JPH11352670A - Photosensitive original printing plate and formation of printing plate - Google Patents
Photosensitive original printing plate and formation of printing plateInfo
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- JPH11352670A JPH11352670A JP15621798A JP15621798A JPH11352670A JP H11352670 A JPH11352670 A JP H11352670A JP 15621798 A JP15621798 A JP 15621798A JP 15621798 A JP15621798 A JP 15621798A JP H11352670 A JPH11352670 A JP H11352670A
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- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は感光性印刷用原版、
特にレ−ザ−ビ−ムにより無現像でマスクを形成できる
赤外線光熱変換層と感熱層の組合せを有するフレキソ印
刷用原版およびそれからフレキソ印刷版を作成する方法
に関するものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive printing plate precursor,
More particularly, the present invention relates to a flexographic printing original plate having a combination of an infrared light-to-heat conversion layer and a heat-sensitive layer capable of forming a mask without development using a laser beam, and a method for preparing a flexographic printing plate therefrom.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、フレキソ印刷版は、封筒、紙
袋、シ−ル、ラベル、ダンボ−ル箱等の用途で、紙、プ
ラスチックフィルム等のような柔らかく、かつ容易に変
形する表面上の印刷に用いられる事が良く知られてい
る。通常、フレキソ印刷版は光重合性組成物から製造す
ることができ、フレキソ印刷版に用いられる光重合性組
成物は一般にエラストマ−性バインダ−、エチレン性不
飽和化合物および光重合開始剤を含有している。また感
光性印刷用原版は一般に支持体とカバ−シ−トとの間に
存在する光重合性層を有しており、活性光線の像様露光
によって、該光重合性層の露光領域部が重合して不溶化
され、未露光領域部は、適当な現像液による処理で除去
され、フレキソ印刷に使用できる印刷用レリ−フが形成
される。2. Description of the Related Art Conventionally, flexographic printing plates have been used for applications such as envelopes, paper bags, seals, labels, cardboard boxes, etc. on soft and easily deformed surfaces such as paper and plastic films. It is well known that it is used for printing. In general, flexographic printing plates can be produced from photopolymerizable compositions, and the photopolymerizable compositions used in flexographic printing plates generally contain an elastomeric binder, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator. ing. In addition, the photosensitive printing original plate generally has a photopolymerizable layer present between the support and the cover sheet, and the exposed area of the photopolymerizable layer is exposed by actinic light imagewise exposure. The unexposed areas are polymerized and insolubilized, and the unexposed areas are removed by treatment with an appropriate developing solution to form a printing relief that can be used for flexographic printing.
【０００３】感光性印刷用原版の像様露光には、光重合
性層を覆う透明と不透明の領域を有するマスクであるコ
ンタクトフィルムの使用を必要とする。このコンタクト
フィルムは不透明域において露光と重合とを妨げ、透明
域で活性光線を露光させ、そこで露光部が重合し、現像
後に支持体上に残るのである。コンタクトフィルムは、
通常所望の印刷像の写真ネガが用いられ、最終的な画像
中で修正が必要な時に、新たにネガを作らねばならず、
時間を浪費するという欠点を有している。またコンタク
トフィルムは温度と湿度の変化により寸法が若干変化
し、位置合わせ上の問題を生じることがある。[0003] Imagewise exposure of a photosensitive printing master requires the use of a contact film which is a mask having transparent and opaque areas covering the photopolymerizable layer. The contact film hinders exposure and polymerization in the opaque area and exposes the active light in the transparent area, where the exposed areas polymerize and remain on the support after development. Contact film
Normally a photographic negative of the desired printed image is used, and when correction is necessary in the final image, a new negative must be created,
It has the disadvantage of wasting time. In addition, the dimensions of the contact film slightly change due to changes in temperature and humidity, which may cause a problem in alignment.
【０００４】そこで、前記コンタクトフィルムを省略す
ることが望まれており、例えば、感光性印刷用原版上に
情報をレ−ザ−走査露光により直接的に照射することが
考えられている。このことにより、現像されるべき画像
はデジタル的情報に転換することができ、この情報はイ
メ−ジ化のためのレ−ザ−の位置付けに使用でき、ま
た、このデジタル情報は、画像の修正、ポジ・ネガ像の
反転などが簡単に、かつ速やかに行うことができる。Therefore, it has been desired to omit the contact film. For example, it has been considered to irradiate information directly on a photosensitive printing original plate by laser scanning exposure. This allows the image to be developed to be converted into digital information that can be used to position the laser for imaging and that this digital information can be used to modify the image. The reversal of the positive / negative image can be easily and quickly performed.
【０００５】一方、近年、可視光線や赤外線レ−ザ−製
造技術の進歩により、比較的廉価でかつ有用な出力を持
つレ−ザ−製品が登場し、これを感光性印刷用原版の表
面上にマスク画像を形成するために利用することができ
るようになった。例えば、特表平７−５０６２０１号公
報および特開平８−３０５０３０号公報には、赤外線レ
−ザ−を用いて得られるフレキソ印刷版作成用の感光性
印刷用原版とその製造方法とがそれぞれ述べられてい
る。この感光性印刷用原版は支持体、光重合性層、バリ
ア−層、および赤外線感受性層で構成されている。方法
にはマスクを形成するために赤外レ−ザ−光による感光
性印刷用原版の像様アブレ−ションステップが含まれて
いる。像様のための露光は、赤外線感受性層をアブレ−
ションし、赤外線感受性層を支えている感光性印刷用原
版の表面に影響を与えるが、この方法は充分なアブレ−
ションのためには一般に１Ｊ／ｃｍ2 以上の露光量を必
要とし、そのため高出力のレ−ザ−を必要とすることに
より出力装置が高価となり、またレ−ザ−描画速度が遅
く、さらに、アブレ−ションによる飛散性の屑を生じる
という欠点を有している。[0005] On the other hand, in recent years, with the advance of visible light or infrared laser manufacturing technology, laser products having a relatively low cost and useful output have appeared, and these have been placed on the surface of a photosensitive printing original plate. Can be used to form a mask image. For example, JP-T-Hei 7-506201 and JP-A-8-305030 describe a photosensitive printing original plate for producing a flexographic printing plate obtained by using an infrared laser and a method of manufacturing the same, respectively. Have been. This photosensitive printing master comprises a support, a photopolymerizable layer, a barrier layer, and an infrared-sensitive layer. The method includes an imagewise ablation step of a photosensitive printing master with infrared laser light to form a mask. Exposure for imagewise abrasion of infrared sensitive layer
This method affects the surface of the photosensitive printing plate supporting the infrared-sensitive layer.
In general, an exposure amount of 1 J / cm 2 or more is required for the application, so that a high-output laser is required, so that the output device becomes expensive, and the laser drawing speed is low. It has the drawback of producing scattered debris due to abrasion.
