitive material of the present invention,
As described above, the reducing agent may be contained in any of the plurality of layers, but is preferably not contained in the uppermost layer from the viewpoint of sensitivity and image forming efficiency. The reducing agent is
It has a function of reducing silver halide or a function of promoting polymerization of a polymerizable compound (or crosslinking of a crosslinkable polymer). As the reducing agent, hydrazines, hydroquinones, catechols, p-aminophenols, p-phenylenediamines, 3-pyrazolidones, 3-aminopyrazoles, 4-amino-5-pyrazolones, 5-aminouracil , 4,5-dihydroxy-6-aminopyrimidines, reductones, aminoreductones, o- or p-sulfonamidophenols, o- or p-
Sulfonamide naphthols, o- or p-acylaminophenols, 2-sulfonamide indanones,
4-Sulfonamido-5-pyrazolones, 3-sulfonamidoindoles, sulfonamidopyrazolobenzimidazoles, sulfonamidopyrazolotriazoles and α-sulfonamidoketones are used.
【００４８】還元剤は、特開昭６１−１８３６４０号、
同６１−１８８５３５号、同６１−２２８４４１号、同
６２−７０８３６号、同６２−８６３５４号、同６２−
８６３５５号、同６２−２０６５４０号、同６２−２６
４０４１号、同６２−１０９４３７号、同６３−２５４
４４２号、特開平１−２６７５３６号、同２−１４１７
５６号、同２−１４１７５７号、同２−２０７２５４
号、同２−２６２６６２号、同２−２６９３５２号の各
公報に記載されている（現像薬またはヒドラジン誘導体
として記載のものを含む）。また、還元剤については、
Ｔ．Ｊａｍｅｓ著“The Theory of the Photographic P
rocess”第４版、２９１〜３３４頁（１９７７年）、リ
サーチ・ディスクロージャー誌、vol.１７０、第１７０
２９号、９〜１５頁、（１９７８年６月）、および同
誌、vol.１７６、第１７６４３号、２２〜３１頁、（１
９７８年１２月）にも記載がある。また、特開昭６２−
２１０４４６号公報記載の感光材料のように、還元剤に
代えて加熱条件下あるいは塩基との接触状態等において
還元剤を放出する還元剤プレカーサーを用いてもよい。The reducing agent is described in JP-A-61-183640,
Nos. 61-188535, 61-228441, 62-70836, 62-86354 and 62-
No. 86355, No. 62-206540, No. 62-26
No. 4041, No. 62-109437, No. 63-254
442, JP-A-1-267536 and 2-1417
No. 56, No. 2-141775, No. 2-207254
And JP-A-2-262662 and JP-A-2-269352 (including those described as a developing agent or a hydrazine derivative). As for the reducing agent,
T. "The Theory of the Photographic P" by James
rocess, 4th edition, pp. 291-334 (1977), Research Disclosure Magazine, vol. 170, No. 170
29, pp. 9-15, (June 1978), and the same journal, vol. 176, 17643, pp. 22-31, (1
(December 978). Also, Japanese Patent Application Laid-Open
As in the light-sensitive material described in JP 210446, a reducing agent precursor that releases the reducing agent under heating conditions or in contact with a base may be used instead of the reducing agent.
【００４９】酸と塩を形成する塩基性を有する還元剤
は、適当な酸との塩の形で使用することもできる。二種
以上の還元剤を併用してもよい。二種以上の還元剤の相
互作用として、第一に、いわゆる超加成性によってハロ
ゲン化銀（または有機銀塩）の還元を促進すること、第
二に、ハロゲン化銀（または有機銀塩）の還元によって
生成した第一の還元剤の酸化体が共存する他の還元剤と
の酸化還元反応を経由して重合性化合物の重合を引き起
すこと（または重合を抑制すること）が考えられる。還
元剤は、ハロゲン化銀１モル当たり、０．１乃至１０モ
ル使用することが好ましく、０．２５乃至２．５モル使
用することがさらに好ましい。The basic reducing agent which forms a salt with an acid can be used in the form of a salt with a suitable acid. Two or more reducing agents may be used in combination. The interaction of two or more reducing agents is, first, to promote the reduction of silver halide (or organic silver salt) by so-called superadditivity, and second, to promote silver halide (or organic silver salt). It is conceivable that the oxidized form of the first reducing agent generated by the reduction of the compound causes polymerization of the polymerizable compound (or suppresses the polymerization) via an oxidation-reduction reaction with another coexisting reducing agent. The reducing agent is preferably used in an amount of 0.1 to 10 mol, more preferably 0.25 to 2.5 mol, per 1 mol of silver halide.
【００５０】［塩基プレカーサー］本発明の感光材料に
は、塩基プレカーサーが含まれる。この塩基プレカーサ
ーは還元剤と反応することにより、画像形成に寄与する
ものである。塩基プレカーサーに換えて、又は塩基プレ
カーサーとともに塩基。例えば、無機の塩基および有機
の様々な塩基を用いることもできるが、それらのプレカ
ーサー（脱炭酸型、熱分解型、反応型、錯塩形成型ある
いは解離型）である塩基プレカーサーを用いることが、
感光材料の保存安定性の観点で好ましい。脱炭酸型の塩
基プレカーサーの例としては、加熱より脱炭酸する有機
酸と塩基の塩（特開昭６３−３１６７６０号、同６４−
６８７４６号、同５９−１８０５３７号および同６１−
３１３４３１号の各公報記載）を挙げることができる。
熱分解型の塩基プレカーサーの例としては、尿素化合物
（特開昭６３−９６１５９号公報記載）を挙げることが
できる。反応型の塩基プレカーサーの例としては、遷移
金属アセチリド（特開昭６３−２５２０８号公報記載）
を挙げることができる。錯塩形成型の塩基プレカーサー
の例としては、水に難溶な塩基性金属化合物（特開平１
−３２８２号公報記載）を挙げることができる。解離型
の塩基プレカーサーの例としては、有機酸のアルカリ金
属塩（例、酢酸ナトリウム、酸性基を有するポリマーの
ナトリウム塩）を挙げることができる。塩基プレカーサ
ーは、５０〜２００℃で塩基を生成することが好まし
く、８０〜１６０℃て塩基を生成することがさらに好ま
しい。塩基プレカーサーは、ハロゲン化銀１モル当たり
０．ｌ乃至２０モルの範囲で使用することが好ましく、
より好ましくは０．２乃至１０モルの範囲である。[Base Precursor] The light-sensitive material of the present invention contains a base precursor. This base precursor contributes to image formation by reacting with a reducing agent. A base in place of or together with a base precursor. For example, various inorganic and organic bases can be used, but it is possible to use a base precursor that is a precursor thereof (decarboxylation type, pyrolysis type, reaction type, complex salt forming type or dissociation type).
It is preferable from the viewpoint of storage stability of the photosensitive material. Examples of the decarboxylation type base precursor include salts of organic acids and bases which can be decarboxylated by heating (JP-A-63-316760;
Nos. 68746, 59-180537 and 61-
No. 313431).
Examples of the pyrolytic base precursor include a urea compound (described in JP-A-63-96159). Examples of the reactive base precursor include a transition metal acetylide (described in JP-A-63-25208).
Can be mentioned. Examples of complex salt-forming type base precursors include basic metal compounds which are hardly soluble in water (JP-A-Hei.
-3282). Examples of dissociative base precursors include alkali metal salts of organic acids (eg, sodium acetate, sodium salts of polymers having acidic groups). The base precursor preferably generates a base at 50 to 200 ° C, more preferably 80 to 160 ° C. The base precursor is present in an amount of 0,1 mole per mole of silver halide. It is preferable to use in the range of 1 to 20 mol,
More preferably, it is in the range of 0.2 to 10 mol.
