JPH11333229A - Filter for substrate treating device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a filter for a substrate treating device which is easy to handle while a space for placing the filter is easily secured. SOLUTION: A gas permeator 25 houses a gas permeating member 36 in a container 31. A particle remover 26 houses a particle removing member 46 in a container 41. An inlet 32 of a developing solution to one end side of the container 31 and a flow opening 33 are respectively provided to the other end side, and a male screw 42 is carved in an outer peripheral surface of the flow opening 33. An outlet 45 of the developing solution exists on one end side of the container 41, and a female screw 43 is bored on the other end side. By screwing the male screw 42 of the container 31 into the female screw 43 of the container 41, the gas permeator 25 and the particle remover 26 constitute integrally a filter 27.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板など（以下、単に基板と称す
る）に対して、フォトレジスト液、ポリイミド樹脂，SO
G （Spin On Glass,シリカ系被膜形成材とも呼ばれる）
液，現像液，洗浄液，純水などの処理液を供給して所定
の処理を施す基板処理装置に係り、特に、処理液が流通
する配管に介在する基板処理装置のフィルタを構成する
技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photoresist liquid for a semiconductor wafer, a glass substrate for a photomask, a glass substrate for a liquid crystal display, and a substrate for an optical disk (hereinafter simply referred to as a substrate). Polyimide resin, SO
G (Spin On Glass, also called silica-based film forming material)
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate processing apparatus that performs a predetermined process by supplying a processing liquid such as a liquid, a developing solution, a cleaning liquid, and pure water, and more particularly, to a technique for configuring a filter of the substrate processing apparatus that is provided in a pipe through which the processing liquid flows.

【０００２】[0002]

【従来の技術】基板処理装置としては、フォトレジスト
液を基板表面に塗布処理する基板塗布装置や、基板表面
に被着された露光済みの感光性被膜に現像液を供給して
現像処理を施す基板現像装置や、基板に純水などの処理
液を供給して基板を洗浄する基板洗浄装置などが挙げら
れる。2. Description of the Related Art As a substrate processing apparatus, a substrate coating apparatus for applying a photoresist liquid to a substrate surface, or a developing solution is supplied to an exposed photosensitive film applied on the substrate surface to perform a developing processing. Examples include a substrate developing device and a substrate cleaning device for cleaning a substrate by supplying a processing liquid such as pure water to the substrate.

【０００３】これらの装置では、処理液を貯留している
処理液タンクから処理液供給ノズルまで配管を介して処
理液を圧送し、処理液供給ノズルから基板の表面に処理
液を供給するようになっている。当然のことながら、基
板に供給される処理液にパーティクルが含まれていると
基板に対して悪影響を及ぼすので、通常、それを除去す
るために配管にフィルタを介在させている。つまり、パ
ーティクル除去作用を有するパーティクル除去膜を内蔵
したフィルタによって処理液中のパーティクルを除去
し、処理液を清浄にして供給するようになっている。In these apparatuses, a processing liquid is pressure-fed from a processing liquid tank storing a processing liquid to a processing liquid supply nozzle via a pipe, and the processing liquid is supplied from the processing liquid supply nozzle to the surface of the substrate. Has become. As a matter of course, if the processing liquid supplied to the substrate contains particles, it has a bad effect on the substrate. Therefore, a filter is usually provided in the piping to remove the particles. That is, particles in the processing liquid are removed by a filter having a particle removing film having a particle removing action, and the processing liquid is supplied after being cleaned.

【０００４】また、処理液には上記のパーティクルの他
に、処理液を圧送する際のエア噛みに起因する気泡や、
最初から溶け込んでいる非常に粒径の小さな気泡が存在
している場合がある。このように気泡が処理液に溶存し
ている場合には、気泡が基板表面に付着して処理に悪影
響を及ぼすことがある。例えば、基板塗布装置では、基
板の表面に供給されたフォトレジスト液に気泡が含まれ
ていると、その塗布部位の膜厚が極端に薄くなるか、あ
るいは全くフォトレジスト液のない部位（いわゆるピン
ホ─ル）が生じて塗布不良となる。また、基板現像装置
では、気泡が付着した部位に現像液が触れないので、そ
の部分に現像不良が生じる。特に、最近の半導体プロセ
スは極めて微細化が進んでいるので、上記のように非常
に粒径が小さな気泡であっても、その影響は非常に大き
なものとなる。[0004] In addition to the above-mentioned particles, the processing liquid contains bubbles caused by air entrapment when the processing liquid is pumped,
In some cases, bubbles having a very small particle size that are dissolved from the beginning may be present. If the bubbles are dissolved in the processing liquid as described above, the bubbles may adhere to the substrate surface and adversely affect the processing. For example, in a substrate coating apparatus, if bubbles are contained in the photoresist liquid supplied to the surface of the substrate, the thickness of the applied portion becomes extremely thin, or a portion having no photoresist liquid (a so-called pinch photoresist) is used. ─) occurs, resulting in poor coating. Further, in the substrate developing device, since the developing solution does not come into contact with the portion to which the air bubble has adhered, development failure occurs at that portion. In particular, since recent semiconductor processes have been extremely miniaturized, even if bubbles have a very small particle size as described above, the effect is extremely large.

【０００５】そこで、上記の問題を回避するため上記の
フィルタとは別に、気体のみを透過する気体透過作用を
有する気体透過膜（気体交換膜，気体浸透膜，脱気膜と
も呼ばれる）を内蔵した脱気モジュールを配管に介在さ
せて、処理液中の気泡を除去（脱気）するようにしてい
る。具体的には、気体透過膜の気室に真空ポンプなどを
接続して一定の圧力に減圧しておいて、処理液を気体透
過膜の液室に流通させる。これにより処理液に溶存して
いる気泡を脱気することができるので、上記のような気
泡に起因する不都合を回避することができる。Therefore, in order to avoid the above-mentioned problem, a gas permeable membrane (also called a gas exchange membrane, a gas permeable membrane, or a degassing membrane) having a gas permeable function that allows only gas to pass is provided separately from the above-mentioned filter. The degassing module is interposed in the piping to remove (degas) bubbles in the processing liquid. Specifically, a vacuum pump or the like is connected to the gas chamber of the gas permeable membrane to reduce the pressure to a constant pressure, and the processing liquid is allowed to flow through the liquid chamber of the gas permeable membrane. Thus, the bubbles dissolved in the processing liquid can be degassed, so that the above-mentioned inconvenience caused by the bubbles can be avoided.

【０００６】また、基板洗浄装置のように純水を処理液
として使用する装置では、上述したようなフィルタを用
いて純水中のパーティクル除去を行っているが、純水は
比抵抗値が極めて大きく帯電し易いので、例えば、純水
を基板に供給した際に静電破壊によって、基板上に形成
された回路パターンなどにダメージを与えることがあ
る。In an apparatus using pure water as a processing liquid, such as a substrate cleaning apparatus, particles in pure water are removed by using the above-described filter, but pure water has an extremely high specific resistance. For example, a circuit pattern formed on a substrate may be damaged due to electrostatic destruction when pure water is supplied to the substrate due to large electrification.

【０００７】そこで、このような不具合が生じないよう
に、純水の比抵抗値を下げて帯電を防止して供給するこ
とが行われる。具体的には、純水に誘電率の高い気体、
例えば、二酸化炭素（CO₂ ）を純水に溶存させることに
よって、その比抵抗値を低下させる。このように高誘電
率の気体を純水に溶存させるためには、上述した気体透
過膜を内蔵したモジュール（以下、その機能から溶存モ
ジュールと称する）を利用する。つまり、気体透過膜の
気室に二酸化炭素を供給しつつ、気体透過膜の液室に純
水を流通させることによって純水に二酸化炭素を溶存さ
せる。これにより純水の帯電を防止することができるの
で、静電破壊に起因する上記の不都合を回避することが
できる。Therefore, in order to prevent such a problem from occurring, it is necessary to lower the specific resistance of pure water to prevent charging and supply the pure water. Specifically, a gas with a high dielectric constant in pure water,
For example, carbon dioxide (CO ₂ ) is dissolved in pure water to lower its specific resistance. In order to dissolve a gas having a high dielectric constant in pure water in this way, a module having a gas-permeable film as described above (hereinafter referred to as a dissolved module due to its function) is used. That is, carbon dioxide is dissolved in pure water by supplying pure water to the liquid chamber of the gas permeable membrane while supplying carbon dioxide to the gas chamber of the gas permeable membrane. Thereby, the pure water can be prevented from being charged, so that the above-mentioned inconvenience caused by electrostatic breakdown can be avoided.