【０００６】また特開平８−３０５００７号公報には、
アブレ−ション層に近接して、物質捕集シ−トを配置し
て屑を捕集するように改良しているが、依然アブレ−シ
ョン画像のレ−ザ−感度は充分でなく、高価な出力装置
を必要としている。加えて、これまでの版材は、有機溶
剤で現像する工程が普通だが、この方式では毒性、引火
性など人および環境への安全性に大きな問題があり、水
系現像、特に中性水現像性の印刷用原版が好ましい。[0006] Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-305007 discloses that
Although a material collecting sheet is arranged close to the abrasion layer to collect debris, the laser sensitivity of the ablation image is still insufficient and expensive. You need an output device. In addition, conventional plate materials are usually developed with an organic solvent.However, this method has serious problems in human and environmental safety such as toxicity and flammability. Are preferred.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、赤外線レ−ザ−により無現像で直接マスク像を形成
し、非赤外線の露光後は好ましくは水性現像によりフレ
キソ印刷版を作成できる感光性印刷用原版を提供するこ
とである。Accordingly, an object of the present invention is to form a mask image directly without development using an infrared laser, and to prepare a flexographic printing plate after exposure to non-infrared rays, preferably by aqueous development. An object of the present invention is to provide a photosensitive printing original plate.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決すべく、鋭意、研究、検討した結果、遂に本発明を完
成するに到った。すなわち本発明は、支持体の上に、
少なくとも（Ａ）エラストマ−性バインダ−、エチレン
性不飽和化合物および非赤外の活性光線に感光性を有す
る光重合開始剤を含有する光重合性層、（Ｂ）（Ｂ−
ａ）赤外線を熱に変換する物質を有する赤外線光熱変換
層および（Ｂ−ｂ）熱により非赤外の活性光線に実質的
に不透明となる感熱層を有するマスク形成層、および必
要により（Ｃ）カバ−フィルムの順序で積層されている
ことを特徴とする感光性印刷用原版、および前記記
載の感光性印刷用原版のカバ−フィルムを剥離し、赤外
線レ−ザ−光により像様露光して（Ｂ−ａ）層をマスク
とし、マスクを通して非赤外の活性光線に感光性原版を
全面露光した後、現像液により（Ｂ−ａ）層、（Ｂ−
ｂ）層、および非赤外の活性光線に露光されなかった光
重合性層（Ａ）の領域を除去することを特徴とする印刷
版の作成方法である。The present invention has been intensively studied, studied, and studied in order to solve the above-mentioned problems. As a result, the present invention has been finally completed. That is, the present invention, on a support,
(A) a photopolymerizable layer containing at least an elastomeric binder, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator having sensitivity to non-infrared actinic rays;
a) an infrared light-to-heat conversion layer having a substance that converts infrared light into heat, and (Bb) a mask forming layer having a heat-sensitive layer that is substantially opaque to non-infrared actinic rays due to heat, and if necessary, (C) The photosensitive printing original plate, which is laminated in the order of the cover film, and the cover film of the photosensitive printing original plate described above are peeled off, and imagewise exposed by infrared laser light. After using the layer (Ba) as a mask and exposing the photosensitive original plate entirely to a non-infrared actinic ray through the mask, the (Ba) layer, (B-
and b) removing the layer and the area of the photopolymerizable layer (A) that has not been exposed to the non-infrared actinic ray.
【０００９】本発明において使用される支持体は、フレ
キソ印刷版を製造するために用いられている感光性印刷
用原版に普通に使用されている材料のどれでもよい。例
えば、ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、スチ−ル
板、アルミニウム板などが挙げられる。光重合性層との
接着性を向上させるために、接着層を設けることもでき
る。The support used in the present invention may be any of the materials commonly used for photosensitive printing original plates used for producing flexographic printing plates. For example, polyethylene terephthalate film, steel plate, aluminum plate and the like can be mentioned. In order to improve the adhesiveness with the photopolymerizable layer, an adhesive layer may be provided.
【００１０】本発明における（Ａ）層である光重合性層
を形成する一成分であるエラストマ−性バインダ−は単
一のポリマ−かまたはポリマ−の混合物とすることがで
き、これは水性、半水性または有機溶剤の現像液に可
溶、膨潤または分散可能である必要がある。このような
ものの中に、汎用エラストマ−として用いられるものが
含まれる。例えば共役ジエン系炭化水素とモノオレフィ
ン系不飽和化合物を重合させて得られる共重合体、共役
ジエン系炭化水素を含まない重合体等が挙げられる。In the present invention, the elastomeric binder which is one component of the photopolymerizable layer which is the layer (A) can be a single polymer or a mixture of polymers. It must be soluble, swellable or dispersible in semi-aqueous or organic solvent developers. These include those used as general-purpose elastomers. For example, a copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon and a monoolefin-based unsaturated compound, a polymer containing no conjugated diene-based hydrocarbon, and the like can be mentioned.
【００１１】共役ジエン系炭化水素としては１，３−ブ
タジエン、イソプレン、クロロプレン等が使用される。
共役ジエン系炭化水素は、単独で用いてもよいし、２種
類以上混合使用してもよい。モノオレフィン系不飽和化
合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メ
チルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレ
ン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル等が使用される。As the conjugated diene hydrocarbon, 1,3-butadiene, isoprene, chloroprene and the like are used.
The conjugated diene-based hydrocarbon may be used alone or as a mixture of two or more. Monoolefinically unsaturated compounds include styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, acrylamide, methacrylamide, vinyl acetate , Acrylates, methacrylates and the like are used.
【００１２】共役ジエン系炭化水素を重合させて得られ
る重合体、または共役ジエン系炭化水素とモノレフィン
系不飽和化合物を重合させて得られる共重合体として
は、ブタジエン重合体、イソプレン重合体、クロロプレ
ン重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−
イソプレン共重合体、スチレン−クロロプレン共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロ
ニトリル−イソプレン共重合体、アクリロニトリル−ク
ロロプレン共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重
合体、メタクリル酸メチル−ブタジエン共重合体、メタ
クリル酸メチル−イソプレン共重合体、メタクリル酸メ
チル−クロロプレン共重合体、アクリル酸メチル−ブタ
ジエン共重合体、アクリル酸メチル−イソプレン共重合
体、アクリル酸メチル−クロロプレン共重合体、アクリ
ロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリロ
ニトリル−クロロプレン−スチレン共重合体、スチレン
−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−
イソプレン−スチレンブロック共重合体等が挙げられ
る。The polymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon or the copolymer obtained by polymerizing a conjugated diene-based hydrocarbon with a monoolefinic unsaturated compound is a butadiene polymer, an isoprene polymer, or a chloroprene polymer. Polymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-
Isoprene copolymer, styrene-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-isoprene copolymer, acrylonitrile-chloroprene copolymer, acrylonitrile-styrene copolymer, methyl methacrylate-butadiene copolymer, methacryl Methyl acrylate-isoprene copolymer, methyl methacrylate-chloroprene copolymer, methyl acrylate-butadiene copolymer, methyl acrylate-isoprene copolymer, methyl acrylate-chloroprene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer Polymer, acrylonitrile-chloroprene-styrene copolymer, styrene-butadiene-styrene block copolymer, styrene-
And isoprene-styrene block copolymer.
【００１３】共役ジエン系炭化水素を含まない重合体と
しては、塩素を特定量含有するエラストマ−及び非共役
ジエン系炭化水素重合体、ポリブテン、エチレンプロピ
レンゴム、ブチルゴム、スチレンブタジエンゴムあるい
はそのブロック共重合体を水素添加して得られるポリマ
−、アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを重
合して得られるアクリルゴム、あるいはアクリルゴムを
加水分解して得られるゴムおよびポリウレタン系エラス
トマ−などが挙げられる。Examples of the polymer containing no conjugated diene hydrocarbon include an elastomer containing a specific amount of chlorine and a non-conjugated diene hydrocarbon polymer, polybutene, ethylene propylene rubber, butyl rubber, styrene butadiene rubber or a block copolymer thereof. Examples include a polymer obtained by hydrogenating the coalesced polymer, an acrylic rubber obtained by polymerizing an acrylic ester or a methacrylic ester, a rubber obtained by hydrolyzing the acrylic rubber, and a polyurethane elastomer.