【００５１】以下に、本発明の感光材料に用い得る任意
の層あるいは、併用し得る添加剤等について説明する。The optional layers that can be used in the light-sensitive material of the present invention and the additives that can be used in combination are described below.
【００５２】［粘着性層］感光材料において、トナーを
用いて画像を形成する場合、粘着性層を感光材料に設け
ることができる。粘着性層は、トナーが付着できる粘着
性を有するポリマーで構成する。上記ポリマーとして
は、天然または合成ゴムが好ましい。合成ゴムの例とし
ては、イソブチレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、
塩素化ゴム、ポリビニルイソブチルエーテル、シリコン
エラストマー、ネオプレンおよび共重合ゴム（例、スチ
レン−ブタジエンコポリマー、スチレン−イソブチレン
コポリマー）を挙げることができる。合成ゴムがコポリ
マーの場合、共重合方法はランダム、ブロックおよびク
ラフト共重合のいずれでもよい。粘着性層の厚さは、
０．０１乃至１０μｍであることが好ましく、０．０５
乃至５μｍであることがさらに好ましい。[Adhesive Layer] When an image is formed using a toner in a photosensitive material, an adhesive layer can be provided on the photosensitive material. The adhesive layer is composed of an adhesive polymer to which the toner can adhere. The polymer is preferably a natural or synthetic rubber. Examples of synthetic rubber include isobutylene rubber, nitrile rubber, butyl rubber,
Examples include chlorinated rubber, polyvinyl isobutyl ether, silicone elastomer, neoprene and copolymer rubber (eg, styrene-butadiene copolymer, styrene-isobutylene copolymer). When the synthetic rubber is a copolymer, the copolymerization method may be any of random, block and kraft copolymerization. The thickness of the adhesive layer is
It is preferably 0.01 to 10 μm, and 0.05
More preferably, the thickness is from 5 to 5 μm.
【００５３】［剥離層］転写により画像を形成する場
合、剥離層を感光材料に設けることができる。剥離層
は、支持体との剥離が容易で室温では非粘着性である
が、加熱により粘着性または融着性を示す。剥離層は、
有機ポリマー（例、ポリビニルアセタール樹脂、アミド
樹脂）をマトリックスとして含む。マトリックスとして
使用するポリマーのフロー軟化点は、還元剤の還元反応
に要する加熱温度以上であることが好ましい。剥離層
は、さらにフッ素含有化合物を１重量％以上含むことが
好ましい。フッ素含有化合物としては、フッ素含有界面
活性剤を好ましく用いることができる。剥離層の膜厚
は、１．０μｍ以上であることが好ましく、１．４μｍ
以上であることがさらに好ましい。[Release Layer] When an image is formed by transfer, a release layer can be provided on the photosensitive material. The release layer is easily peeled off from the support and is non-adhesive at room temperature, but shows adhesiveness or fusion when heated. The release layer is
An organic polymer (eg, polyvinyl acetal resin, amide resin) is included as a matrix. The flow softening point of the polymer used as the matrix is preferably not lower than the heating temperature required for the reduction reaction of the reducing agent. The release layer preferably further contains 1% by weight or more of a fluorine-containing compound. As the fluorine-containing compound, a fluorine-containing surfactant can be preferably used. The thickness of the release layer is preferably 1.0 μm or more, preferably 1.4 μm.
More preferably, it is the above.
【００５４】［中間層］本発明の感光材料には、各層の
間に中間層を設けることができる。中間層は、ハレーシ
ョン防止層、フィルター層あるいはバリアー層として機
能させることもできる。ハレーション防止層及びフィル
ター層は、着色剤を含む機能層である。バリアー層は、
感光材料の保存時に、成分が層間を移動して拡散したり
混合したりするのを防止する機能を有する。中間層の材
料は用途に応じて決定する。感光性層やオーバーコート
層に用いる親水性ポリマーを使用してもよい。中間層の
膜厚は、１０μｍ以下であることが好ましい。[Intermediate Layer] The light-sensitive material of the present invention may have an intermediate layer between the layers. The intermediate layer can also function as an antihalation layer, a filter layer, or a barrier layer. The antihalation layer and the filter layer are functional layers containing a coloring agent. The barrier layer is
It has a function of preventing components from migrating between layers and diffusing or mixing during storage of the photosensitive material. The material of the intermediate layer is determined according to the application. You may use the hydrophilic polymer used for a photosensitive layer and an overcoat layer. The thickness of the intermediate layer is preferably 10 μm or less.
【００５５】［熱現像促進剤］熱現像処理をより低い温
度またはより短時間で行うために、熱現像促進剤を感光
材料のいずれかの層に添加してもよい。熱現像促進剤と
しては、感光材料のいずれかの層に用いられるバインダ
ーに対して室温もしくは加熱時に可塑化作用を有する化
合物、あるいは可塑化作用はないが加熱によって層内で
溶融しうる化合物であれば使用可能である。熱現像促進
剤は、感光材料中の反応物質の拡散を促進するか、ある
いは反応そのものを促進することにより、熱現像を促進
すると考えられる。可塑化作用を有する化合物として
は、「プラスチック配合剤」大成社、Ｐ２１−６３；
「プラスチックス・アディティブズ第２版」（Ｐｌａｓ
ｔｉｃｓ Ａｄｄｉｔｉｖｅｓ，２ｎｄ Ｅｄｉｔｉｏ
ｎ，Ｈａｎｓｅｒ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ）第５章、２
５１〜２９６頁に記載の高分子可塑剤が使用用できる。
好ましい熱現像促進剤としては、ポリエーテル（例、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール）、
多価アルコール（例、グリセリン、へキサンジオー
ル）、糖類（例、ソルビトール）、ギ酸エステル、尿素
類（例、尿素、ジエチル尿素、エチレン尿素）、アミド
（例、アセトアミド、プロピオンアミド、マロンアミ
ド）、スルファミド類、スルホンアミド類、尿素樹脂お
よびフェノール樹脂、を挙げることができる。熱現像促
進剤を二種以上組み合わせて使用することもできる。ま
た、二以上の層に分割して添加することもできる。熱現
像促進剤の添加量は、０．０５乃至２ｇ／ｍ2 であるこ
とが好ましく、０．１乃至１ｇ／ｍ2 であることがさら
に好ましい。[Heat Development Accelerator] In order to carry out the heat development at a lower temperature or in a shorter time, a heat development accelerator may be added to any layer of the photosensitive material. As the thermal development accelerator, a compound having a plasticizing effect at room temperature or upon heating with respect to a binder used in any layer of the photosensitive material, or a compound having no plasticizing effect but capable of melting in the layer by heating is used. Can be used. It is considered that the thermal development accelerator promotes thermal development by promoting the diffusion of the reactant in the photosensitive material or by promoting the reaction itself. Examples of the compound having a plasticizing effect include “Plastic compounding agent” Taiseisha, P21-63;
"Plastics Additives Second Edition" (Plas
tics Additives, 2nd Editio
n, Hanser Publishers) Chapter 5, 2
Polymer plasticizers described on pages 51 to 296 can be used.
Preferred thermal development accelerators include polyethers (eg, polyethylene glycol, polypropylene glycol),
Polyhydric alcohols (eg, glycerin, hexanediol), sugars (eg, sorbitol), formate, ureas (eg, urea, diethyl urea, ethylene urea), amides (eg, acetamido, propionamide, malonamide), sulfamide , Sulfonamides, urea resins and phenolic resins. Two or more thermal development accelerators can be used in combination. Further, it may be added in two or more layers. The addition amount of the thermal development accelerator is preferably 0.05 to 2 g / m 2 , and more preferably 0.1 to 1 g / m 2 .