【０００８】図９は上述したように処理液が流通する配
管にパーティクル除去用フィルタと脱気モジュール（あ
るいは溶存モジュール）とを介在させた様子を示してい
る。すなわち、パーティクル除去用フィルタ１および脱
気モジュール（あるいは溶存モジュール）２は、それぞ
れが個別の容器に収容された状態で配管３に直列状態に
配設されている。FIG. 9 shows a state in which a filter for removing particles and a degassing module (or dissolved module) are interposed in the pipe through which the processing liquid flows as described above. That is, the particle removing filter 1 and the degassing module (or dissolved module) 2 are arranged in series with the pipe 3 in a state where each is accommodated in a separate container.

【０００９】しかしながら、図９に示したような構成に
よれば、パーティクル除去用フィルタ１と脱気モジュー
ル（あるいは溶存モジュール）２とを配管３にそれぞれ
個別に取り付けなければならないので、基板処理装置内
に広いスペースを確保する必要があり、また、配管３へ
の取り付け作業が煩わしいといった問題がある。However, according to the configuration shown in FIG. 9, the filter 1 for removing particles and the degassing module (or dissolved module) 2 must be individually attached to the pipe 3, so that the inside of the substrate processing apparatus is not provided. In addition, there is a problem that a large space needs to be secured, and the work of attaching to the pipe 3 is troublesome.

【００１０】そこで、本出願人はこれらの問題点を解決
した基板処理装置のフィルタを先に提案している（特開
平１０−３３９２０号参照）。以下、図１０を参照して
説明する。このフィルタ１０は、円筒状の容器１１を備
え、この容器１１の一方の端面側から多数の小孔１２ａ
を有する管１２が容器１１の軸心に沿って挿入されてい
る。管１２の周囲には、気体透過膜（中空糸膜）を束ね
た気体透過部材１３が配設されている。管１２および気
体透過部材１３の奥側端は部材１４によって閉塞されて
いる。気体透過部材１３の前端側は容器１１の内面に環
状に形成された溝１５に臨んでおり、気体透過部材１３
の各中空糸膜の気室がこの溝１５に通じている。この溝
１５は図示しない真空ポンプに連通接続されている。さ
らに、気体透過部材１３の周囲には、間隔をおいて一端
が部材１６によって閉塞されたパーティクル除去部材１
７が配設されている。Therefore, the present applicant has previously proposed a filter for a substrate processing apparatus which solves these problems (see Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-33920). Hereinafter, description will be made with reference to FIG. The filter 10 includes a cylindrical container 11, and a large number of small holes 12 a from one end face side of the container 11.
Is inserted along the axis of the container 11. A gas permeable member 13 in which gas permeable membranes (hollow fiber membranes) are bundled is provided around the pipe 12. The inner ends of the pipe 12 and the gas permeable member 13 are closed by a member 14. The front end side of the gas permeable member 13 faces a groove 15 formed in an annular shape on the inner surface of the container 11.
The air chamber of each hollow fiber membrane communicates with the groove 15. The groove 15 is connected to a vacuum pump (not shown). Further, around the gas permeable member 13, the particle removing member 1 whose one end is closed by the member 16 at intervals.
7 are provided.

【００１１】このような構成のフィルタ１０によれば、
処理液が管１２内に導入されると、管１２の小孔１２ａ
から噴出した処理液が気体透過部材１３を通過する過程
で処理液に溶存している気体が気体透過部材１３に取り
込まれる。脱気された処理液は外側のパーティクル除去
部材１７を通過する過程でパーティクルが除去される。
脱気およびパーティクルの除去が行われた処理液は容器
１１の他方の端面側にある流出口１８から取り出され
る。According to the filter 10 having such a configuration,
When the processing liquid is introduced into the tube 12, the small holes 12a of the tube 12
The gas dissolved in the processing liquid is taken into the gas permeable member 13 while the processing liquid ejected from the gas passes through the gas permeable member 13. Particles are removed from the degassed processing liquid while passing through the outer particle removing member 17.
The processing liquid from which degassing and particle removal have been performed is taken out from an outlet 18 on the other end face side of the container 11.

【００１２】このようなフィルタ１０によれば、気体透
過部材１３とパーティクル除去部材１７とが同心状に配
設されて、単一の容器１１に収納されているので、フィ
ルタ１０を設置するスペースが小さくてよく、また、フ
ィルタ１０を配管に取り付ける作業が容易であるという
利点がある。According to such a filter 10, the gas permeable member 13 and the particle removing member 17 are arranged concentrically and housed in the single container 11, so that the space for installing the filter 10 is increased. There is an advantage that the filter 10 can be small and the work of attaching the filter 10 to the pipe is easy.

【００１３】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上記のように特開平１
０−３３９２０号に開示された基板処理装置のフィルタ
は有用であるが、次のような場合に不都合であることが
明らかになった。As described above, Japanese Patent Laid-Open No.
Although the filter of the substrate processing apparatus disclosed in JP-A-33-920 is useful, it has been found to be inconvenient in the following cases.

【００１４】すなわち、特開平１０−３３９２０号に開
示のフィルタは、気体透過部材１３とパーティクル除去
部材１７とを同心状に配置した関係で、フィルタの軸心
方向の長さは短くなるが、フィルタの半径方向の長さが
拡大する。そのため、フィルタが取り付けられる配管の
近くに基板処理装置内の他の部品が配置されていると、
フィルタと他の部品とが接触して、フィルタの取り付け
が困難になる場合がある。That is, in the filter disclosed in JP-A-10-33920, the length of the filter in the axial direction is reduced because the gas permeable member 13 and the particle removing member 17 are concentrically arranged. Increases in the radial direction. Therefore, if other components in the substrate processing apparatus are arranged near the pipe to which the filter is attached,
The filter may come into contact with other components, making it difficult to mount the filter.

【００１５】さらに、処理液の流量が多くなった場合、
特開平１０−３３９２０号に開示のフィルタによれば、
フィルタを半径方向に拡大せざるを得ないので、上記の
不都合が一層顕著になる。以下、この点を詳しく説明す
る。処理液の流量が多くなった場合、図１０に示したフ
ィルタ１０を軸方向に長く構成して、気体透過部材１３
やパーティクル除去部材１７の処理液流通面積を増やす
ことも考えられる。しかし、フィルタ１０を軸方向に長
くすると、図１０中に実線で示した経路Ａ側に処理液が
多く流れ、破線で示した経路Ｂ側には処理液があまり流
れないという現象が生じる。この理由は定かではない
が、次のように考えられる。Further, when the flow rate of the processing liquid increases,
According to the filter disclosed in JP-A-10-33920,
Since the filter has to be enlarged in the radial direction, the above-mentioned disadvantages become more remarkable. Hereinafter, this point will be described in detail. When the flow rate of the processing liquid increases, the filter 10 shown in FIG.
It is also conceivable to increase the processing liquid circulation area of the particle removing member 17. However, when the filter 10 is lengthened in the axial direction, a phenomenon occurs in which a large amount of the processing liquid flows on the path A shown by the solid line in FIG. 10 and a small amount of the processing liquid flows on the path B shown by the broken line. The reason for this is not clear, but is considered as follows.