【００１４】また、アルカリ性水、酸性水、中性水等の
水現像性を発現させるために、親水性化合物またはアル
カリや酸の作用により親水性が向上する化合物を混合す
ることができる。これは、現像液に分散する分子量が５
００以上であるポリマ−、オリゴマ−および分子量が５
００未満である有機化合物であり、ポリマ−としては、
−ＣＯＯＭ基、−ＳＯ3 Ｍ基、ＰＯ3 Ｍ基、（Ｍは水素
原子、周期表第Ｉ、II、 III族元素、アミン、アンモニ
ウムを示す）、−ＮＨ2 基、−ＯＨ基などの親水基を有
し、かつ鎖状で架橋のないポリマ−が好ましい。具体的
には−ＣＯＯＭ基含有ポリウレタン、−ＣＯＯＭ基含有
ポリウレアウレタン、−ＣＯＯＭ基含有エポキシ化合
物、−ＣＯＯＭ基含有ポリアミド酸、−ＣＯＯＭ基含有
ポリエステル、−ＣＯＯＭ基含有アクリロニトリル−ブ
タジエンコポリマ−、−ＣＯＯＭ基含有スチレン−ブタ
ジエンコポリマ−、−ＣＯＯＭ基含有ポリブタジエン、
ポリアクリルアミド、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリ
ビニルアルコ−ル、カルボキシメチルセルロ−ス、ヒド
ロキシエチルセルロ−ス、メチルセルロ−ス、ポリエチ
レンオキサイド、ポリエチレンイミン、及び該化合物誘
導体等が挙げられる。In order to develop water developability such as alkaline water, acidic water and neutral water, a hydrophilic compound or a compound whose hydrophilicity is improved by the action of an alkali or an acid can be mixed. This is because the molecular weight dispersed in the developer is 5
Polymers and oligomers having a molecular weight of not less than 00 and a molecular weight of 5
The organic compound is less than 00, and as a polymer,
-COOM group, -SO 3 M group, PO 3 M group, (M represents a hydrogen atom, the periodic table I, II, III group element, amine, ammonium), - NH 2 group, hydrophilic such as -OH group Preference is given to polymers which have groups and are linear and non-crosslinked. Specifically, -COOM group-containing polyurethane, -COOM group-containing polyurea urethane, -COOM group-containing epoxy compound, -COOM group-containing polyamic acid, -COOM group-containing polyester, -COOM group-containing acrylonitrile-butadiene copolymer, -COOM group Containing styrene-butadiene copolymer, -COOM group-containing polybutadiene,
Examples thereof include polyacrylamide, sodium polyacrylate, polyvinyl alcohol, carboxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, methyl cellulose, polyethylene oxide, polyethylene imine, and derivatives of such compounds.
【００１５】次に（Ａ）層を形成する一成分であるエチ
レン性不飽和化合物は少なくとも１個の末端エチレン性
基を含有するものであり、この化合物は遊離ラジカル開
始された連鎖生長付加重合により高分子重合体を形成し
得るものである。適当なエチレン性不飽和化合物はポリ
オ−ル類の不飽和エステル、特にα−メチレンカルボン
酸とのかかるエステル類であり、例えばエチレングリコ
−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、グリセロ−ルジ（メタ）アクリ
レ−ト、１，３−プロパンジオ−ルジ（メタ）アクリレ
−ト、１，４−ブタンジオ−ルジ（メタ）アクリレ−
ト、１，２，４−ブタントリオ−ルトリ（メタ）アクリ
レ−ト、１，４−シクロヘキサンジオ−ルジ（メタ）ア
クリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジ（メタ）アク
リレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジ（メタ）アクリレ
−ト、トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−
ト、ジアリルフタレ−ト、フマル酸ジエチルエステル、
マレイン酸ジブチルエステルなどが挙げられ、またＮ−
メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミド、Ｎ−ラウリ
ルマレイミドなどのＮ置換マレイミド化合物、オリゴニ
トリル・ブタジエンジ（メタ）アクリレ−ト、オリゴニ
トリル・ウレタン（メタ）アクリレ−ト、オリゴウレタ
ンジ（メタ）アクリレ−ト、オリゴブタジエンジ（メ
タ）アクリレ−ト、オリゴブタジエン−ウレタンジ（メ
タ）アクリレ−ト、などのオリゴ（メタ）アクリレ−ト
が挙げられ、これらは単独でも組み合わせて用いてもよ
い。これらは組成物中、１〜５０重量％含有させるのが
好ましい。Next, the ethylenically unsaturated compound which is one of the components forming the layer (A) contains at least one terminal ethylenic group, and this compound is obtained by free radical-initiated chain growth addition polymerization. It can form a high-molecular polymer. Suitable ethylenically unsaturated compounds are unsaturated esters of polyols, especially such esters with α-methylene carboxylic acid, for example ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate. Glycerol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol (meth) acrylate, 1,4-butanediol (meth) acrylate
1,2,4-butanetriol tri (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9 -Nonandiol- (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate
, Diallyl phthalate, fumaric acid diethyl ester,
Maleic acid dibutyl ester;
N-substituted maleimide compounds such as methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-laurylmaleimide, oligonitrile / butadiene (meth) acrylate, oligonitrile / urethane (meth) acrylate, oligourethanedi (meth) acrylate And oligo (meth) acrylates such as oligobutadiene di (meth) acrylate and oligobutadiene-urethane di (meth) acrylate. These may be used alone or in combination. These are preferably contained in the composition at 1 to 50% by weight.
【００１６】また（Ａ）層における光重合開始剤として
は、例えばベンゾフェノン類、ベンゾイン類、アセトフ
ェノン類、ベンジル類、ベンゾインアルキルエ−テル
類、ベンジルアルキルケタ−ル類、アントラキノン類、
チオキサントン類等が挙げられる。具体的には、ベンゾ
フェノン、クロルベンゾフェノン、ベンゾイン、アセト
フェノン、ベンジル、ベンゾインメチルエ−テル、ベン
ゾインエチルエ−テル、ベンゾインイソプロピルエ−テ
ル、ベンゾインイソブチルエ−テル、ベンジルジメチル
ケタ−ル、ベンジルジエチルケタ−ル、ベンジルジイソ
プロピルケタ−ル、アントラキノン、２−クロルアント
ラキノン、チオキサントン、２−クロルチオキサントン
などがある。これらは組成物中、０．０１〜５重量％含
有ささせるのが好ましい。０．０１％より少ないと光重
合開始能に支障をきたし、５％より多いと、自ら遮光に
より硬化深度が得られなくなって、現像により画像が欠
け易くなるので好ましくない。さらに望ましくは０．１
〜３重量％である。The photopolymerization initiator in the layer (A) includes, for example, benzophenones, benzoins, acetophenones, benzyls, benzoin alkyl ethers, benzyl alkyl ketals, anthraquinones,
Thioxanthones and the like. Specifically, benzophenone, chlorobenzophenone, benzoin, acetophenone, benzyl, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyldimethylketal, benzyldiethylketel Benzyldiisopropylketal, anthraquinone, 2-chloroanthraquinone, thioxanthone and 2-chlorothioxanthone. These are preferably contained in the composition in an amount of 0.01 to 5% by weight. If it is less than 0.01%, the photopolymerization initiating ability is hindered, and if it is more than 5%, the curing depth cannot be obtained due to shading itself, and the image tends to be chipped by development. More preferably 0.1
３3% by weight.
