JPH11345688A - Organic el display - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、情報表示パネル、
各種計器パネル、動画・静止画を表示させるディスプレ
イ等、家電製品、自動車、二輪車電装品に使用され、有
機化合物を用いて構成された有機ＥＬディスプレイの構
造に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to an information display panel,
The present invention relates to a structure of an organic EL display which is used for home electric appliances, automobiles, and motorcycle electric components, such as various instrument panels, displays for displaying moving images and still images, and is formed using an organic compound.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、有機ＥＬ素子が盛んに研究され、
実用化されつつある。これは、錫ドープ酸化インジウム
（ＩＴＯ）などの透明電極（ホール注入電極）上にトリ
フェニルジアミン（ＴＰＤ）などのホール輸送材料を蒸
着により薄膜とし、さらにアルミキノリノール錯体（Ａ
ｌｑ3 ）などの蛍光物質を発光層として積層し、さらに
Ｍｇなどの仕事関数の小さな金属電極（電子注入電極）
を形成した基本構成を有する素子で、１０V 前後の電圧
で数１００から数１００００cd/m2 ときわめて高い輝度
が得られることで、家電製品、自動車、二輪車電装品等
のディスプレイとして注目されている。2. Description of the Related Art In recent years, organic EL devices have been actively studied,
It is being put to practical use. In this method, a hole transport material such as triphenyldiamine (TPD) is formed into a thin film on a transparent electrode (hole injection electrode) such as tin-doped indium oxide (ITO) by vapor deposition, and then an aluminum quinolinol complex (A
1q3) as a light emitting layer, and a metal electrode such as Mg having a small work function (electron injection electrode)
This element has a basic structure and has a very high luminance of several hundreds to several tens of thousands cd / m 2 at a voltage of about 10 V, and thus has attracted attention as a display for home electric appliances, automobiles, motorcycle electric components and the like.
【０００３】ところで、このような有機ＥＬ素子を用い
たディスプレイとして、種々の応用例が考えられるが、
中でもカラーディスプレイへの応用は重要な課題であ
る。発光体をカラーディスプレイとして応用する場合、
例えば、発光体自体の発光色を変化させるか、あるいは
カラーフィルターを用いて青、緑、赤の３元色を得ると
いった手法が一般的である。発光体自体の発光色を変化
させる試みとしては、例えば SID 96 DIGEST・185 14.
2:Novel Transparent Organic Electroluminescent Dev
ices G.Gu,V.BBulovic,P.E.Burrows,S.RForrest,M.E.To
mpsonに記載されたカラー発光素子として、Ａｇ・Ｍｇ
薄膜を陰電極に、ＩＴＯを陽電極に用いたものが知られ
ている。しかし、ここに記載されているカラー発光素子
（heterostructure organic light emitting devices）
は、Ｒ，Ｇ，Ｂ各々に対応した発光層（Red ETL,Green
ETL,Blue ETL）を有する多層構造であり、各発光層毎に
陰電極と陽電極を用意しなければならず、構造が複雑と
なり、製造コストも高くなるという問題がある。また各
色の寿命が異なるため、使用するにしたがい色バランス
が崩れるという不都合もある。[0003] By the way, as a display using such an organic EL element, various application examples are considered.
In particular, application to a color display is an important issue. When applying the luminous body as a color display,
For example, it is common to change the emission color of the luminous body itself, or to obtain ternary colors of blue, green and red using a color filter. Attempts to change the emission color of the illuminant itself include, for example, SID 96 DIGEST 185 14.
2: Novel Transparent Organic Electroluminescent Dev
ices G.Gu, V.BBulovic, PEBurrows, S.RForrest, METo
Ag · Mg as a color light emitting element described in mpson
It is known that a thin film is used as a cathode and ITO is used as a cathode. However, the color light emitting devices described here (heterostructure organic light emitting devices)
Is a light emitting layer (Red ETL, Green) corresponding to each of R, G, and B.
(ETL, Blue ETL), and a negative electrode and a positive electrode must be prepared for each light emitting layer, which has a problem that the structure becomes complicated and the manufacturing cost increases. In addition, since the life of each color is different, there is also a disadvantage that the color balance is lost according to use.
【０００４】一方、単一の発光層とカラーフィルターと
を組み合わせてマルチカラーディスプレイとする場合、
通常、同一基板上にカラーフィルター層と有機ＥＬ構造
体とを設けることとなる。しかし、基板上にカラーフィ
ルター層を成膜し、さらに有機ＥＬ構造体を設けること
は、ホール注入電極であるＩＴＯ薄膜中の応力や、カラ
ーフィルター層との熱膨張係数の違いにによる剥離現象
を生じたりして困難な作業が伴う。On the other hand, when a single light emitting layer and a color filter are combined to form a multi-color display,
Usually, a color filter layer and an organic EL structure are provided on the same substrate. However, forming a color filter layer on a substrate and further providing an organic EL structure may cause a peeling phenomenon due to a stress in an ITO thin film serving as a hole injection electrode and a difference in thermal expansion coefficient from the color filter layer. It involves difficult work.
【０００５】また、ディスプレイの特性である表示品質
を向上させることも重要な課題である。表示品質を向上
させるため、従来よりブラックマトリクスと称する可視
光領域での透過性が低い層を、ディスプレイの表示面等
に設けていた。このブラックマトリクスを設ける場合に
も、やはり上記カラーフィルターと同様な理由により困
難な作業が要求される。このため、より簡単な方法で表
示品質を向上させうる手段が望まれている。It is also important to improve the display quality, which is a characteristic of the display. In order to improve the display quality, a layer having a low transmittance in the visible light region called a black matrix has conventionally been provided on the display surface of the display. Even in the case of providing this black matrix, difficult work is required for the same reason as the above color filter. For this reason, a means that can improve the display quality by a simpler method is desired.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、マル
チカラータイプでも複雑な構造を必要とせず、製造や貼
り合わせ等の作業が容易で、有機ＥＬ構造体へのダメー
ジが少なく、低コストの有機ＥＬディスプレイを実現す
ることである。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a multi-color type which does not require a complicated structure, is easy to manufacture and attach, has little damage to the organic EL structure, and has a low cost. Is realized.
【０００７】また、表示品質の良好な有機ＥＬカラーデ
ィスプレイを提供することである。Another object is to provide an organic EL color display having good display quality.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の本発
明により達成される。 （１） ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電
極間に発光機能に関与する１種以上の有機層を有する有
機ＥＬ構造体が基板上に成膜されている有機ＥＬディス
プレイであって、前記基板が光取り出し側であって、こ
の基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側には補助基板が
配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面に
カラーフィルター層を有する有機ＥＬディスプレイ。 （２） 前記補助基板は、さらに視野角を矯正するため
のブラックマトリクス層を有し、前記有機ＥＬ構造体の
ホール注入電極は、補助電極層が形成されている領域に
も成膜されている上記（１）の有機ＥＬディスプレイ。 （３） ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電
極間に発光機能に関与する１種以上の有機層を有する有
機ＥＬ構造体が基板上に成膜されている有機ＥＬディス
プレイであって、前記基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反
対側には補助基板が配置され、かつこの補助基板の前記
基板と対向する面にブラックマトリクス層を有する有機
ＥＬディスプレイ。 （４） 前記有機ＥＬ構造体のホール注入電極は、補助
電極層が形成されている領域にも成膜されている上記
（３）の有機ＥＬディスプレイ。 （５） 前記補助基板は、カラーフィルター層を有する
上記（４）の有機ＥＬディスプレイ。The above objects are achieved by the present invention described below. (1) An organic EL display in which an organic EL structure having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and one or more organic layers involved in a light emitting function between these electrodes is formed on a substrate, The substrate is a light extraction side, an auxiliary substrate is disposed on a side of the substrate opposite to a surface on which the organic EL structure is formed, and an organic EL having a color filter layer on a surface of the auxiliary substrate facing the substrate. display. (2) The auxiliary substrate further has a black matrix layer for correcting a viewing angle, and the hole injection electrode of the organic EL structure is formed also in a region where the auxiliary electrode layer is formed. The organic EL display according to the above (1). (3) An organic EL display in which an organic EL structure having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and one or more organic layers involved in a light emitting function between these electrodes is formed on a substrate, An organic EL display having an auxiliary substrate disposed on a side of the substrate opposite to a surface on which the organic EL structure is formed, and having a black matrix layer on a surface of the auxiliary substrate facing the substrate. (4) The organic EL display according to (3), wherein the hole injection electrode of the organic EL structure is formed also in a region where an auxiliary electrode layer is formed. (5) The organic EL display according to (4), wherein the auxiliary substrate has a color filter layer.
【０００９】[0009]
【発明の実施の形態】以下、本発明の具体的構成につい
て詳細に説明する。本発明の有機ＥＬカラーディスプレ
イは、ホール注入電極と電子注入電極と、これらの電極
間に発光機能に関与する１種以上の有機層を有する有機
ＥＬ構造体が基板上に成膜されている有機ＥＬディスプ
レイであって、前記基板が光取り出し側であって、この
基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側には補助基板が配
置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面にカ
ラーフィルタ層を有するマルチカラータイプのディスプ
レイである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, a specific configuration of the present invention will be described in detail. An organic EL color display according to the present invention is an organic EL display having an organic EL structure having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and one or more organic layers involved in a light emitting function between these electrodes formed on a substrate. An EL display, wherein the substrate is a light extraction side, an auxiliary substrate is disposed on a side of the substrate opposite to a surface on which the organic EL structure is formed, and a color is provided on a surface of the auxiliary substrate facing the substrate. It is a multi-color type display having a filter layer.
【００１０】このように、基板の有機ＥＬ構造体と反対
の面に透明ないし半透明の補助基板を設け、この補助基
板の基板と対向する面にカラーフィルター層を設けるこ
とにより、カラーフィルタと有機ＥＬ構造体との相互的
なダメージを防止でき、取り扱いも容易となり、極めて
簡単な構成でカラーフィルターを作製することができ
る。As described above, the transparent or translucent auxiliary substrate is provided on the surface of the substrate opposite to the organic EL structure, and the color filter layer is provided on the surface of the auxiliary substrate opposed to the substrate. Mutual damage to the EL structure can be prevented, handling is easy, and a color filter can be manufactured with an extremely simple configuration.
【００１１】補助基板に配置されるカラーフィルター層
は、青色フィルター層と、緑色フィルター層と、赤色フ
ィルター層の１種以上を用いることが好ましい。カラー
フィルター層には、液晶ディスプレイ等で用いられてい
るカラーフィルターを用いてもよいが、有機ＥＬの発光
する光に合わせてカラーフィルターの特性を調製し、取
り出し効率・色純度を最適化すればよい。また、ＥＬ素
子材料や必要により設けられる蛍光変換層が光吸収する
ような短波長の光をカットできるカラーフィルターを用
いることが好ましい。The color filter layer disposed on the auxiliary substrate preferably uses at least one of a blue filter layer, a green filter layer and a red filter layer. For the color filter layer, a color filter used in a liquid crystal display or the like may be used. However, if the characteristics of the color filter are adjusted according to the light emitted from the organic EL, and the extraction efficiency and color purity are optimized. Good. In addition, it is preferable to use a color filter that can cut off light of a short wavelength such that the EL element material or a fluorescent conversion layer provided as necessary absorbs light.
【００１２】このようなカラーフィルターを用いてフル
カラーのディスプレイを得ようとする場合、カラーフィ
ルター通過後の色が、ＮＴＳＣ標準、あるいは現行のＣ
ＲＴの色度座標に調整すればよい。このような色度座標
は、一般的な色度座標測定器、例えばトプコン社製のＢ
Ｍ−７、ＳＲ−１等を用いて測定できる。When a full-color display is to be obtained using such a color filter, the color after passing through the color filter is determined by the NTSC standard or the current C
What is necessary is just to adjust to the chromaticity coordinates of RT. Such chromaticity coordinates can be obtained by using a general chromaticity coordinate measuring instrument, for example,
It can be measured using M-7, SR-1, or the like.