【００１６】一般にパーティクル除去部材１７は、中空
糸膜を束ねて構成された気体透過部材１３よりも処理液
の流通性が悪く、図１０に示すように一端が閉塞された
状態で他端側から処理液が供給されると、経路Ｂ側に流
れる処理液よりも、経路Ａ側に流れる処理液の流量が多
くなる傾向がある。すなわち、処理液の流れに偏りが生
じる。一方、気体透過部材１３は処理液の流通性が良い
ので、本来、処理液は気体透過部材１３の全体を略均等
に流通する。しかし、上述したような流通性能をもつパ
ーティクル除去部材１７と気体透過部材１３とが同心状
に近接して配置されると、パーティクル除去部材１７の
流通性能の影響で、気体透過部材１３を流通する処理液
の流れにも偏りが生じて、結果として経路Ａ側に過剰の
処理液が流れるという現象が生じると考えられる。Generally, the particle removing member 17 has a lower flowability of the processing liquid than the gas permeable member 13 formed by bundling hollow fiber membranes, and as shown in FIG. When the processing liquid is supplied, the flow rate of the processing liquid flowing to the path A tends to be larger than that of the processing liquid flowing to the path B. That is, the flow of the processing liquid is biased. On the other hand, since the gas permeable member 13 has good flowability of the processing liquid, the processing liquid originally circulates substantially uniformly throughout the gas permeable member 13. However, when the particle removing member 17 and the gas permeable member 13 having the above-described flow performance are arranged concentrically and closely, the gas permeable member 13 flows through the gas permeable member 13 under the influence of the flow performance of the particle removal member 17. It is considered that the flow of the processing liquid is also biased, and as a result, a phenomenon that an excessive processing liquid flows to the path A side occurs.

【００１７】このように気体透過部材１３に処理液が均
一に流通しなくなると、気体透過部材１３の脱気効率が
低下するという不都合を招く。このような不都合は、気
体透過部材１３を介して二酸化炭素を純水に溶存させる
場合にも起こる。If the processing liquid does not flow uniformly through the gas permeable member 13 as described above, the disadvantage that the deaeration efficiency of the gas permeable member 13 is reduced is caused. Such inconvenience also occurs when carbon dioxide is dissolved in pure water via the gas permeable member 13.

【００１８】このような理由のため、処理液の流量が多
くなった場合、図１０のフィルタ構造では、フィルタ１
０を半径方向に拡大することによって、気体透過部材１
３およびパーティクル除去部材１７の流路面積を拡げな
くてはならない。その結果、上記のように、基板処理装
置内に設けられている他の部品が邪魔になって、フィル
タの設置スペースを確保することができないという問題
が生じる。When the flow rate of the processing liquid increases for such a reason, the filter 1 shown in FIG.
0 in the radial direction, the gas permeable member 1
3 and the passage area of the particle removing member 17 must be increased. As a result, as described above, a problem arises in that other components provided in the substrate processing apparatus are in the way, and a space for installing the filter cannot be secured.

【００１９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、フィルタの設置スペースの確保が容易
であるとともに、取り扱いの容易な基板処理装置のフィ
ルタを提供することを目的としている。The present invention has been made in view of such circumstances, and an object of the present invention is to provide a filter for a substrate processing apparatus which can easily secure a space for installing the filter and can be easily handled. .

【００２０】[0020]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、処理液が流通する配管に
介在する基板処理装置のフィルタであって、配管を流通
する処理液中のパーティクルを除去するパーティクル除
去部材を容器内に収納したパーティクル除去器と、配管
内を流通する処理液中の気体の除去、または処理液中へ
の気体の導入を行う気体透過部材を容器内に収納した気
体透過器とを備え、かつ、前記パーティクル除去器の容
器と前記気体透過器の容器とが着脱可能に直接に連通接
続されていることを特徴とする。The present invention has the following configuration in order to achieve the above object. That is, the invention according to claim 1 is a filter of a substrate processing apparatus interposed in a pipe through which a processing liquid flows, wherein a particle removing member for removing particles in the processing liquid flowing through the pipe is housed in a container. A particle remover, and a gas permeable device in which a gas permeable member that removes gas in the processing liquid flowing through the pipe or introduces gas into the processing liquid is accommodated in a container, and the particle elimination is performed. The container of the vessel and the vessel of the gas permeator are detachably and directly connected to each other.

【００２１】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置のフィルタにおいて、前記パーテクル除
去器の容器と前記気体透過器の容器とが、各容器の連結
端面にそれぞれ形成されたネジ構造によって着脱可能に
直接に連通接続されたものである。According to a second aspect of the present invention, in the filter of the substrate processing apparatus according to the first aspect, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are respectively formed on a connection end face of each container. It is detachably connected directly by a screw structure.

【００２２】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置のフィルタにおいて、前記パーテクル除
去器の容器と前記気体透過器の容器とが、各容器の連結
端面にそれぞれ形成されたフランジを突き合わせ、前記
両フランジの外周をクランプ機構で挟み込むことによっ
て着脱可能に直接に連通接続されたものである。According to a third aspect of the present invention, in the filter of the substrate processing apparatus according to the first aspect, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are respectively formed on a connection end face of each container. The flanges are abutted with each other, and the outer circumferences of the two flanges are sandwiched by a clamp mechanism so as to be detachably connected directly to each other.

【００２３】請求項４に記載の発明は、請求項１〜３の
いずれかに記載の基板処理装置のフィルタにおいて、前
記パーティクル除去部材および前記気体透過部材は、と
もに筒状部材であって、各筒状部材の軸心に沿って形成
された２つの中心側流路の一方が前記連通接続された容
器の処理液流入口に連通し、他方の中心側流路が前記連
通接続された容器の処理液流出口に連通し、かつ、各筒
状部材と前記連通接続された容器の内壁との間に、各筒
状部材を介してのみ各中心側流路と連通する２つの周面
側流路が形成されており、前記２つの周面側流路が前記
連通接続された容器内で連通している。According to a fourth aspect of the present invention, in the filter for a substrate processing apparatus according to any one of the first to third aspects, the particle removing member and the gas permeable member are both cylindrical members. One of the two center-side flow paths formed along the axis of the cylindrical member communicates with the processing liquid inlet of the communication-connected vessel, and the other center-side flow path of the communication-connected vessel has the other. Two peripheral side flows communicating with the processing liquid outlet and between each cylindrical member and the inner wall of the container connected in communication with each central side channel only through each cylindrical member. A passage is formed, and the two peripheral-side flow paths communicate with each other in the communication-connected container.

【００２４】請求項５に記載の発明、請求項４に記載の
基板処理装置のフィルタにおいて、前記気体透過部材
は、多数の中空糸膜を円筒状に束ねて構成されており、
前記気体透過部材の中心側流路が前記連通接続された容
器の処理液流入口に連通し、前記パーティクル除去部材
の中心側流路が前記連通接続された容器の処理液流出口
に連通している。According to a fifth aspect of the present invention, in the filter of the substrate processing apparatus according to the fourth aspect, the gas permeable member is configured by bundling a large number of hollow fiber membranes in a cylindrical shape,
A central flow path of the gas permeable member communicates with a processing liquid inlet of the communication-connected container, and a central flow path of the particle removing member communicates with a processing liquid outlet of the communication-connected container. I have.

【００２５】[0025]

【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項１に
記載の発明によれば、パーティクル除去器の容器と気体
透過器の容器とが直接に連通接続された状態で配管に取
り付けられる。連通接続された容器内に取り込まれた処
理液は、気体透過器によって処理液中の気体の除去、あ
るいは処理液中への気体の導入が行われるととともに、
パーティクル除去器によって処理液中のパーティクルが
除去された後、連通接続された容器から流出する。両容
器が直接に連通接続されるので、基板処理装置内でのフ
ィルタの設置スペースの確保が容易であるとともに、配
管への接続作業なども容易に行うことができる。なお、
請求項１に記載の発明において、パーティクルの除去お
よび処理液中の気体の除去（あるいは処理液中への気体
の導入）は、いずれが先におこなわれてもよい。The operation of the present invention is as follows. According to the first aspect of the invention, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are attached to the pipe in a state where they are directly connected to each other. The processing liquid taken into the communicating vessel is removed with a gas permeator, or the gas is introduced into the processing liquid.
After the particles in the processing liquid are removed by the particle remover, they flow out of the connected vessel. Since the two containers are directly connected to each other, it is easy to secure a space for installing the filter in the substrate processing apparatus, and it is also possible to easily perform a connection operation to a pipe. In addition,
In the invention described in claim 1, any of the removal of particles and the removal of gas in the processing liquid (or the introduction of gas into the processing liquid) may be performed first.

【００２６】請求項２に記載の発明によれば、両容器の
連結端面にそれぞれ形成されたネジ構造によって両容器
が連通接続されることにより、パーティクル除去器の容
器と気体透過器の容器とが一体になる。According to the second aspect of the present invention, the containers of the particle remover and the container of the gas permeator are connected to each other by the two containers being connected and connected by the screw structure formed on the connection end face of the both containers. Be one.