【００１７】なお本発明において、光重合反応を抑制す
ることなく、単に熱重合のみを防止するために、前記組
成物以外に、熱重合禁止剤を０．００１〜５重量％含有
させてもよい。有用な熱重合禁止剤としては例えば、ハ
イドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエ−テル、カ
テコ−ル、ｐ−ｔ−ブチルカテコ−ル、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾ−ル等が挙げられる。In the present invention, a thermal polymerization inhibitor may be contained in an amount of 0.001 to 5% by weight, in addition to the above composition, in order to simply prevent thermal polymerization without suppressing the photopolymerization reaction. . Useful thermal polymerization inhibitors include, for example, hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, catechol, pt-butyl catechol, 2,6-di-t
-Butyl-p-cresol and the like.
【００１８】次に、本発明における（Ｂ）層であるマス
ク形成層は、少なくとも（Ｂ−ａ）赤外線を熱に変換す
る物質を有する赤外線光熱変換層および（Ｂ−ｂ）熱に
より非赤外の活性光線に実質的に不透明となる感熱層を
有するものであり、どちらの層が上になっても、下にな
ってもよい。（Ｂ−ａ）層は、赤外線を熱に変換する物
質を有する赤外線光熱変換層であり、少なくとも１つの
赤外線を熱に変換する物質が含有されている。該物質の
具体例としては、カ−ボンブラック、赤外線を吸収する
染料もしくは、顔料、金属などがある。これらは赤外
線、特に７５０〜２０，０００ｎｍの領域に強い吸収極
大を持ち、加えて非赤外の活性光線の領域の吸収が小さ
いことが望ましい。適当な染料、顔料の例にはシアニン
色素、スクワリリウム色素、メチン系色素、ナフトキノ
ン系色素、キノンイミン系色素、キノンジイミン系色
素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチ
オ−ル金属錯体色素、アミニウム系色素、アントラキノ
ン系色素等が挙げられる。金属としては、クロム、ゲル
マニウム、白金、ニッケル、チタン、ケイ素、アルミニ
ウム、ニクロム等が挙げられる。Next, the mask forming layer, which is the layer (B) in the present invention, comprises at least (Ba) an infrared light-to-heat conversion layer having a substance that converts infrared light into heat, and (Bb) non-infrared light due to heat. Has a heat-sensitive layer that is substantially opaque to actinic rays, and either layer may be on or below. The (Ba) layer is an infrared light-to-heat conversion layer having a substance that converts infrared rays into heat, and contains at least one substance that converts infrared rays into heat. Specific examples of the substance include carbon black, a dye or pigment absorbing infrared rays, and metals. They preferably have a strong absorption maximum in the infrared region, particularly in the region of 750 to 20,000 nm, and have a small absorption in the non-infrared active light region. Examples of suitable dyes and pigments include cyanine dyes, squarylium dyes, methine dyes, naphthoquinone dyes, quinone imine dyes, quinone diimine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes. And the like. Examples of the metal include chromium, germanium, platinum, nickel, titanium, silicon, aluminum, nichrome and the like.
【００１９】（Ｂ−ｂ）層は、熱により非赤外の活性光
線に実質的に不透明となる感熱層であり、特に限定され
るものではないが、例えば物質の接触に基づく発色反応
を生じる成分を含有させることができる。具体的には光
分解性ジアゾ化合物とカプラ−の組合せ、ロイコ色素と
顕色剤の組合せ、または有機金属塩と還元剤の組合せ等
が挙げられる。The (Bb) layer is a heat-sensitive layer that becomes substantially opaque to non-infrared actinic rays by heat, and is not particularly limited, but, for example, causes a color-forming reaction based on contact of a substance. Components can be included. Specific examples include a combination of a photodegradable diazo compound and a coupler, a combination of a leuco dye and a developer, or a combination of an organic metal salt and a reducing agent.
【００２０】このロイコ色素としては、それ自体は非赤
外活性光線に実質的に透明であるが、ビスフェノ−ルＡ
などの電子受容性物質と接触させることにより発色する
結果、非赤外活性光線に実質的に不透明になる性質を有
しており、例えば、次のようなものが用いられる。 （１）トリフェニルメタン系のロイコ体：３，３−ビス
（ｐ−ジメチルアミノフェニル）フタリド、３，３−ビ
ス（ｐ−ジメチルアミノフェニル）−６−ジメチルアミ
ノフタリド、３，３−ビス（ｐ−ジメチルアミノフェニ
ル）−６−ジエチルアミノフタリド、４−ヒドロキシ−
４’−ジメチルアミドトリフェニルラクトン、４，４’
−ビスジヒドロキシ−３，３−ビスジアミノトリフェニ
ルメタンラクトン等。 （２）フルオラン系のロイコ体：３−ジメチルアミノ−
６−メトキシフルオラン、３，６−ビス−ベ−タ−メト
キシエトキシフルオラン、３，−ジエチルアミノ−６−
メチル−７−クロルフルオラン、３，７−ビスジエチル
アミノフルオラン、３−ジエチルアミノ−７−メトキシ
フルオラン、３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−ア
ニリノフルオラン等。 （３）スピロピラン系のロイコ体：３−フェニル−８’
−メトキシベンゾインドリノスピロピラン、８’−メト
キシベンゾインドリノスピロピラン、４，７，８’−ト
リメトキシベンゾインドリノスピロピラン等。 （４）オ−ラミン系のロイコ体：４，４’−ビスジメチ
ルアミノ−３，４−クロルフェニルオ−ラミン、４，
４’−ビスジメチルアミノピペラジンハイドロ−ル等。 （５）フェノチアジン系のロイコ体：ｐ−メトキシベン
ゾイルロイコメチレンブル−等。 以上の各種のものが使用されるが、赤外線レ−ザ−や非
赤外活性光線領域に応じて選択することができる。ま
た、２種以上混合して使用してもよい。また、マイクロ
カプセル化して、加熱時にマイクロカプセルを破壊し
て、顕色剤と反応させることもできる。The leuco dye itself is substantially transparent to non-infrared actinic rays, but bisphenol A
As a result of being colored by being brought into contact with an electron accepting substance such as, for example, it has the property of being substantially opaque to non-infrared actinic rays. For example, the following are used. (1) Triphenylmethane leuco: 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) phthalide, 3,3-bis (p-dimethylaminophenyl) -6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis (P-dimethylaminophenyl) -6-diethylaminophthalide, 4-hydroxy-
4'-dimethylamidotriphenyllactone, 4,4 '
-Bisdihydroxy-3,3-bisdiaminotriphenylmethanelactone and the like. (2) Fluoran leuco: 3-dimethylamino-
6-methoxyfluoran, 3,6-bis-beta-methoxyethoxyfluoran, 3, -diethylamino-6-
Methyl-7-chlorofluorane, 3,7-bisdiethylaminofluoran, 3-diethylamino-7-methoxyfluoran, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran and the like. (3) Spiropyran leuco: 3-phenyl-8 '
-Methoxybenzoindolinospiropyran, 8'-methoxybenzoindolinospiropyran, 4,7,8'-trimethoxybenzoindolinospiropyran and the like. (4) Olamine-based leuco: 4,4′-bisdimethylamino-3,4-chlorophenylolamine, 4,
4'-bisdimethylaminopiperazine hydrol and the like. (5) Phenothiazine leuco: p-methoxybenzoylleucomethylene bleu and the like. Although the above various types are used, they can be selected according to the infrared laser or the non-infrared active ray region. Further, two or more kinds may be used in combination. In addition, it can be microencapsulated, and the microcapsules can be broken at the time of heating to react with the developer.