【００１３】また、カラーフィルター層の厚さは、特に
限定されるものではないが、通常、０．２〜２０μm 程
度とすればよい。The thickness of the color filter layer is not particularly limited, but may be generally about 0.2 to 20 μm.
【００１４】また、誘導体多層膜のような光学薄膜を用
いてカラーフィルターの代わりにしてもよい。An optical thin film such as a derivative multilayer film may be used instead of the color filter.
【００１５】カラーフィルター層は三原色表示によるフ
ルカラーディスプレイでは、上記のような青、緑、赤色
のものを用い、その他のキャラクター表示等に用いる場
合には、必要な色彩のものを調整して用いればよい。In the case of a full color display using three primary colors, the color filter layer uses the above-described blue, green, and red color filters. Good.
【００１６】必要により設けられる蛍光変換層は、ＥＬ
発光を吸収し、蛍光変換層中の蛍光体から光を放出させ
ることで発光色の色変換を行うものであるが、バインダ
ー、蛍光材料、光吸収材料を用いて形成することができ
る。The fluorescence conversion layer provided if necessary is EL
The color conversion of the emission color is performed by absorbing light emission and emitting light from the phosphor in the fluorescence conversion layer, but it can be formed using a binder, a fluorescent material, or a light absorbing material.
【００１７】蛍光材料は、基本的には蛍光量子収率が高
いものを用いればよく、ＥＬ発光波長域に吸収が強いこ
とが望ましい。具体的には蛍光スペクトルの発光極大波
長λmax が５８０〜６３０nmであり、発光ピークの半値
幅がいずれの場合にも１０〜１００nmである蛍光物質が
好ましい。実際には、レーザー用色素などが適してお
り、ローダミン系化合物、ペリレン系化合物、シアニン
系化合物、フタロシアニン系化合物（サブフタロシアニ
ン等も含む）、ナフタロイミド系化合物、縮合環炭化水
素系化合物、縮合複素環系化合物、スチリル系化合物等
を用いればよい。As the fluorescent material, a material having a high fluorescence quantum yield may be basically used, and it is desirable that the fluorescent material has a strong absorption in an EL emission wavelength region. Specifically, a fluorescent substance having a maximum emission wavelength λmax of the fluorescence spectrum of 580 to 630 nm and a full width at half maximum of the emission peak of 10 to 100 nm in any case is preferable. Actually, dyes for laser are suitable, and rhodamine-based compounds, perylene-based compounds, cyanine-based compounds, phthalocyanine-based compounds (including subphthalocyanine, etc.), naphthalimide-based compounds, condensed-ring hydrocarbon-based compounds, condensed-heterocycles Compounds, styryl compounds and the like may be used.
【００１８】バインダーは基本的に蛍光を消光しないよ
うな材料を選べばよく、フォトリソグラフィー、印刷等
で微細なパターニングができるようなものが好ましい。As the binder, basically, a material that does not extinguish the fluorescence may be selected, and a material that can be finely patterned by photolithography, printing, or the like is preferable.
【００１９】光吸収材料は、蛍光材料の光吸収が足りな
い場合に用いるが、必要のない場合は用いなくてもよ
い。また、光吸収材料は、蛍光材料の蛍光を消光しない
ような材料を選べばよい。The light absorbing material is used when the light absorption of the fluorescent material is insufficient, but may be omitted when unnecessary. As the light absorbing material, a material that does not extinguish the fluorescence of the fluorescent material may be selected.
【００２０】このような蛍光変換フィルターを用いるこ
とによって、ＣＩＥ色度座標において好ましいｘ、ｙ値
が得られる。また、蛍光変換層の厚さは、そのときの発
光に応じて適宜調整すればよいが、通常、２〜５０μm
程度とすればよい。By using such a fluorescence conversion filter, preferable x and y values can be obtained in CIE chromaticity coordinates. Further, the thickness of the fluorescence conversion layer may be appropriately adjusted according to the light emission at that time, usually 2 to 50 μm
It should be about the degree.
【００２１】カラーフィルターや蛍光フィルターの大き
さは、ブラックマトリクスを有しない場合には、視野角
が確保できる程度に画素の大きさよりも大きくすること
が好ましい。ブラックマトリクスを有する場合には、必
ずしも画素の大きさと等しい必要はなく、ブラックマト
リクスの開口部を全てカバーするような大きさであれ
ば、画素より大きくても、小さくてもよい。また、その
厚みは、好ましくは０．５〜１０μm 程度、より好まし
くは１〜５μm 程度である。When a color filter or a fluorescent filter has no black matrix, it is preferable that the size of the color filter or the fluorescent filter is larger than the size of the pixel so that the viewing angle can be secured. In the case where a black matrix is provided, the size does not necessarily need to be equal to the size of the pixel, and may be larger or smaller than the pixel as long as the size covers all the openings of the black matrix. Further, the thickness is preferably about 0.5 to 10 μm, more preferably about 1 to 5 μm.
【００２２】カラーフィルター層を形成する方法として
は、スクリーン法等の印刷や、顔料入りのフォトレジス
ト等により形成することができる。顔料入りのフォトレ
ジストにより形成する場合、基板上に所定の厚みの顔料
入りのフォトレジストを塗布してスピンコート等により
形成した後、必要によりプレベークを行う。次いで、フ
ォトマスクのパターンを所定の位置に調整し、紫外線等
を照射して露光し、現像してパターンを得る。さらに、
必要によりポストベークを行い所定パターンのフィルタ
ー層を得ることができる。As a method of forming the color filter layer, it can be formed by printing such as a screen method, or by a photoresist containing a pigment. In the case of forming with a pigment-containing photoresist, a pigment-containing photoresist having a predetermined thickness is applied on a substrate and formed by spin coating or the like, and then, if necessary, prebaked. Next, the pattern of the photomask is adjusted to a predetermined position, irradiated with ultraviolet rays or the like, exposed, and developed to obtain a pattern. further,
If necessary, post-baking can be performed to obtain a filter layer having a predetermined pattern.
【００２３】基板、補助基板の材料としては、どちらも
光取り出し側となるため、光透過性を有する透明ないし
半透明の材料を用いることが必要である。ここで光透過
性とは、発光波長帯域、通常３５０〜８００nm、特に可
視光領域での光透過率が５０％以上、好ましくは７０％
以上、特に８０％以上であることをいう。具体的には積
層する有機ＥＬ構造体やフィルター層の材質等により適
宜決めることができる。例えば、ガラス、石英や樹脂等
の透明ないし半透明材料、フェノール樹脂等の熱硬化性
樹脂、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂等を用いるこ
とができる。Since both the substrate and the auxiliary substrate are on the light extraction side, it is necessary to use a transparent or translucent material having a light transmitting property. Here, the light transmittance means that the light transmittance in an emission wavelength band, usually 350 to 800 nm, particularly in the visible light region is 50% or more, preferably 70%.
Above, especially 80% or more. Specifically, it can be appropriately determined according to the material of the organic EL structure and the filter layer to be laminated. For example, a transparent or translucent material such as glass, quartz or resin, a thermosetting resin such as phenol resin, a thermoplastic resin such as polycarbonate, or the like can be used.
【００２４】基板の厚みとしては０．３〜３mm程度、特
に０．５〜１．１mm程度、補助基板の厚みは０．３〜３
mm程度、特に０．５〜１．１mm程度が好ましい。The thickness of the substrate is about 0.3 to 3 mm, particularly about 0.5 to 1.1 mm, and the thickness of the auxiliary substrate is 0.3 to 3 mm.
It is preferably about mm, particularly about 0.5 to 1.1 mm.
【００２５】フィルター層が形成された補助基板は、通
常、基板上に有機ＥＬ構造体が積層され、封止板が設け
られた後に、この基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側
の面にフィルター層と基板とが対向するようにして貼り
合わされる。貼り合わせには接着剤が用いられる。The auxiliary substrate on which the filter layer is formed is usually provided with an organic EL structure laminated on the substrate and provided with a sealing plate, and then the surface of the substrate opposite to the organic EL structure film forming surface. Then, the filter layer and the substrate are bonded to face each other. An adhesive is used for bonding.
【００２６】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、フィルター層を浸食したり、透光性に影響を及ぼさ
ないものが好ましい。このようなものであれば特に限定
されるものではないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬
化型エポキシ樹脂接着剤や嫌気性の接着剤を用いること
が好ましい。The adhesive is preferably one that can maintain a stable adhesive strength and does not erode the filter layer or affect the translucency. There is no particular limitation as long as it is such a material, but it is preferable to use a cationically curable ultraviolet-curable epoxy resin adhesive or an anaerobic adhesive.
【００２７】本発明の有機ＥＬディスプレイは、補助基
板の基板と対向する面にブラックマトリクスと称する黒
色の層を有していてもよい。The organic EL display of the present invention may have a black layer called a black matrix on the surface of the auxiliary substrate facing the substrate.
【００２８】ブラックマトリクス層を設けることによ
り、各画素間の光の干渉や外光の反射を防止してディス
プレイの表示品質が向上し、視野角を適切に矯正するこ
とができる。By providing the black matrix layer, the display quality of the display is improved by preventing light interference between pixels and reflection of external light, and the viewing angle can be appropriately corrected.
【００２９】ブラックマトリクス層は黒色の層であれば
その材質は特に規制されるものではないが、通常、カー
ボンブラック等の顔料分散型のレジストや、カラーフィ
ルターの色重ね、クロム、低反射クロム等が使用され
る。The material of the black matrix layer is not particularly limited as long as it is a black layer. Usually, however, a pigment-dispersed resist such as carbon black, a color filter color overlay, chrome, low-reflection chrome, etc. Is used.
【００３０】ブラックマトリクス層の形成方法も、上記
フィルター層に準ずればよい。また、スパッタ法や蒸着
法によっても形成できる。The method for forming the black matrix layer may be in accordance with the above filter layer. Further, it can also be formed by a sputtering method or a vapor deposition method.
【００３１】ブラックマトリクス層は、ディスプレイの
非発光部分（画素以外の部分）に配置され、画素の周囲
を黒色の層で覆うようにすることで画質を向上させる。
ブラックマトリクス層で覆うことなく発光光を透過させ
る部分（以下窓部と称する）の大きさは必ずしも画素と
同一である必要はなく、例えば図２に示すように画素２
に対して窓部７が狭くなるように配置してもよいし、図
３に示すように画素２に対して窓部７が大きくなるよう
に配置してもよい。これらの関係は、単にブラックマト
リクスの窓部の大きさのみで規定されるものではなく、
画素部分の大きさとの相対的関係、視野角および基板の
厚さとの関係等により決められる。The black matrix layer is arranged in a non-light-emitting portion (a portion other than the pixel) of the display, and improves the image quality by covering the periphery of the pixel with a black layer.
The size of a portion (hereinafter, referred to as a window portion) through which emitted light is transmitted without being covered with the black matrix layer does not necessarily have to be the same as that of the pixel. For example, as shown in FIG.
May be arranged so that the window 7 becomes narrower, or as shown in FIG. 3, the window 7 may be arranged so as to be larger than the pixel 2. These relationships are not limited only by the size of the black matrix window,
It is determined by the relative relationship with the size of the pixel portion, the relationship with the viewing angle and the thickness of the substrate, and the like.