【００２７】請求項３に記載の発明によれば、両容器の
連結端面にそれぞれ形成されたフランジを突き合わせ、
両フランジの外周をクランプ機構で挟み込むことによっ
て、パーティクル除去器の容器と気体透過器の容器とが
一体になる。According to the third aspect of the present invention, the flanges respectively formed on the connection end faces of the two containers are abutted,
By sandwiching the outer peripheries of both flanges with the clamp mechanism, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are integrated.

【００２８】請求項４に記載の発明によれば、気体透過
部材（または、パーティクル除去部材）の中心側流路に
流入した処理液は、気体透過部材（または、パーティク
ル除去部材）を半径方向外側に向かって流通し、気体透
過部材（または、パーティクル除去部材）の周面側流路
に流出する。この処理液は、気体透過部材（または、パ
ーティクル除去部材）の周面側流路から、パーティクル
除去部材（または、気体透過部材）の周面側流路に流通
し、パーティクル除去部材（または、気体透過部材）を
半径方向内側に向かって流通する。パーティクル除去部
材（または、気体透過部材）の中心側流路に流出した処
理液は、連通接続された容器の処理液流出口から流出す
る。According to the fourth aspect of the present invention, the processing liquid flowing into the central flow path of the gas permeable member (or the particle removing member) causes the gas permeable member (or the particle removing member) to move radially outward. And flows out to the peripheral side flow path of the gas permeable member (or the particle removing member). This treatment liquid flows from the peripheral flow path of the gas permeable member (or the particle removing member) to the peripheral flow path of the particle removing member (or the gas permeable member), and is then removed. The permeable member flows radially inward. The processing liquid that has flowed out to the central flow path of the particle removing member (or the gas permeable member) flows out of the processing liquid outlet of the container that is connected and connected.

【００２９】連通接続された容器内では、それぞれ筒状
の気体透過部材とパーティクル除去部材とが直列状態に
並んで離間した状態にあるので、仮にパーティクル除去
部材を流通する処理液の流れに偏りが生じても、その影
響が気体透過部材に及んで気体透過部材を流通する処理
液の流れが不均一になるということはない。したがっ
て、処理液の流量が多い場合には、気体透過部材および
パーティクル除去部材を軸心方向に延ばすことによっ
て、各部材の流路面積を拡げることができる。つまりフ
ィルタを半径方向に拡大することなくフィルタの処理能
力を上げることができる。Since the cylindrical gas permeable member and the particle removing member are separated from each other in a serially connected state in the connected containers, the flow of the processing liquid flowing through the particle removing member is biased. Even if it occurs, the influence does not reach the gas permeable member and the flow of the processing liquid flowing through the gas permeable member does not become uneven. Therefore, when the flow rate of the processing liquid is large, the flow passage area of each member can be increased by extending the gas permeable member and the particle removing member in the axial direction. That is, the processing capacity of the filter can be increased without expanding the filter in the radial direction.

【００３０】請求項５に記載の発明によれば、処理液
は、まず気体透過部材を流通し、続いてパーティクル除
去部材を流通する。因みに、処理液が先にパーティクル
除去部材を流通すると、一般にパーティクル除去部材は
圧力損失が大きいので、パーティクル除去部材を流通し
た処理液中に気泡が発生しやすい。この気泡は下手側で
気体透過部材の中空糸膜に付着して、気体透過部材の効
率を低下させる要因になる。これに対して、請求項５の
発明によれば、気体透過部材が上手に、パーティクル除
去部材が下手に配置されるので、上記のような気泡によ
る気体透過部材の効率低下のおそれはない。According to the fifth aspect of the present invention, the processing liquid first flows through the gas permeable member, and then flows through the particle removing member. Incidentally, if the processing liquid first flows through the particle removing member, the particle removing member generally has a large pressure loss, so that bubbles are easily generated in the processing liquid flowing through the particle removing member. These bubbles adhere to the hollow fiber membrane of the gas permeable member on the lower side, and cause a reduction in the efficiency of the gas permeable member. On the other hand, according to the fifth aspect of the present invention, since the gas permeable member is arranged well and the particle removing member is arranged poorly, there is no possibility that the efficiency of the gas permeable member is reduced by the bubbles as described above.

【００３１】また、中空糸膜を円筒状に束ねて構成され
た気体透過部材を中心側流路から周面側流路に向けて処
理液が流通すると、気体透過部材は半径方向外側に向か
って広がるような力を処理液から受ける。つまり、気体
透過部材の各中空糸膜間の隙間が広がるような力が作用
するので、処理液が気体透過部材を円滑に流通し、処理
効率が向上する。因みに、円筒状の気体透過部材を周面
側流路から中心側流路に向かって処理液が流通すると、
円筒状の気体透過部材は半径方向内側に向かって縮退す
るので、各中空糸膜間の隙間が小さくなり、処理液の流
れが悪くなる。When the processing liquid flows through the gas permeable member formed by bundling the hollow fiber membranes into a cylindrical shape from the center side flow path to the peripheral side flow path, the gas permeable member moves radially outward. Receives a spreading force from the processing solution. That is, since a force acts so as to widen the gap between the hollow fiber membranes of the gas permeable member, the processing liquid smoothly flows through the gas permeable member, and the processing efficiency is improved. By the way, when the processing liquid flows from the peripheral flow path to the central flow path through the cylindrical gas permeable member,
Since the cylindrical gas permeable member contracts inward in the radial direction, the gap between the hollow fiber membranes becomes small, and the flow of the processing liquid becomes poor.

【００３２】[0032]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は、基板処理装置の一例である回転
式基板現像装置の現像液供給系の概略構成を示す図であ
る。なお、以下の実施例では、ガスの圧力によって現像
液を圧送する構成で説明するが、ポンプなどにより圧送
する構成であってもよい。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. <First Embodiment> FIG. 1 is a view showing a schematic configuration of a developing solution supply system of a rotary type substrate developing apparatus which is an example of a substrate processing apparatus. In the following embodiment, a configuration in which the developer is pumped by gas pressure will be described, but a configuration in which the developer is pumped by a pump or the like may be used.

【００３３】図中、符号２０は、現像液を貯留する密閉
容器である。この密閉容器２０には、その上部から密閉
容器２０内の上部空間に所定圧力で窒素ガスを供給する
ための窒素供給配管２１が配設されている。また、密閉
容器２０には、現像液が流通する配管２２一端側が、そ
の底部付近にまで延びるように配設されている。In the figure, reference numeral 20 denotes a closed container for storing a developer. The sealed container 20 is provided with a nitrogen supply pipe 21 for supplying nitrogen gas at a predetermined pressure from an upper portion thereof to an upper space in the sealed container 20. Further, one end of the pipe 22 through which the developer flows is disposed in the closed container 20 so as to extend to near the bottom thereof.

【００３４】配管２２の他端側には、現像液を基板Ｗに
対して吐出するための吐出ノズル２３が配設されてい
る。この実施例装置では、基板Ｗの下面をスピンチャッ
ク２４に吸着支持した状態で、鉛直軸周りに所定の回転
数で回転しつつ吐出ノズル２３から現像液を吐出して現
像処理を施すようになっている。At the other end of the pipe 22, a discharge nozzle 23 for discharging the developing solution to the substrate W is provided. In this embodiment, the developing process is performed by discharging the developer from the discharge nozzle 23 while rotating at a predetermined number of revolutions around the vertical axis while the lower surface of the substrate W is suction-supported by the spin chuck 24. ing.

【００３５】密閉容器２０から吐出ノズル２３までの配
管２２には、密閉容器２０側から順に、現像液に溶存し
ている気体を脱気する気体透過器２５および現像液に含
まれるパーティクルを除去するパーティクル除去器２６
を着脱可能に直接に連通接続して構成されたフィルタ２
７と、配管２２を流通する現像液の流量を確認するため
の流量計２８と、配管２２に流通する現像液の流量を制
御するためのエアー開閉弁２９とが配設されている。フ
ィルタ２７の気体透過器２５には減圧手段である真空ポ
ンプ３０が連通接続されている。なお、この真空ポンプ
３０に代えてクリーンルームに配備されている真空ユー
ティリティを接続するようにしてもよい。In a pipe 22 from the closed container 20 to the discharge nozzle 23, a gas permeator 25 for removing gas dissolved in the developer and particles contained in the developer are removed in order from the closed container 20 side. Particle remover 26
Filter 2 which is configured by connecting detachably directly to each other.
7, a flow meter 28 for checking the flow rate of the developer flowing through the pipe 22, and an air opening / closing valve 29 for controlling the flow rate of the developer flowing through the pipe 22 are provided. The gas permeator 25 of the filter 27 is connected to a vacuum pump 30 as a pressure reducing means. Note that a vacuum utility provided in a clean room may be connected instead of the vacuum pump 30.