【００２１】顕色剤は一般に室温において固体であり加
熱時ロイコ色素と反応しうるものであり、例えばカテコ
−ル、レゾルシン、ハイドロキノン、α−ナフト−ル、
β−ナフト−ル、３，５−キシレノ−ル、チモ−ル、ピ
ロガロ−ル、フロログルシン、フロログルシンカルボン
酸、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル、４−フェニルフ
ェノ−ル、４−ヒドロキシジフェノキシド、４−ヒドロ
キシアセトフェノン、メチル−４−メチルベンゾエ−
ト、４−ｔｅｒｔ−オクチルカテコ−ル、４，４’−ｓ
ｅｃ−ブチリデンジフェノ−ル、２，２’−ジヒドロキ
シジフェノ−ル、４，４’−イソプロピリデンジフェノ
−ル（ビスフェノ−ルＡ）、２，２’−メチレンビス
（４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノ−ル、４−
４’−シクロヘキシリデンフェノ−ル、４，４’−イソ
プロピリデンビス（２−クロロフェノ−ル）、フェノ−
ルホルムアルデヒド、ノボラック型フェノ−ル樹脂、ハ
ロゲン化ノボラック型フェノ−ル樹脂などのフェノ−ル
性化合物あるいは長鎖アルキルリン酸化合物、またはス
テアリン酸、安息香酸、没食子酸、サリチル酸等のよう
な５０℃以上で液化又は気化する性質をもつ無色の有機
酸あるいはその金属塩であり、単独で用いても、２種以
上混合してもよい。また、顕色剤はマイクロカプセル化
して、加熱時にマイクロカプセルを破壊してロイコ色素
と反応させることもできる。The developer is generally a solid at room temperature and can react with the leuco dye upon heating. For example, catechol, resorcin, hydroquinone, α-naphthol,
β-naphthol, 3,5-xylenol, thymol, pyrogallol, phloroglucin, phloroglucin carboxylic acid, 4-tert-butylphenol, 4-phenylphenol, 4-hydroxydiphenoxide , 4-hydroxyacetophenone, methyl-4-methylbenzoe-
G, 4-tert-octylcatechol, 4,4'-s
ec-butylidene diphenol, 2,2'-dihydroxydiphenol, 4,4'-isopropylidene diphenol (bisphenol A), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6 tert-butylphenol, 4-
4'-cyclohexylidenephenol, 4,4'-isopropylidenebis (2-chlorophenol), phenol-
Phenolic compounds such as formaldehyde, novolak-type phenolic resins, halogenated novolak-type phenolic resins or long-chain alkyl phosphate compounds, or 50 ° C. such as stearic acid, benzoic acid, gallic acid, salicylic acid, etc. A colorless organic acid or a metal salt thereof having the property of liquefaction or vaporization as described above, and may be used alone or in combination of two or more. Further, the developer can be microencapsulated, and the microcapsules can be broken at the time of heating to react with the leuco dye.
【００２２】このロイコ色素および顕色剤の（Ｂ−ｂ）
感熱層に対する含有量は発色後の感熱層の非赤外活性光
線の領域における光学濃度が少なくとも２．０以上にな
るよう含有させることが必要である。(Bb) of the leuco dye and the developer
The content in the heat-sensitive layer must be such that the optical density in the non-infrared active light region of the heat-sensitive layer after color development is at least 2.0 or more.
【００２３】本発明において、（Ｃ）層であるカバ−フ
ィルムを用いる場合、（Ｂ）層のマスク形成層には粘着
防止の機能も付与することが好ましい。そのため（Ｂ−
ａ）層または（Ｂ−ｂ）層のバインダ−としてポリビニ
ルアルコ−ル等の水溶性ポリマ−やポリアミド等が好ま
しい。なお（Ｂ）層が粘着防止の機能を持たない場合
は、（Ｂ）層と（Ｃ）層との間にさらに粘着防止層を設
けてもよい。In the present invention, when a cover film as the layer (C) is used, it is preferable that the mask forming layer of the layer (B) also has an anti-adhesion function. Therefore (B-
As the binder for the layer a) or the layer (Bb), a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol or polyamide is preferable. When the (B) layer does not have an anti-adhesion function, an anti-adhesion layer may be further provided between the (B) layer and the (C) layer.
【００２４】本発明方法に用いられる赤外線レ−ザ−に
は、例えばＮｄ／ＹＡＧレ−ザ−、ＡｌＧａＡｓ、Ｇａ
ＩｎＡｓＰ、（ＡｌＧａ）ＩｎＡｓ、ＰｂＣｄＳ、Ｐｂ
Ｓｅ、ＰｂＳｎＳｅ、ＰｂＳｎＴｅ系などの半導体レ−
ザ−、Ｎ2 レ−ザ−、ＣＯ2レ−ザ−などの気体レ−ザ
−等が挙げられる。The infrared laser used in the method of the present invention includes, for example, Nd / YAG laser, AlGaAs, Ga
InAsP, (AlGa) InAs, PbCdS, Pb
Semiconductor lasers such as Se, PbSnSe and PbSnTe
Gas lasers such as lasers, N 2 lasers and CO 2 lasers.
【００２５】非赤外の活性光線としては１５０〜６００
ｎｍの波長、特に３００〜４００ｎｍの波長領域のもの
が好ましく、使用される光源としては例えば、低圧水銀
灯、高圧水銀灯、カ−ボンア−ク灯、紫外線蛍光灯、ケ
ミカルランプ、キセノンランプ、ジルコニウムランプ等
が挙げられる。As the non-infrared actinic ray, 150 to 600
Light having a wavelength of 300 nm to 400 nm is particularly preferable. Examples of the light source used include a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an ultraviolet fluorescent lamp, a chemical lamp, a xenon lamp, and a zirconium lamp. Is mentioned.
【００２６】[0026]
【実施例】以下実施例を用いて本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお
実施例中、部とあるのは重量部を意味する。なおマスク
形成層におけるレーザー感度は以下の方法により測定し
た。レ−ザ−感度の測定法：波長８１０ｎｍ、出力２０
０ｍＷ、ビ−ム径２５μｍの半導体レ−ザ−を備えた外
面ドラム型走査出力装置にレ−ザ−感熱性シ−トをセッ
トし、ドラム回転速度を変えることで露光量を変えなが
ら走査露光させた。試料の露光部の光学濃度を透過濃度
計（ＤＭ−５２０ 大日本スクリ−ン製造（株）社製）
で測定し、２．０となる露光量（ｍＪ／ｃｍ2 ）を感度
とした。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the present invention is limited thereto. In the examples, “parts” means “parts by weight”. The laser sensitivity in the mask forming layer was measured by the following method. Measurement method of laser sensitivity: wavelength 810 nm, output 20
A laser heat-sensitive sheet is set on an external drum type scanning output device equipped with a semiconductor laser of 0 mW and a beam diameter of 25 μm, and scanning exposure is performed while changing the exposure amount by changing the drum rotation speed. I let it. Determine the optical density of the exposed part of the sample using a transmission densitometer (DM-520, Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.)
