JPH11349539A - ４−ニトロエステル化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬・農薬の原料物質及び中
間体として有用なアミノ酸誘導体である４-アミノ−
２，２−ジメチル−３−フェニル−ブタン酸メチルの製
造遺贈中間体として有用な４-ニトロエステル化合物の
新規な製法を提供する。 【解決手段】 本発明は、２−アルキルピリ
ジン化合物と超強酸との塩触媒の存在下、ニトロオレフ
ィン化合物とケテンシリルアセタール化合物とを反応さ
せることにより４-ニトロエステル化合物を得る方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、２−アルキルピリ
ジン化合物と超強酸との塩触媒の存在下、ニトロオレフ
ィン化合物とケテンシリルアセタール化合物とを反応さ
せることによる４-ニトロエステル化合物の製法に関す
る。本発明により得られた４-ニトロエステル化合物に
おいて、例えば、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−
フェニル−ブタン酸は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第５
４巻、１０１８頁、（１９８９）の記載の方法に従っ
て、アルコール溶媒中、１０％Ｐｄ／Ｃの存在下、水素
ガスを用いた接触水素添加法により、医薬・農薬の原料
物質及び中間体として有用なアミノ酸誘導体である４-
アミノ−２，２−ジメチル−３−フェニル−ブタン酸メ
チルに誘導される。

【０００２】

【従来の技術】従来の、ニトロオレフィン化合物とケテ
ンシリルアセタール化合物とを反応させることによる４
-ニトロエステル化合物の製法としては、以下に示すよ
うな方法がある。 ．Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，第１０６巻、２１
４９頁、（１９８４）には、触媒として、四塩化チタン
等を単独もしくは四塩化チタンとチタンテトライソプロ
ポキシドとを添加した系において、ニトロオレフィン化
合物とケテンシリルアセタール化合物とを反応させて４
-ニトロエステル化合物を系内で調製し、最終的には加
水分解により１，４−ジケトン化合物を製造する方法が
記載されている。しかし、この方法は、使用するチタン
化合物の量がケテンシリルアセタール化合物と等量必要
であること、使用するニトロオレフィン化合物の１位が
水素原子である化合物に限定されること等の問題点があ
った。

【０００３】．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第６２巻、
４３７０頁、（１９９７）には、ニトロオレフィン化合
物とケテンシリルアセタール化合物とを、触媒として、
メチルアルミニウムビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノキシド）（以下、ＭＡＤという）
等を添加した系において、反応させて４-ニトロエステ
ル化合物を製造する方法が記載されている。しかし、こ
の方法は、使用する触媒量が使用するニトロオレフィン
化合物に対して１〜１．５等量必要であること、触媒調
製時に 非常に反応性の高いアルキルアルミニウムを使
用するため、発熱・発火等の危険性等を伴うこと、反応
終了時、生成した酸化アルミニウムを処理する必要があ
る等の理由で反応系の処理が煩雑であること、更にメチ
ル−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルジメチルケテンア
セタールのような分子内に立体障害が生じるような置換
基をもつ化合物を用いた場合、収率が低いという問題点
があった。従って、公知の製法、のいずれもに、４
-ニトロエステル化合物を工業的に製造する方法として
は不満があった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、４
-ニトロエステル化合物の製法として、工業的に有利な
方法、すなわち、原料化合物が限定されず、触媒の使用
量が少なく、温和な条件で、煩雑な反応系の処理を必要
としない、４-ニトロエステル化合物を高収率、高選択
率で得る製造方法を提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記の問
題を解決するために鋭意研究した結果、ニトロオレフィ
ン化合物とケテンシリルアセタール化合物とを、反応さ
せて４-ニトロエステル化合物を製造する際に、２−ア
ルキルピリジン化合物と超強酸とからなる２−アルキル
ピリジニウム化合物を触媒として用いることにより、原
料化合物が限定されず、触媒の使用量が少なく、温和な
条件で、煩雑な反応系の処理を必要としない、４-ニト
ロエステル化合物を高収率、高選択率で製造できる新規
な方法を見出して本発明を完成するに至った。

【０００６】本発明は、一般式（１）

【０００７】

【化５】

【０００８】（式中、Ｒ¹ はアルキル基を示し、Ｒ²、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵は、同一又は異なって、水素原子、アル
キル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基を示し、
また、Ｒ²、Ｒ³間、Ｒ³、Ｒ⁴間、Ｒ⁴、Ｒ⁵間でメチレン
鎖を形成していてもよく、形成されたメチレン鎖が芳香
環を形成していてもよい）で表される２−アルキルピリ
ジン化合物と超強酸とを混合させて調製される２−アル
キルピリジウム化合物触媒の存在下、一般式（２）