【００３６】図２の縦断面図を参照して、フィルタ２７
について詳細に説明する。上述したようにフィルタ２７
は気体透過器２５とパーティクル除去器２６を着脱可能
に直接に連通接続して構成されている。まず、気体透過
器２５の構成を説明する。Referring to the longitudinal sectional view of FIG.
Will be described in detail. As described above, the filter 27
Is configured such that the gas permeator 25 and the particle remover 26 are detachably connected directly to each other. First, the configuration of the gas permeator 25 will be described.

【００３７】気体透過器２５は、密閉された円筒状の容
器３１を備えている。この容器３１の一端側には現像液
の流入口３２が、他端側には脱気された現像液をパーテ
ィクル除去器２６側に送る流通口３３が、それぞれ容器
３１の軸心に沿って形成されている。流入口３２と連通
するように円筒部材３４が容器３１内に導入されてい
る。この円筒部材３４の周壁には多数の小孔３５が形成
されている。円筒部材３４の周囲には多数の中空糸膜を
円筒状に束ねて構成された気体透過部材３６が配設され
ている。The gas permeator 25 has a closed cylindrical container 31. At one end of the container 31, a developer inlet 32 is formed, and at the other end, a circulation port 33 for sending the degassed developer to the particle remover 26 is formed along the axis of the container 31. Have been. A cylindrical member 34 is introduced into the container 31 so as to communicate with the inlet 32. A number of small holes 35 are formed in the peripheral wall of the cylindrical member 34. Around the cylindrical member 34, a gas permeable member 36 configured by bundling a number of hollow fiber membranes in a cylindrical shape is disposed.

【００３８】図３の拡大模式図に示すように、気体透過
部材３６を構成している各中空糸膜３６ａは、例えばポ
リエチレン系樹脂からなり、その周壁には気体は透過す
るが、液体は透過しない多数の透過孔３６ｂが形成され
ている。これらの透過孔３６ｂを介して、中空糸膜３６
ａの内部空間である気室３６Ｇと、中空糸膜３６ａの外
部空間である液室３６Ｌとが連通している。気体透過部
材３６の奥側（流通口３３側）端および円筒部材３４の
奥側開口端は部材３７によって閉塞されている。また、
気体透過部材３６の前端側（流入口３２側）は、容器３
１の内面に形成された環状の溝３８に臨んでおり、各中
空糸膜３６ａの気室３６Ｇは溝３８に連通している。そ
して、この溝３８が図１に示した真空ポンプ３０に連通
接続されることにより、中空糸膜３６ａの気室３６Ｇが
減圧されるようになっている。As shown in the enlarged schematic diagram of FIG. 3, each hollow fiber membrane 36a constituting the gas permeable member 36 is made of, for example, a polyethylene resin, and the gas is transmitted through the peripheral wall, but the liquid is permeable. Many transmission holes 36b are formed. Through these transmission holes 36b, the hollow fiber membrane 36
The air chamber 36G, which is the internal space of a, and the liquid chamber 36L, which is the external space of the hollow fiber membrane 36a, communicate with each other. The inner end of the gas permeable member 36 (on the side of the flow port 33) and the open end of the cylindrical member 34 are closed by a member 37. Also,
The front end side (inlet 32 side) of the gas permeable member 36 is
The hollow chambers 36G of the hollow fiber membranes 36a communicate with the grooves 38. The groove 38 is connected to the vacuum pump 30 shown in FIG. 1 so that the pressure in the air chamber 36G of the hollow fiber membrane 36a is reduced.

【００３９】図２および図４（図２のＡ−Ａ矢視断面
図）に示すように、気体透過部材３６は全体としては円
筒状部材であって、その軸心に沿って挿通された円筒部
材３４の内部の中心側流路３９が流入口３２に連通して
いる。円筒状の気体透過部材３６と容器３１の内周面と
の隙間が周面側流路４０になっている。中心側流路３９
は気体透過部材３６（具体的には中空糸膜３６ａ間の液
室３６Ｇ）を介してのみ周面側流路４０と連通し、この
周面側流路４０は容器３１の流通口３３に連通してい
る。As shown in FIGS. 2 and 4 (a sectional view taken along the line AA in FIG. 2), the gas permeable member 36 is a cylindrical member as a whole, and a cylindrical member inserted along its axis. A center-side channel 39 inside the member 34 communicates with the inlet 32. A gap between the cylindrical gas permeable member 36 and the inner peripheral surface of the container 31 forms a peripheral surface side channel 40. Center side channel 39
Communicates with the peripheral surface channel 40 only through the gas permeable member 36 (specifically, the liquid chamber 36G between the hollow fiber membranes 36a), and the peripheral surface channel 40 communicates with the circulation port 33 of the container 31. doing.

【００４０】次にパーティクル除去器２６の構成を説明
する。パーティクル除去器２６は、気体透過器２５と略
同径の円筒状の容器４１を備え、この容器４１と気体透
過器２５の容器３１とが着脱可能に直接に連通接続され
る。具体的には、気体透過器２５の容器３１に形成され
た短筒状の流通口３３の周面に雄ネジ４２が刻設されて
おり、この雄ネジ４２がパーティクル除去器２６の容器
４１の連結端面に形成された雌ネジ４３にねじ込まれて
容器３１と容器４１とが直接に連通接続されるようにな
っている。両容器３１、４１の連結端面面にはＯリング
４４が介在されている。また、容器４１の連結端面とは
反対側の面には、現像液の流出口４５が形成されてい
る。Next, the structure of the particle remover 26 will be described. The particle remover 26 includes a cylindrical container 41 having substantially the same diameter as the gas permeator 25, and the container 41 and the container 31 of the gas permeator 25 are detachably connected directly to each other. Specifically, a male screw 42 is engraved on the peripheral surface of the short cylindrical flow port 33 formed in the container 31 of the gas permeator 25, and the male screw 42 is formed in the container 41 of the particle remover 26. The container 31 and the container 41 are screwed into the female screw 43 formed on the connection end face, and are directly connected to each other. An O-ring 44 is interposed on the connection end face of the containers 31 and 41. An outlet 45 for the developer is formed on the surface of the container 41 opposite to the connection end surface.

【００４１】容器４１には円筒状のパーティクル除去部
材４６が収納されており、このパーティクル除去部材４
６の中心側流路４７が流出口４５と連通している。パー
ティクル除去部材４６と容器４１の内面との隙間が周面
側流路４８になっており、この周面側流路４８が流通孔
３３と連通している。そして、パーティクル除去部材４
６の奥側（流通口３３側）端が部材４９で閉塞されるこ
とにより、中心側流路４７と周面側流路４８とがパーテ
ィクル除去部材４６を介してのみ連通するようになって
いる。The container 41 contains a cylindrical particle removing member 46.
The center-side flow path 47 communicates with the outlet 45. A gap between the particle removing member 46 and the inner surface of the container 41 is a peripheral flow path 48, and the peripheral flow path 48 communicates with the flow hole 33. And the particle removing member 4
6 is closed by a member 49 on the inner side (flow port 33 side), so that the center side flow path 47 and the peripheral side flow path 48 communicate with each other only via the particle removing member 46. .