【００５６】［着色剤］ハレーションおよびイラジエー
ション防止、硬化画像の着色あるいは感度（絶対感度ま
たは分光感度）の調節を目的として、着色剤を感光材料
に添加することができる。着色剤としては、硬化反応を
著しく妨げたり、ハロゲン化銀の感光性や現像性を著し
く劣化しない限り、公知の顔料や染料を使用することが
できる。ハレーションおよびイラジエーション防止のた
めに着色剤を添加する場合は、ハロゲン化銀の感光波長
領域の光を吸収できるものが好ましい。着色剤として
は、特開昭平−２４９６６７号公報、カラーインデック
ス便覧、染料便覧（有機合成化学協会編、昭和４５年）
に記載の顔料、染料あるいはコロイド銀を用いることが
できる。ハロゲン化銀の感度への影響が少ないイラジエ
ーション防止用の染料は、特公昭４１−２０３８９号、
同４３−３５０４号、同４３−１３１６８号および特開
平２−３９０４２号の各公報、および米国特許３６９７
０３７号、同３４２３２０７号、英国特許１０３０３９
２号および同１１００５４６号の各明細書に記載があ
る。着色剤の添加量は、０．０１乃至２ｇ／ｍ2 の範囲
が好ましく、０．０５乃至ｌｇ／ｍ2 の範囲がさらに好
ましい。[Colorant] A colorant can be added to a light-sensitive material for the purpose of preventing halation and irradiation, coloring a cured image or adjusting sensitivity (absolute sensitivity or spectral sensitivity). As the colorant, known pigments and dyes can be used as long as they do not significantly hinder the curing reaction or significantly deteriorate the photosensitivity and developability of silver halide. When a colorant is added to prevent halation and irradiation, those capable of absorbing light in the photosensitive wavelength region of silver halide are preferred. Examples of the coloring agent include JP-A-Sho-249667, Color Index Handbook, Dye Handbook (edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, 1970).
And the pigments, dyes and colloidal silver described in (1). Dyes for preventing irradiation which have little effect on the sensitivity of silver halide are described in JP-B-41-20389.
JP-A-43-3504, JP-A-43-13168 and JP-A-2-39042, and U.S. Pat.
Nos. 037 and 3423207, British Patent 103039
Nos. 2 and 1100546 are described in each specification. The amount of the colorant added is preferably in the range of 0.01 to 2 g / m 2 , and more preferably in the range of 0.05 to 1 g / m 2 .
【００５７】［現像停止剤］熱現像時の処理温度および
処理時間に対し、常に一定の画像を得る目的て種々の現
像停止剤を用いることができる。現像停止剤とは、適正
現像後、速やかに塩基を中和または塩基と反応して層中
の塩基濃度を下げ現像を停止させる化合物または銀およ
び銀塩と相互作用して現像を抑制させる化合物である。
具体的には、加熱により酸を放出する酸プレカーサー、
加熱により共存する塩基と置換反応を起こす親電子化合
物、または含窒素へテロ環化合物、メルカプト化合物お
よびそのプレカーサーが使用できる。熱現像停止剤につ
いては、特開昭６２−２５３１５９号公報、特開平２−
４２４４７号および同２−２６２６６１号の各公報に記
載がある。[Development Stopping Agent] Various development stopping agents can be used for the purpose of always obtaining a constant image with respect to the processing temperature and processing time during thermal development. A development terminator is a compound that immediately neutralizes a base or reacts with a base to reduce the base concentration in a layer and stop development after proper development, or a compound that interacts with silver and a silver salt to suppress development. is there.
Specifically, an acid precursor that releases an acid upon heating,
An electrophilic compound that undergoes a substitution reaction with a coexisting base upon heating, or a nitrogen-containing heterocyclic compound, a mercapto compound, and a precursor thereof can be used. The thermal development terminator is described in JP-A-62-253159 and JP-A-2-2-159.
Nos. 42447 and 2-262661.
【００５８】［界面活性剤］公知の界面活性剤をいずれ
かの層に添加してもよい。ノニオン活性剤、アニオン活
性剤、カチオン活性剤、フッ素活性剤のいずれも使用で
きる。界面活性剤については、特開平２−１９５３５６
号公報に記載がある。ソルビタン類、ポリオキシエチレ
ン類および含フッ素界面活性剤が特に好ましい。[Surfactant] A known surfactant may be added to any of the layers. Any of a nonionic activator, an anionic activator, a cationic activator and a fluorine activator can be used. For the surfactant, see JP-A-2-195356.
There is a description in the publication. Sorbitans, polyoxyethylenes and fluorinated surfactants are particularly preferred.
【００５９】［マット剤］感光材料の表面または裏面の
粘着性を低下させ、感光材料を重ねたときの接着を防止
する目的で、感光材料のバック層またはオーバーコート
層にマット剤を添加することができる。マット剤として
は、親水性ポリマー中に分散が可能な無機または有機の
固体粒子が用いられる。マット剤の素材の例としては、
酸化物（例、二酸化ケイ素）、アルカリ土類金属塩、天
然ポリマー（例、デンプン、セルロ一ス）および合成ポ
リマーを挙げることができる。マット剤の粒径は、０．
５乃至５０μｍの範囲が好ましい。マット剤の塗布量
は、０．ｌ乃至ｌｇ／ｍ2 の範囲であることが好まし
い。[Matting Agent] A matting agent is added to the back layer or overcoat layer of the photosensitive material for the purpose of reducing the tackiness of the front or back surface of the photosensitive material and preventing adhesion when the photosensitive materials are stacked. Can be. As the matting agent, inorganic or organic solid particles that can be dispersed in a hydrophilic polymer are used. Examples of matting materials include:
Oxides (eg, silicon dioxide), alkaline earth metal salts, natural polymers (eg, starch, cellulose) and synthetic polymers can be mentioned. The particle size of the matting agent is 0.
A range of 5 to 50 μm is preferred. The application amount of the matting agent is 0. It is preferably in the range of 1 to lg / m 2 .
【００６０】［重合禁止剤］感光材料の保存中に重合性
化合物が重合するのを防止するために、公知の重合防止
剤を使用することができる。重合防止剤の例には、ニト
ロンアミン類、尿素類、チオ尿素類、チオアミド類、フ
ェノール類およびアミン類が含まれる。[Polymerization Inhibitor] In order to prevent polymerization of the polymerizable compound during storage of the light-sensitive material, a known polymerization inhibitor can be used. Examples of polymerization inhibitors include nitroneamines, ureas, thioureas, thioamides, phenols and amines.
【００６１】［かぶり防止剤、現像促進剤、安定剤］写
真特性を改良するために、かぶり防止剤、銀現像を促進
する銀現像促進剤、安定剤等の添加剤をいずれかの層に
添加してもよい。それらの例としては、メルカプト化合
物（特開昭５９−１１１６３６号公報記載）、アゾール
類やアザインデン類（リサーチ・ディスクロージャー誌
Ｎｏ．１７６４３、２４〜２５頁（１９７８年）記
載）、窒素を含むカルボン酸類およびリン酸類（特開昭
５９−１６８４４２号公報記載）、環状アミド（特開昭
６１−１５１８４１号公報記載）、チオエーテル（特開
昭６２−１５１８４２号公報記載）、ポリエチレングリ
コール誘導体（特開昭６２−１５１８４３号公報記
載）、チオール（特開昭６２−１５１８４４号公報記
載）、アセチレン化合物（特開昭６２−８７９５７号公
報記載）およびスルホンアミド（特開昭６２−１７８２
３２号公報記載）を挙げることができる。銀現像促進剤
またはカブリ防止剤としては、芳香族環（炭素環または
複素環）メルカプト化合物（特開平６−３１３９６７号
公報記載）が特に好ましい。芳香族複素環メルカプト化
合物、特にメルカプトトリアゾール誘導体がさらに好ま
しい。メルカプト化合物は、メルカプト銀化合物（銀
塩）として感光材料に添加してもよい。これらの化合物
の使用量は、ハロゲン化銀１モル当り１０-7モル乃至１
モルの範囲である。[Anti-fogging agent, development accelerator, stabilizer] In order to improve photographic characteristics, additives such as an anti-fogging agent, a silver development accelerator for promoting silver development, and a stabilizer are added to any of the layers. May be. Examples thereof include mercapto compounds (described in JP-A-59-111636), azoles and azaindenes (described in Research Disclosure No. 17643, pages 24 to 25 (1978)), and carboxylic acids containing nitrogen. And phosphoric acids (described in JP-A-59-168442), cyclic amides (described in JP-A-61-151841), thioethers (described in JP-A-62-151842), and polyethylene glycol derivatives (described in JP-A-62-151842). No. -151843), thiols (described in JP-A-62-151844), acetylene compounds (described in JP-A-62-87957), and sulfonamides (described in JP-A-62-1782).