【０００９】

【化６】

【００１０】（式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、同一又は異な
って、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基を示し、また、Ｒ⁶、Ｒ⁷間でメチレン鎖を
形成していてもよい）で表されるニトロオレフィン化合
物と一般式（３）

【００１１】

【化７】

【００１２】（式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、同一又は異なっ
て、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール
基、アラルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基を示し、また、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰間でメチレン鎖
を形成していてもよく、ただし、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は同時に水
素原子ではない。Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、同一又は異なって、ア
ルキル基、アリール基、ハロゲン原子を示し、Ｒ¹³はア
ルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を
示す）で表されるケテンシリルアセタール化合物とを、
有機溶媒中で反応させることを特徴とする一般式（４）

【００１３】

【化８】

【００１４】（式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、 Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ
¹³は前記と同じ意味を有する）で表される４-ニトロエ
ステル化合物の製造方法にある。

【００１５】本発明の一般式（４）で表される４-ニト
ロエステル化合物の製造方法は、例えば、下記の反応式
によって表すことができる。

【００１６】

【化９】

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明において、Ｒ¹〜Ｒ¹³が示
すアルキル基とは、直鎖状、分枝状又は環状のアルキル
基を意味し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基
（異性体を含む）、ブチル基（各異性体を含む）、ペン
チル基（各異性体を含む）、ヘキシル基（各異性体を含
む）、ヘプチル基（各異性体を含む）、オクチル基（各
異性体を含む）、ノニル基（各異性体を含む）、デシル
基（各異性体を含む）、シクロプロピル基、シクロブチ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘ
プチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基又はシク
ロデシル基を挙げることができる。

【００１８】Ｒ²〜Ｒ¹⁰、Ｒ¹³が示すアルケニル基と
は、直鎖状、分枝状又は環状のアルケニル基を意味し、
例えば、ビニル基、プロぺニル基（異性体を含む）、ブ
テニル基（各異性体を含む）、ペンテニル基（各異性体
を含む）、ヘキセニル基（各異性体を含む）、へプテニ
ル基（各異性体を含む）、オクテニル基（各異性体を含
む）、ノネニル基（各異性体を含む）又はデセニル基
（各異性体を含む）を挙げることができる。

【００１９】Ｒ²〜Ｒ¹³ が示すアリール基とは、（１）
「置換基を有していないアリール基」又は（２）「置換
基を有するアリール基」を意味する。（１）の「置換基
を有していないアリール基」としては、例えば、フェニ
ル基、ナフチル基、アントラセニル基又はチエニル基を
挙げることができる。（２）の「置換基を有するアリー
ル基」の置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、置
換されていてもよい直鎖状又は分枝状の炭素原子数１〜
１０のアルコキシ基又は置換されていてもよい直鎖状又
は分枝状の炭素原子数１〜１０の アルキル基等を挙げ
ることができ、置換基は、数および位置は限定されない
し、同一又は異なった置換基が複数置換していてもよ
い。

【００２０】Ｒ²〜Ｒ¹⁰ 、Ｒ¹³が示すアラルキル基と
は、（３）「置換基を有していないアラルキル基」又は
（４）「置換基を有するアラルキル基」を意味する。
（３）の「置換基を有していないアラルキル基」として
は、例えば、ベンジル基、フェネチル基等を挙げること
ができる。（４）の「置換基を有するアラルキル基」の
置換基としては、例えば、ニトロ基、置換されていても
よい直鎖状又は分枝状の炭素原子数１〜１０のアルコキ
シ基を挙げることができ、置換基は、数および位置は限
定されないし、同一又は異なった置換基が複数置換して
いてもよい。

【００２１】Ｒ²〜Ｒ¹²が示すハロゲン原子としては、
例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨード原
子を挙げることができる。Ｒ²〜Ｒ¹⁰が示す アルコキシ
基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基 （異性体を含む）、ブトキシ基 （各異性体を含
む）、ペンチルオキシ基（各異性体を含む）、ヘキシル
オキシ基（各異性体を含む）、ヘプチルオキシ基 （各
異性体を含む）、オクチルオキシ基 （各異性体を含
む）、ノニルオキシ基 （各異性体を含む）又はデシル
オキシ基 （各異性体を含む）のような直鎖状又は分枝
状の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基を挙げることが
できる。