【００４２】以上のように構成されたフィルタ２７は、
気体透過器２５が上手、パーティクル除去器２６が下手
になるように、管継手５０によって配管２２に取り付け
られる。このようにフィルタ２７を配管２２に配設した
場合には、図２中に実線矢印で示すように現像液が流通
する。すなわち、現像液は気体透過器２５の流入口３２
から流入して中心側流路３９に沿って流れる。中心側流
路３９を流通する間に現像液は円筒部材３４の小孔３５
から流出し、気体透過部材３６を通過して周面側流路４
０に流出する。気体透過部材３６を通過している間に、
中空糸膜３６ａ間の液室３６Ｌにある現像液中から溶存
気体が気室３６Ｇに透過して、現像液が脱気される。The filter 27 configured as described above
It is attached to the pipe 22 by the pipe joint 50 so that the gas permeator 25 is good and the particle remover 26 is bad. When the filter 27 is provided in the pipe 22 in this manner, the developer flows as indicated by the solid arrow in FIG. That is, the developer is supplied to the inlet 32 of the gas permeator 25.
And flows along the center side channel 39. While flowing through the center-side flow path 39, the developer is supplied to the small holes 35 of the cylindrical member 34.
And flows through the gas permeable member 36 to pass through the peripheral surface side channel 4.
Runs to zero. While passing through the gas permeable member 36,
Dissolved gas permeates the gas chamber 36G from the developer in the liquid chamber 36L between the hollow fiber membranes 36a, and the developer is degassed.

【００４３】脱気された現像液は周面側流路４０を流通
口３３に向かって流れ、パーティクル除去器２６の容器
４１内に流入する。パーティクル除去器２６の周面側流
路４８を流通する現像液はパーティクル除去部材４６を
中心側に向かって通過して中心側流路４７に流出する。
パーティクル除去部材４６を通過する過程で、現像液中
のパーティクルが取り除かれる。パーティクルが除去さ
れた現像液は中心側流路４７を流通して流出口４５から
流出する。このようにして脱気されるとともに、パーテ
ィクルが除去された現像液が吐出ノズル２３を介して基
板Ｗに対して吐出される。The degassed developer flows through the peripheral surface side channel 40 toward the flow port 33 and flows into the container 41 of the particle remover 26. The developer flowing through the peripheral flow path 48 of the particle remover 26 passes through the particle removing member 46 toward the center and flows out to the central flow path 47.
In the process of passing through the particle removing member 46, particles in the developer are removed. The developer from which the particles have been removed flows through the center channel 47 and flows out from the outlet 45. In this way, the developing solution from which the particles are removed and the particles are removed is discharged to the substrate W through the discharge nozzle 23.

【００４４】以上のように、本実施例のフィルタ２７
は、気体透過器２５の容器３１と、パーティクル除去器
２６の容器４１とが、各々の連結端面に形成されたネジ
構造（すなわち、雄ネジ４２と雌ネジ４３）によって着
脱可能に直接に連通接続されて一体になるので、全体と
して小型であり基板処理装置内の設置スペースの確保が
容易であるとともに、配管２２への取り付けやパーティ
クル除去部材４６の交換なども容易に行うことができ
る。As described above, the filter 27 of the present embodiment
The container 31 of the gas permeator 25 and the container 41 of the particle remover 26 are directly connected in a detachable and direct manner by a screw structure (that is, a male screw 42 and a female screw 43) formed on each connection end face. As a result, it is compact as a whole, and it is easy to secure an installation space in the substrate processing apparatus, and it is also possible to easily attach the pipe 22 and replace the particle removing member 46.

【００４５】また、気体透過部材３６とパーティクル除
去部材４６とは、図１０に示した従来例のような同心状
の配置ではなく、直列状に配置されているので、仮にパ
ーティクル除去部材４６を流通する現像液の流れに偏り
が生じても、その影響が気体透過部材３６に及びにく
い。換言すれば、現像液の流量が多くしたことに伴って
フィルタ２７の処理能力を上げる必要がある場合に、フ
ィルタ２７（気体透過器２５およびパーティクル除去器
２６）を軸心方向に長く構成することができる。したが
って、フィルタ２７の処理能力を上げるにあたり、フィ
ルタ２７を半径方向に拡大する必要がないので、基板処
理装置内の設置スペースの確保が容易である。The gas permeable member 36 and the particle removing member 46 are not concentrically arranged as in the conventional example shown in FIG. 10, but are arranged in series. Even if the flow of the developing solution becomes uneven, the influence is less likely to reach the gas permeable member 36. In other words, when it is necessary to increase the processing capacity of the filter 27 due to an increase in the flow rate of the developer, the filter 27 (the gas permeable unit 25 and the particle removing unit 26) is configured to be long in the axial direction. Can be. Therefore, in order to increase the processing capacity of the filter 27, it is not necessary to enlarge the filter 27 in the radial direction, so that it is easy to secure an installation space in the substrate processing apparatus.

【００４６】さらに、本実施例によれば、気体透過器２
５が現像液流路の上手側に、パーティクル除去器２６が
下手側に位置するように、フィルタ２７を配管２２に取
り付けているので、現像液がパーティクル除去部材４６
を通過するときに現像液中に気泡が発生しにくい。ま
た、仮に現像液中に気泡が発生しても、その気泡が気体
透過器２５には流入しないので、現像液中の気泡によっ
て気体透過器２５の脱気効率が低下することもない。Further, according to the present embodiment, the gas permeator 2
The filter 27 is attached to the pipe 22 such that the filter 5 is located on the upper side of the developer flow path and the particle remover 26 is located on the lower side.
Bubbles hardly occur in the developer when passing through. Further, even if bubbles are generated in the developer, the bubbles do not flow into the gas permeator 25, so that the degassing efficiency of the gas permeator 25 is not reduced by the bubbles in the developer.

【００４７】また、現像液は気体透過部材３６を中心側
から半径方向外側に向かって流通するので、中空糸膜３
６ａ間の液室３６Ｌが広がる方向に現像液から力を受け
る。したがって、現像液が気体透過部材３６を円滑に流
通し、脱気効率を上げることができる。Further, since the developer flows through the gas permeable member 36 from the center to the outside in the radial direction, the hollow fiber membrane 3
The developer receives a force from the developer in a direction in which the liquid chamber 36L between 6a spreads. Therefore, the developer can smoothly flow through the gas permeable member 36, and the degassing efficiency can be improved.

【００４８】＜第２実施例＞図５は第２実施例に係るフ
ィルタの概略構成を示した縦断面図である。本フィルタ
が設置される基板処理装置の構成は図１に示したものと
同様である。また、図５において、図２中の各符号と同
一の符号で示した構成部分は、第１実施例のものと同様
であるのでここでの説明は省略する。<Second Embodiment> FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a filter according to a second embodiment. The configuration of the substrate processing apparatus in which this filter is installed is the same as that shown in FIG. In FIG. 5, the components indicated by the same reference numerals as those in FIG. 2 are the same as those in the first embodiment, and thus description thereof will be omitted.

【００４９】本実施例のフィルタ２７の特徴は、気体透
過器２５の容器３１とパーティクル除去器２６の容器４
１とを着脱可能に直接に連通接続する連結構造にある。
具体的には、容器３１、４１の各々の端面にはフランジ
５３が形成されている。また、容器３１、４１の各々の
端面の中心位置にはテーパ雌ネジ５４が形成されてい
る。容器３１、４１を連結する場合は、各容器３１、４
１のフランジ５３を突き合わせて、その周囲をクランプ
機構５５で圧接する。このクランプ機構５５は、図６に
示すように、突き合わされたフランジ５３の周囲に嵌ま
る、断面形状が略Ｕの字状の開閉自在の一対のクランプ
リング５６を備えている。両クランプリングの基端は部
材５７の両端にそれぞれピン結合されている。また、両
クランプリング５６の遊端は蝶ネジ５８およびナット５
９を使って締めつけらるようになっている。突き合わさ
れたフランジ５３の周囲に、開放したクランプリング５
６を嵌め付けた後、蝶ネジ５８を締めつけると、クラン
プリング５６の内面がフランジ５３の傾斜面を押圧し、
両フランジ５３が圧接するようになっている。このよう
なクランプ機構５５によれば、容器３１、４１の脱着を
迅速に行うことができる。The feature of the filter 27 of this embodiment is that the container 31 of the gas permeator 25 and the container 4 of the particle remover 26
1 is detachably connected directly to the connection structure.
Specifically, a flange 53 is formed on each end face of the containers 31 and 41. Further, a tapered female screw 54 is formed at the center of each end face of the containers 31 and 41. When connecting the containers 31 and 41, the containers 31, 4
The first flange 53 is abutted, and the periphery thereof is pressed by the clamp mechanism 55. As shown in FIG. 6, the clamp mechanism 55 includes a pair of freely openable and closable clamp rings 56 each having a substantially U-shaped cross section and fitted around the butted flange 53. The base ends of both clamp rings are pin-connected to both ends of the member 57, respectively. The free ends of the two clamp rings 56 are the thumbscrew 58 and the nut 5
9 is to be tightened. Open clamp ring 5 around the butted flange 53
6, after the thumb screw 58 is tightened, the inner surface of the clamp ring 56 presses the inclined surface of the flange 53,
Both flanges 53 are in pressure contact with each other. According to such a clamp mechanism 55, the containers 31 and 41 can be quickly attached and detached.