【００３２】すなわち、図２の場合、画素（有機ＥＬ素
子）２部分が比較的大きく、ブラックマトリクスの窓部
７をこの画素２部分より小さくしたものである。この場
合の視野角は、それぞれ画素の端部からの対角線上にあ
る窓部により規制される。また、図３の場合、画素（有
機ＥＬ素子）２部分が比較的小さく、ブラックマトリク
スの窓部７をこの画素部分より大きくしたものである。
この場合の視野角は、それぞれ画素の端部からの放射線
上にある窓部７の端部により規制される。That is, in the case of FIG. 2, the pixel (organic EL element) 2 portion is relatively large, and the window portion 7 of the black matrix is smaller than the pixel 2 portion. In this case, the viewing angle is regulated by a window diagonally from the end of each pixel. In the case of FIG. 3, the pixel (organic EL element) 2 portion is relatively small, and the window portion 7 of the black matrix is larger than this pixel portion.
The viewing angle in this case is regulated by the end of the window 7 on the radiation from the end of the pixel.
【００３３】これらの位置関係は、ディスプレイの仕様
等により最適なものとなるように画素毎に適宜調整すれ
ばよい。図２の場合には、ブラックマトリクスによりく
っきりとした画素パターンが得られるが、大画面である
が故に画素同士が近接してしまい、高密度、高精細画面
を得難くなり、電極の配線、駆動回路等内部構造に制約
を生じやすくなる。従って、比較的接近したものが少な
いセグメントタイプの表示等に適しているといえる。These positional relationships may be appropriately adjusted for each pixel so as to be optimal according to the specifications of the display and the like. In the case of FIG. 2, a clear pixel pattern can be obtained by the black matrix. However, because of the large screen, the pixels are close to each other, making it difficult to obtain a high-density and high-definition screen. Restrictions easily occur in the internal structure such as a circuit. Therefore, it can be said that it is suitable for display of a segment type in which objects relatively close to each other are few.
【００３４】図３の場合には視野角を確保しやすく、窓
部７が大きい分発光光の取り出し効率がよく、ディスプ
レイ設計も容易である。しかしながら、ブラックマトリ
クス６の投影部分、つまりブラックマトリクス６により
隠される部分と、発光領域となる有機ＥＬ構造体２との
間には所定の領域（隙間）ｇを有することとなる。つま
り、この領域ｇでは非発光部分に形成されている補助電
極８等が外部光に曝される。In the case of FIG. 3, the viewing angle can be easily secured, the efficiency of taking out the emitted light is good because the window 7 is large, and the display design is easy. However, a predetermined region (gap) g is provided between the projected portion of the black matrix 6, that is, the portion hidden by the black matrix 6, and the organic EL structure 2 that becomes the light emitting region. That is, in this region g, the auxiliary electrode 8 and the like formed in the non-light emitting portion are exposed to external light.
【００３５】補助電極８は、ＩＴＯ透明電極２１よりも
低抵抗なため、発光領域の近傍に位置することによっ
て、ＩＴＯ透明電極２１を電気的に接続し、発光部まで
の電圧降下による輝度ムラを防ぐ効果がある。また、駆
動電圧の低下により、リークによる不良が抑制され、信
頼性の高い有機ＥＬ表示装置を製造できる。Since the auxiliary electrode 8 has a lower resistance than the ITO transparent electrode 21, the auxiliary electrode 8 is located near the light emitting region to electrically connect the ITO transparent electrode 21 and to reduce the luminance unevenness due to the voltage drop to the light emitting portion. Has the effect of preventing. In addition, due to a decrease in driving voltage, defects due to leakage are suppressed, and a highly reliable organic EL display device can be manufactured.
【００３６】ところが、この補助電極８は、通常、低抵
抗化のために、Ａｌ等の金属により形成されている。こ
のため、反射率が高く、発光部の近傍が外光の反射を受
けて、全体の表示品質が落ちてしまう場合がある。However, the auxiliary electrode 8 is usually formed of a metal such as Al for lowering the resistance. For this reason, the reflectivity is high, and the vicinity of the light emitting unit may be reflected by external light, and the overall display quality may be degraded.
【００３７】そこで、例えば図５、図６に示すように、
ＩＴＯ透明電極２１と補助電極８とが一部重なるように
して積層するとよい。この例では、図４に示すように補
助電極８は、ＩＴＯ透明電極２１と一部重なって、これ
を取り囲むようにして形成されている。この重なった部
分は前記所定の領域ｇに相当するか、これより僅かに広
い領域となっている。このようにすることにより、基板
１側（表示側）から見たとき、ＩＴＯ透明電極２１が外
光からの反射防止膜の役目を果たすため、表示品質が向
上する。つまり、低抵抗化のために設けた補助電極から
反射した外光９をそのすぐ下（表示面から見て上）のＩ
ＴＯ透明電極内で干渉させることにより、反射率を低減
させ、表示品質を向上させている。この積層構造によ
り、外光９の反射が低下し、ある程度の表示品質が保て
ることとなる。なお、この場合にはブラックマトリクス
層を省略してもよい。Therefore, for example, as shown in FIGS.
The ITO transparent electrode 21 and the auxiliary electrode 8 may be stacked so as to partially overlap. In this example, as shown in FIG. 4, the auxiliary electrode 8 partially overlaps the ITO transparent electrode 21 and is formed so as to surround it. This overlapped portion corresponds to the predetermined region g or is a region slightly wider than the predetermined region g. With this configuration, when viewed from the substrate 1 side (display side), the ITO transparent electrode 21 functions as an anti-reflection film from external light, so that display quality is improved. That is, the external light 9 reflected from the auxiliary electrode provided for lowering the resistance is applied to the I
By causing interference in the TO transparent electrode, the reflectance is reduced and the display quality is improved. With this laminated structure, the reflection of external light 9 is reduced, and a certain level of display quality can be maintained. In this case, the black matrix layer may be omitted.
【００３８】なお、図６において、ＩＴＯ透明電極２１
の周囲には、さらにパッシベイション層２２が形成され
た後、有機層等が積層されて行く。なお、この場合も、
ＩＴＯ透明電極２１と補助電極８との間に耐食性の高い
窒化チタン等のバリア層を設けることがある。このよう
な構造は、比較的密集した画素が並ぶドットマトリクス
タイプのディスプレイ等に適している。In FIG. 6, the ITO transparent electrode 21
After a passivation layer 22 is further formed around the substrate, an organic layer and the like are laminated. In this case,
A barrier layer such as titanium nitride having high corrosion resistance may be provided between the ITO transparent electrode 21 and the auxiliary electrode 8. Such a structure is suitable for a dot matrix type display in which relatively dense pixels are arranged.
【００３９】補助電極層の材質としては、Ａｌ、Ａｕ等
の金属、あるいはＡｌとＳｉ、またはＳｃ，Ｎｂ，Ｚ
ｒ，Ｈｆ，Ｎｄ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｍｎ，Ｎ
ｉ，Ｐｄ，ＰｔおよびＷ等の遷移元素との合金が挙げら
れるが、中でもＡｌおよびＡｌ合金が好ましい。Ａｌ合
金を用いる場合、Ａｌと遷移元素の１種以上との合金が
好ましく、その際Ａｌは９０at％以上、特に９５at％以
上であることが好ましい。The material of the auxiliary electrode layer is a metal such as Al or Au, or Al and Si, or Sc, Nb, or Z.
r, Hf, Nd, Ta, Cu, Cr, Mo, Mn, N
Examples include alloys with transition elements such as i, Pd, Pt, and W. Among them, Al and an Al alloy are preferable. When an Al alloy is used, an alloy of Al and one or more transition elements is preferable. In this case, the Al content is preferably 90 at% or more, particularly preferably 95 at% or more.
【００４０】補助電極層は、シート抵抗が１Ω／□以
下、特に０．５Ω／□以下が好ましい。その下限は特に
規制されるものではないが、通常０．１Ω／□程度であ
る。The sheet resistance of the auxiliary electrode layer is preferably 1 Ω / □ or less, particularly preferably 0.5 Ω / □ or less. The lower limit is not particularly limited, but is usually about 0.1 Ω / □.
【００４１】補助電極層とＩＴＯ透明電極（ホール注入
電極）との積層部分を設けた非発光部の可視光域の光に
対する反射率は８０％以下、特に３０％以下であること
が好ましい。The reflectance of the non-light emitting portion provided with the laminated portion of the auxiliary electrode layer and the ITO transparent electrode (hole injection electrode) with respect to light in the visible light region is preferably 80% or less, particularly preferably 30% or less.
【００４２】補助電極層の膜厚は、特に制限されない
が、好ましくは１０〜２０００nm、特に２０〜１０００
nm、さらには１００〜５００nm程度が好ましい。The thickness of the auxiliary electrode layer is not particularly limited, but is preferably 10 to 2000 nm, and more preferably 20 to 1000 nm.
nm, preferably about 100 to 500 nm.
【００４３】このように、基板の有機ＥＬ構造体と反対
の面に補助基板を設け、この補助基板の基板と対向する
面にブラックマトリクス層を設けることにより、取り扱
いが容易となり、極めて簡単な構成で表示品質を向上さ
せることができる。As described above, the auxiliary substrate is provided on the surface of the substrate opposite to the organic EL structure, and the black matrix layer is provided on the surface of the auxiliary substrate facing the substrate. Can improve the display quality.
【００４４】なお、図６の例では、有機ＥＬ構造体２を
ＩＴＯ透明電極２１と、パッシベイション層２２と、ホ
ール注入輸送層２３と、発光層２４と、電子注入輸送層
２５と、電子注入電極２６とを有する構造物として記載
しているが、このような構造に限定されるものではな
く、例えばホール注入輸送層２２や電子注入輸送層２４
等を省略してもよいし、発光層との混合層等としてもよ
い。図において、封止板等は省略している。また、その
他の構成は図１〜３と同様である。In the example of FIG. 6, the organic EL structure 2 is composed of an ITO transparent electrode 21, a passivation layer 22, a hole injection / transport layer 23, a light emitting layer 24, an electron injection / transport layer 25, and an electron Although described as a structure having the injection electrode 26, the present invention is not limited to such a structure. For example, the hole injection / transport layer 22 or the electron injection / transport layer 24
May be omitted, or may be a mixed layer with the light emitting layer. In the figure, a sealing plate and the like are omitted. Other configurations are the same as those in FIGS.
【００４５】本発明の有機ＥＬ素子は、ホール注入電極
と補助電極との間に、窒化チタン（ＴｉＮ）等のバリア
層を設けてもよい。バリア層としては、補助電極のエッ
チャントに対し、十分な耐エッチング性を有することが
好ましく、クロム、窒化チタン、窒化モリブデン、窒化
タンタル、窒化クロム等の窒化物、コバルトシリサイ
ド、クロムシリサイド、モリブデンシリサイド、タング
ステンシリサイド、チタンシリサイド等のシリサイド化
合物、チタンカーバイド、ドープト炭化シリコン等を好
ましく挙げることができる。これらの中でも、窒化チタ
ン、クロムが耐腐食性が高く、好ましい。窒化チタンの
窒化率は５〜５５％でよい。In the organic EL device of the present invention, a barrier layer such as titanium nitride (TiN) may be provided between the hole injection electrode and the auxiliary electrode. The barrier layer preferably has sufficient etching resistance to the etchant of the auxiliary electrode, and includes chromium, titanium nitride, molybdenum nitride, tantalum nitride, nitride such as chromium nitride, cobalt silicide, chromium silicide, molybdenum silicide, Preferable examples include silicide compounds such as tungsten silicide and titanium silicide, titanium carbide, and doped silicon carbide. Among them, titanium nitride and chromium are preferable because of their high corrosion resistance. The nitride ratio of titanium nitride may be 5 to 55%.
【００４６】また、バリア層の膜厚は、５〜２００nm、
特に３０〜１００nmが好ましい。The thickness of the barrier layer is 5 to 200 nm,
Particularly, it is preferably from 30 to 100 nm.