【００２２】Ｒ²〜Ｒ¹⁰が示す アリールオキシ基とは、
（５）「置換基を有していないアリールオキシ基」又は
（６）「置換基を有するアリールオキシ基」を意味す
る。（５）の「置換基を有していないアリールオキシ
基」としては、例えば、フェノキシ基等を挙げることが
できる。（６）の「置換基を有するアリールオキシ基」
の置換基としては、例えば、直鎖状又は分枝状の炭素原
子数１〜１０の アルキル基等を挙げることができる。

【００２３】上記のような置換基Ｒ¹〜Ｒ⁵を持つ、一般
式（１）で表される２−アルキルピリジン化合物として
は、例えば、２−メチルピリジン、２−エチルピリジ
ン、２−ｎ−プロピルピリジン、２−ｎ−ブチルピリジ
ン、２−ｎ−ペンチルピリジン、２−ｎ−ヘキシルピリ
ジン、２−ｎ−ヘプチルピリジン、２−ｎ−オクチルピ
リジン、２−ｎ−ノニルピリジン、２−ｎ−デシルピリ
ジン、２，３−ジメチルピリジン、２，４−ジメチルピ
リジン、２，５−ジメチルピリジン、２，６−ルチジ
ン、キナルジン、２−エチルキノリン、２，６−ｔｅｒ
ｔ−ブチルー４−メチルピリジン等を挙げることができ
る。

【００２４】上記のような置換基Ｒ⁶〜Ｒ⁷を持つ、一般
式（２）で表されるニトロオレフィン化合物としては、
例えば、ニトロエチレン、１−ニトロシクロヘキセン、
β−ニトロスチレン、１−ニトロ−２−フェニル−１−
プロペン、１−ニトロ−２−フェニル−１−ブテン、１
−フェニル−２−ニトロ−１−プロペン、１−フェニル
−２−ニトロ−１−ブテン、２−ニトロ−３−フェニル
−２−ブテン、トランス−２−メトキシ−４−（２−ニ
トロビニル）フェノール、トランス−４−メトキシ−β
−ニトロスチレン、トランス−４−メチル−β−ニトロ
スチレン、トランス−β−ニトロ−２−（トリフルオロ
メチル）スチレン、β−ニトロ−２−（トリフルオロメ
チル）スチレン、トランス−β−ニトロ−４−（トリフ
ルオロメトキシ）スチレン、トランス−２−（２−ニト
ロビニル）チオフェン、トランス−β−メチル−β−ニ
トロスチレン、トランス−１−ニトロ−１−プロペン、
トランス−１−ニトロ−１-ブテン、トランス−１−ニ
トロ−１-ペンテン、トランス−１−ニトロ−１-ヘキセ
ン、トランス−１−ニトロ−２−シクロヘキシル−１−
ブテン、２−ニトロ−１−プロペン、２−ニトロ−１−
ブテン、１−ニトロ−ペンテン、１−ニトロ−１−シク
ロヘキシルエテン、２−ニトロ−２-ブテン、２−ニト
ロ−２-ペンテン又は３−ニトロ−２-ペンテン等を挙げ
ることができる。

【００２５】一般式（２）で表されるニトロオレフィン
化合物は、例えば、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐ
ｎ．，第６１巻，４４７０頁，（１９８８）に記載され
た方法（いわゆるニトロアルドール反応）に準じて、ニ
トロアルカン化合物と対応するアルデヒドとを、塩基の
存在下、反応させて生成させることができる。

【００２６】上記のような置換基Ｒ⁹〜Ｒ¹³を持つ、一
般式（３）で表されるケテンシリルアセタール化合物と
しては、例えば、メチル（トリメチルシリル）ジメチル
ケテンアセタール、エチル（トリメチルシリル）ジメチ
ルケテンアセタール、ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシ
リル）ジメチルケテンアセタール、メチル（ｔｅｒｔ−
ブチルジメチルシリル）ジメチルケテンアセタール、エ
チル（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）ジメチルケテ
ンアセタール、ｔｅｒｔ−ブチル（ｔｅｒｔ−ブチルジ
メチルシリル）ジメチルケテンアセタール、ｎ−ブチル
（トリメチルシリル）ジメチルケテンアセタール、ｎ−
ブチル（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）ジメチルケ
テンアセタール、メチル（トリメチルシリル）メチルケ
テンアセタール、エチル（トリメチルシリル）メチルケ
テンアセタール、ｔｅｒｔ−ブチル（トリメチルシリ
ル）メチルケテンアセタール、メチル（ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル）メチルケテンアセタール、エチル
（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）メチルケテンアセ
タール、ｔｅｒｔ−ブチル（ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル）メチルケテンアセタール、ｎ−ブチル（トリメ
チルシリル）メチルケテンアセタール、ｎ−ブチル（ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル）メチルケテンアセター
ル、１−メトキシ−１−トリメチルシリルオキシ−２−
メチル−１，３−ブタジエン、１−メトキシ−１−トリ
メチルシリルオキシメチレンシクロヘキサン等を挙げる
ことができる。

