JPH11330206A - ステージ位置制御方法及び該方法を用いた基板処理装置 - Google Patents
ステージ位置制御方法及び該方法を用いた基板処理装置Info
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- JPH11330206A JPH11330206A JP10153914A JP15391498A JPH11330206A JP H11330206 A JPH11330206 A JP H11330206A JP 10153914 A JP10153914 A JP 10153914A JP 15391498 A JP15391498 A JP 15391498A JP H11330206 A JPH11330206 A JP H11330206A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 第２のステージの座標と第１のステージの座
標を対応関係を記憶しておくことで、第２のステージを
高精度な座標測定機を用いて校正することなく、迅速か
つ正確に第２のステージを制御する方法等を提供するこ
と。 【解決手段】 第１のステージ１２を制御するデータに
基づいて前記第１のステージとは異なる位置に配置され
た第２のステージ６５を制御するステージ制御方法にお
いて、前記第１のステージの座標系と前記第２のステー
ジの座標系との対応関係を記憶する工程５６と、前記対
応関係に基づいて前記第１のステージを制御するデータ
を補正し５８、該補正データにしたがって前記第２のス
テージを制御する工程６０とからなる。
標を対応関係を記憶しておくことで、第２のステージを
高精度な座標測定機を用いて校正することなく、迅速か
つ正確に第２のステージを制御する方法等を提供するこ
と。 【解決手段】 第１のステージ１２を制御するデータに
基づいて前記第１のステージとは異なる位置に配置され
た第２のステージ６５を制御するステージ制御方法にお
いて、前記第１のステージの座標系と前記第２のステー
ジの座標系との対応関係を記憶する工程５６と、前記対
応関係に基づいて前記第１のステージを制御するデータ
を補正し５８、該補正データにしたがって前記第２のス
テージを制御する工程６０とからなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、被測定基板に対し
て測定・検査等の処理を行なう場合、特、被測定基板を
載置した第１のステージを制御するデータに基づいて前
記第１のステージとは異なる位置に配置された第２のス
テージを制御する場合の制御方法及び該方法を用いた基
板処理装置に関する。
て測定・検査等の処理を行なう場合、特、被測定基板を
載置した第１のステージを制御するデータに基づいて前
記第１のステージとは異なる位置に配置された第２のス
テージを制御する場合の制御方法及び該方法を用いた基
板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ウエハまたはマスク等の被測定基
板に対して測定・検査等の処理を行なう装置では、ま
ず、被測定基板をステージ上に載置し、前記基板の所定
領域を電子ビームまたはプローブで測定・検査するため
に該プローブとステージを相対的に移動させている。例
えば、被測定基板を載置したステージを移動させる場
合、レーザ干渉系またはエンコーダ等を用いてステージ
の位置を検出している。
板に対して測定・検査等の処理を行なう装置では、ま
ず、被測定基板をステージ上に載置し、前記基板の所定
領域を電子ビームまたはプローブで測定・検査するため
に該プローブとステージを相対的に移動させている。例
えば、被測定基板を載置したステージを移動させる場
合、レーザ干渉系またはエンコーダ等を用いてステージ
の位置を検出している。
【０００３】しかし、従来のステージでは、ステージ位
置の検出精度を高くしても、ステージ自体が機械的な誤
差を有しているので絶対直交座標に沿って移動させるこ
とは困難である。このため、従来はステージ移動に際し
て以下の補正を行っている。まず、当該装置よりも高精