【００４７】次に、本発明の有機ＥＬディスプレイを構
成する有機ＥＬ構造体について説明する。Next, the organic EL structure constituting the organic EL display of the present invention will be described.
【００４８】ホール注入電極は、通常基板側から発光し
た光を取り出す構成であるため、透明ないし半透明な電
極が好ましい。透明電極としては、ＩＴＯ（錫ドープ酸
化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウ
ム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ2 、Ｉｎ2Ｏ3 等が挙げられる
が、好ましくはＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、Ｉ
ＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）が好ましい。ＩＴＯ
は、通常Ｉｎ2 Ｏ3 とＳｎＯとを化学量論組成で含有す
るが、Ｏ量は多少これから偏倚していてもよい。Since the hole injection electrode is generally configured to extract light emitted from the substrate side, a transparent or translucent electrode is preferable. Examples of the transparent electrode include ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO 2 , In 2 O 3, and the like.
ZO (zinc-doped indium oxide) is preferred. ITO
Usually contains In 2 O 3 and SnO in a stoichiometric composition, but the O amount may be slightly deviated from this.
【００４９】ホール注入電極は、発光波長帯域、通常３
５０〜８００nm、特に各発光光に対する光透過率が８０
％以上、特に９０％以上であることが好ましい。発光光
はホール注入電極を通って取り出されるため、その透過
率が低くなると、発光層からの発光自体が減衰され、発
光素子として必要な輝度が得られなくなる傾向がある。
ただし、一方のみから発光光を取り出すときには、取り
出し側と反対側の発光光に対し８０％以上であればよ
い。両側から取り出すときには、各発光光に対し８０％
以上であればよい。The hole injection electrode has an emission wavelength band, usually 3
50-800 nm, especially 80% light transmittance for each emitted light.
%, Particularly preferably 90% or more. Since the emitted light is extracted through the hole injection electrode, if the transmittance is low, the emission itself from the light emitting layer is attenuated, and the luminance required for the light emitting element tends not to be obtained.
However, when the emitted light is extracted from only one side, it is sufficient that the emitted light is at least 80% of the emitted light on the side opposite to the extraction side. 80% for each emitted light when taking out from both sides
All that is required is the above.
【００５０】ホール注入電極の厚さは、ホール注入を十
分行える一定以上の厚さを有すれば良く、好ましくは１
０〜５００nm、さらには３０〜３００nmの範囲が好まし
い。また、その上限は特に制限はないが、あまり厚いと
剥離、加工性の悪化、応力による障害、光透過性の低下
や、表面の粗さによるリーク等の問題が生じてくる。逆
に厚さが薄すぎると、製造時の膜強度やホール輸送能
力、抵抗値の点で問題がある。The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more capable of sufficiently injecting holes, and is preferably 1 or more.
The range is preferably from 0 to 500 nm, more preferably from 30 to 300 nm. The upper limit is not particularly limited. However, if the thickness is too large, problems such as peeling, deterioration in workability, damage due to stress, reduction in light transmittance, and leakage due to surface roughness occur. On the other hand, if the thickness is too small, there is a problem in film strength, hole transport ability, and resistance value during production.
【００５１】このホール注入電極層は蒸着法等によって
も形成できるが、好ましくはスパッタ法により形成する
ことが好ましい。The hole injection electrode layer can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method.
【００５２】電子注入電極としては、低仕事関数の物質
が好ましく、例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚ
ｎ、Ｚｒ等の金属元素単体、または安定性を向上させる
ためにそれらを含む２成分、３成分の合金系を用いるこ
とが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａ
ｇ：０．１〜５０at％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１
〜１２at％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０at％）、
Ａｌ・Ｃａ（Ｃａ：０．０１〜２０at％）等が挙げられ
る。なお、電子注入電極は蒸着法やスパッタ法でも形成
することが可能である。As the electron injection electrode, a substance having a low work function is preferable. For example, K, Li, Na, Mg, La, C
e, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, Sn, Z
It is preferable to use a single metal element such as n or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them for improving the stability. As an alloy system, for example, Ag · Mg (A
g: 0.1 to 50 at%), Al.Li (Li: 0.01)
１２12 at%), In · Mg (Mg: 50 to 80 at%),
Al.Ca (Ca: 0.01 to 20 at%) and the like. Note that the electron injection electrode can also be formed by an evaporation method or a sputtering method.
【００５３】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、０．５nm以上、
好ましくは１nm以上とすればよい。また、その上限値に
は特に制限はないが、通常膜厚は１〜５００nm程度とす
ればよい。電子注入電極の上には、さらに保護電極を設
けてもよい。The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons.
Preferably, the thickness may be 1 nm or more. The upper limit is not particularly limited, but the thickness may be generally about 1 to 500 nm. A protective electrode may be further provided on the electron injection electrode.
【００５４】保護電極の厚さは、電子注入効率を確保
し、水分や酸素あるいは有機溶媒の進入を防止するた
め、一定以上の厚さとすればよく、好ましくは５０nm以
上、さらには１００nm以上、特に１００〜１０００nmの
範囲が好ましい。保護電極層が薄すぎると、その効果が
得られず、また、保護電極層の段差被覆性が低くなって
しまい、端子電極との接続が十分ではなくなる。一方、
保護電極層が厚すぎると、保護電極層の応力が大きくな
るため、ダークスポットの成長速度が速くなってしま
う。The thickness of the protective electrode may be a certain thickness or more, preferably 50 nm or more, more preferably 100 nm or more, in order to secure electron injection efficiency and to prevent entry of moisture, oxygen or an organic solvent. The range of 100 to 1000 nm is preferred. If the protective electrode layer is too thin, the effect cannot be obtained, and the step coverage of the protective electrode layer is reduced, and the connection with the terminal electrode is not sufficient. on the other hand,
If the protective electrode layer is too thick, the stress of the protective electrode layer increases, so that the growth rate of dark spots increases.
【００５５】電子注入電極と保護電極とを併せた全体の
厚さとしては、特に制限はないが、通常１００〜１００
０nm程度とすればよい。The total thickness of the electron injecting electrode and the protective electrode is not particularly limited, but is usually 100 to 100.
It may be about 0 nm.
【００５６】電極成膜後に、前記保護電極に加えて、Ｓ
ｉＯX 等の無機材料、テフロン、塩素を含むフッ化炭素
重合体等の有機材料等を用いた保護膜を形成してもよ
い。保護膜は透明でも不透明であってもよく、保護膜の
厚さは５０〜１２００nm程度とする。保護膜は、前記の
反応性スパッタ法の他に、一般的なスパッタ法、蒸着
法、ＰＥＣＶＤ法等により形成すればよい。After forming the electrode, in addition to the protective electrode, S
inorganic materials iO X such as Teflon, a protective film may be formed using an organic material such as fluorocarbon polymers containing chlorine. The protective film may be transparent or opaque, and the thickness of the protective film is about 50 to 1200 nm. The protective film may be formed by a general sputtering method, an evaporation method, a PECVD method, or the like, in addition to the reactive sputtering method.
【００５７】さらに、素子の有機層や電極の酸化を防ぐ
ために、素子上に封止層を形成することが好ましい。封
止層は、湿気の侵入を防ぐために、接着性樹脂層を用い
て、封止板を接着し密封する。封止ガスは、Ａｒ、Ｈ
ｅ、Ｎ2 等の不活性ガス等が好ましい。また、この封止
ガスの水分含有量は、１００ppm 以下、より好ましくは
１０ppm 以下、特には１ppm 以下であることが好まし
い。この水分含有量に下限値は特にないが、通常０．１
ppm 程度である。Further, it is preferable to form a sealing layer on the element in order to prevent oxidation of the organic layer and the electrode of the element. The sealing layer adheres and seals the sealing plate using an adhesive resin layer in order to prevent moisture from entering. The sealing gas is Ar, H
e, an inert gas such as N 2 and the like are preferable. Further, the moisture content of the sealing gas is preferably 100 ppm or less, more preferably 10 ppm or less, and particularly preferably 1 ppm or less. Although there is no particular lower limit for this water content, it is usually 0.1
It is about ppm.
【００５８】封止板の材料としては、好ましくは平板状
であって、ガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明材
料が挙げられるが、特にガラスが好ましい。このような
ガラス材として、コストの面からアルカリガラスが好ま
しいが、この他、ソーダ石灰ガラス、鉛アルカリガラ
ス、ホウケイ酸ガラス、アルミノケイ酸ガラス、シリカ
ガラス等のガラス組成のものも好ましい。特に、ソーダ
ガラスで、表面処理の無いガラス材が安価に使用でき、
好ましい。封止板としては、ガラス板以外にも、金属
板、プラスチック板等を用いることもできる。The material of the sealing plate is preferably a flat plate, and may be a transparent or translucent material such as glass, quartz, and resin. Glass is particularly preferred. As such a glass material, an alkali glass is preferable from the viewpoint of cost, and in addition, a glass composition such as soda lime glass, lead alkali glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, and silica glass is also preferable. In particular, soda glass, a glass material without surface treatment can be used at low cost,
preferable. As the sealing plate, other than a glass plate, a metal plate, a plastic plate, or the like can be used.
【００５９】封止板は、スペーサーを用いて高さを調整
し、所望の高さに保持してもよい。スペーサーの材料と
しては、樹脂ビーズ、シリカビーズ、ガラスビーズ、ガ
ラスファイバー等が挙げられ、特にガラスビーズ等が好
ましい。スペーサーは、通常、粒径の揃った粒状物であ
るが、その形状は特に限定されるものではなく、スペー
サーとしての機能に支障のないものであれば種々の形状
であってもよい。その大きさとしては、円換算の直径が
１〜２０μm 、より好ましくは１〜１０μm 、特に２〜
８μm が好ましい。このような直径のものは、粒長１０
０μm 以下程度であることが好ましく、その下限は特に
規制されるものではないが、通常１μm程度である。The sealing plate may be maintained at a desired height by adjusting the height using a spacer. Examples of the material of the spacer include resin beads, silica beads, glass beads, and glass fibers, and glass beads are particularly preferable. The spacer is usually a granular material having a uniform particle size, but the shape is not particularly limited, and may be various shapes as long as it does not hinder the function as the spacer. As the size, the diameter in terms of a circle is 1 to 20 μm, more preferably 1 to 10 μm, and especially 2 to 20 μm.
8 μm is preferred. Those having such a diameter have a grain length of 10
It is preferably about 0 μm or less, and the lower limit is not particularly limited, but is usually about 1 μm.
【００６０】なお、封止板に凹部を形成した場合には、
スペーサーは使用しても、使用しなくてもよい。使用す
る場合の好ましい大きさとしては、前記範囲でよいが、
特に２〜８μm の範囲が好ましい。When a recess is formed in the sealing plate,
Spacers may or may not be used. The preferred size when used is within the above range,
Particularly, the range of 2 to 8 μm is preferable.
【００６１】スペーサーは、予め封止用接着剤中に混入
されていても、接着時に混入してもよい。封止用接着剤
中におけるスペーサーの含有量は、好ましくは０．０１
〜３０wt％、より好ましくは０．１〜５wt％である。The spacer may be mixed in the sealing adhesive in advance, or may be mixed at the time of bonding. The content of the spacer in the sealing adhesive is preferably 0.01
-30 wt%, more preferably 0.1-5 wt%.
【００６２】接着剤としては、安定した接着強度が保
て、気密性が良好なものであれば特に限定されるもので
はないが、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ
樹脂接着剤を用いることが好ましい。The adhesive is not particularly limited as long as it can maintain stable adhesive strength and has good airtightness, but it is preferable to use a cationic curing type ultraviolet curing epoxy resin adhesive. .