【００５０】なお、一方のクランプリング５６の遊端に
ネジ軸を取り付け、他方のクランプリングの遊端側の外
側から蝶ナットをネジ軸にねじ込むことにより、両クラ
ンプリング５６を締めつけるようにしてもよい。It should be noted that a screw shaft may be attached to the free end of one clamp ring 56, and a wing nut may be screwed into the screw shaft from outside the free end side of the other clamp ring to tighten both clamp rings 56. Good.

【００５１】本実施例のフィルタ２７を管２２に取り付
ける場合、連結された容器３１、４１の両端にあるテー
パ雌ネジ５４にテーパ雄ネジ付きの継手６０をそれぞれ
ねじ込み、この継手６０に管継手５０を介して配管２２
が取り付けられる。When the filter 27 of this embodiment is attached to the pipe 22, a joint 60 having a tapered male thread is screwed into each of the tapered female threads 54 at both ends of the connected containers 31, 41. Through the piping 22
Is attached.

【００５２】さらに、本実施例のフィルタ構造によれ
ば、気体透過器２５およびパーティクル除去器２６を多
段に連通接続してたフィルタを構成することができる。
例えば、図７に示したフィルタ２７は、２つの気体透過
器２５と１つのパーティクル除去器２６を直列状態に連
通接続して構成されている。この例によれば、１つの気
体透過器２５では現像液の脱気が不十分であるような場
合に、さらに別の気体透過器２５を増設することによ
り、容易に対処することができる。また、複数個のパー
ティクル除去器２６を多段に接続することにより、パー
ティクル除去効果を上げることもできる。このような各
容器の多段接続を考慮して、本実施例では気体透過器２
５の容器３１内に形成された溝３８に連通する吸気路３
８ａを容器３１の周面に導出して真空ポンプ３０に接続
している。Further, according to the filter structure of this embodiment, a filter in which the gas permeator 25 and the particle remover 26 are connected in multiple stages can be constructed.
For example, the filter 27 shown in FIG. 7 is configured by connecting two gas permeators 25 and one particle remover 26 in series with each other. According to this example, when the degassing of the developer is insufficient with one gas permeator 25, it can be easily dealt with by adding another gas permeator 25. Further, by connecting the plurality of particle removers 26 in multiple stages, the particle removing effect can be improved. In consideration of such multi-stage connection of each container, in this embodiment, the gas permeable device 2 is used.
5 the intake passage 3 communicating with the groove 38 formed in the container 31
8 a is led out to the peripheral surface of the container 31 and connected to the vacuum pump 30.

【００５３】本発明は上述した実施例に限らず次のよう
に変形実施することができる。 （１）上述した各実施例では気体透過器２５を現像液流
路の上手側に、パーティクル除去器２６を下手側に配置
したが、パーティクル除去器２６における気泡の発生な
どが問題にならない場合には、パーティクル除去器２６
を上手側に、気体透過器２５を下手側に配置してもよ
い。この場合、現像液の流れは図２、図５、および図７
にそれぞれ実線で示した現像液の流れとは逆になる。こ
のときの現像液の流れを図２にのみ破線で示す。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be modified as follows. (1) In each of the above-described embodiments, the gas permeator 25 is disposed on the upper side of the developer flow path, and the particle remover 26 is disposed on the lower side. Is a particle remover 26
May be arranged on the lower side, and the gas permeator 25 may be arranged on the lower side. In this case, the flow of the developer is shown in FIGS.
Are opposite to the flow of the developer indicated by the solid lines. The flow of the developer at this time is shown by a broken line only in FIG.

【００５４】（２）上述した各実施例では気体透過器２
５を脱気モジュールとして使用する場合について説明し
たが、気体透過器２５は例えば基板洗浄用の純水に二酸
化炭素を溶存させる溶存モジュールとして使用すること
もできる。この場合、例えば図８に示すように純水が流
通する配管２２の上手側にパーティクル除去器２６を、
下手側に気体透過器２５を配置する。そして、液化した
二酸化炭素が充填されたガスボンベ６１を、その液化二
酸化炭素を気化させるガス発生器６２を介して気体透過
器２５の溝２８に連通接続する。これにより気体透過部
材３６の気室３６Ｇに二酸化炭素を供給することがで
き、液室３６Ｌを流通する純水に二酸化炭素を溶存させ
ることができる。したがって、純水の比抵抗を下げて基
板Ｗに供給することができるので、静電破壊に起因する
回路パターンの破壊を防止することができる。なお、純
水の比抵抗を低下させるために二酸化炭素を溶存させた
が、誘電率が高い気体であれば他のものを溶存させるよ
うにしてもよい。(2) In each of the above-described embodiments, the gas permeator 2
Although the case where 5 is used as a degassing module has been described, the gas permeator 25 can also be used as, for example, a dissolved module for dissolving carbon dioxide in pure water for cleaning a substrate. In this case, for example, as shown in FIG. 8, a particle remover 26 is provided on the upstream side of the pipe 22 through which pure water flows.
The gas permeator 25 is arranged on the lower side. Then, the gas cylinder 61 filled with the liquefied carbon dioxide is connected to the groove 28 of the gas permeator 25 through a gas generator 62 for vaporizing the liquefied carbon dioxide. Thereby, carbon dioxide can be supplied to the gas chamber 36G of the gas permeable member 36, and carbon dioxide can be dissolved in pure water flowing through the liquid chamber 36L. Therefore, since the specific resistance of pure water can be reduced and supplied to the substrate W, the destruction of the circuit pattern due to the electrostatic destruction can be prevented. Although carbon dioxide is dissolved to reduce the specific resistance of pure water, other gases may be dissolved as long as the gas has a high dielectric constant.

【００５５】（３）気体透過器２５の容器３１とパーテ
ィクル除去器２６の容器４１を着脱可能に直接に連通接
続するための構造は、上述した実施例のものに限らな
い。例えば、図５に示した例では突き合わされたフラン
ジ５３をクランプ機構５５で圧接したが、突き合わされ
たフランジ５３をボルトで連結するようにしてもよい。(3) The structure for directly detachably connecting the container 31 of the gas permeator 25 and the container 41 of the particle remover 26 is not limited to the above-described embodiment. For example, in the example shown in FIG. 5, the butted flanges 53 are pressed by the clamp mechanism 55, but the butted flanges 53 may be connected by bolts.

【００５６】[0056]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば次の効果を奏する。請求項１に記載の発明によ
れば、パーティクル除去器の容器と気体透過器の容器と
が着脱可能に直接に連通接続されて一体になるので、基
板処理装置内におけるフィルタの設置スペースの確保が
容易であるとともに、その取り扱いも容易である。As apparent from the above description, the present invention has the following effects. According to the first aspect of the present invention, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are detachably and directly connected to each other so as to be integrally connected, so that an installation space for the filter in the substrate processing apparatus can be secured. It is easy and easy to handle.

【００５７】請求項２に記載の発明によれば、パーティ
クル除去器の容器と気体透過器の容器とが、各容器の連
結端面に形成されたネジ構造によって、着脱可能に直接
に連通接続されて一体になるので、基板処理装置内にお
けるフィルタの設置スペースの確保が容易であるととも
に、その取り扱いも容易である。According to the second aspect of the present invention, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are detachably and directly connected to each other by the screw structure formed on the connection end face of each container. Since they are integrated, it is easy to secure a space for installing the filter in the substrate processing apparatus, and it is also easy to handle the filter.