度な別の座標測定機を用いて基準パターンを有する被測
定基板を計測し、前記基準パターンの位置座標を得る。
次に、前記被測定基板を当該装置のステージに移動し、
基準パターンの位置を計測する。そして、両計測値の差
からステージの直交度、真直度またはスケール等を補正
する。換言すれば、当該装置のステージの座標系を、よ
り高精度な座標測定機の座標系を基準にして校正してい
ることになる。
置の検出精度を高くしても、ステージ自体が機械的な誤
差を有しているので絶対直交座標に沿って移動させるこ
とは困難である。このため、従来はステージ移動に際し
て以下の補正を行っている。まず、当該装置よりも高精
度な別の座標測定機を用いて基準パターンを有する被測
定基板を計測し、前記基準パターンの位置座標を得る。
次に、前記被測定基板を当該装置のステージに移動し、
基準パターンの位置を計測する。そして、両計測値の差
からステージの直交度、真直度またはスケール等を補正
する。換言すれば、当該装置のステージの座標系を、よ
り高精度な座標測定機の座標系を基準にして校正してい
ることになる。
【０００４】例えば、ウエハ等の半導体基板の欠陥等を
測定・検査する装置においては、第１の欠陥検査装置で
大まかに半導体基板の欠陥を識別し、次に、前記欠陥検
査装置とは異なる第２の欠陥検査装置へ基板を載置し
て、さらに欠陥を詳細に測定することが多い。
測定・検査する装置においては、第１の欠陥検査装置で
大まかに半導体基板の欠陥を識別し、次に、前記欠陥検
査装置とは異なる第２の欠陥検査装置へ基板を載置し
て、さらに欠陥を詳細に測定することが多い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】このとき、第２の欠陥
検査装置の試料ステージの座標が上述のように基準パタ
ーンを用いて高精度の座標測定機に対して校正してあっ
ても、第１欠陥検査装置の試料ステージの座標が同様に
校正されてなければ、第２の欠陥検査装置において測定
・検査したい所望の位置ヘステージを移動させることが
困難になってしまうという問題がある。特に、上述のよ
うな欠陥検査では、第２の欠陥検査装置は高倍率で観
察、測定することが多い。したがって、第１の欠陥検査
装置で得られた座標位置に基づいて、被測定基板の欠陥
部分を第２の欠陥検査装置の観察視野領域の中心へ正確
に位置させなければならない。このため、かかる第１の
欠陥検査装置と第２の欠陥検査装置の測定座標系の不一
致はより一層問題となる。
検査装置の試料ステージの座標が上述のように基準パタ
ーンを用いて高精度の座標測定機に対して校正してあっ
ても、第１欠陥検査装置の試料ステージの座標が同様に
校正されてなければ、第２の欠陥検査装置において測定
・検査したい所望の位置ヘステージを移動させることが
困難になってしまうという問題がある。特に、上述のよ
うな欠陥検査では、第２の欠陥検査装置は高倍率で観
察、測定することが多い。したがって、第１の欠陥検査
装置で得られた座標位置に基づいて、被測定基板の欠陥
部分を第２の欠陥検査装置の観察視野領域の中心へ正確
に位置させなければならない。このため、かかる第１の
欠陥検査装置と第２の欠陥検査装置の測定座標系の不一
致はより一層問題となる。
【０００６】また、第２の欠陥検査装置のオペレータ
が、第１の欠陥検査装置と第２の欠陥検査装置の座標の
不一致の度合いを感覚的に記憶し、該不一致を手作業で
補正することも行なわれている。しかし、第１の欠陥検
査装置が複数存在し、それらの中から１つの装置を適宜
選択して使用する場合は、かかるオペレータの手作業に
よる補正は極めて困難であるので問題である。
が、第１の欠陥検査装置と第２の欠陥検査装置の座標の
不一致の度合いを感覚的に記憶し、該不一致を手作業で
補正することも行なわれている。しかし、第１の欠陥検
査装置が複数存在し、それらの中から１つの装置を適宜
選択して使用する場合は、かかるオペレータの手作業に
よる補正は極めて困難であるので問題である。
【０００７】本発明は上記問題にかんがみてなされたも
のであり、第２のステージの座標と第１のステージの座