No. 32). As the silver development accelerator or the antifoggant, an aromatic ring (carbon ring or heterocyclic) mercapto compound (described in JP-A-6-313967) is particularly preferred. Aromatic heterocyclic mercapto compounds, particularly mercaptotriazole derivatives, are more preferred. The mercapto compound may be added to the light-sensitive material as a mercapto silver compound (silver salt). These compounds may be used in an amount of 10 -7 mol to 1 mol per mol of silver halide.
Range of moles.
【００６２】次に、本発明の感光材料の画像形成方法に
ついて説明する。本発明の感光材料は、露光工程、現像
工程、非画像部の除去工程を経て画像形成される。この
感光材料は、例えば、印刷板等を製造するのに適する。
感光材料の画像露光は、感光性層に含まれるハロゲン化
銀の分光感度に応じた波長の光で行なう。波長は、可視
光、近紫外光、近赤外光が一般的であるが、Ｘ線、電子
ビームを用いてもよい。光源の例としては、タングステ
ンランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、キセノン
フラッシュランプ、水銀ランプ、カーボンアークランプ
等のランプ、各種のレーザー（例、半導体レーザー、ヘ
リウムネオンレーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、ＹＡＧレーザー）、発光ダイ
オード、陰極線管などを挙げることができる。Next, an image forming method of the light-sensitive material of the present invention will be described. The photosensitive material of the present invention is formed into an image through an exposure step, a development step, and a step of removing a non-image portion. This photosensitive material is suitable, for example, for producing a printing plate or the like.
Image exposure of the photosensitive material is performed with light having a wavelength corresponding to the spectral sensitivity of silver halide contained in the photosensitive layer. The wavelength is generally visible light, near ultraviolet light, or near infrared light, but X-rays or electron beams may be used. Examples of light sources include lamps such as tungsten lamps, halogen lamps, xenon lamps, xenon flash lamps, mercury lamps, carbon arc lamps, and various lasers (eg, semiconductor lasers, helium neon lasers, argon ion lasers, helium cadmium lasers, YAG laser), light emitting diode, cathode ray tube and the like.
【００６３】露光量は一般に、０．００１乃至ｌ０００
μＪ／ｃｍ2 、好ましくは０．０１乃至ｌ００ｅｒｇ／
ｃｍ2 の範囲である。支持体が透明である場合は、支持
体の裏側から支持体を通して露光することもできる。ハ
ロゲン化銀の潜像形成過程は、露光時の温度や湿度の影
響を受けて感度が変化しやすい。そのため、感光材料お
よび光源の雰囲気の温度と湿度は、一定の範囲内に制御
されていることが望ましい。上記の目的を達成するため
の画像記録装置の調節手段は、特開平３−６３１４３号
および同３−６３６３７号の各公報に記載がある。The exposure amount is generally 0.001 to 1,000.
μJ / cm 2 , preferably 0.01 to 100 erg /
cm 2 . When the support is transparent, exposure can be performed through the support from the back side of the support. In the process of forming a latent image of silver halide, the sensitivity tends to change under the influence of temperature and humidity during exposure. Therefore, it is desirable that the temperature and humidity of the atmosphere of the photosensitive material and the light source be controlled within a certain range. Adjusting means of the image recording apparatus for achieving the above object are described in JP-A-3-63143 and JP-A-3-63637.
【００６４】露光工程を経た感光材料の現像は、加熱に
よる乾式（熱現像）で行うことが好ましい。熱現像は、
感光材料を加熱した物体（例、金属板、金属ローラー）
に密着させる方法、加熱した液体に浸漬する方法あるい
は赤外線を照射する方法によって行うことができる。感
光材料の表面を空気中に開放して支持体側から加熱して
もよく、あるいは表面を加熱物体に密着させ、空気を遮
断した状態で加熱してもよい。表面を空気中に開放して
加熱する場合、空気中の酸素が感光材料中に進行して硬
化反応を阻害することがあるので、オーバーコート層の
ような表面側の層のバインダーとして、前述した酸素の
透過率が低いポリマーを使用することが好ましい。加熱
温度は６０乃至２００℃、より好ましくは１００乃至１
６０℃の範囲である。加熱時間はｌ乃至１８０秒、より
好ましくは５乃至６０秒の範囲である。露光工程の前ま
たは露光工程の後に、感光材料を主加熱条件よりも低い
温度または短い時間で予備加熱してもよい。主加熱後あ
るいは（後述する）除去工程後に、後加熱を実施しても
よい。The development of the light-sensitive material having undergone the exposure step is preferably carried out by heating (heat development) by heating. Thermal development
Heated photosensitive material (eg, metal plate, metal roller)
, A method of dipping in a heated liquid, or a method of irradiating infrared rays. The surface of the photosensitive material may be opened to the air and heated from the support side, or the surface may be closely contacted with a heated object and heated while the air is shut off. When the surface is opened to the air and heated, oxygen in the air may proceed into the photosensitive material and hinder the curing reaction, and therefore, as described above, as a binder for a surface-side layer such as an overcoat layer. It is preferable to use a polymer having a low oxygen permeability. The heating temperature is 60 to 200 ° C, more preferably 100 to 1
It is in the range of 60 ° C. Heating times range from 1 to 180 seconds, more preferably from 5 to 60 seconds. Before or after the exposure step, the photosensitive material may be preheated at a lower temperature or for a shorter time than the main heating conditions. Post-heating may be performed after the main heating or after the removal step (described later).