【００５８】請求項３に記載の発明によれば、パーティ
クル除去器の容器と気体透過器の容器とが、クランプ機
構を用いて着脱可能に直接に連通接続されて一体になる
ので、基板処理装置内におけるフィルタの設置スペース
の確保が容易であるとともに、その取り扱いも容易であ
る。According to the third aspect of the present invention, the container of the particle remover and the container of the gas permeator are detachably and directly connected to each other by using the clamp mechanism so as to be integrated. It is easy to secure the installation space for the filter in the inside, and the handling is also easy.

【００５９】請求項４に記載の発明によれば、それぞれ
筒状部材であるパーティクル除去部材と気体透過部材と
が、連通接続された容器内で直列状に配置されるので、
各部材を軸方向に長く構成することにより、フィルタの
処理能力を向上することができる。つまり、処理液の流
量が多くなっても、フィルタを半径方向に拡大する必要
がないので、基板処理装置内におけるフィルタ設置のス
ペースの確保が容易である。また、パーティクル除去部
材および気体透過部材を軸方向に長くしても、気体透過
部材を流通する処理液の流れは均一であるので、気体透
過部材を軸方向に長く構成したことによって、気体透過
部材の処理効率の低下を招くこともない。According to the fourth aspect of the present invention, since the particle removing member and the gas permeable member, each of which is a tubular member, are arranged in series in the connected vessel.
By configuring each member to be long in the axial direction, the processing capacity of the filter can be improved. That is, even if the flow rate of the processing liquid increases, it is not necessary to expand the filter in the radial direction, so that it is easy to secure a space for installing the filter in the substrate processing apparatus. Even if the particle removing member and the gas permeable member are lengthened in the axial direction, the flow of the processing liquid flowing through the gas permeable member is uniform. The processing efficiency does not decrease.

【００６０】請求項５に記載の発明によれば、気体透過
部材を上手側にパーティクル除去部材を下手側に配置し
ているので、パーティクル除去部材の下手側で処理液中
に発気泡が発生しても、そのことによって気体透過部材
の効率が低下するということはない。また、処理液は気
体透過部材を半径方向外側に向かって流通するので、処
理液の流れが円滑になる。According to the fifth aspect of the present invention, since the gas permeable member is disposed on the upper side and the particle removing member is disposed on the lower side, bubbles are generated in the processing liquid on the lower side of the particle removing member. However, this does not reduce the efficiency of the gas permeable member. Further, since the processing liquid flows radially outward through the gas permeable member, the flow of the processing liquid becomes smooth.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明に係るフィルタが用いられる基板処理装
置の要部構成図である。FIG. 1 is a main part configuration diagram of a substrate processing apparatus using a filter according to the present invention.

【図２】第１実施例のフィルタの概略構成を示した縦断
面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of the filter of the first embodiment.

【図３】気体透過部材の一部拡大断面図である。FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of a gas permeable member.

【図４】図２のＡ−Ａ矢視断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along the line AA of FIG. 2;

【図５】第２実施例のフィルタの概略構成を示した縦断
面図である。FIG. 5 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a filter according to a second embodiment.

【図６】図５のＢ−Ｂ矢視断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line BB of FIG. 5;

【図７】多段接続したフィルタの概略構成を示した縦断
面図である。FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a filter connected in multiple stages.

【図８】気体透過器を溶存モジュールとして用いた基板
処理装置の要部構成図である。FIG. 8 is a main part configuration diagram of a substrate processing apparatus using a gas permeator as a dissolved module.

【図９】従来例のフィルタを配管に接続した状態を示し
た図である。FIG. 9 is a view showing a state in which a conventional filter is connected to a pipe.

【図１０】他の従来例であるフィルタの縦断面図であ
る。FIG. 10 is a longitudinal sectional view of another conventional filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

２５…気体透過器 ２６…パーティクル除去器 ２７…フィルタ ３１、４１…容器 ３２…流入口 ３３…流通口 ３４…円筒部材 ３６…気体透過部材 ３９、４７…中心側流路 ４０、４８…周面側流路 ４２…雄ネジ ４３…雌ネジ ４５…流出口 ４６…パーティクル除去部材 ５３…フランジ ５５…クランプ機構 25 ... gas permeator 26 ... particle remover 27 ... filters 31 and 41 ... container 32 ... inflow port 33 ... flow port 34 ... cylindrical member 36 ... gas permeation member 39 and 47 ... central side channel 40 and 48 ... peripheral surface side Channel 42 ... Male thread 43 ... Female thread 45 ... Outflow port 46 ... Particle removing member 53 ... Flange 55 ... Clamp mechanism

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 処理液が流通する配管に介在する基板処
理装置のフィルタであって、 配管を流通する処理液中のパーティクルを除去するパー
ティクル除去部材を容器内に収納したパーティクル除去
器と、 配管内を流通する処理液中の気体の除去、または処理液
中への気体の導入を行う気体透過部材を容器内に収納し
た気体透過器とを備え、 かつ、前記パーティクル除去器の容器と前記気体透過器
の容器とが着脱可能に直接に連通接続されていることを
特徴とする基板処理装置のフィルタ。1. A filter of a substrate processing apparatus interposed in a pipe through which a processing liquid flows, wherein the particle removing device includes a particle removing member for removing particles in the processing liquid flowing through the pipe in a container. A gas permeable member in which a gas permeable member that removes gas in the processing liquid flowing therethrough or introduces gas into the processing liquid is accommodated in a container, and the container of the particle remover and the gas A filter for a substrate processing apparatus, wherein a filter of a substrate processing apparatus is directly and detachably connected to a container of a transmission device. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置のフィル
タにおいて、 前記パーテクル除去器の容器と前記気体透過器の容器と
は、各容器の連結端面にそれぞれ形成されたネジ構造に
よって着脱可能に直接に連通接続されている基板処理装
置のフィルタ。2. The filter of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the container of the particle remover and the container of the gas permeator are detachably attached by a screw structure formed on a connection end face of each container. A filter of a substrate processing apparatus that is directly connected to and communicated with the filter. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置のフィル
タにおいて、 前記パーテクル除去器の容器と前記気体透過器の容器と
は、各容器の連結端面にそれぞれ形成されたフランジを
突き合わせ、前記両フランジの外周をクランプ機構で挟
み込むことによって着脱可能に直接に連通接続されてい
る基板処理装置のフィルタ。3. The filter of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the container of the particle remover and the container of the gas permeator abut a flange formed on a connection end face of each container, respectively, and A filter for a substrate processing apparatus, which is detachably connected directly to and detachably connected to the outer periphery of a flange by a clamp mechanism. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の基板処
理装置のフィルタにおいて、 前記パーティクル除去部材および前記気体透過部材は、
ともに筒状部材であって、各筒状部材の軸心に沿って形
成された２つの中心側流路の一方が前記連通接続された
容器の処理液流入口に連通し、他方の中心側流路が前記
連通接続された容器の処理液流出口に連通し、かつ、各
筒状部材と前記連通接続された容器の内壁との間に、各
筒状部材を介してのみ各中心側流路と連通する２つの周
面側流路が形成されており、前記２つの周面側流路が前
記連通接続された容器内で連通している基板処理装置の
フィルタ。4. The filter of the substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the particle removing member and the gas permeable member are
Both are cylindrical members, and one of two center-side flow paths formed along the axis of each cylindrical member communicates with the processing liquid inlet of the communication-connected vessel, and the other center-side flow The passage communicates with the treatment liquid outlet of the communication-connected vessel, and the center-side flow path is provided only between the cylindrical members and the inner wall of the communication-connected vessel only through the cylindrical members. A filter for a substrate processing apparatus, wherein two peripheral-side flow paths are formed, and the two peripheral-side flow paths communicate with each other in the communication-connected container. 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置のフィル
タにおいて、 前記気体透過部材は、多数の中空糸膜を円筒状に束ねて
構成されており、前記気体透過部材の中心側流路が前記
連通接続された容器の処理液流入口に連通し、 前記パーティクル除去部材の中心側流路が前記連通接続
された容器の処理液流出口に連通している基板処理装置
のフィルタ。5. The filter of the substrate processing apparatus according to claim 4, wherein the gas permeable member is configured by bundling a large number of hollow fiber membranes in a cylindrical shape, and a center side flow path of the gas permeable member is provided. A filter of the substrate processing apparatus, wherein the filter is in communication with the processing liquid inlet of the communication-connected container, and the center side flow path of the particle removing member is in communication with the processing liquid outlet of the communication-connected container.