標を対応関係を記憶しておくことで、第２のステージを
高精度な座標測定機を用いて校正することなく、迅速か
つ正確に第２のステージを制御する方法及び該方法を用
いた基板処理装置を提供することを目的とする。
のであり、第２のステージの座標と第１のステージの座
標を対応関係を記憶しておくことで、第２のステージを
高精度な座標測定機を用いて校正することなく、迅速か
つ正確に第２のステージを制御する方法及び該方法を用
いた基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためのものであり、以下に、実施形態に示した各
図面を用いてその内容を説明する。
成するためのものであり、以下に、実施形態に示した各
図面を用いてその内容を説明する。
【０００９】本発明では、第１のステージ１２、２２、
３２を制御するデータに基づいて前記第１のステージと
は異なる位置に配置された第２のステージ６５を制御す
るステージ制御方法において、前記第１のステージ１
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系との対応関係を記憶する工程５６と、前記対応関係
に基づいて前記第１のステージ１２、２２、３２を制御
するデータを補正し（５８）、該補正データにしたがっ
て前記第２のステージ６５を制御する工程６０とからな
ることを特徴とする。
３２を制御するデータに基づいて前記第１のステージと
は異なる位置に配置された第２のステージ６５を制御す
るステージ制御方法において、前記第１のステージ１
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系との対応関係を記憶する工程５６と、前記対応関係
に基づいて前記第１のステージ１２、２２、３２を制御
するデータを補正し（５８）、該補正データにしたがっ
て前記第２のステージ６５を制御する工程６０とからな
ることを特徴とする。
【００１０】また、本発明では、前記第１のステージ１
２、２２、３２は選択的に使用可能な複数の装置１１、
２１、３１に備えられ、前記第１のステージ１２、２
２、３２の各座標系と前記第２のステージ６５の座標系
との各対応関係を記憶する工程５６と、選択された装置
１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１２、
２２又は３２に関する対応関係に基づいて前記選択され
た装置１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ
１２、２２又は３２を制御するデータを補正し（５
８）、該補正データにしたがって前記第２のステージ６
５を制御することを特徴とする。
２、２２、３２は選択的に使用可能な複数の装置１１、
２１、３１に備えられ、前記第１のステージ１２、２
２、３２の各座標系と前記第２のステージ６５の座標系
との各対応関係を記憶する工程５６と、選択された装置
１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１２、
２２又は３２に関する対応関係に基づいて前記選択され
た装置１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ
１２、２２又は３２を制御するデータを補正し（５
８）、該補正データにしたがって前記第２のステージ６
５を制御することを特徴とする。
【００１１】また、本発明では、前記第１のステージ１
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系とが一致するように前記データを補正することを特
徴とする。
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系とが一致するように前記データを補正することを特
徴とする。
【００１２】また、本発明では、第１のステージ１２、
２２、３２を制御するデータに基づいて前記第１のステ
ージ１２、２２、３２とは異なる位置に配置され、基板
１０を載置した第２のステージ６５を制御して前記基板