【００６３】次に、有機ＥＬ素子に設けられる有機物層
について述べる。Next, an organic layer provided in the organic EL device will be described.
【００６４】発光層は、ホール（正孔）および電子の注
入機能、それらの輸送機能、ホールと電子の再結合によ
り励起子を生成させる機能を有する。発光層には、比較
的電子的にニュートラルな化合物を用いることで、電子
とホールを容易かつバランス良く注入・輸送することが
できる。The light emitting layer has a function of injecting holes (holes) and electrons, a function of transporting them, and a function of generating excitons by recombination of holes and electrons. By using a relatively electronically neutral compound for the light emitting layer, electrons and holes can be easily and well-balanced injected and transported.
【００６５】ホール注入輸送層は、ホール注入電極から
のホールの注入を容易にする機能、ホールを安定に輸送
する機能および電子を妨げる機能を有するものであり、
電子注入輸送層は、電子注入電極からの電子の注入を容
易にする機能、電子を安定に輸送する機能およびホール
を妨げる機能を有するものである。これらの層は、発光
層に注入されるホールや電子を増大・閉じこめさせ、再
結合領域を最適化させ、発光効率を改善する。The hole injecting / transporting layer has a function of facilitating the injection of holes from the hole injecting electrode, a function of stably transporting holes, and a function of hindering electrons.
The electron injection transport layer has a function of facilitating injection of electrons from the electron injection electrode, a function of stably transporting electrons, and a function of preventing holes. These layers increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve luminous efficiency.
【００６６】発光層の厚さ、ホール注入輸送層の厚さお
よび電子注入輸送層の厚さは、特に制限されるものでは
なく、形成方法によっても異なるが、通常５〜５００nm
程度、特に１０〜３００nmとすることが好ましい。The thickness of the light emitting layer, the thickness of the hole injecting and transporting layer and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited, and vary depending on the forming method.
It is preferable that the thickness be in the range of 10 to 300 nm.
【００６７】ホール注入輸送層の厚さおよび電子注入輸
送層の厚さは、再結合・発光領域の設計によるが、発光
層の厚さと同程度または１／１０〜１０倍程度とすれば
よい。ホールまたは電子の各々の注入層と輸送層とを分
ける場合は、注入層は１nm以上、輸送層は１nm以上とす
るのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上
限は、通常、注入層で５００nm程度、輸送層で５００nm
程度である。このような膜厚については、注入輸送層を
２層設けるときも同じである。The thickness of the hole injecting / transporting layer and the thickness of the electron injecting / transporting layer depend on the design of the recombination / light emitting region, but may be about the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times. When the hole or electron injection layer and the transport layer are separated from each other, it is preferable that the injection layer has a thickness of 1 nm or more and the transport layer has a thickness of 1 nm or more. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 500 nm for the injection layer and 500 nm for the transport layer.
It is about. Such a film thickness is the same when two injection / transport layers are provided.
【００６８】有機ＥＬ素子の発光層には、発光機能を有
する化合物である蛍光性物質を含有させる。このような
蛍光性物質としては、例えば、特開昭６３−２６４６９
２号公報に開示されているような化合物、例えばキナク
リドン、ルブレン、スチリル系色素等の化合物から選択
される少なくとも１種が挙げられる。また、トリス（８
−キノリノラト）アルミニウム等の８−キノリノールま
たはその誘導体を配位子とする金属錯体色素などのキノ
リン誘導体、テトラフェニルブタジエン、アントラセ
ン、ペリレン、コロネン、１２−フタロペリノン誘導体
等が挙げられる。さらには、特願平６−１１０５６９号
のフェニルアントラセン誘導体、特願平６−１１４４５
６号のテトラアリールエテン誘導体等を用いることがで
きる。The light emitting layer of the organic EL device contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of such a fluorescent substance include, for example, JP-A-63-26469.
No. 2 discloses at least one compound selected from compounds such as quinacridone, rubrene, and styryl dyes. Also, Tris (8
-Quinolinolato) quinoline derivatives such as metal complex dyes having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand such as aluminum, tetraphenylbutadiene, anthracene, perylene, coronene, and 12-phthaloperinone derivatives. Further, phenylanthracene derivatives disclosed in Japanese Patent Application No. 6-110569, and Japanese Patent Application No. 6-11445.
No. 6 tetraarylethene derivative or the like can be used.
【００６９】また、それ自体で発光が可能なホスト物質
と組み合わせて使用することが好ましく、ドーパントと
しての使用が好ましい。このような場合の発光層におけ
る化合物の含有量は０．０１〜２０wt% 、さらには０．
１〜１５wt% であることが好ましい。ホスト物質と組み
合わせて使用することによって、ホスト物質の発光波長
特性を変化させることができ、長波長に移行した発光が
可能になるとともに、素子の発光効率や安定性が向上す
る。Further, it is preferable to use in combination with a host substance capable of emitting light by itself, and it is preferable to use it as a dopant. In such a case, the content of the compound in the light emitting layer is 0.01 to 20% by weight, and more preferably 0.1 to 20% by weight.
It is preferably 1 to 15% by weight. When used in combination with a host substance, the emission wavelength characteristics of the host substance can be changed, light emission shifted to a longer wavelength becomes possible, and the luminous efficiency and stability of the device are improved.
【００７０】ホスト物質としては、キノリノラト錯体が
好ましく、さらには８−キノリノールまたはその誘導体
を配位子とするアルミニウム錯体が好ましい。このよう
なアルミニウム錯体としては、特開昭６３−２６４６９
２号、特開平３−２５５１９０号、特開平５−７０７３
３号、特開平５−２５８８５９号、特開平６−２１５８
７４号等に開示されているものを挙げることができる。The host substance is preferably a quinolinolato complex, and more preferably an aluminum complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand. Such an aluminum complex is disclosed in JP-A-63-26469.
No. 2, JP-A-3-255190, JP-A-5-7073
3, JP-A-5-258859, JP-A-6-2158
No. 74 and the like.
【００７１】具体的には、まず、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム、ビス（８−キノリノラト）マグネ
シウム、ビス（ベンゾ｛ｆ｝−８−キノリノラト）亜
鉛、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ムオキシド、トリス（８−キノリノラト）インジウム、
トリス（５−メチル−８−キノリノラト）アルミニウ
ム、８−キノリノラトリチウム、トリス（５−クロロ−
８−キノリノラト）ガリウム、ビス（５−クロロ−８−
キノリノラト）カルシウム、５，７−ジクロル−８−キ
ノリノラトアルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−
８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム、ポリ［亜
鉛（II）−ビス（８−ヒドロキシ−５−キノリニル）メ
タン］等がある。Specifically, first, tris (8-quinolinolato) aluminum, bis (8-quinolinolato) magnesium, bis (benzo {f} -8-quinolinolato) zinc, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum Oxide, tris (8-quinolinolato) indium,
Tris (5-methyl-8-quinolinolato) aluminum, 8-quinolinolatolithium, tris (5-chloro-
8-quinolinolato) gallium, bis (5-chloro-8-
Quinolinolato) calcium, 5,7-dichloro-8-quinolinolatoaluminum, tris (5,7-dibromo-
8-hydroxyquinolinolato) aluminum and poly [zinc (II) -bis (8-hydroxy-5-quinolinyl) methane].
【００７２】また、８−キノリノールまたはその誘導体
のほかに他の配位子を有するアルミニウム錯体であって
もよく、このようなものとしては、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（フェノラト）アルミニウム(III)
、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（オルト−
クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−
８−キノリノラト）（メタークレゾラト）アルミニウム
(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ
−クレゾラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル
−８−キノリノラト）（オルト−フェニルフェノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノ
ラト）（メタ−フェニルフェノラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）（２，３−ジメチルフェノ
ラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キ
ノリノラト）（２，６−ジメチルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（３，４−ジメチルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（３，５−ジメ
チルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２，６−ジフェニルフェノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラ
ト）（２，４，６−トリフェニルフェノラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）
（２，３，６−トリメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（２，
３，５，６−テトラメチルフェノラト）アルミニウム(I
II) 、ビス（２−メチル−８−キノリノラト）（１−ナ
フトラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−８
−キノリノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(II
I) 、ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）
（オルト−フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）（パラ−
フェニルフェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，
４−ジメチル−８−キノリノラト）（メタ−フェニルフ
ェノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチ
ル−８−キノリノラト）（３，５−ジメチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２，４−ジメチル−８
−キノリノラト）（３，５−ジ−tert−ブチルフェノラ
ト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４−エチ
ル−８−キノリノラト）（パラ−クレゾラト）アルミニ
ウム(III) 、ビス（２−メチル−４−メトキシ−８−キ
ノリノラト）（パラ−フェニルフェノラト）アルミニウ
ム(III) 、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリ
ノラト）（オルト−クレゾラト）アルミニウム(III) 、
ビス（２−メチル−６−トリフルオロメチル−８−キノ
リノラト）（２−ナフトラト）アルミニウム(III) 等が
ある。Further, in addition to 8-quinolinol or its derivative, an aluminum complex having another ligand may be used, such as bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (phenolato) aluminum (III)
, Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-
Cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-
8-quinolinolato) (meth-cresolate) aluminum
(III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (ortho-phenylphenolate)
Aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (meth-phenylphenolato) aluminum (II
I), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) (2,3-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,6-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(3,4-dimethylphenolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III) ), Bis (2-methyl-8)
-Quinolinolato) (2,6-diphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,4,6-triphenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl- 8-quinolinolato)
(2,3,6-trimethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (2,
3,5,6-tetramethylphenolato) aluminum (I
II), bis (2-methyl-8-quinolinolato) (1-naphthrat) aluminum (III), bis (2-methyl-8
-Quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (II
I), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato)
(Ortho-phenylphenolato) aluminum (III),
Bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (para-
Phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,
4-dimethyl-8-quinolinolato) (meta-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) (3,5-dimethylphenolato) aluminum (III), bis (2 4-dimethyl-8
-Quinolinolato) (3,5-di-tert-butylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4-ethyl-8-quinolinolato) (para-cresolato) aluminum (III), bis (2-methyl) -4-methoxy-8-quinolinolato) (para-phenylphenolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-cyano-8-quinolinolato) (ortho-cresolato) aluminum (III),
Bis (2-methyl-6-trifluoromethyl-8-quinolinolato) (2-naphthrat) aluminum (III);
【００７３】このほか、ビス（２−メチル−８−キノリ
ノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−ビス（２−
メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス
（２，４−ジメチル−８−キノリノラト）アルミニウム
(III) −μ−オキソ−ビス（２，４−ジメチル−８−キ
ノリノラト）アルミニウム(III) 、ビス（４−エチル−
２−メチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −
μ−オキソ−ビス（４−エチル−２−メチル−８−キノ
リノラト）アルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−４
−メトキシキノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オ
キソ−ビス（２−メチル−４−メトキシキノリノラト）
アルミニウム(III) 、ビス（５−シアノ−２−メチル−
８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ−オキソ−
ビス（５−シアノ−２−メチル−８−キノリノラト）ア
ルミニウム(III) 、ビス（２−メチル−５−トリフルオ
ロメチル−８−キノリノラト）アルミニウム(III) −μ
−オキソ−ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル
−８−キノリノラト）アルミニウム(III) 等であっても
よい。In addition, bis (2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-
Methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum
(III) -μ-oxo-bis (2,4-dimethyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (4-ethyl-
2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III)-
μ-oxo-bis (4-ethyl-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-4
-Methoxyquinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-bis (2-methyl-4-methoxyquinolinolato)
Aluminum (III), bis (5-cyano-2-methyl-
8-quinolinolato) aluminum (III) -μ-oxo-
Bis (5-cyano-2-methyl-8-quinolinolato) aluminum (III), bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) -μ
-Oxo-bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) aluminum (III) and the like.