The sensitivity was defined as the exposure amount (mJ / cm 2 ) that was 2.0.
【００２７】参考例１ （親水性化合物の合成例）ポリテトラメチレングリコ−
ル２９．０部（保土谷化学（株）製 Ｇ−８５０）、ジ
メチロ−ルプロピオン酸（藤井義通商）６２．０部、ヘ
キサメチレンジイソシアナ−ト（日本ポリウレタン
（株）製）、及びジラウリン酸−ｎ−ブチルスズ５．０
部をテトラヒドロフラン３００．０部に溶解した溶液を
攪拌機の付いた１リットルフラスコに入れ、攪拌を続け
ながら６５℃に加熱し、３時間反応を続けた。さらにヒ
ドロキシエチルメタクリレ−ト２６．０部を加え６５℃
に加熱しながら２時間反応を続けた。別の容器で末端ア
ミノ酸基含有アクリル・ブタジエンオリゴマ−（Ｈｙｃ
ａｒ ＡＴＢＮ １３００ ×１６ 宇部興産）、１８
４．０部をテトラヒドロフラン２７０．０部に溶解して
調製した溶液を上記の１リットルフラスコ内に室温下で
攪拌しながら添加した。得られたポリマ−溶液を減圧乾
燥してテトラヒドロフランを除去した。得られたポリマ
−は、還元粘度０．２２、重量平均分子量３００２６、
Ｍｗ／Ｍｎ＝４．４８、酸価６３．９ｍｇＫＯＨ だっ
た。次に該ポリマ−１００部を２−ブタノン１００部に
溶解した溶液に、水酸化リチウム２．４部、酢酸マグネ
シウム５．３部をイオン交換水１００部に溶解した水溶
液を室温下で攪拌しながら添加し、さらに３０分間攪拌
することによって親水性ポリマ−を得た。Reference Example 1 (Synthesis example of hydrophilic compound) Polytetramethylene glyco-
29.0 parts (G-850, manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), 62.0 parts of dimethylolpropionic acid (Yoshitsuka Fujii), hexamethylene diisocyanate (manufactured by Nippon Polyurethane Co., Ltd.), and N-butyltin dilaurate 5.0
A solution in which 30 parts of tetrahydrofuran was dissolved was placed in a 1-liter flask equipped with a stirrer, heated to 65 ° C. while stirring, and the reaction was continued for 3 hours. Further, 26.0 parts of hydroxyethyl methacrylate was added, and
The reaction was continued for 2 hours while heating. Acrylic butadiene oligomer containing terminal amino acid group (Hyc
ar ATBN 1300 x 16 Ube Industries, 18
A solution prepared by dissolving 4.0 parts in 270.0 parts of tetrahydrofuran was added to the above one-liter flask with stirring at room temperature. The obtained polymer solution was dried under reduced pressure to remove tetrahydrofuran. The obtained polymer had a reduced viscosity of 0.22, a weight average molecular weight of 30026,
Mw / Mn = 4.48, acid value 63.9 mgKOH. Next, an aqueous solution in which 2.4 parts of lithium hydroxide and 5.3 parts of magnesium acetate are dissolved in 100 parts of ion-exchanged water is added to a solution of 100 parts of the polymer dissolved in 100 parts of 2-butanone while stirring at room temperature. The mixture was added and stirred for 30 minutes to obtain a hydrophilic polymer.
【００２８】参考例２ （光重合性組成物の合成）上記親水性ポリマ−１２部、
ゴム弾性を有する重合体として、塩素化ポリエチレン
（エラスレン ３５２ＦＡ 昭和電工（株）製）４６
部、スチレン・ブタジエンゴム（ＳＢＲ １５０７ 日
本合成ゴム（株）製）１４部、ブタジエンオリゴアクリ
レ−ト（ＡＢＵ 共栄社化学（株）製）、ベンジルジメ
ルケタ−ル（イルガキュア６５１、チバガイギ−（株）
製）１部、ヒドロキノンモノメチルエ−テル０．１部、
２，６−ジｔ−ブチルｐ−クレゾ−ル０．０５部、トル
エン４０部および水１０部をバンバリ−翼を装備した加
圧ニ−ダ−により、温度７０℃、百万ｄｙｎ／ｃｍ2 の
剪断応力をかけて分散混練して後、濃縮を行い樹脂粒子
を有する光重合性組成物を得た。Reference Example 2 (Synthesis of photopolymerizable composition) 12 parts of the above hydrophilic polymer,
Chlorinated polyethylene (Eraslen 352FA, manufactured by Showa Denko KK) as a polymer having rubber elasticity 46
Parts, styrene-butadiene rubber (SBR 1507 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.), 14 parts, butadiene oligoacrylate (ABU manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), benzyl dimer ketal (Irgacure 651, Ciba-Geigy Co., Ltd.) )
1 part), hydroquinone monomethyl ether 0.1 part,
0.05 parts of 2,6-di-tert-butyl p-cresol, 40 parts of toluene and 10 parts of water were subjected to a pressure kneader equipped with Banbury blades at a temperature of 70 ° C. and a million dyn / cm 2. After applying the shearing stress, the mixture was dispersed and kneaded, and then concentrated to obtain a photopolymerizable composition having resin particles.
【００２９】参考例３ （Ｂ−ｂ）層である非銀塩系感熱性シ−トの作成 下記組成物をアトライタ−で粒径０．３μｍまで粉砕・
分散し感熱層コ−ト液を作った。 ３−ジエチルアミノ−６−メチル−７−アニリノフルオラン ４部 ビスフェノールＡ ６部 ポリビニルアルコ−ル ５部 （ゴ−セノ−ル ＡＨ−２６ 日本合成化学工業（株）製） １，３−プロパンジオール ５部 界面活性剤 ０．０１部 （エパン７４０ 第一工業製薬（株）製） 可塑剤 ２部 （サンフレックス ＳＥ−２７０ 三洋化成工業（株）製） イオン交換水 １２０部 以上のようにして調製したコ−ト液を厚さ１２５μｍの
ポリエステルフィルム上にワイヤ−バ−でコ−ト後乾燥
して厚さ３ｇ／ｍ2 の感熱性シ−トを得た。Reference Example 3 Preparation of Non-Silver Salt-Based Heat-Sensitive Sheet as (Bb) Layer The following composition was pulverized with an attritor to a particle size of 0.3 μm.
This was dispersed to prepare a heat-sensitive layer coating solution. 3-Diethylamino-6-methyl-7-anilinofluoran 4 parts Bisphenol A 6 parts Polyvinyl alcohol 5 parts (Gothenol AH-26 Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 1,3-propanediol 5 parts Surfactant 0.01 part (Epan 740 Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) Plasticizer 2 parts (Sanflex SE-270 Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.) Ion exchange water 120 parts Prepared as above The coated solution was coated on a polyester film having a thickness of 125 μm with a wire bar and dried to obtain a heat-sensitive sheet having a thickness of 3 g / m 2 .