【００２７】一般式（３）で表されるケテンシリルアセ
タール化合物は、例えば、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，第
４３巻，１１５９頁，（１９７８）に記載された方法に
準じて、エステル化合物を塩基で処理し、シリル化剤と
反応させて生成させることができる。

【００２８】本発明における「超強酸」とは、１００％
硫酸より強い酸性度（酸度関数、Ｈ _o ＜−１１．０〜−
１１．９）を示す酸を意味する。例えば、トリフルオロ
メタンスルホン酸、過塩素酸、クロロスルホン酸、フル
オロスルホン酸、テトラフルオロエタンスルホン酸、テ
トラフルオロホウ素酸、ヘキサフルオロリン酸、ヘキサ
フルオロアンチモン酸等を挙げることができ、好ましく
はトリフルオロメタンスルホン酸である。

【００２９】本発明において使用される２−アルキルピ
リジニウム化合物は、前記の２−アルキルピリジン化合
物と超強酸とを任意に組み合わすことにより調製される
が、例えば、２−アルキルピリジン化合物と超強酸（例
えばトリフルオロメタンスルホン酸）とを有機溶媒（例
えば，塩化メチレン等）中−７８℃〜室温の範囲で、撹
拌することにより調製できる。この場合、２−アルキル
ピリジニウム化合物の具体例としては、例えば、２，６
−ルチジントリフルオロメタンスルホン酸塩、２−エチ
ルピリジントリフルオロメタンスルホン酸塩又はキナル
ジントリフルオロメタンスルホン酸塩等を挙げることが
できる。

【００３０】２−アルキルピリジニウム化合物の調製す
る場合に使用される２−アルキルピリジン化合物の使用
量は、超強酸１モルに対して通常１．０〜５．０モルの
範囲になる量で用いることが好ましく、特に１．５〜
２．０モルの範囲になる量で用いることが好ましい。触
媒として２−アルキルピリジニウム化合物を本発明に使
用する場合、２−アルキルピリジニウム化合物中の超強
酸の含有量で規定するが、この場合超強酸の使用量はニ
トロオレフィン化合物１モルに対して、通常０．０１．
〜１．０モルの範囲になる量で用いることが好ましく、
特に０．０５〜０．１モルの範囲になる量で用いること
が好ましい。

【００３１】本発明において、使用される一般式（３）
で表されるケテンシリルアセタール化合物は、ニトロオ
レフィン化合物１モルに対して、通常１．０〜５．０モ
ルの範囲になる量で用いることが好ましく、特に１．５
〜２．０モルの範囲になる量で用いることが好ましい。

【００３２】本発明は、有機溶媒中で行われるが、使用
する有機溶媒としては、反応に関与しないものであれば
特に限定されないが、例えば、アセトニトリル、ベンゾ
ニトリルのようなニトリル系有機溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−
メチルピリト゛ン、ジメチルイミダゾールのようなアミド
系有機溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジ
クロロエタンのようなハロゲン系有機溶媒等を挙げるこ
とができ、好ましくはニトリル系有機溶媒、ハロゲン系
有機溶媒であり、特にアセトニトリル、塩化メチレンが
好ましい。なお、２−アルキルピリジニウム化合物を調
製時に使用した有機溶媒と同一の有機溶媒であること
が、反応操作の簡便化の点で好ましいが、異なっていて
もよい。

【００３３】本発明で用いられる有機溶媒の使用量は、
ニトロオレフィン化合物１ミリモルに対して、通常０．
５〜１０．０ｍｌの範囲になる量で用いることが好まし
く、特に１〜２ｍｌの範囲になる量で用いることが好ま
しい。

【００３４】本発明における反応温度は、通常使用する
溶媒の沸点までの温度であればよいが、好ましくは−８
０〜１００℃であり、特に０〜４０℃の範囲が好まし
い。本発明の反応における反応温時間は、反応温度によ
り著しく影響を受けるが、通常は０．５〜２４０時間以
内に反応は完結する。