【００７４】このほかのホスト物質としては、特願平６
−１１０５６９号に記載のフェニルアントラセン誘導体
や特願平６−１１４４５６号に記載のテトラアリールエ
テン誘導体なども好ましい。Other host substances include Japanese Patent Application No.
Also preferred are phenylanthracene derivatives described in -110569 and tetraarylethene derivatives described in Japanese Patent Application No. 6-114456.
【００７５】発光層は電子注入輸送層を兼ねたものであ
ってもよく、このような場合はトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム等を使用することが好ましい。これら
の蛍光性物質を蒸着すればよい。The light emitting layer may also serve as an electron injection / transport layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. These fluorescent substances may be deposited.
【００７６】また、発光層は、必要に応じて、少なくと
も１種のホール注入輸送性化合物と少なくとも１種の電
子注入輸送性化合物との混合層とすることも好ましく、
さらにはこの混合層中にドーパントを含有させることが
好ましい。このような混合層における化合物の含有量
は、０．０１〜２０wt% 、さらには０．１〜１５wt% と
することが好ましい。The light emitting layer is preferably a mixed layer of at least one kind of hole injecting and transporting compound and at least one kind of electron injecting and transporting compound, if necessary.
Further, it is preferable that a dopant is contained in the mixed layer. The content of the compound in such a mixed layer is preferably 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.1 to 15% by weight.
【００７７】混合層では、キャリアのホッピング伝導パ
スができるため、各キャリアは極性的に有利な物質中を
移動し、逆の極性のキャリア注入は起こりにくくなるた
め、有機化合物がダメージを受けにくくなり、素子寿命
がのびるという利点がある。また、前述のドーパントを
このような混合層に含有させることにより、混合層自体
のもつ発光波長特性を変化させることができ、発光波長
を長波長に移行させることができるとともに、発光強度
を高め、素子の安定性を向上させることもできる。In the mixed layer, a carrier hopping conduction path is formed, so that each carrier moves in a material having a favorable polarity and injection of a carrier having the opposite polarity is less likely to occur, so that the organic compound is less likely to be damaged. This has the advantage that the element life is extended. Further, by including the above-described dopant in such a mixed layer, the emission wavelength characteristics of the mixed layer itself can be changed, the emission wavelength can be shifted to a longer wavelength, and the emission intensity is increased, The stability of the device can be improved.
【００７８】混合層に用いられるホール注入輸送性化合
物および電子注入輸送性化合物は、各々、後述のホール
注入輸送層用の化合物および電子注入輸送層用の化合物
の中から選択すればよい。なかでも、ホール注入輸送層
用の化合物としては、強い蛍光を持ったアミン誘導体、
例えばホール輸送材料であるトリフェニルジアミン誘導
体、さらにはスチリルアミン誘導体、芳香族縮合環を持
つアミン誘導体を用いるのが好ましい。The hole injecting / transporting compound and the electron injecting / transporting compound used in the mixed layer may be selected from a compound for the hole injecting / transporting layer and a compound for the electron injecting / transporting layer, respectively, which will be described later. Among them, compounds for the hole injection transport layer include amine derivatives having strong fluorescence,
For example, it is preferable to use a triphenyldiamine derivative which is a hole transport material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring.
【００７９】電子注入輸送性の化合物としては、キノリ
ン誘導体、さらには８−キノリノールないしその誘導体
を配位子とする金属錯体、特にトリス（８−キノリノラ
ト）アルミニウム（Ａｌｑ3 ）を用いることが好まし
い。また、上記のフェニルアントラセン誘導体、テトラ
アリールエテン誘導体を用いるのも好ましい。As the compound capable of injecting and transporting electrons, it is preferable to use a quinoline derivative, furthermore a metal complex having 8-quinolinol or a derivative thereof as a ligand, particularly tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ). It is also preferable to use the above-mentioned phenylanthracene derivatives and tetraarylethene derivatives.
【００８０】ホール注入輸送層用の化合物としては、強
い蛍光を持ったアミン誘導体、例えば上記のホール輸送
材料であるトリフェニルジアミン誘導体、さらにはスチ
リルアミン誘導体、芳香族縮合環を持つアミン誘導体を
用いるのが好ましい。As the compound for the hole injecting and transporting layer, an amine derivative having strong fluorescence, for example, a triphenyldiamine derivative as the above-described hole transporting material, a styrylamine derivative, or an amine derivative having an aromatic condensed ring is used. Is preferred.
【００８１】この場合の混合比は、それぞれのキャリア
移動度とキャリア濃度によるが、一般的には、ホール注
入輸送性化合物の化合物／電子注入輸送機能を有する化
合物の重量比が、１／９９〜９９／１、さらに好ましく
は１０／９０〜９０／１０、特に好ましくは２０／８０
〜８０／２０程度となるようにすることが好ましい。The mixing ratio in this case depends on the respective carrier mobilities and carrier concentrations. In general, the weight ratio of the compound of the hole injecting / transporting compound / the compound having the electron injecting / transporting function is 1/99 to less. 99/1, more preferably 10/90 to 90/10, particularly preferably 20/80
It is preferable to set it to about 80/20.
【００８２】また、混合層の厚さは、分子層一層に相当
する厚み以上で、有機化合物層の膜厚未満とすることが
好ましい。具体的には１〜８５nmとすることが好まし
く、さらには５〜６０nm、特には５〜５０nmとすること
が好ましい。The thickness of the mixed layer is preferably not less than the thickness of one molecular layer and less than the thickness of the organic compound layer. Specifically, the thickness is preferably 1 to 85 nm, more preferably 5 to 60 nm, particularly preferably 5 to 50 nm.
【００８３】また、混合層の形成方法としては、異なる
蒸着源より蒸発させる共蒸着が好ましいが、蒸気圧（蒸
発温度）が同程度あるいは非常に近い場合には、予め同
じ蒸着ボード内で混合させておき、蒸着することもでき
る。混合層は化合物同士が均一に混合している方が好ま
しいが、場合によっては、化合物が島状に存在するもの
であってもよい。発光層は、一般的には、有機蛍光物質
を蒸着するか、あるいは、樹脂バインダー中に分散させ
てコーティングすることにより、発光層を所定の厚さに
形成する。As a method of forming the mixed layer, co-evaporation in which evaporation is performed from different evaporation sources is preferable. However, when the vapor pressures (evaporation temperatures) are the same or very close, the mixed layers are previously mixed in the same evaporation board. Alternatively, it can be deposited. In the mixed layer, it is preferable that the compounds are uniformly mixed, but in some cases, the compounds may exist in an island shape. The light-emitting layer is generally formed to a predetermined thickness by vapor-depositing an organic fluorescent substance or by dispersing and coating the resin in a resin binder.
【００８４】ホール注入輸送層には、例えば、特開昭６
３−２９５６９５号公報、特開平２−１９１６９４号公
報、特開平３−７９２号公報、特開平５−２３４６８１
号公報、特開平５−２３９４５５号公報、特開平５−２
９９１７４号公報、特開平７−１２６２２５号公報、特
開平７−１２６２２６号公報、特開平８−１００１７２
号公報、ＥＰ０６５０９５５Ａ１等に記載されている各
種有機化合物を用いることができる。例えば、テトラア
リールベンジシン化合物（トリアリールジアミンないし
トリフェニルジアミン：ＴＰＤ）、芳香族三級アミン、
ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール
誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサ
ジアゾール誘導体、ポリチオフェン等である。これらの
化合物は、１種のみを用いても、２種以上を併用しても
よい。２種以上を併用するときは、別層にして積層した
り、混合したりすればよい。The hole injecting and transporting layer is described in, for example,
JP-A-3-295695, JP-A-2-191694, JP-A-3-792, JP-A-5-234681
JP, JP-A-5-239455, JP-A-5-5-2
JP-A-99174, JP-A-7-126225, JP-A-7-126226, JP-A-8-100172
Various organic compounds described in JP-A No. 06509555 A1 and the like can be used. For example, a tetraarylbendicine compound (triaryldiamine or triphenyldiamine: TPD), an aromatic tertiary amine,
Examples include hydrazone derivatives, carbazole derivatives, triazole derivatives, imidazole derivatives, oxadiazole derivatives having an amino group, and polythiophene. These compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used in combination, they may be stacked as separate layers or mixed.
【００８５】ホール注入輸送層をホール注入層とホール
輸送層とに分けて設層する場合は、ホール注入輸送層用
の化合物のなかから好ましい組合せを選択して用いるこ
とができる。このとき、ホール注入電極（ＩＴＯ等）側
からイオン化ポテンシャルの小さい化合物の順に積層す
ることが好ましい。また、ホール注入電極表面には薄膜
性の良好な化合物を用いることが好ましい。このような
積層順については、ホール注入輸送層を２層以上設ける
ときも同様である。このような積層順とすることによっ
て、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポ
ットの発生・成長を防ぐことができる。また、素子化す
る場合、蒸着を用いているので１〜１０nm程度の薄い膜
も均一かつピンホールフリーとすることができるため、
ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視部
に吸収をもつような化合物を用いても、発光色の色調変
化や再吸収による効率の低下を防ぐことができる。ホー
ル注入輸送層は、発光層等と同様に上記の化合物を蒸着
することにより形成することができる。When the hole injecting and transporting layer is provided separately as a hole injecting and transporting layer, a preferred combination can be selected from the compounds for the hole injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to laminate the compounds in order from the hole injecting electrode (ITO or the like) with the smallest ionization potential. Further, it is preferable to use a compound having a good thin film property on the surface of the hole injection electrode. Such a stacking order is the same when two or more hole injection transport layers are provided. With such a stacking order, the driving voltage is reduced, and the occurrence of current leakage and the occurrence and growth of dark spots can be prevented. In addition, in the case of forming an element, since a thin film of about 1 to 10 nm can be made uniform and pinhole-free because evaporation is used,
Even if a compound having a small ionization potential and having absorption in the visible region is used for the hole injection layer, it is possible to prevent a change in the color tone of the emission color and a decrease in efficiency due to reabsorption. The hole injecting and transporting layer can be formed by vapor deposition of the above compound in the same manner as the light emitting layer and the like.
【００８６】電子注入輸送層には、トリス（８−キノリ
ノラト）アルミニウム（Ａｌｑ3 ）等の８−キノリノー
ルまたはその誘導体を配位子とする有機金属錯体などの
キノリン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘
導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリ
ン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、ニトロ置換フルオ
レン誘導体等を用いることができる。電子注入輸送層は
発光層を兼ねたものであってもよく、このような場合は
トリス（８−キノリノラト）アルミニウム等を使用する
ことが好ましい。電子注入輸送層の形成は、発光層と同
様に、蒸着等によればよい。The electron injecting / transporting layer is made of a quinoline derivative such as an organometallic complex having 8-quinolinol such as tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq 3 ) or a derivative thereof as a ligand, an oxadiazole derivative, a perylene derivative. , Pyridine derivatives, pyrimidine derivatives, quinoxaline derivatives, diphenylquinone derivatives, nitro-substituted fluorene derivatives, and the like. The electron injection / transport layer may also serve as the light emitting layer. In such a case, it is preferable to use tris (8-quinolinolato) aluminum or the like. The electron injecting and transporting layer may be formed by vapor deposition or the like, similarly to the light emitting layer.