１０を処理する基板処理装置５０において、前記第１の
ステージ１２、２２、３２の座標系と前記基板処理装置
５０の前記第２のステージ６５の座標系との対応関係を
記憶する対応関係記憶部５６と、前記対応関係に基づい
て前記第１のステージ１２、２２、３２を制御するデー
タを補正し、該補正データにしたがって前記第２のステ
ージ６５を制御するステージ制御部６０とを有すること
を特徴とする。
２２、３２を制御するデータに基づいて前記第１のステ
ージ１２、２２、３２とは異なる位置に配置され、基板
１０を載置した第２のステージ６５を制御して前記基板
１０を処理する基板処理装置５０において、前記第１の
ステージ１２、２２、３２の座標系と前記基板処理装置
５０の前記第２のステージ６５の座標系との対応関係を
記憶する対応関係記憶部５６と、前記対応関係に基づい
て前記第１のステージ１２、２２、３２を制御するデー
タを補正し、該補正データにしたがって前記第２のステ
ージ６５を制御するステージ制御部６０とを有すること
を特徴とする。
【００１３】また、本発明では、前記第１のステージ１
２、２２、３２は選択的に使用可能な複数の装置１１、
２１、３１に備えられ、対応関係記憶部５６ａ乃至５６
ｃは前記第１のステージ１２、２２、３２の各座標系と
前記第２のステージ６５の座標系との各対応関係を記憶
し、前記ステージ制御部６０は前記選択された装置１
１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１１、２
２又は３２に関する対応関係に基づいて前記選択された
装置１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１
２、２２又は３２を制御するデータを補正し、該補正デ
ータにしたがって前記第２のステージ６５を制御するこ
とを特徴とする。
２、２２、３２は選択的に使用可能な複数の装置１１、
２１、３１に備えられ、対応関係記憶部５６ａ乃至５６
ｃは前記第１のステージ１２、２２、３２の各座標系と
前記第２のステージ６５の座標系との各対応関係を記憶
し、前記ステージ制御部６０は前記選択された装置１
１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１１、２
２又は３２に関する対応関係に基づいて前記選択された
装置１１、２１又は３１が備える前記第１のステージ１
２、２２又は３２を制御するデータを補正し、該補正デ
ータにしたがって前記第２のステージ６５を制御するこ
とを特徴とする。
【００１４】また、本発明では、前記第１のステージ１
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系とが一致するように前記データを補正することを特
徴とする。
２、２２、３２の座標系と前記第２のステージ６５の座
標系とが一致するように前記データを補正することを特
徴とする。
【００１５】また、本発明では、前記装置１１、２１、
３１は基板１０の欠陥を検査する欠陥検査装置であり、
前記ステージ制御部６０は前記欠陥検査装置１１、２
１、３１からの欠陥結果にもとづいて前記欠陥を詳細に
検査するために前記基板１０を載置した前記第２のステ
ージ６５を制御することを特徴とする。
３１は基板１０の欠陥を検査する欠陥検査装置であり、
前記ステージ制御部６０は前記欠陥検査装置１１、２
１、３１からの欠陥結果にもとづいて前記欠陥を詳細に
検査するために前記基板１０を載置した前記第２のステ
ージ６５を制御することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、添付図面に基づいて本発明
の実施の形態について説明する。 （第１実施形態）図１は本発明の第１実施形態にかかる
基板処理装置の構成を示す図である。第１工程装置であ
る低倍率の実体顕微鏡１１は、ステージ１２上に載置さ
れた被測定基板１０の欠陥を大まかに検出する。そし
て、前記実体顕微鏡で検出された欠陥をより詳細に観察
する場合に、被測定基板１０を実体顕微鏡１０のステー
ジ１２から外し、より高倍率で観察するための第２工程