【００３５】本発明で得られる一般式（４）で表される
４-ニトロエステル化合物は、前記の一般式（２）で表
されるニトロオレフィン化合物と、一般式（３）で表さ
れるケテンアセタール化合物とにより規定されるが、そ
のような４-ニトロエステル化合物としては、例えば、
４-ニトロ-２，２−ジメチル-３−フェニルブタン酸メ
チル、４-ニトロ-２，２−ジメチル-３−フェニルブタ
ン酸エチル、４-ニトロ-２，２−ジメチル-３−フェニ
ルブタン酸ｔｅｒｔ−ブチル、４-ニトロ-２，２−ジメ
チル-３−フェニルブタン酸ブチル、２−メチル−４−
ニトロ−３−フェニルブタン酸メチル、２−メチル−４
−ニトロ−３−フェニルブタン酸エチル、２−メチル−
４−ニトロ−３−フェニルブタン酸ｔｅｒｔ−ブチル、
２−メチル−４−ニトロ−３−フェニルブタン酸ブチ
ル、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−（４−ヒドロ
キシ−３−メトキシフェニル）ブタン酸メチル、２，２
−ジメチル−４−ニトロ−３−（４−メトキシフェニ
ル）ブタン酸メチル、２，２−ジメチル−４−ニトロ−
３−（４−メチルフェニル）ブタン酸メチル、２，２−
ジメチル−４−ニトロ−３−（２−トリフルオロメチル
フェニル）ブタン酸メチル、２，２−ジメチル−４−ニ
トロ−３−（３−トリフルオロメチルフェニル）ブタン
酸メチル、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−（４−
トリフルオロメチルフェニル）ブタン酸メチル、２，２
−ジメチル−４−ニトロ−３−（２−チオフェニル）ブ
タン酸メチル、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−
（フェニル）ペンタン酸メチル、２-メチル−４−ニト
ロ−３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）ブ
タン酸メチル、２-メチル−４−ニトロ−３−（３−メ
チルフェニル）ブタン酸メチル、２-メチル−４−ニト
ロ−３−（２−トリフルオロメチルフェニル）ブタン酸
メチル、２-メチル−４−ニトロ−３−（３−トリフル
オロメチルフェニル）ブタン酸メチル、２-メチル−４
−ニトロ−３−（４−トリフルオロメチルフェニル）ブ
タン酸メチル、２-メチル−４−ニトロ−３−（４−ト
リフルオロメトキシフェニル）ブタン酸メチル、２-メ
チル−４−ニトロ−３−（２−チオフェニル）ブタン酸
メチル、２-メチル−４−ニトロ−３−（フェニル）ブ
タン酸メチル、１−（２−ニトロ−１−フェニルエチ
ル）シクロヘキサンカルボン酸メチル、１−メチル−３
−ニトロブタン酸メチル、１，１−ジメチル−３−ニト
ロ−ブタン酸メチル、１，１−ジメチル−２−メチル−
３−ニトロ−ペンタン酸メチル、１−メチル−２−メチ
ル−３−ニトロペンタン酸メチル、２−メチル−３−ニ
トロペンタン酸メチル、１−（１−メトキシカルボニル
−１−メチル）エチル−２−ニトロシクロヘキサン、１
−（１−メトキシカルボニル）エチル−２−ニトロシク
ロヘキサン又は２−メチル−２−（２’−ニトロシクロ
ヘキシル）等を挙げることができる。

【００３６】本発明において４-ニトロエステル化合物
を得る方法は、通常の洗浄操作、分離操作を組み合わせ
て、例えば、反応混合物を水洗し、溶媒抽出、抽出濃縮
により粗生成物が得られる。更に精製するには、カラム
クロマトグラフィーや再結晶操作によって精製すればよ
いが、精製法については各化合物について適宜選択すれ
ばよい。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、前記２−アルキルピリ
ジン化合物と超強酸との塩を触媒に用い、ニトロオレフ
ィン化合物とケテンシリルアセタール化合物とを反応さ
せることにより、目的化合物である４−ニトロエステル
化合物を、温和な条件下、収率、選択率よく製造するこ
とができ、反応系の処理も簡便であり容易に目的化合物
を取得することができる。