【００３０】参考例４ （Ｂ）層であるマスク形成層の作成 参考例３で得られた感熱性シ−ト（Ｂ−ｂ）層の上に、
下記処方１〜３の組成の溶液または分散液をワイヤ−バ
−でコ−ト後、乾燥して厚さ２ｇ／ｍ2 の光熱変換層
（Ｂ−ａ）層をそれぞれ積層し、マスク形成層１〜３を
作成した。 処方１ シアニン系色素 ４部 （Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−１７ 日本化薬（株）製） ポリビニルアルコ−ル ４０部 （ゴ−セノ−ル ＡＨ−２６ 日本合成化学工業（株）製） １，３−プロパンジオ−ル ４０部 界面活性剤 ０．１部 （エパン ７４０ 第一工業製薬（株）製） 可塑剤 １６部 （サンフレックス ＳＥ−２７０ 三洋化成工業（株）製） イオン交換水 １０００部 でき上がったシ−トを、以後マスク形成層１と呼ぶこととする。REFERENCE EXAMPLE 4 Preparation of Mask Forming Layer as Layer (B) On the heat-sensitive sheet (Bb) layer obtained in Reference Example 3,
A solution or dispersion having the composition of the following formulas 1 to 3 is coated with a wire bar, dried, and a light-to-heat conversion layer (Ba) layer having a thickness of 2 g / m 2 is laminated, and a mask forming layer is formed. 1 to 3 were prepared. Formulation 1 Cyanine dye 4 parts (Kayasorb CY-17 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Polyvinyl alcohol 40 parts (gosenol AH-26 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 1,3-propanegio -40 parts of surfactant 0.1 part of surfactant (Epan 740 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) 16 parts of plasticizer (Sunflex SE-270 manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.) 1000 parts of ion-exchanged water This is hereinafter referred to as a mask forming layer 1.
【００３１】 処方２ ポリメチン系色素 ２部 （Ｋａｙａｓｏｒｂ ＩＲＧ−８２０Ｂ 日本化薬（株）製） ポリビニルアルコ−ル ４０部 （ゴ−セノ−ル ＡＨ−２６ 日本合成化学工業（株）製） １，３−プロパンジオ−ル ４０部 界面活性剤 ０．１部 （エパン ７４０ 第一工業製薬（株）製） 可塑剤 １６部 （サンフレックス ＳＥ−２７０ 三洋化成工業（株）製） イオン交換水 １０００部 でき上がったシ−トを、以後マスク形成層２と呼ぶこととする。Formulation 2 Polymethine dye 2 parts (Kayasorb IRG-820B manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Polyvinyl alcohol 40 parts (go-senol AH-26 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) 1,3 -Propanediol 40 parts Surfactant 0.1 part (Epan 740 manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) Plasticizer 16 parts (Sanflex SE-270 manufactured by Sanyo Chemical Industry Co., Ltd.) Ion exchange water 1000 parts Finished The sheet thus formed is hereinafter referred to as a mask forming layer 2.
【００３２】 処方３ シアニン系色素 ４部 （Ｋａｙａｓｏｒｂ ＣＹ−１７ 日本化薬（株）製） 水溶性ナイロン ４０部 （トレジン ＦＳ−３６０Ｋ 帝国化学工業（株）製） イオン交換水 ３６０部 でき上がったシ−トを、以後マスク形成層３と呼ぶこととする。Formulation 3 Cyanine dye 4 parts (Kayasorb CY-17 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) Water-soluble nylon 40 parts (Toresin FS-360K manufactured by Teikoku Chemical Industry Co., Ltd.) Ion-exchanged water 360 parts This is hereinafter referred to as a mask forming layer 3.
【００３３】参考例５ 参考例４において、先に（Ｂ−ａ）層を形成し、その上
にそれぞれ（Ｂ−ｂ）層を形成した以外は全て参考例４
と同様にして、マスク形成層４、５、６を作成した。REFERENCE EXAMPLE 5 In Reference Example 4, all the steps were the same as in Reference Example 4 except that the (Ba) layer was formed first, and the (Bb) layer was formed thereon.
Similarly, the mask forming layers 4, 5, and 6 were formed.
【００３４】実施例１ 感光性樹脂組成物をヒ−トプレス機で７０℃、１５０ｋ
ｇ／ｃｍ2 の圧力で、ポリエステル系接着剤をコ−トし
た１２５μｍ厚みのポリエステルフィルムと、マスク形
成層１で、各々コ−ト面と感光性樹脂組成物とが接する
よう１分間加圧して厚さ２．８ｍｍの感光性印刷用原版
を作成した。マスク形成層１上のポリエステルフィルム
を剥離した後これに波長８１０ｎｍ出力２００ｍＷの半
導体レ−ザ−を備えた外面ドラム型走査出力装置を用い
て像様露光したところ、レ−ザ−照射面の感熱層が黒色
に変色しマスク像を形成した。感度は２７０ｍＪ／ｃｍ
2であった。続いて、感熱層側から水銀灯（大日本スク
リ−ン社製）で照度２５Ｗ／ｍ2 で、５分間一様露光を
行なった。その後、アルキルナフタレンスルホン酸ソ−
ダ２重量％を含有する中性水で４０℃１５分間、ブラシ
による現像を行なったところ、レリ−フの深度１．２ｍ
ｍの画像パタ−ンが得られた。この画像パタ−ンはレ−
ザ−像様露光の原稿面を忠実に再現していた。また得ら
れたレリ−フは、インキの受理転移性もよく、鮮明な画
像を示していた。Example 1 A photosensitive resin composition was heated at 70 ° C. and 150 k
At a pressure of g / cm 2 , a polyester film having a thickness of 125 μm coated with a polyester-based adhesive and the mask forming layer 1 were pressed for 1 minute so that the coating surface and the photosensitive resin composition were in contact with each other. A photosensitive printing original plate having a thickness of 2.8 mm was prepared. After the polyester film on the mask forming layer 1 was peeled off, it was imagewise exposed using an external drum type scanning output device equipped with a semiconductor laser having a wavelength of 810 nm and an output of 200 mW. The layer turned black and formed a mask image. Sensitivity is 270mJ / cm
Was 2 . Subsequently, uniform exposure was performed for 5 minutes with an illuminance of 25 W / m 2 using a mercury lamp (manufactured by Dainippon Screen) from the heat-sensitive layer side. Thereafter, the alkyl naphthalene sulfonic acid so-
After developing with a brush for 15 minutes at 40 ° C. in neutral water containing 2% by weight of the dye, the depth of the relief was 1.2 m.
m image patterns were obtained. This image pattern is
The original surface of the imagewise exposure was faithfully reproduced. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００３５】実施例２ 実施例１のマスク形成層１の代わりにマスク形成層２を
用いた以外は全て実施例１と同様にし（感度は３２０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 であった）て画像パタ−ンを得たところ、こ
の画像パタ−ンはレ−ザ−像様露光の原稿面を忠実に再
現していた。また得られたレリ−フは、インキの受理転
移性もよく、鮮明な画像を示していた。Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the mask forming layer 1 was replaced with the mask forming layer 2 (sensitivity was 320 m).
J / cm 2 ) to obtain an image pattern. This image pattern faithfully reproduced the original surface of the laser imagewise exposure. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００３６】実施例３ 実施例１のマスク形成層１の代わりにマスク形成層３を
用いた以外は全て実施例１と同様にし（感度は３００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 であった）て画像パタ−ンを得たところ、こ
の画像パタ−ンはレ−ザ−像様露光の原稿面を忠実に再
現していた。また得られたレリ−フは、インキの受理転
移性もよく、鮮明な画像を示していた。Example 3 The procedure was the same as in Example 1 except that the mask forming layer 3 was used instead of the mask forming layer 1 of Example 1 (the sensitivity was 300 m).