【００８７】電子注入輸送層を電子注入層と電子輸送層
とに分けて積層する場合には、電子注入輸送層用の化合
物の中から好ましい組み合わせを選択して用いることが
できる。このとき、電子注入電極側から電子親和力の値
の大きい化合物の順に積層することが好ましい。このよ
うな積層順については、電子注入輸送層を２層以上設け
るときも同様である。In the case where the electron injecting and transporting layer is divided into an electron injecting layer and an electron transporting layer, a preferable combination can be selected from the compounds for the electron injecting and transporting layer. At this time, it is preferable to stack the compounds in descending order of the electron affinity value from the electron injection electrode side. Such a stacking order is the same when two or more electron injection / transport layers are provided.
【００８８】ホール注入輸送層、発光層および電子注入
輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから、
真空蒸着法を用いることが好ましい。真空蒸着法を用い
た場合、アモルファス状態または結晶粒径が０．１μm
以下の均質な薄膜が得られる。結晶粒径が０．１μm を
超えていると、不均一な発光となり、素子の駆動電圧を
高くしなければならなくなり、ホールの注入効率も著し
く低下する。For forming the hole injection transport layer, the light emitting layer and the electron injection transport layer, a uniform thin film can be formed.
It is preferable to use a vacuum deposition method. When vacuum deposition is used, the amorphous state or the crystal grain size is 0.1 μm
The following homogeneous thin film is obtained. If the crystal grain size exceeds 0.1 μm, non-uniform light emission occurs, the driving voltage of the device must be increased, and the hole injection efficiency is significantly reduced.
【００８９】真空蒸着の条件は特に限定されないが、１
０-4Pa以下の真空度とし、蒸着速度は０．０１〜１nm／
sec 程度とすることが好ましい。また、真空中で連続し
て各層を形成することが好ましい。真空中で連続して形
成すれば、各層の界面に不純物が吸着することを防げる
ため、高特性が得られる。また、素子の駆動電圧を低く
したり、ダークスポットの発生・成長を抑制したりする
ことができる。The conditions for vacuum deposition are not particularly limited.
The degree of vacuum is 0 -4 Pa or less, and the deposition rate is 0.01 to 1 nm /
It is preferable to set it to about sec. Further, it is preferable to form each layer continuously in a vacuum. If they are formed continuously in a vacuum, impurities can be prevented from adsorbing at the interface between the layers, so that high characteristics can be obtained. Further, the driving voltage of the element can be reduced, and the occurrence and growth of dark spots can be suppressed.
【００９０】これら各層の形成に真空蒸着法を用いる場
合において、１層に複数の化合物を含有させる場合、化
合物を入れた各ボートを個別に温度制御して共蒸着する
ことが好ましい。When a plurality of compounds are contained in one layer when a vacuum evaporation method is used for forming each of these layers, it is preferable to co-deposit each boat containing the compounds by individually controlling the temperature.
【００９１】有機ＥＬ素子は、直流駆動やパルス駆動さ
れ、印加電圧は、通常、２〜３０V程度である。The organic EL element is driven by direct current or pulse, and the applied voltage is usually about 2 to 30 V.
【００９２】[0092]
【実施例】以下、本発明の具体的実施例を示し、本発明
をさらに詳細に説明する。 ＜実施例１＞補助基板として、厚さ１．１mmのガラス板
（セントラル硝子社製：ソーダライムガラス）上に、液
晶ディスプレイのカラー化手法として、最も一般的な顔
料分散型のカラーフィルター塗布工程を施した。各色
１．５〜２．０μm のフィルター膜厚となるように塗布
し、パターニングした。カラーフィルターの塗布工程
は、赤を例に説明すると次のように行った。赤色用カラ
ーフィルター液を１０００rpm で５秒間スピンコート
し、１００℃で３分間プリベークした。露光機で２０m
Ｗの紫外線を３０秒照射した後に、約０．１％濃度のＴ
ＭＡＨ水溶液で現像した。現像時間は約１分間であっ
た。その後、塗布する別のカラーフィルター液に溶解し
ないように、２２０℃で１時間キュアし、所定の赤色カ
ラーフィルターパターンを完成した。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail by showing specific examples of the present invention. <Example 1> As an auxiliary substrate, on a 1.1 mm thick glass plate (manufactured by Central Glass Co., Ltd .: soda lime glass), the most common method of applying a color filter of a pigment-dispersed type as a coloration method of a liquid crystal display is Was given. Each color was applied and patterned so as to have a filter thickness of 1.5 to 2.0 μm. The application process of the color filter was performed as follows using red as an example. The color filter solution for red was spin-coated at 1000 rpm for 5 seconds and prebaked at 100 ° C. for 3 minutes. 20m with exposure machine
After irradiating with UV light of W for 30 seconds, about 0.1% concentration of T
Developed with MAH aqueous solution. The development time was about 1 minute. Thereafter, the mixture was cured at 220 ° C. for 1 hour so as not to dissolve in another color filter solution to be applied, thereby completing a predetermined red color filter pattern.
【００９３】他の色（緑、青）は、材料（顔料）が異な
るために、上記の赤色カラーフィルター形成条件とは、
その詳細において異なるものの、ほぼ同様の工程とな
る。なお、この例では製造が比較的容易であるため、カ
ラーフィルターのみを用いているが、蛍光変換フィルタ
ーを用いて緑、赤は色変換を行うことで出力させ、より
高輝度発光の構成とすることも可能であるし、カラーフ
ィルターと蛍光変換フィルターとを積層し、輝度低下の
防止と色純度の向上を両立させるような構成とすること
も可能である。Since the other colors (green and blue) have different materials (pigments), the conditions for forming the red color filter are as follows.
Although the details differ, the steps are substantially the same. In this example, since the manufacture is relatively easy, only a color filter is used. Alternatively, a configuration in which a color filter and a fluorescence conversion filter are laminated to prevent both a reduction in luminance and an improvement in color purity can be adopted.
【００９４】別途ガラス基板上に、ＩＴＯ透明電極（ホ
ール注入電極）をスパッタ法にて１００nm成膜した。得
られたＩＴＯ薄膜を、フォトリソグラフィーの手法によ
りパターニング、エッチング処理し、所定のホール注入
電極パターンとした。さらに、補助電極としてＡｌおよ
びＴｉＮをパターニングした。その後、絶縁膜としてポ
リイミドを３００nmの厚さに塗布し、パターニングして
ホール注入電極、補助電極および絶縁膜のパターンを得
た。このとき、カラーフィルター層とＩＴＯ透明電極の
画素となる部分との関係は、画素部分に対してカラーフ
ィルター層の面積が、大きくなるようにし、視野角４５
°が確保できるようにした。An ITO transparent electrode (hole injection electrode) was separately formed on a glass substrate to a thickness of 100 nm by a sputtering method. The obtained ITO thin film was patterned and etched by a photolithography technique to obtain a predetermined hole injection electrode pattern. Further, Al and TiN were patterned as auxiliary electrodes. Thereafter, polyimide was applied to a thickness of 300 nm as an insulating film, and was patterned to obtain a pattern of a hole injection electrode, an auxiliary electrode, and an insulating film. At this time, the relationship between the color filter layer and the portion of the ITO transparent electrode to be a pixel is such that the area of the color filter layer is larger than the pixel portion, and the viewing angle is 45 °.
° can be secured.
【００９５】次いで、表面をＵＶ／Ｏ3 洗浄した後、真
空蒸着装置の基板ホルダーに固定して、槽内を１×１０
-4Pa以下まで減圧した。４，４’，４”−トリス（−Ｎ
−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ）トリ
フェニルアミン（以下、ｍ−ＭＴＤＡＴＡ）を蒸着速度
０.２nm／sec.で４０nmの厚さに蒸着し、ホール注入層
とし、次いで減圧状態を保ったまま、Ｎ，Ｎ’−ジフェ
ニル−Ｎ，Ｎ’−ｍ−トリル−４，４’−ジアミノ−
１，１’−ビフェニル（以下、ＴＰＤ）を蒸着速度０．
２nm／sec.で３５nmの厚さに蒸着し、ホール輸送層とし
た。さらに、減圧を保ったまま、トリス（８−キノリノ
ラト）アルミニウム（以下、Ａｌｑ3 ）を蒸着速度０.
２nm／sec.で５０nmの厚さに蒸着して、電子注入輸送・
発光層とした。次いで減圧を保ったまま、このＥＬ素子
構造体基板を真空蒸着装置からスパッタ装置に移し、ス
パッタ圧力１．０PaにてＡｌＬｉ電子注入電極（Ｌｉ濃
度：７．２at％）を５０nmの厚さに成膜した。その際ス
パッタガスにはＡｒを用い、投入電力は１００Ｗ、ター
ゲットの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離
は９０mmとした。さらに、減圧を保ったまま、このＥＬ
素子基板を他のスパッタ装置に移し、Ａｌターゲットを
用いたＤＣスパッタ法により、スパッタ圧力０．３Paに
てＡｌ保護電極を２００nmの厚さに成膜した。この時ス
パッタガスにはＡｒを用い、投入電力は５００Ｗ、ター
ゲットの大きさは４インチ径、基板とターゲットの距離
は９０mmとした。Next, after the surface was washed with UV / O 3, it was fixed on a substrate holder of a vacuum evaporation apparatus, and the inside of the tank was 1 × 10 3.
The pressure was reduced to -4 Pa or less. 4,4 ', 4 "-tris (-N
-(3-Methylphenyl) -N-phenylamino) triphenylamine (hereinafter, m-MTDATA) was deposited at a deposition rate of 0.2 nm / sec. To a thickness of 40 nm to form a hole injection layer. N, N'-diphenyl-N, N'-m-tolyl-4,4'-diamino-
1,1′-biphenyl (hereinafter referred to as TPD) is deposited at a deposition rate of 0.1%.
It was deposited at a thickness of 35 nm at 2 nm / sec to form a hole transport layer. Further, while maintaining the reduced pressure, tris (8-quinolinolato) aluminum (hereinafter, Alq3) was evaporated at a deposition rate of 0.5.
Vapor deposition at a thickness of 50 nm at 2 nm / sec.
It was a light emitting layer. Then, while maintaining the reduced pressure, the EL element structure substrate was transferred from the vacuum evaporation apparatus to a sputtering apparatus, and an AlLi electron injection electrode (Li concentration: 7.2 at%) was formed to a thickness of 50 nm at a sputtering pressure of 1.0 Pa. Filmed. At that time, Ar was used as a sputtering gas, the input power was 100 W, the size of the target was 4 inches in diameter, and the distance between the substrate and the target was 90 mm. Further, while maintaining the reduced pressure, the EL
The element substrate was transferred to another sputtering apparatus, and an Al protective electrode was formed to a thickness of 200 nm by a DC sputtering method using an Al target at a sputtering pressure of 0.3 Pa. At this time, Ar was used as a sputtering gas, the input power was 500 W, the size of the target was 4 inches in diameter, and the distance between the substrate and the target was 90 mm.
【００９６】得られた有機ＥＬ構造体が形成された基板
面に、ガラスビーズスペーサを混入した封止用接着剤を
用い、ガラス封止板を貼り合わせた。最後に、上記で得
られた補助基板を、ＩＴＯの画素部分に一致するように
マーキングを合わせ、かつカラーフィルター層形成面が
基板側となるようにして、接着剤を用いて貼り合わせ
た。このカラー化のための作業（補助基板の貼り合わせ
の作業を含む）は、従来の手法に比べ極めて簡単に行う
ことができることがわかった。A glass sealing plate was bonded to the substrate surface on which the obtained organic EL structure was formed, using a sealing adhesive mixed with glass bead spacers. Finally, the auxiliary substrate obtained above was bonded with an adhesive so that the marking was aligned with the pixel portion of the ITO and the color filter layer forming surface was on the substrate side. It has been found that the work for colorization (including the work of bonding the auxiliary substrate) can be performed much more easily than the conventional method.