【００３８】

【実施例】実施例１：２，２−ジメチル−４−ニトロ−
２−フェニルブタン酸メチルの製法。 −７８℃に冷却した塩化メチレン４ｍｌに、トリフルオ
ロメタンスルホン酸４．４μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）と
２，６−ルチジン１１．６μｌ（０．１０ｍｍｏｌ）と
を加えて撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られ
た塩化メチレン溶液を、同温度を保ちながらトランスβ
−ニトロスチレン１４９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）とメチ
ルトリメチルシリルジメチルケテンアセタール２６１ｍ
ｇ（１．５ｍｍｏｌ）とを加えた後、保温を止めて室温
に戻しながら９６時間撹拌して反応させた。得られた反
応混合液に、４℃以下の水６ｍｌを加えた。分液した塩
化メチレン層を、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥
し、濾過して濾液を得た。得られた濾液を減圧濃縮して
塩化メチレンを留去し、粗生成物を得た。得られた粗生
成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｗａｋｏ
ｇｅｌ Ｃ−２００（商品名）、溶離液；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、目的化合物の２，
２−ジメチル−４−ニトロ−２−フェニルブタン酸メチ
ル１９１ｍｇを得た。（トランスβ−ニトロスチレン基
準の収率＝７６．１％） ＭＳ（ＥＩ：m／ｚ）；251（Ｍ⁺） ＭＳ（ＣＩ：m／ｚ）；252（ＭＨ⁺） ＮＭＲ（CDCl₃，δ）；1.17（３Ｈ，ｓ），1.20（３
Ｈ，ｓ），3.69（３Ｈ，ｓ）， 3.75〜3.79（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝10.8ＨＺ，4.4ＨＺ）， 4.76〜4.80（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝13.2ＨＺ，4.4ＨＺ）， 4.92〜4.98（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝13.2ＨＺ，10.8ＨＺ）， 7.15〜7.33（5Ｈ，
ｍ）

【００３９】実施例２：２，２−ジメチル−４−ニトロ
−３−フェニルブタン酸メチルの製法。 トリフルオロメタンスルホン酸２．２μｌ（０．０２５
ｍｍｏｌ）と２，６−ルチジン５．８μｌ（０．０５ｍ
ｍｏｌ）とを室温のアセトニトリル２ｍｌに加えて撹拌
溶解し、アセトニトリル溶液を得た。得られたアセトニ
トリル溶液を、同温度を保ちながらトランスβ−ニトロ
スチレン７５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）とメチルトリメチ
ルシリルジメチルケテンアセタール１３１ｍｇ（０．７
５ｍｍｏｌ）とを加えて１時間撹拌して反応させた。得
られた反応混合液に、水６ｍｌと塩化メチレン１０ｍｌ
とを加えた。分液した塩化メチレン層を、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて乾燥し、濾過して濾液を得た。得られ
た濾液を減圧濃縮して塩化メチレンを留去し、目的化合
物の２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−フェニルブタ
ン酸メチル１２４ｍｇを得た。（トランスβ−ニトロス
チレン基準の収率＝９９．０％）

【００４０】実施例３：２，２−ジメチル−４−ニトロ
−３−フェニルブタン酸メチルの製法。 −７８℃に冷却した塩化メチレン４ｍｌに、トリフルオ
ロメタンスルホン酸２．２μｌ（０．０２５ｍｍｏｌ）
と２，６−ルチジン５．８μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）と
を加えて撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られ
た塩化メチレン溶液を、同温度を保ちながらトランスβ
−ニトロスチレン７５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）とメチル
トリメチルシリルジメチルケテンアセタール１３１ｍｇ
（０．７５ｍｍｏｌ）とを加えた後、保温を止めて室温
に戻しながら，４℃で４８時間撹拌して反応させた。得
られた反応混合液に、４℃以下の水６ｍｌを加えた。分
液した塩化メチレン層を、無水硫酸マグネシウムを加え
て乾燥し、濾過して濾液を得た。得られた濾液を減圧濃
縮して塩化メチレンを留去し、粗生成物１３９ｍｇを得
た。得られた粗生成物をＨＰＬＣを用いて定量した結
果、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−フェニルブタ
ン酸メチルが１２２ｍｇ含まれていることがわかった。
（トランスβ−ニトロスチレン基準のＨＰＬＣ定量収率
＝９６．８％）

【００４１】実施例４：２，２−ジメチル−４−ニトロ
−３−フェニルブタン酸メチルの製法。 実施例３の２，６−ルチジンを２-エチルピリジン５．
７μｌ（０．００５ｍｌ）に代えた他は、実施例３と同
様な操作を行って、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３
−フェニルブタン酸メチルの粗生成物１４５ｍｇを得
た。得られた粗生成物をＨＰＬＣを用いて定量した結
果、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−フェニルブタ
ン酸メチルが１１７ｍｇ含まれていることがわかった。
（トランスβ−ニトロスチレン基準のＨＰＬＣ定量収率
＝９２．９％）