J / cm 2 ) to obtain an image pattern. This image pattern faithfully reproduced the original surface of the laser imagewise exposure. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００３７】実施例４ 実施例１のマスク形成層１の代わりにマスク形成層４を
用いた以外は全て実施例１と同様にし（感度は３２０ｍ
Ｊ／ｃｍ2 であった）て画像パタ−ンを得たところ、こ
の画像パタ−ンはレ−ザ−像様露光の原稿面を忠実に再
現していた。また得られたレリ−フは、インキの受理転
移性もよく、鮮明な画像を示していた。Example 4 The procedure was the same as in Example 1 except that the mask forming layer 1 was used instead of the mask forming layer 1 (the sensitivity was 320 m).
J / cm 2 ) to obtain an image pattern. This image pattern faithfully reproduced the original surface of the laser imagewise exposure. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００３８】実施例５ 実施例１のマスク形成層１の代わりにマスク形成層５を
用いた以外は全て実施例１と同様にし（感度は３００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 であった）て画像パタ−ンを得たところ、こ
の画像パタ−ンはレ−ザ−像様露光の原稿面を忠実に再
現していた。また得られたレリ−フは、インキの受理転
移性もよく、鮮明な画像を示していた。Example 5 The procedure of Example 1 was repeated except that the mask forming layer 1 was replaced with the mask forming layer 5 (the sensitivity was 300 m).
J / cm 2 ) to obtain an image pattern. This image pattern faithfully reproduced the original surface of the laser imagewise exposure. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００３９】実施例６ 実施例１のマスク形成層１の代わりにマスク形成層６を
用いた以外は全て実施例１と同様にし（感度は３００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 であった）て画像パタ−ンを得たところ、こ
の画像パタ−ンはレ−ザ−像様露光の原稿面を忠実に再
現していた。また得られたレリ−フは、インキの受理転
移性もよく、鮮明な画像を示していた。Example 6 The procedure of Example 1 was repeated except that the mask forming layer 1 was replaced with the mask forming layer 6 (the sensitivity was 300 m).
J / cm 2 ) to obtain an image pattern. This image pattern faithfully reproduced the original surface of the laser imagewise exposure. The obtained relief had good transferability of the ink and showed a clear image.
【００４０】比較例１ 実施例１のマスク形成層１の代わりに（Ｂ−ａ）層であ
る光熱変換層を積層する前の（Ｂ−ｂ）層の感熱性シ−
トのみを用いた以外は全て実施例１と同様にして画像パ
タ−ンを得ようとしたが、（Ｂ−ｂ）感熱層が発色せ
ず、画像パタ−ンは得られなかった。COMPARATIVE EXAMPLE 1 Instead of the mask forming layer 1 of Example 1, the heat-sensitive seal of the (Bb) layer before the lamination of the (Ba) layer as the light-to-heat conversion layer was performed.
(Bb) The heat-sensitive layer did not develop color, and no image pattern was obtained.
【００４１】比較例２ 実施例１のマスク形成層１の代わりに１２５μｍポリエ
ステルフィルムに処方１の（Ｂ−ａ）光熱変換層のみを
積層したシ−トを用いた以外は全て実施例１と同様にし
て画像パタ−ンを得ようとしたが、マスク像が得られ
ず、画像パタ−ンは得られなかった。Comparative Example 2 The same as Example 1 except that the sheet in which only the (Ba) light-to-heat conversion layer of Formulation 1 was laminated on a 125 μm polyester film instead of the mask forming layer 1 of Example 1 was used. However, a mask image was not obtained, and no image pattern was obtained.
【００４２】[0042]
【発明の効果】以上かかる構成よりなる本発明によれ
ば、コンタクトフィルムの使用なしに、コンピュ−タ−
で作成した画像デ−タなどを赤外レ−ザ−を用いて直接
露光することができ、かつ従来と同じフレキソ印刷版を
得ることができる。そのため、コンタクトフィルム使用
での問題点である時間、労力、コストの削減ができるの
で、産業界に寄与すること大である。According to the present invention having the above-described structure, a computer can be used without using a contact film.
Can be directly exposed using an infrared laser and the same flexographic printing plate as in the prior art can be obtained. Therefore, time, labor, and cost, which are problems in using a contact film, can be reduced, which greatly contributes to the industry.
Claims (5)
マ−性バインダ−、エチレン性不飽和化合物および非赤
外の活性光線に感光性を有する光重合開始剤を含有する
光重合性層、（Ｂ）少なくとも（Ｂ−ａ）赤外線を熱に
変換する物質を有する赤外線光熱変換層および（Ｂ−
ｂ）熱により非赤外の活性光線に実質的に不透明となる
感熱層を有するマスク形成層、および必要により（Ｃ）
カバ−フィルムの順序で積層されていることを特徴とす
る感光性印刷用原版。1. A photopolymerizable layer comprising at least (A) an elastomeric binder, an ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator having sensitivity to non-infrared actinic light, on a support. (B) an infrared light-to-heat conversion layer having at least (Ba) a substance that converts infrared light into heat, and (B-
b) a mask-forming layer having a heat-sensitive layer that becomes substantially opaque to non-infrared actinic rays by heat, and optionally (C)
An original plate for photosensitive printing, characterized by being laminated in the order of a cover film.
−ａ）層、（Ｂ−ｂ）層および必要により（Ｃ）層の順
序で積層されている請求項１記載の感光性印刷用原版。2. The method according to claim 1, wherein at least a layer (A) and a layer (B)
2. The original plate for photosensitive printing according to claim 1, wherein the layers are laminated in the order of -a) layer, (Bb) layer and (C) layer as required.
−ｂ）層、（Ｂ−ａ）層、および必要により（Ｃ）層の
順序で積層されている請求項１記載の感光性印刷用原
版。3. The method according to claim 1, wherein at least a layer (A) and a layer (B)
2. The photosensitive printing plate precursor according to claim 1, wherein the layer is laminated in the order of -b) layer, (Ba) layer and (C) layer as required.
項１記載の感光性印刷用原版。4. The photosensitive printing original plate according to claim 1, wherein (A) the photopolymerizable layer is water-based developable.
フィルムを剥離し、赤外線レ−ザ−光により像様露光し
て（Ｂ−ｂ）層をマスクとし、マスクを通して非赤外の
活性光線に感光性原版を全面露光した後、現像液により
（Ｂ−ａ）層、（Ｂ−ｂ）層、および非赤外の活性光線
に露光されなかった光重合性層（Ａ）の領域を除去する
ことを特徴とする印刷版の作成方法。5. The cover of the photosensitive printing plate precursor according to claim 1.
The film is peeled off, imagewise exposed to infrared laser light, the layer (Bb) is used as a mask, and the entire photosensitive original is exposed to a non-infrared actinic ray through the mask. -A method for preparing a printing plate, characterized by removing the layer (a), the layer (Bb), and the area of the photopolymerizable layer (A) that has not been exposed to non-infrared actinic rays.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15621798A JPH11352670A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive original printing plate and formation of printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15621798A JPH11352670A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive original printing plate and formation of printing plate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11352670A true JPH11352670A (en) | 1999-12-24 |
Family
ID=15622927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15621798A Pending JPH11352670A (en) | 1998-06-04 | 1998-06-04 | Photosensitive original printing plate and formation of printing plate |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11352670A (en) |
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-
1998
- 1998-06-04 JP JP15621798A patent/JPH11352670A/en active Pending
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