装置である光学顕微鏡７０のステージ６５上に載置す
る。ここで、記憶部５６は、ステージ１２とステージ６
５の座標の対応関係を予め記憶している。情報取り込み
部５２は実体顕微鏡で得られた欠陥座標データを読み込
み、ステージ座標軸変換部５４は記憶部５６に格納され
た対応関係に基づいて後述する演算処理を欠陥座標デー
タに対して行なう。算出部５８は、ステージ６５の目標
移動位置を算出する。そして、制御部６０は不図示のモ
ータを駆動しステージ６５を該目標移動位置へ移動す
る。
の実施の形態について説明する。 （第１実施形態）図１は本発明の第１実施形態にかかる
基板処理装置の構成を示す図である。第１工程装置であ
る低倍率の実体顕微鏡１１は、ステージ１２上に載置さ
れた被測定基板１０の欠陥を大まかに検出する。そし
て、前記実体顕微鏡で検出された欠陥をより詳細に観察
する場合に、被測定基板１０を実体顕微鏡１０のステー
ジ１２から外し、より高倍率で観察するための第２工程
装置である光学顕微鏡７０のステージ６５上に載置す
る。ここで、記憶部５６は、ステージ１２とステージ６
５の座標の対応関係を予め記憶している。情報取り込み
部５２は実体顕微鏡で得られた欠陥座標データを読み込
み、ステージ座標軸変換部５４は記憶部５６に格納され
た対応関係に基づいて後述する演算処理を欠陥座標デー
タに対して行なう。算出部５８は、ステージ６５の目標
移動位置を算出する。そして、制御部６０は不図示のモ
ータを駆動しステージ６５を該目標移動位置へ移動す
る。
【００１７】次に、記憶装置５６に格納しておく第１工
程装置１１と第２工程装置５０との座標の対応関係を求
める手順を説明する。図２に示すような、３点の基準パ
ターンＯ，Ｘ及びＹを有する基準基板を第１工程装置で
ある実体顕微鏡１１のステージ１２に載置し、基準パタ
ーンＯ、Ｘ及びＹの位置座標を計測する。計測されたパ
ターンＯ，Ｘ及びＹの座標をそれぞれＯ（ｘＯ，ｙ
Ｏ）、Ｘ（ｘｘ，ｙｘ）、Ｙ（ｘｙ，ｙｙ）とする。次
に、前記基準基板を第２工程装置である高倍率光学顕微
鏡７０のステージ６５へ移動し、同様の測定を行う。計
測された各パターンＯ’，Ｘ’及びＹ’の座標をそれぞ
れＯ’（ｘ’Ｏ，ｙ’Ｏ）、Ｘ’（ｘ’ｘ，ｙ’ｘ）、
Ｙ’（ｘ’ｙ，ｙ’ｙ）とする。
程装置１１と第２工程装置５０との座標の対応関係を求
める手順を説明する。図２に示すような、３点の基準パ
ターンＯ，Ｘ及びＹを有する基準基板を第１工程装置で
ある実体顕微鏡１１のステージ１２に載置し、基準パタ
ーンＯ、Ｘ及びＹの位置座標を計測する。計測されたパ
ターンＯ，Ｘ及びＹの座標をそれぞれＯ（ｘＯ，ｙ
Ｏ）、Ｘ（ｘｘ，ｙｘ）、Ｙ（ｘｙ，ｙｙ）とする。次
に、前記基準基板を第２工程装置である高倍率光学顕微
鏡７０のステージ６５へ移動し、同様の測定を行う。計
測された各パターンＯ’，Ｘ’及びＹ’の座標をそれぞ
れＯ’（ｘ’Ｏ，ｙ’Ｏ）、Ｘ’（ｘ’ｘ，ｙ’ｘ）、
Ｙ’（ｘ’ｙ，ｙ’ｙ）とする。
【００１８】そして、第１工程装置のステージの座標系
と第２工程装置のステージの座標系とは以下の各補正量
算出式（１）乃至（４）を用いることで対応させること
ができる。
と第２工程装置のステージの座標系とは以下の各補正量
算出式（１）乃至（４）を用いることで対応させること
ができる。
【００１９】ここで、Ｏ’’は原点の移動誤差の補正
量、Ｓはスケール（倍率）の誤差の補正量、φは基準と
する軸の角度誤差の補正量、θは座標の角度誤差の補正
量、例えばＸ軸とＹ軸とのなす角度誤差をそれぞれ表し
ている。図３はφとθの関係を示す図であり、破線は第
１工程装置のステージの座標系、実線は第２工程装置の
ステージの座標系をそれぞれ示している。
量、Ｓはスケール（倍率）の誤差の補正量、φは基準と
する軸の角度誤差の補正量、θは座標の角度誤差の補正
量、例えばＸ軸とＹ軸とのなす角度誤差をそれぞれ表し
ている。図３はφとθの関係を示す図であり、破線は第
１工程装置のステージの座標系、実線は第２工程装置の
ステージの座標系をそれぞれ示している。
【００２０】そして、第１工程装置のステージにおける
任意の位置Ａ（ｘ、ｙ）は次式（５）により第２工程装