【００４２】実施例５：２，２−ジメチル−４−ニトロ
−３−フェニルブタン酸メチルの製法。 実施例３の２，６−ルチジンをキナルジン６．８μｌ
（０．０５ｍｌ）に代えた他は、実施例３と同様な操作
を行って、２，２−ジメチル−４−ニトロ−３−フェニ
ルブタン酸メチルの粗生成物 １５１ｍｇを得た。得ら
れた粗生成物をＨＰＬＣを用いて定量した結果、２，２
−ジメチル−４−ニトロ−３−フェニルブタン酸メチル
が１３３ｍｇ含まれていることがわかった。（トランス
β−ニトロスチレン基準のＨＰＬＣ定量収率＝９０．０
％）

【００４３】実施例６：２−メチル−４−ニトロ−３−
フェニルブタン酸メチルの製法。 −７８℃に冷却した塩化メチレン４ｍｌに、トリフルオ
ロメタンスルホン酸４．４μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）と
２，６−ルチジン１１．６μｌ（０．１０ｍｍｏｌ）と
を加えて撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られ
た塩化メチレン溶液を、同温度を保ちながらトランスβ
−ニトロスチレン１４９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）とｏ−
メチル−ｏ−トリメチルシリルメチルケテンアセタール
２４０ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）とを加えた後、保温を止
めて室温に戻しながら９６時間撹拌して反応させた。得
られた反応混合液に、４℃以下の水６ｍｌを加えた。分
液した塩化メチレン層を、無水硫酸マグネシウムを加え
て乾燥し、濾過して濾液を得た。得られた濾液を減圧濃
縮して塩化メチレンを留去し、粗生成物を得た。得られ
た粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｗ
ａｋｏｇｅｌ Ｃ−２００（商品名）、溶離液；ｎ−ヘ
キサン：酢酸エチル＝５：１）で精製し、目的化合物の
２−メチル−４−ニトロ−３−フェニルブタン酸メチル
１０４ｍｇを得た。（トランスβ−ニトロスチレン基準
の収率＝４４．０％） ＭＳ（ＣＩ：m／ｚ）；238（ＭＨ⁺） ＮＭＲ（CDCl₃，δ）；1.03〜1.05（３Ｈ，d，Ｊ＝6.8
3，major diastereomer）， 1.22〜1.24（３Ｈ，d，Ｊ
＝7.32，minor diastereomer）， 2.77〜2.81（1Ｈ，
ｍ，major diastereomer）， 2.83〜2.91（1Ｈ，ｍ，mi
nor diastereomer）， 3.56（２Ｈ，ｓ，both diastere
omers）， 3.73（6Ｈ，ｓ，both diastereomers）， 4.
69（1Ｈ，m，major diastereomer）， 4.71（1Ｈ，m，m
inor diastereomer）， 4.74〜4.80（1Ｈ，m，major di
astereomer）， 4.84〜4.89（1Ｈ，m，minor diastereo
mer）， 7.16〜3.36（10Ｈ，m，diastereomixture）．

【００４４】実施例７：２−メチル−４−ニトロ−３−
フェニルブタン酸メチルの製法。 −７８℃に冷却した塩化メチレン４ｍｌに、トリフルオ
ロメタンスルホン酸２．２μｌ（０．０２５ｍｍｏｌ）
と２，６−ルチジン５．８μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）と
を加えて撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られ
た塩化メチレン溶液を、同温度を保ちながらトランスβ
−ニトロスチレン７５ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）とｏ−メ
チル−ｏ−トリメチルシリルメチルケテンアセタール１
２０ｍｇ（０．７５ｍｍｏｌ）とを加えた後、保温を止
めて室温に戻しながら２４時間撹拌して反応させた。得
られた反応混合液に、水６ｍｌを加えた。分液した塩化
メチレン層を、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、
濾過して濾液を得た。得られた濾液を減圧濃縮して塩化
メチレンを留去し、粗生成物を得た。得られた粗生成物
をＨＰＬＣを用いて定量した結果、２−メチル−４−ニ
トロ−３−フェニルブタン酸メチルが６０ｍｇ含まれて
いることがわかった。（トランスβ−ニトロスチレン基
準のＨＰＬＣ定量収率＝５０．９％）