【００６５】現像の後、未硬化部、即ち、非画像部を除
去して画像を形成するためには、未硬化部を溶出により
除去することが好ましい。未硬化部を除去する前に、水
洗または機械的剥離により、感光性層、接着性層および
その他の親水性層を除去しておくことが好ましい。溶出
液としては、アルカリ性溶出液を用いることが好まし
い。アルカリ性溶出液に用いるアルカリ性化合物の例に
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナ
トリウム、メタケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リ
ン酸カリウム、アンモニアおよびアミノアルコール類
（例、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン）が含まれる。溶出液の溶媒として
は、水が好ましい。必要に応じて、水に有機溶媒を添加
しても良い。有機溶媒としてはアルコール類またはエー
テル類が好ましい。アルコール類の例には、低級アルコ
ール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール）、芳香族基を有するアルコール（例、ベンジ
ルアルコール、フェネチルアルコール）、多価アルコー
ル（例、エチレングリコール、ジエチレングりコール、
トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール）お
よびアミノアルコール類（例、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、トリエタノールアミン）が含まれ
る。エーテル類の例に、セルソルブ類が含まれる。溶出
液は、界面活性剤、消泡剤、その他必要に応じて各種の
添加剤を含むことができる。After development, in order to form an image by removing the uncured portion, that is, the non-image portion, it is preferable to remove the uncured portion by elution. Before removing the uncured portion, it is preferable to remove the photosensitive layer, the adhesive layer, and other hydrophilic layers by washing with water or mechanical peeling. It is preferable to use an alkaline eluate as the eluate. Examples of alkaline compounds used in the alkaline eluate include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, potassium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate, ammonia and amino. Alcohols (eg, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine) are included. As a solvent for the eluate, water is preferable. If necessary, an organic solvent may be added to water. As the organic solvent, alcohols or ethers are preferable. Examples of alcohols include lower alcohols (eg, methanol, ethanol, propanol, butanol), alcohols having an aromatic group (eg, benzyl alcohol, phenethyl alcohol), and polyhydric alcohols (eg, ethylene glycol, diethylene glycol,
Triethylene glycol, polyethylene glycol) and amino alcohols (eg, monoethanolamine,
Diethanolamine, triethanolamine). Examples of ethers include cellosolves. The eluate may contain a surfactant, an antifoaming agent, and other various additives as necessary.
【００６６】本発明の感光材料は、ハードコピー、レリ
ーフ画像の形成あるいは印刷版の製造に用いることがで
きる。特に、印刷版の製造に適している。The light-sensitive material of the present invention can be used for forming a hard copy or a relief image or for producing a printing plate. In particular, it is suitable for producing a printing plate.
【００６７】[0067]
【実施例】以下に、実施例を挙げて本発明の具体的な利
用方法について説明するが、本発明はこれらの実施例に
制限されるものではない。The following is a description of specific embodiments of the present invention using examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００６８】〔実施例ｌ〕 （感光材料の作成） 「アルミニウム支持体の作成」厚さ０．２４ｍｍのＪｌ
Ｓ−Ａ−１０５０に従うアルミニウム板の表面を、ナイ
ロンブラシとパミストン（４００メッシュ）の水懸濁液
とで砂目立てした後、水でよく洗浄した。次に、１０％
の水酸化ナトリウム水溶液に７０℃で６０秒間浸漬して
エッチングした後、流水で水洗いした。２０％の硝酸水
溶液で中和、洗浄してから、水洗いした。得られたアル
ミニウム板を、矩形波の交番波形電流（条件：陽極時電
圧１２．７ｖ、陽極時電気量に対する陰極時電気量の比
が０．９、陽極時電気量１６０クーロン／ｄｍ2 ）を用
いて、０．５％の硝酸アルミニウムを含む１％硝酸水溶
液中で電解粗面化処理を行った。得られた板の表面粗さ
は、０．６μｍ（Ｒａ表示）であった。この処理に続い
て、ｌ％の水酸化ナトリウム水溶液に４０℃で３０秒間
浸漬した後、３０％の硫酸水溶液中、５５℃でｌ分間処
理した。次に、厚さが２．５ｇ／ｄｍ2 になるように、
２０％の硫酸水溶液中で直流電流を用いて電流密度２Ａ
／ｄｍ2 の条件下、陽極酸化処理をした。これを水洗、
乾燥して支持体を作成した。Example 1 (Preparation of photosensitive material) "Preparation of aluminum support" Jl having a thickness of 0.24 mm
The surface of the aluminum plate according to SA-1050 was grained with a nylon brush and an aqueous suspension of pamistone (400 mesh), and then thoroughly washed with water. Next, 10%
Was immersed in an aqueous solution of sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, and then washed with running water. It was neutralized and washed with a 20% aqueous nitric acid solution, and then washed with water. The obtained aluminum plate was subjected to an alternating waveform current of a rectangular wave (condition: voltage at anode: 12.7 v, ratio of electricity at cathode to electricity at anode: 0.9, electricity at anode: 160 coulomb / dm 2 ). The electrolytic surface roughening treatment was performed in a 1% nitric acid aqueous solution containing 0.5% aluminum nitrate. The surface roughness of the obtained plate was 0.6 μm (Ra indication). Following this treatment, the substrate was immersed in a 1% aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. for 30 seconds, and then treated in a 30% aqueous sulfuric acid solution at 55 ° C. for 1 minute. Next, so that the thickness becomes 2.5 g / dm 2 ,
Current density 2A using DC current in 20% sulfuric acid aqueous solution
Anodizing treatment was performed under the condition of / dm 2 . Wash this,
After drying, a support was prepared.
【００６９】「顔料分散液の調製」下記の組成からなる
顔料分散液を調製した。 −顔料分散液− 銅フタロシアニン １５ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー １５ｇ （共重合モル比＝８０／２０） メチルエチルケトン ７０ｇ"Preparation of pigment dispersion" A pigment dispersion having the following composition was prepared. -Pigment dispersion liquid-Copper phthalocyanine 15 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 15 g (copolymerization molar ratio = 80/20) methyl ethyl ketone 70 g
【００７０】「硬化性層の形成」下記の塗布液を支持体
の上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が１．８μｍの硬化性
層を設けた。[Formation of Curable Layer] The following coating solution was applied onto a support and dried to form a curable layer having a dry film thickness of 1.8 μm.
【００７１】 −硬化性層塗布液− ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２．０ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸コポリマー ４．０ｇ （疎水性コポリマー、共重合モル比＝７０／３０） プロピレングリコールモノメチルエーテル ３６．０ｇ 上記の顔料分散液 １８．０ｇ—Curable Layer Coating Solution— Pentaerythritol Tetraacrylate 2.0 g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 4.0 g (hydrophobic copolymer, copolymer molar ratio = 70/30) Propylene glycol monomethyl ether 36.0 g The above pigment Dispersion liquid 18.0g
【００７２】「ハロゲン化銀乳剤の調製」ゼラチンと臭
化カリウムと水が入り、水酸化ナトリウムを加えて室温
でのｐＨを９．５に調整した液を５５℃に加温し、さら
に下記のチオエーテル化合物を硝酸銀添加量に対して
２．０×１０-3モル相当の量で添加した。反応容器のｐ
Ａｇ値を９．０に保ちつつ、硝酸銀水溶液と、ヨウ化カ
リウムおよび硝酸銀の全添加量に対するロジウムのモル
比で４×１０-8モルとなるようにロジウムアンモニウム
クロライドを含有した臭化カリウム水溶液とを、ｐＡｇ
コントロールダブルジェット法により添加してヨウ臭化
銀粒子を形成した。次に硫酸を加えて、ｐＨを６．０に
調整し、引き続いて、５５℃、ｐＡｇ＝８．６にて、硝
酸銀水溶液と、銀に対するイリジウムのモル比で５×１
０-7モルになるようにへキサクロロイリジウム（III)酸
塩を添加した臭化カリウム溶液を、タブルジェット法で
二段添加して、下記の組成のコア／シェル形ヨウ臭化銀
乳剤を調製した。"Preparation of silver halide emulsion" A solution containing gelatin, potassium bromide and water, adjusted to pH 9.5 at room temperature by adding sodium hydroxide, was heated to 55 ° C. The thioether compound was added in an amount equivalent to 2.0 × 10 −3 mol based on the added amount of silver nitrate. Reaction vessel p
While maintaining the Ag value at 9.0, an aqueous solution of silver nitrate and an aqueous solution of potassium bromide containing rhodium ammonium chloride such that the molar ratio of rhodium to the total amount of potassium iodide and silver nitrate was 4 × 10 −8 mol were used. With pAg
Silver iodobromide particles were formed by addition by a control double jet method. Next, sulfuric acid was added to adjust the pH to 6.0. Subsequently, at 55 ° C. and pAg = 8.6, the silver nitrate aqueous solution and the molar ratio of iridium to silver were 5 × 1.