置のステージ座標Ａ’（ｘ’、ｙ’）に変換することが
できる。
任意の位置Ａ（ｘ、ｙ）は次式（５）により第２工程装
置のステージ座標Ａ’（ｘ’、ｙ’）に変換することが
できる。
【００２１】そして、ステージ座標軸変換部５６は上記
各補正量及び式（５）に基づいて座標位置データを変換
し、算出部５８は第２工程装置のステージを移動する目
標位置を算出する。ステージ制御部６０は該算出された
値に基づいてモータ駆動により被測定基板１０を載置し
たステージ６５を移動する。これにより、高倍率顕微鏡
の視野中心へ基板の欠陥位置を持ってくることができ、
迅速、正確な詳細観察を行なうことができる。ここで、
上記補正をさらに正確に行なうために、図４に示すよう
に、基準試料を複数のグリッドに区切り、ゾーンごとに
上記補正をすることが好ましい。
各補正量及び式（５）に基づいて座標位置データを変換
し、算出部５８は第２工程装置のステージを移動する目
標位置を算出する。ステージ制御部６０は該算出された
値に基づいてモータ駆動により被測定基板１０を載置し
たステージ６５を移動する。これにより、高倍率顕微鏡
の視野中心へ基板の欠陥位置を持ってくることができ、
迅速、正確な詳細観察を行なうことができる。ここで、
上記補正をさらに正確に行なうために、図４に示すよう
に、基準試料を複数のグリッドに区切り、ゾーンごとに
上記補正をすることが好ましい。
【００２２】（第２実施形態）図５は、本発明の第２実
施形態にかかる基板処理装置の構成を示す図である。基
本的な構成は上記第１実施形態の装置と同様であるが、
選択的に使用可能な第１工程装置１１、２１、３１が複
数存在している点で相違している。例えば、第１工程装
置１１と第２工程装置５０、第１工程装置２１と第２工
程装置５０、又は第１工程装置３１と第２工程装置５０
等の種々の組み合わせが考えられる。そして、記憶部５
６ａ、５６ｂ、５６ｃは各装置１１、２１、３１毎の上
記対応関係をそれぞれ記憶し、選択された第１工程装置
に関する対応関係に基づいて、上記補正を行なう。した
がって、どの装置１１、２１、３１を選択しても、高倍
率で迅速、正確に欠陥検査を行なうことができる。ま
た、第１工程装置の座標情報を第２工程装置に渡す際
に、どの第１工程装置が選択されたかを入力すること
で、簡便に選択された装置の対応関係を用いて上記補正
を行なうことができる。かかる入力は、手操作による入
力、座標情報データに組み込んでおくことによる入力、
又はオンライン等を使用して外部から通信手段を通じて
入力することのいずれでも良い。
施形態にかかる基板処理装置の構成を示す図である。基
本的な構成は上記第１実施形態の装置と同様であるが、
選択的に使用可能な第１工程装置１１、２１、３１が複
数存在している点で相違している。例えば、第１工程装
置１１と第２工程装置５０、第１工程装置２１と第２工
程装置５０、又は第１工程装置３１と第２工程装置５０
等の種々の組み合わせが考えられる。そして、記憶部５
６ａ、５６ｂ、５６ｃは各装置１１、２１、３１毎の上
記対応関係をそれぞれ記憶し、選択された第１工程装置
に関する対応関係に基づいて、上記補正を行なう。した
がって、どの装置１１、２１、３１を選択しても、高倍
率で迅速、正確に欠陥検査を行なうことができる。ま
た、第１工程装置の座標情報を第２工程装置に渡す際
に、どの第１工程装置が選択されたかを入力すること
で、簡便に選択された装置の対応関係を用いて上記補正
を行なうことができる。かかる入力は、手操作による入
力、座標情報データに組み込んでおくことによる入力、
又はオンライン等を使用して外部から通信手段を通じて
入力することのいずれでも良い。
【００２３】なお、上記各実施形態ではＸ，Ｙ方向、す
なわちステージの水平面内についての補正を行なってい
るが、本発明はこれに限られるものでなく、Ｚ方向（Ｘ
−Ｙ平面に垂直な方向）についての補正を行なうことも
容易である。
なわちステージの水平面内についての補正を行なってい
るが、本発明はこれに限られるものでなく、Ｚ方向（Ｘ
−Ｙ平面に垂直な方向）についての補正を行なうことも
容易である。
【００２４】また、本発明は、基板のゴミ又はレジスト