【００４５】実施例８：２−メチル−４−ニトロ−３−
フェニルブタン酸メチルの製法。 −７８℃に冷却した塩化メチレン２ｍｌに、トリフルオ
ロメタンスルホン酸２．２μｌ（０．０２５ｍｍｏｌ）
とキナルジン６．８μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）とを加え
て撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られた塩化
メチレン溶液を、同温度を保ちながらトランスβ−ニト
ロスチレン１４９ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）とｏ−メチル
−ｏ−トリメチルシリルメチルケテンアセタール１２０
ｍｇ（０．７５ｍｍｏｌ）とを加えた後、４℃で７２時
間撹拌して反応させた。得られた反応混合液に、水６ｍ
ｌを加えた。分液した塩化メチレン層を、無水硫酸マグ
ネシウムを加えて乾燥し、濾過して濾液を得た。得られ
た濾液を減圧濃縮して塩化メチレンを留去し、粗生成物
を得た。得られた粗生成物をＨＰＬＣを用いて定量した
結果、２−メチル−４−ニトロ−３−フェニルブタン酸
メチルが１４７ｍｇ含まれていることがわかった。（ト
ランスβ−ニトロスチレン基準のＨＰＬＣ定量収率＝６
２．０％）

【００４６】実施例９：２−メチル−２−（２’−ニト
ロシクロヘキシル）プロピオン酸メチルの製法。 ０℃に冷却したアセトニトリル２ｍｌに、トリフルオロ
メタンスルホン酸２．２μｌ（０．０２５ｍｍｏｌ）と
２，６−ルチジン５．８μｌ（０．０５ｍｍｏｌ）とを
加えて撹拌溶解して塩化メチレン溶液を得た。得られた
塩化メチレン溶液を、同温度を保ちながら１−ニトロシ
クロヘキセン６４ｍｇ（０．５ｍｍｏｌ）とメチルトリ
メチルシリルジメチルケテンアセタール１３１ｍｇ
（０．７５ｍｍｏｌ）とを加えた後、室温で４８時間撹
拌して反応させた。得られた反応混合液に、水６ｍｌを
加えた。分液した塩化メチレン層を、無水硫酸マグネシ
ウムを加えて乾燥し、濾過して濾液を得た。得られた濾
液を減圧濃縮して塩化メチレンを留去し、粗生成物２０
０ｍｇを得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（Ｗａｋｏｇｅｌ Ｃ−２００（商品
名）、溶離液；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）で
精製し、目的化合物の２−メチル−２−（２’−ニトロ
シクロヘキシル）プロピオン酸メチル７２ｍｇを得た。
（１−ニトロシクロヘキセン基準の収率＝６３．１％） ＮＭＲ（CDCl₃，δ）；1.14，1.18，1.19，1.23（６
Ｈ，ｓ，both diastereomer）， 1.64〜2.86（９Ｈ，
m，both diastereomer）， 3.63，3.65（３Ｈ，ｓ，bot
h diastereomer）， 3.68（１Ｈ，m，both diastereome
rs）．

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ¹ はアルキル基を示し、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵
   は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、アルケ
   ニル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、ア
   ルコキシ基、アリールオキシ基を示し、また、Ｒ²、Ｒ³
   間、Ｒ³、Ｒ⁴間、Ｒ⁴、Ｒ⁵間でメチレン鎖を形成してい
   てもよく、形成されたメチレン鎖が芳香環を形成してい
   てもよい）で表される２−アルキルピリジン化合物と超
   強酸とを混合させて調製される２−アルキルピリジウム
   化合物触媒の存在下、一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸は、同一又は異なって、水素原
   子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
   ル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基
   を示し、また、Ｒ⁶、Ｒ⁷間でメチレン鎖を形成していて
   もよい）で表されるニトロオレフィン化合物と一般式
   （３） 【化３】 （式中、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は、同一又は異なって、水素原子、
   アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル
   基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基を
   示し、また、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰間でメチレン鎖を形成していて
   もよく、ただし、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰は同時に水素原子ではな
   い。Ｒ¹¹、Ｒ¹²は、同一又は異なって、アルキル基、ア
   リール基、ハロゲン原子を示し、Ｒ¹³はアルキル基、ア
   ルケニル基、アリール基、アラルキル基を示す）で表さ
   れるケテンシリルアセタール化合物とを、有機溶媒中で
   反応させることを特徴とする一般式（４） 【化４】 （式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸ 、 Ｒ⁹、Ｒ¹⁰、Ｒ¹³は前記と同
   じ意味を有する）で表される４-ニトロエステル化合物
   の製造方法。