A potassium / bromide solution to which hexachloroiridate (III) was added so as to be 0-7 mol was added in two stages by a double jet method to obtain a core / shell type silver iodobromide emulsion having the following composition. Prepared.
【００７３】[0073]
【化１】 Embedded image
【００７４】 コア： ヨウ臭化銀（ヨウ化銀含有率：８．５モル％） シェル： 純臭化銀 コア／シェル： ３／７（銀モル比） 平均ヨウ化銀含有率：２．５５モル％ 平均粒子サイズ： ０．３０μｍCore: silver iodobromide (silver iodide content: 8.5 mol%) Shell: pure silver bromide Core / shell: 3/7 (silver molar ratio) Average silver iodide content: 2.55 Mol% average particle size: 0.30 μm
【００７５】得られた乳剤粒子は、単分散で、平均粒子
サイズの±４０％以内に全粒子数の９８％が存在してい
た。次いで、この乳剤を脱塩処理後、ｐＨを６．５、ｐ
Ａｇを９．０に調整した。乳剤を５０℃に保温して、攪
拌しながら下記の分光増感色素ＡおよびＢのメタノール
溶液（モル比で、Ａ：Ｂ＝２：１）を色素合計で８×１
０-4モル／モルＡｇ相当量で添加し、２０分間保持し
た。さらに、下記のチオールのナトリウム塩を、６×ｌ
０-4モル／モルＡｇ相当量で添加して、５分間攪拌保持
して、ハロゲン化銀水性乳剤を調製した。The obtained emulsion grains were monodispersed and contained 98% of all grains within ± 40% of the average grain size. Next, the emulsion was desalted, and the pH was adjusted to 6.5 and p
Ag was adjusted to 9.0. The emulsion was kept at 50 ° C., and while stirring, a methanol solution of the following spectral sensitizing dyes A and B (molar ratio: A: B = 2: 1) was added in a total of 8 × 1.
It was added in an amount equivalent to 0 -4 mol / mol Ag and kept for 20 minutes. Further, the following sodium salt of thiol was added to 6 × l
An aqueous silver halide emulsion was prepared by adding an equivalent amount of 0 -4 mol / mol Ag and stirring for 5 minutes.
【００７６】[0076]
【化２】 Embedded image
【００７７】[0077]
【化３】 Embedded image
【００７８】[0078]
【化４】 Embedded image
【００７９】「還元剤分散液の調製」下記の還元剤の粉
末１０ｇを、ダイノミル分散器を用いて、ポリビニルア
ルコール（クラレ（株）製）の１０重量％水溶液９０ｇ
中に分散した。還元剤の粒子サイズは、約０．５μｍ以
下であった。"Preparation of Reducing Agent Dispersion" 90 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was mixed with 10 g of the following reducing agent powder using a Dynomill disperser.
Dispersed inside. The particle size of the reducing agent was about 0.5 μm or less.
【００８０】[0080]
【化５】 Embedded image
【００８１】「感光性層の形成」下記の塗布液を調製
し、接着性層上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が２．０μ
ｍの感光性層を設けた。[Formation of Photosensitive Layer] The following coating solution was prepared, coated on the adhesive layer, and dried to a dry film thickness of 2.0 μm.
m of photosensitive layers.
【００８２】 −感光性層塗布液− ケン化度７９．５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−４０５、 クラレ（株）製））の１０重量％水溶液 １０．５ｇ 下記の添加剤（Ｓ−１）の０．１１重量％メタノール溶液 ０．４１ｇ 下記の添加剤（Ｓ−２）の０．１ｌ重量％水溶液 ０．４１ｇ 上記のハロゲン化銀乳剤 ０．５０ｇ 前記の界面活性剤の５重量％水溶液 ０．４０ｇ 水 ７．８０ｇ 上記の還元剤分散液 １．２０ｇ—Coating Solution for Photosensitive Layer— 10.5 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 79.5% of the following additive (S-1) 0.11 wt% methanol solution 0.41 g 0.1 lwt% aqueous solution of the following additive (S-2) 0.41 g silver halide emulsion 0.50 g 5 wt% aqueous solution of the above surfactant 40 g water 7.80 g The above reducing agent dispersion 1.20 g
【００８３】[0083]
【化６】 Embedded image
【００８４】[0084]
【化７】 Embedded image
【００８５】「塩基プレカーサー分散液の調製」下記の
塩基プレカーサーの粉末２５０ｇを、ダイノミル分散器
を用いて、ポリビニルアルコール（クラレ（株）製）の
３重量％水溶液７５０ｇ中に分散した。塩基プレカーサ
ーの粒子サイズは約０．５μｍ以下であった。"Preparation of Base Precursor Dispersion" 250 g of the following base precursor powder was dispersed in 750 g of a 3% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd.) using a Dynomill disperser. The particle size of the base precursor was about 0.5 μm or less.
【００８６】[0086]
【化８】 Embedded image
【００８７】「画像形成促進層の形成」以下の塗布液を
調製し、感光性層の上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が
３．５μｍの画像形成促進層を設けた。[Formation of Image Forming Acceleration Layer] The following coating solution was prepared, coated on the photosensitive layer, and dried to provide an image formation accelerating layer having a dry film thickness of 3.5 μm.
【００８８】 −画像形成促進層塗布液− ケン化度９８．５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−ｌ０５、 クラレ（株）製）の１０重量％水溶液 ２００．０ｇ 上記の塩基プレカーサー分散液 ｌ．２５ｇ 前記の界面活性剤の５重量％水溶液 ４．０ｇ—Coating Solution for Image Forming Acceleration Layer— 200.0 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 98.5% 20 g of the above base precursor dispersion liquid 25 g of a 5% by weight aqueous solution of the surfactant 4.0 g
【００８９】「雲母分散液の調製」水１８４ｇに合成雲
母（ソマシフＭＥ−１００：商品名、コープケミカル
（株）社製、アスペクト比：１０００以上）の１６ｇを
添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径（レーザ散乱
法）３μｍになる迄分散し、雲母分散液を得た。[Preparation of Mica Dispersion] To 184 g of water, 16 g of synthetic mica (Somasif ME-100: trade name, manufactured by Corp Chemical Co., Ltd., aspect ratio: 1000 or more) was added, and the average particle size was measured using a homogenizer. The particles were dispersed until the diameter (laser scattering method) became 3 μm to obtain a mica dispersion.