【００９７】得られた有機ＥＬディスプレイを、大気中
で直流電圧を印加し、１０mA／cm2の定電流密度で連続
駆動させた。このディスプレイについて視認性に関する
試験を無作為に抽出した１００人の被験者に対して行っ
たところ、７９人が見やすいと回答し、２１人がわから
ないと回答した。また、見にくいと回答したものはいな
かった。The obtained organic EL display was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 by applying a DC voltage in the atmosphere. When a test regarding the visibility of this display was performed on 100 subjects randomly selected, 79 answered that the display was easy to see, and 21 answered that they did not know. No one said it was difficult to see.
【００９８】＜実施例２＞補助基板として、厚さ１．１
mmのガラス板（セントラル硝子社製：ソーダライムガラ
ス）上に、ブラックマトリクス層として、顔料分散型の
レジストを塗布し、パターニングした。ブラックマトリ
クス層の塗布工程は次のように行った。顔料分散型レジ
スト液を１０００rpm で５秒間スピンコートし、１００
℃で３分間プリベークした。露光機で２０ mＷの紫外線
を６０秒照射した後に、約０．１％濃度のＴＭＡＨ水溶
液で現像した。現像時間は約２分間であった。その後、
塗布する別のカラーフィルター液に溶解しないように、
２２０℃で１時間キュアし、所定のブラックマトリクス
層パターンを完成した。また、比較サンプルとして、ブ
ラックマトリクス層を設けない補助基板を用意した。<Embodiment 2> The auxiliary substrate has a thickness of 1.1.
A pigment-dispersed resist was applied and patterned as a black matrix layer on a mm glass plate (Central Glass: soda lime glass). The coating process of the black matrix layer was performed as follows. The pigment-dispersed resist solution is spin-coated at 1000 rpm for 5 seconds,
Prebaked for 3 minutes at ° C. After irradiating with a 20 mW ultraviolet ray for 60 seconds with an exposure machine, development was carried out with a TMAH aqueous solution of about 0.1% concentration. The development time was about 2 minutes. afterwards,
So that it does not dissolve in another color filter solution to be applied.
After curing at 220 ° C. for 1 hour, a predetermined black matrix layer pattern was completed. In addition, an auxiliary substrate without a black matrix layer was prepared as a comparative sample.
【００９９】別途ガラス基板上に、実施例１と同様にし
て有機ＥＬ構造体を成膜した後、封止板を接着し、最後
に上記で作製した補助基板を実施例１と同様の手法によ
り貼り合わせ、有機ＥＬディスプレイを得た。このブラ
ックマトリクス層との一体化作業（補助基板の貼り合わ
せの作業を含む）は、従来の手法に比べ極めて簡単に行
うことができることがわかった。An organic EL structure was separately formed on a glass substrate in the same manner as in Example 1, a sealing plate was adhered, and finally the auxiliary substrate prepared above was formed in the same manner as in Example 1. Lamination was performed to obtain an organic EL display. It has been found that the work of integrating with the black matrix layer (including the work of bonding the auxiliary substrate) can be performed much more easily than the conventional method.
【０１００】得られた有機ＥＬディスプレイを、大気中
で直流電圧を印加し、１０mA／cm2の定電流密度で連続
駆動させた。視認性に関する試験を無作為に抽出した１
００人の被験者に対して行ったところ、ブラックマトリ
クス層を形成しないサンプルと比較して、８６人が見や
すいと回答し、１４人がわからないと回答した。また、
見にくいと回答したものはいなかった。The obtained organic EL display was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 by applying a DC voltage in the air. 1 randomly selected tests for visibility
When the test was performed on 00 subjects, 86 people answered that they were easier to see and 14 people answered that they did not understand, as compared with the sample in which the black matrix layer was not formed. Also,
No one said it was difficult to see.
【０１０１】＜実施例３＞実施例１において、カラーフ
ィルター層が形成されない部分に実施例２のブラックマ
トリクス層パターンを形成した。このとき、カラーフィ
ルタ層の面積は、画素部分の面積が大きくなるように
し、視野角４５°を確保できるようにし、ブラックマト
リクスと画素部分の関係が図３，４のようになるように
した。Example 3 In Example 1, the black matrix layer pattern of Example 2 was formed in a portion where the color filter layer was not formed. At this time, the area of the color filter layer was such that the area of the pixel portion was large, a viewing angle of 45 ° was ensured, and the relationship between the black matrix and the pixel portion was as shown in FIGS.
【０１０２】その他は実施例１と同様にして有機ＥＬデ
ィスプレイを得た。この場合のカラー化およびブラック
マトリクス層形成の作業、および補助基板の貼り合わせ
の作業も、従来に比べ極めて簡単に行うことができた。Others were the same as in Example 1 to obtain an organic EL display. In this case, the work of colorization and the formation of the black matrix layer, and the work of bonding the auxiliary substrate could be performed much more easily than in the past.
【０１０３】得られた有機ＥＬディスプレイを、乾燥ア
ルゴン雰囲気中で直流電圧を印加し、１０mA／cm2 の定
電流密度で連続駆動させた。視認性に関する試験を無作
為に抽出した１００人の被験者に対して行ったところ、
９１人が比較サンプルに比べ見やすいと回答し、９人が
わからないと回答した。また、見にくいと回答したもの
はいなかった。The obtained organic EL display was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 by applying a DC voltage in a dry argon atmosphere. When a test on visibility was performed on 100 randomly selected subjects,
Ninety-one respondents answered that they were easier to see than the comparative sample, and nine did not know. No one said it was difficult to see.
【０１０４】＜実施例４＞実施例３において、基板上の
補助電極が形成される領域にもＩＴＯ透明電極を形成
し、図５のようになるようにした。その他は実施例３と
同様にして有機ＥＬディスプレイを得た。<Embodiment 4> In Embodiment 3, an ITO transparent electrode was also formed on a region of the substrate where an auxiliary electrode was to be formed, as shown in FIG. Otherwise, the procedure of Example 3 was followed to obtain an organic EL display.
【０１０５】得られた有機ＥＬディスプレイを補助基板
側から目視観察したところ、実施例３で作製したディス
プレイと比較して銀色に輝く度合いが著しく減少し、全
体が黒く見えるようになっていた。When the obtained organic EL display was visually observed from the auxiliary substrate side, the degree of shining silver was remarkably reduced as compared with the display manufactured in Example 3, and the whole was made to look black.
【０１０６】さらに、このディスプレイを大気気中で直
流電圧を印加し、１０mA／cm2 の定電流密度で連続駆動
させた。視認性に関する試験を無作為に抽出した１００
人の被験者に対して行ったところ、９７人が実施例３の
サンプルより見やすいと回答し、３人がわからないと回
答した。また、見にくいと回答したものはいなかった。Further, the display was continuously driven at a constant current density of 10 mA / cm 2 by applying a DC voltage in the air. 100 randomly selected tests for visibility
When performed on human subjects, 97 responded that they were easier to see than the sample of Example 3, and 3 responded that they did not understand. No one said it was difficult to see.
【０１０７】[0107]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、複雑な構
造を必要とせず、製造や貼り合わせ等の作業が容易で、
有機ＥＬ構造体へのダメージもないく、低コストでコン
トラスト比の良好な有機ＥＬカラーディスプレイを提供
できる。As described above, according to the present invention, a complicated structure is not required, and operations such as manufacturing and bonding are easy.
An organic EL color display having a good contrast ratio at low cost without damage to the organic EL structure can be provided.
【図１】本発明の有機ＥＬカラーディスプレイの構成例
を示した断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a configuration example of an organic EL color display of the present invention.
【図２】有機ＥＬ構造体とブラックマトリクス層との位
置関係を概念的に示した断面図である。FIG. 2 is a sectional view conceptually showing a positional relationship between an organic EL structure and a black matrix layer.
【図３】有機ＥＬ構造体とブラックマトリクス層との位
置関係の他の例を概念的に示した断面図である。FIG. 3 is a sectional view conceptually showing another example of the positional relationship between the organic EL structure and the black matrix layer.
【図４】有機ＥＬ構造体のＩＴＯ透明電極層を補助電極
層の下側にまで成膜した例を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example in which an ITO transparent electrode layer of an organic EL structure is formed to a lower side of an auxiliary electrode layer.
【図５】図３において、有機ＥＬ構造体２のＩＴＯ透明
電極２１を補助電極層８の下部にまで積層した例を示す
断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example in which the ITO transparent electrode 21 of the organic EL structure 2 is stacked up to the lower part of the auxiliary electrode layer 8 in FIG.
【図６】有機ＥＬ構造体２のＩＴＯ透明電極２１を、補
助電極層８の下部にまで積層した他の構成例を示す断面
図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another configuration example in which the ITO transparent electrode 21 of the organic EL structure 2 is stacked up to the lower part of the auxiliary electrode layer 8;
１ 基板 ２ 有機ＥＬ構造体 ３ 封止板 ４ カラーフィルター層 ５ 補助基板 ６ ブラックマトリクス層 Reference Signs List 1 substrate 2 organic EL structure 3 sealing plate 4 color filter layer 5 auxiliary substrate 6 black matrix layer
Claims (5)
らの電極間に発光機能に関与する１種以上の有機層を有
する有機ＥＬ構造体が基板上に成膜されている有機ＥＬ
ディスプレイであって、 前記基板が光取り出し側であって、この基板の有機ＥＬ
構造体成膜面と反対側には補助基板が配置され、かつこ
の補助基板の前記基板と対向する面にカラーフィルター
層を有する有機ＥＬディスプレイ。1. An organic EL device comprising: a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic EL structure having at least one kind of organic layer between the electrodes, the organic EL structure being formed on a substrate.
A display, wherein the substrate is a light extraction side, and an organic EL of the substrate is provided.
An organic EL display having an auxiliary substrate disposed on the side opposite to the structure-forming surface, and having a color filter layer on a surface of the auxiliary substrate facing the substrate.
るためのブラックマトリクス層を有し、 前記有機ＥＬ構造体のホール注入電極は、補助電極層が
形成されている領域にも成膜されている請求項１の有機
ＥＬディスプレイ。2. The auxiliary substrate further includes a black matrix layer for correcting a viewing angle, and the hole injection electrode of the organic EL structure is formed also in a region where the auxiliary electrode layer is formed. The organic EL display according to claim 1, wherein:
らの電極間に発光機能に関与する１種以上の有機層を有
する有機ＥＬ構造体が基板上に成膜されている有機ＥＬ
ディスプレイであって、 前記基板の有機ＥＬ構造体成膜面と反対側には補助基板
が配置され、かつこの補助基板の前記基板と対向する面
にブラックマトリクス層を有する有機ＥＬディスプレ
イ。3. An organic EL having a hole injection electrode, an electron injection electrode, and an organic EL structure having at least one organic layer between the electrodes, which is involved in a light emitting function, is formed on a substrate.
An organic EL display, comprising: a display, an auxiliary substrate disposed on a side of the substrate opposite to a surface on which the organic EL structure is formed, and a black matrix layer on a surface of the auxiliary substrate facing the substrate.
は、補助電極層が形成されている領域にも成膜されてい
る請求項３の有機ＥＬディスプレイ。4. The organic EL display according to claim 3, wherein the hole injection electrode of the organic EL structure is formed also in a region where an auxiliary electrode layer is formed.
有する請求項４の有機ＥＬディスプレイ。5. The organic EL display according to claim 4, wherein said auxiliary substrate has a color filter layer.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10167685A JPH11345688A (en) | 1998-06-01 | 1998-06-01 | Organic el display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10167685A JPH11345688A (en) | 1998-06-01 | 1998-06-01 | Organic el display |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11345688A true JPH11345688A (en) | 1999-12-14 |
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ID=15854338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10167685A Pending JPH11345688A (en) | 1998-06-01 | 1998-06-01 | Organic el display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11345688A (en) |
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