むら等を検査する欠陥検査装置にも適用できる。
むら等を検査する欠陥検査装置にも適用できる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のステージ
制御方法によれば第１のステージの座標系と前記第２の
ステージの座標系との対応関係を記憶し、前記対応関係
に基づいて前記第１のステージを制御するデータを補正
し、該補正データにしたがって前記第２のステージを制
御している。このため、第１と第２のステージの座標系
が相互に一致していない場合でも、高精度な座標測定機
を用いて校正することなく、第１のステージを制御する
データに対して対応関係に基づく補正をすることで、第
２のステージを所望の位置へ正確かつ迅速に移動させる
ことができる。さらに、第１のステージと第２のステー
ジを、あたかも同じ座標系で動かすことができるので、
第１工程装置の出力に基づいて第２のステージを移動さ
せたときに、測定、検査対象へのアプローチが容易にな
り、作業の効率化を図ることができる。
制御方法によれば第１のステージの座標系と前記第２の
ステージの座標系との対応関係を記憶し、前記対応関係
に基づいて前記第１のステージを制御するデータを補正
し、該補正データにしたがって前記第２のステージを制
御している。このため、第１と第２のステージの座標系
が相互に一致していない場合でも、高精度な座標測定機
を用いて校正することなく、第１のステージを制御する
データに対して対応関係に基づく補正をすることで、第
２のステージを所望の位置へ正確かつ迅速に移動させる
ことができる。さらに、第１のステージと第２のステー
ジを、あたかも同じ座標系で動かすことができるので、
第１工程装置の出力に基づいて第２のステージを移動さ
せたときに、測定、検査対象へのアプローチが容易にな
り、作業の効率化を図ることができる。
【００２６】また、本発明のステージ制御方法によれ
ば、前記第１のステージは選択的に使用可能な複数の装
置に備えられ、前記第１のステージの各座標系と前記第
２のステージの座標系との各対応関係を記憶する工程と
を有し、上述の補正を行なっているので、適宜選択され
た装置のステージに関するデータ補正を迅速に行なうこ
とができる。したがって、複数存在するいずれの装置が
選択されても、本発明の基板処理装置のステージを迅
速、正確に所定の位置へ移動できる。
ば、前記第１のステージは選択的に使用可能な複数の装
置に備えられ、前記第１のステージの各座標系と前記第
２のステージの座標系との各対応関係を記憶する工程と
を有し、上述の補正を行なっているので、適宜選択され
た装置のステージに関するデータ補正を迅速に行なうこ
とができる。したがって、複数存在するいずれの装置が
選択されても、本発明の基板処理装置のステージを迅
速、正確に所定の位置へ移動できる。
【００２７】また、本発明のステージ制御方法によれ
ば、前記第１のステージの座標系と前記第２のステージ
の座標系とが一致するように前記データを補正している
ので、常に第２のステージを第１のステージのデータと
同じ位置へ移動させることができる。
ば、前記第１のステージの座標系と前記第２のステージ
の座標系とが一致するように前記データを補正している
ので、常に第２のステージを第１のステージのデータと
同じ位置へ移動させることができる。
【００２８】また、本発明の基板処理装置によれば、前
記第１のステージの座標系と前記基板処理装置の前記第
２のステージの座標系との対応関係を記憶する対応関係
記憶部を有している。このため、第１と第２のステージ
の座標系が相互に一致していない場合でも、高精度な座
標測定機を用いて校正することなく、第１のステージを
制御するデータに対して対応関係に基づく補正をするこ
とで、第２のステージを所望の位置へ正確かつ迅速に移
動させて基板処理を行なうことができる。さらに、第１
のステージと第２のステージを、あたかも同じ座標系で
動かすことができるので、第１工程装置の出力に基づい
て第２のステージを移動させたときに、測定、検査対象
へのアプローチが容易になり、作業の効率化を図ること
ができる。