【００９０】「オーバーコート層の形成」以下の塗布液
を調製し、感光性層の上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が
１．０μｍのオーバーコート層を設けた。 −オーバーコート層塗布液− ケン化度８１％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−４０５、 クラレ（株）製））の１０重量％水溶液 ９．６ｇ 上記の雲母分散液 ６．０ｇ 水 １００ｇ 前記の界面活性剤５重量％水溶液 ０．４０ｇ[Formation of Overcoat Layer] The following coating solution was prepared, coated on the photosensitive layer and dried to form an overcoat layer having a dry film thickness of 1.0 μm. -Coating solution for overcoat layer- 9.6 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a degree of saponification of 81% 6.0 g of the above mica dispersion 6.0 g of water 100 g of the above surfactant 0.40g of 5% by weight aqueous solution
【００９１】「アルカリ性溶出液の調製」下記の組成を
有するアルカリ性溶出液（ｐＨ：１３．５）を調製し
た。 −アルカリ性溶出液− ケイ酸カリウムの２８重量％水溶液 １２５．０ｇ 水酸化カリウム １５．０ｇ 水 ７５０．０ｇ"Preparation of alkaline eluate" An alkaline eluate (pH: 13.5) having the following composition was prepared. -Alkaline eluate-28 wt% aqueous solution of potassium silicate 125.0 g Potassium hydroxide 15.0 g Water 750.0 g
【００９２】（画像形成）感光材料をキセノンフラッシ
ュによる１０-4秒の発光時間で、シャープカット干渉フ
ィルターにて６７０ｎｍの光を分光し、版面エネルギー
２μＪ／ｃｍ2 の露光量で画像露光した。次に、感光材
料のアルミニウム支持体面を加熱した熱板に密着させな
がら搬送する方法で３０秒間熱現像した。次にこれを上
記のアルカリ性溶出液を用い、自動エッチング機にてブ
ラシ現像した後、よく水洗して未露光部の感光性層を溶
出除去したところ、露光部にコントラストの良い、青色
に着色したポリマーのレリーフ画像が形成された。画像
形成時の未露光部溶出に要する時間を測定した。また、
得られた画像について１７５ｌｐｉ（４０００ｄｐｉ）
における網点再現性（％）、印刷性能（耐刷性）を評価
した。また、良好な画像が得られる熱現像の温度範囲を
調べた。結果は表１に示す。(Image Formation) The light-sensitive material was exposed to light at 670 nm with a sharp cut interference filter at a light emission time of 10 -4 seconds by a xenon flash, and imagewise exposed at a plate surface energy of 2 μJ / cm 2 . Next, thermal development was performed for 30 seconds by a method of transporting the photosensitive material while keeping the surface of the aluminum support in close contact with a heated hot plate. Next, using the above alkaline eluate, after brush development with an automatic etching machine, washed well with water to elute and remove the photosensitive layer in the unexposed area, the exposed area was colored blue with good contrast. A relief image of the polymer was formed. The time required for elution of the unexposed area during image formation was measured. Also,
175 lpi (4000 dpi) for the obtained image
Were evaluated for dot reproducibility (%) and printing performance (printing durability). Further, the temperature range of thermal development in which a good image was obtained was examined. The results are shown in Table 1.
【００９３】（実施例２）実施例１で用いたオーバーコ
ート層の水溶性ポリマーをポリビニルメチルエーテルに
かえた以外は、実施例１と同様の方法で感材作成をおこ
ない、画像形成を行って、実施例１と同様に評価した。
結果は表１に示す。 （比較例１、２）実施例１で用いたオーバーコート層の
水溶性ポリマーをケン化度９８．５％のポリビニルアル
コール（ＰＶＡ−１０５、クラレ（株）製）にかえて、
雲母分散液を添加せず、膜厚１．０μｍと２．０μｍに
設定して実施例１と同様の方法で感光材料の作成をおこ
ない、画像形成を行って、実施例１と同様に評価した。
結果は表１に示す。Example 2 A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except that the water-soluble polymer of the overcoat layer used in Example 1 was changed to polyvinyl methyl ether, and an image was formed. Evaluation was performed in the same manner as in Example 1.
The results are shown in Table 1. (Comparative Examples 1 and 2) The water-soluble polymer of the overcoat layer used in Example 1 was changed to polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 98.5%.
A mica dispersion was not added, the film thickness was set to 1.0 μm and 2.0 μm, a photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, an image was formed, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. .
The results are shown in Table 1.
【００９４】[0094]
【表１】 [Table 1]
【００９５】（実施例３）実施例１と同様の硬化性層の
上に、以下に示す感光性層、画像形成促進層、オーバー
コート層を順に積層し、４層構成の感材を作成した。(Example 3) On the same curable layer as in Example 1, a photosensitive layer, an image formation accelerating layer and an overcoat layer shown below were sequentially laminated to form a four-layered photosensitive material. .
【００９６】「感光性層の形成」下記の塗布液を調製
し、硬化性層の上に塗布、乾燥して、乾燥膜厚が２．０
μｍの感光性層を設けた。 −感光性層塗布液− ケン化度８１％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−４０５、 クラレ（株）製））の１０重量％水溶液 １０．５ｇ 実施例１記載の添加剤（Ｓ−１）の0.11重量％メタノール溶液 ０．４１ｇ 実施例１記載の添加剤（Ｓ−２）の0.11重量％水溶液 ０．４１ｇ 実施例１記載のハロゲン化銀乳剤 ０．５０ｇ 実施例１記載の界面活性剤の５重量％水溶液 ０．４０ｇ 実施例１記載の還元剤分散液 １．２０ｇ 水 ７．８０ｇ[Formation of Photosensitive Layer] The following coating solution was prepared, coated on the curable layer, and dried to obtain a dried film having a thickness of 2.0
A μm photosensitive layer was provided. -Coating solution for photosensitive layer- 10.5 g of a 10 wt% aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 81% 0.11 wt of the additive (S-1) described in Example 1 % 0.1% aqueous solution of additive (S-2) described in Example 1 0.41 g Silver halide emulsion described in Example 1 0.50 g 5% by weight of surfactant described in Example 1 Aqueous solution 0.40 g Reducing agent dispersion described in Example 1 1.20 g Water 7.80 g
【００９７】「画像形成促進層の形成」下記の塗布液を
調製し、上記の感光性層の上に塗布、乾燥して、乾燥膜
厚が1.0μｍの画像形成促進層を設けた。 −画像形成促進層塗布液− ケン化度８１％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−４０５、 クラレ（株）製））の１０重量％水溶液 ５．００ｇ 実施例１記載の塩基プレカーサー分散液 ０．５３ｇ 実施例１記載の界面活性剤の５重量％水溶液 ０．１３ｇ[Formation of Image Forming Acceleration Layer] The following coating solution was prepared, coated on the above photosensitive layer and dried to form an image formation accelerating layer having a dry film thickness of 1.0 μm. -Coating solution for image formation accelerating layer- 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 81% 5.00 g Base precursor dispersion described in Example 1 0.53 g Example 0.13 g of a 5% by weight aqueous solution of the surfactant described in 1
【００９８】「オーバーコート層の形成」以下の塗布液
を調製し、画像形成促進層の上に塗布、乾燥して、乾燥
膜厚が１．０μｍのオーバーコート層を設けた。 −オーバーコート層塗布液− ケン化度７９．５％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−４０５、 クラレ（株）製））の１０重量％水溶液 ９．６ｇ 実施例１記載の雲母分散液 ６．０ｇ 水 １００ｇ 実施例１記載の界面活性剤５重量％水溶液 ０．４０ｇ 「性能評価」実施例１記載と同様の方法で、画像形成を
行って、評価した。結果は表２に示す。[Formation of Overcoat Layer] The following coating solution was prepared, applied on the image formation accelerating layer, and dried to form an overcoat layer having a dry film thickness of 1.0 μm. -Coating solution for overcoat layer- 9.6 g of a 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-405, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 79.5% 6.0 g of mica dispersion described in Example 1 6.0 g of water 100 g 0.40 g of a 5% by weight aqueous solution of the surfactant described in Example 1 "Evaluation of performance" An image was formed and evaluated in the same manner as described in Example 1. The results are shown in Table 2.
【００９９】（実施例４）実施例３で用いたオーバーコ
ート層の水溶性ポリマーをポリビニルピロリドン(K-30)
にかえた以外は、実施例１と同様の方法で感材作成をお
こない、画像形成を行って、評価した。結果は表２に示
す。 （比較例３、４）実施例３で用いたオーバーコート層の
水溶性ポリマーをケン化度９８．５％のポリビニルアル
コール（ＰＶＡ−１０５、クラレ（株）製）にかえて、
雲母分散液を添加せず、膜厚１．０μｍと２．０μｍに
設定して実施例３と同様の方法で感光材料の作成をおこ
ない、画像形成を行って、実施例１と同様に評価した。
結果は表２に示す。Example 4 The water-soluble polymer of the overcoat layer used in Example 3 was polyvinylpyrrolidone (K-30).
A photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 1 except for the change, and an image was formed and evaluated. The results are shown in Table 2. (Comparative Examples 3 and 4) The water-soluble polymer of the overcoat layer used in Example 3 was changed to polyvinyl alcohol (PVA-105, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 98.5%.
A mica dispersion was not added, the film thickness was set to 1.0 μm and 2.0 μm, a photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 3, an image was formed, and evaluation was performed in the same manner as in Example 1. .
The results are shown in Table 2.
【０１００】[0100]
【表２】 [Table 2]
【０１０１】（実施例５） 「感光性硬化性層の形成」下記の塗布液をホモジナーザ
ーを持ちいて乳化調製し、アルミ支持体上に感光性硬化
性層を塗布、乾燥して、乾燥膜厚が１．８μｍの感光性
硬化性層を設けた。 −感光性硬化性塗布液− ペンタエリスリトールテトラアクリレート ０．２５ｇ アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（共重合比＝ ７１／２９）の２０重量％プロピレングリコールモノメチル エーテル溶液 ２．３５ｇ 実施例１記載の顔料分散液 ３．４３ｇ 実施例１記載の還元剤の粉体 ０．２１ｇ 実施例１記載のハロゲン化銀乳剤 １．５０ｇ 実施例１記載の塩基プレカーサー分散液 １．２０ｇ(Example 5) "Formation of photosensitive curable layer" The following coating solution was emulsified and prepared using a homogenizer, and the photosensitive curable layer was coated on an aluminum support and dried to obtain a dry film thickness. Provided a photosensitive curable layer having a thickness of 1.8 μm. -Photosensitive curable coating solution-Pentaerythritol tetraacrylate 0.25 g 20% by weight propylene glycol monomethyl ether solution of allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio = 71/29) 2.35 g Pigment described in Example 1 Dispersion 3.43 g Powder of reducing agent described in Example 1 0.21 g Silver halide emulsion described in Example 1 1.50 g Base precursor dispersion described in Example 1 1.20 g
【０１０２】「オーバーコート層の形成」実施例１と同
様に乾燥膜厚が１．０μｍのオーバーコート層を設け
た。 「性能評価」実施例１記載と同様の方法で、画像形成を
行って、評価した。結果は表３に示す。[Formation of Overcoat Layer] As in Example 1, an overcoat layer having a dry film thickness of 1.0 μm was provided. "Performance evaluation" An image was formed and evaluated in the same manner as described in Example 1. The results are shown in Table 3.
【０１０３】（比較例５、６）実施例５で用いたオーバ
ーコート層の水溶性ポリマーをケン化度９８．５％のポ
リビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ（株）
製）にかえて、雲母分散液を添加せず、膜厚１．０μｍ
と２．０μｍに設定して実施例５と同様の方法で感光材
料の作成をおこない、画像形成を行って、実施例１と同
様に評価した。結果は表３に示す。(Comparative Examples 5 and 6) The water-soluble polymer of the overcoat layer used in Example 5 was replaced with polyvinyl alcohol (PVA-105, Kuraray Co., Ltd.) having a saponification degree of 98.5%.
Instead of adding mica dispersion,
The photosensitive material was prepared in the same manner as in Example 5 by setting the thickness to 2.0 μm, and an image was formed. The evaluation was performed in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3.
【０１０４】[0104]
【表３】 [Table 3]
【０１０５】以上の結果のように、本発明の雲母に代表
される無機質層状化合物を最上層に用いた感光材料は、
薄い膜厚のオーバーコート層でも酸素遮断性に優れ、幅
広い熱現像温度範囲でディスクリミネーションのよくと
れた鮮明な画像形成が可能である。また、感光材料の溶
出処理性、経時安定性も改善されることが判明した。As described above, the photosensitive material using the inorganic layered compound represented by mica in the uppermost layer according to the present invention is:
Even an overcoat layer having a small thickness has excellent oxygen barrier properties, and can form a clear image with good discrimination in a wide range of thermal development temperature. It was also found that the elution property and the stability with time of the photosensitive material were improved.
【０１０６】[0106]
【発明の効果】本発明の感光材料は、高膜厚の保護層を
必要とせず、溶出処理性、画像形成性および経時安定性
が良好であるという効果を奏する。The light-sensitive material of the present invention does not require a protective layer having a large thickness, and has an effect that the dissolution property, the image-forming property and the stability over time are good.
【図１】 支持体上に、感光性硬化性層およびオーバー
コート層を設けた感光材料を示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a photosensitive material in which a photosensitive curable layer and an overcoat layer are provided on a support.
【図２】 支持体上に、硬化性層、感光性層およびオー
バーコート層を設けた感光材料を示す概略断面図であ
る。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a photosensitive material in which a curable layer, a photosensitive layer and an overcoat layer are provided on a support.
【図３】 支持体上に、硬化性層、感光性層、画像形成
促進層およびオーバーコート層を設けた感光材料を示す
概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view showing a photosensitive material in which a curable layer, a photosensitive layer, an image formation accelerating layer, and an overcoat layer are provided on a support.
１ アルミニウム支持体 ２ 感光性硬化性層 ３ オーバーコート層 ４ 硬化性層 ５ 感光性層 ６ 画像形成促進層 Reference Signs List 1 aluminum support 2 photosensitive curable layer 3 overcoat layer 4 curable layer 5 photosensitive layer 6 image formation accelerating layer
Claims (6)
基プレカーサー及び重合性または架橋性を有する化合
物、無機質層状化合物の５種からなる物質群から選ばれ
る少なくとも１つの化合物を含む複数の層が形成されて
おり、 該複数の層のうち、最上層に無機質層状化合物を含み、
且つ、前記の他の４種の物質は複数の層のいずれかに存
在することを特徴とする感光材料。1. A method according to claim 1, wherein the support comprises at least one compound selected from the group consisting of silver halide, a reducing agent, a base precursor, a polymerizable or crosslinkable compound, and an inorganic layered compound. A plurality of layers, wherein an uppermost layer of the plurality of layers contains an inorganic layered compound;
In addition, the other four kinds of substances are present in any of a plurality of layers.
物のアスペクト比が２０以上であることを特徴とする請
求項１に記載の感光材料。2. The photosensitive material according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the uppermost layer has an aspect ratio of 20 or more.
物のアスペクト比が１００以上であることを特徴とする
請求項１に記載の感光材料。3. The photosensitive material according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the uppermost layer has an aspect ratio of 100 or more.
物のアスペクト比が２００以上であることを特徴とする
請求項１に記載の感光材料。4. The photosensitive material according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the uppermost layer has an aspect ratio of 200 or more.
物が雲母であることを特徴とする請求項１乃至４のいず
れかに記載の感光材料。5. The light-sensitive material according to claim 1, wherein the inorganic layer compound contained in the uppermost layer is mica.
物が膨潤性のフッ素系合成雲母であることを特徴とする
請求項１乃至４のいずれかに記載の感光材料。6. The light-sensitive material according to claim 1, wherein the inorganic layered compound contained in the uppermost layer is a swellable fluorine-based synthetic mica.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9196195A JPH1138634A (en) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | Photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9196195A JPH1138634A (en) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | Photosensitive material |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1138634A true JPH1138634A (en) | 1999-02-12 |
Family
ID=16353782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9196195A Pending JPH1138634A (en) | 1997-07-22 | 1997-07-22 | Photosensitive material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1138634A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008098681A (en) * | 2003-07-28 | 2008-04-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate |
-
1997
- 1997-07-22 JP JP9196195A patent/JPH1138634A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008098681A (en) * | 2003-07-28 | 2008-04-24 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and substrate |
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