記第１のステージの座標系と前記基板処理装置の前記第
２のステージの座標系との対応関係を記憶する対応関係
記憶部を有している。このため、第１と第２のステージ
の座標系が相互に一致していない場合でも、高精度な座
標測定機を用いて校正することなく、第１のステージを
制御するデータに対して対応関係に基づく補正をするこ
とで、第２のステージを所望の位置へ正確かつ迅速に移
動させて基板処理を行なうことができる。さらに、第１
のステージと第２のステージを、あたかも同じ座標系で
動かすことができるので、第１工程装置の出力に基づい
て第２のステージを移動させたときに、測定、検査対象
へのアプローチが容易になり、作業の効率化を図ること
ができる。
【００２９】また、本発明の基板処理装置によれば、前
記第１のステージは選択的に使用可能な複数の装置に備
えられ、前記対応関係記憶部は各前記第１のステージの
座標系と前記第２のステージの座標系との各対応関係を
記憶しているので、適宜選択された装置のステージに関
するデータ補正を迅速に行なうことができる。したがっ
て、複数存在するいずれの装置が選択されても、本発明
の基板処理装置のステージを迅速、正確に所定の位置へ
移動でき、基板処理を行なうことができる。
記第１のステージは選択的に使用可能な複数の装置に備
えられ、前記対応関係記憶部は各前記第１のステージの
座標系と前記第２のステージの座標系との各対応関係を
記憶しているので、適宜選択された装置のステージに関
するデータ補正を迅速に行なうことができる。したがっ
て、複数存在するいずれの装置が選択されても、本発明
の基板処理装置のステージを迅速、正確に所定の位置へ
移動でき、基板処理を行なうことができる。
【００３０】また、本発明の基板処理装置によれば、前
記第１のステージの座標系と前記第２のステージの座標
系とが一致するように前記データを補正しているので、
常に第２のステージを第１のステージのデータと同じ位
置へ移動させることができる。したがって、迅速、正確
な基板処理を行なうことができる。
記第１のステージの座標系と前記第２のステージの座標
系とが一致するように前記データを補正しているので、
常に第２のステージを第１のステージのデータと同じ位
置へ移動させることができる。したがって、迅速、正確
な基板処理を行なうことができる。
【００３１】また、本発明の基板処理装置によれば、前
記装置は基板の欠陥を検査する欠陥検査装置であり、前
記ステージ制御部は前記欠陥検査装置からの欠陥結果に
もとづいて前記欠陥を詳細に検査するために前記基板を
載置した前記第２のステージを制御している。このた
め、前記装置で大まかに検出された欠陥位置に基づい
て、第２のステージを所定の位置へ的確に移動させるこ
とができる。したがって、基板の詳細な観察、検査を迅
速、正確に行なうことができる。
記装置は基板の欠陥を検査する欠陥検査装置であり、前
記ステージ制御部は前記欠陥検査装置からの欠陥結果に
もとづいて前記欠陥を詳細に検査するために前記基板を
載置した前記第２のステージを制御している。このた
め、前記装置で大まかに検出された欠陥位置に基づい
て、第２のステージを所定の位置へ的確に移動させるこ
とができる。したがって、基板の詳細な観察、検査を迅
速、正確に行なうことができる。
【図１】本発明の第１実施形態にかかる基板処理装置の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
【図２】被測定基板上の基準パターンを示す図である。
【図３】第１工程装置と第２工程装置のステージの座標
系軸を示す図である。
系軸を示す図である。
【図４】基準パターンを複数グリッド毎に設けた場合を
説明する図である。
説明する図である。
【図５】本発明の第２実施形態にかかる基板処理装置の
構成を示す図である。
構成を示す図である。
１０ 被測定基板 １１、２１、３１ 実体顕微鏡（第１工程装置） １２、２２、３２ 第１工程装置のステージ ５０ 第２工程装置 ５２ 情報取り込み部 ５４ ステージ座標軸変換部 ５６ 記憶部 ６０ ステージ制御部 ６５ 第２工程装置のステージ ７０ 高倍率光学顕微鏡 Ｏ、Ｘ、Ｙ 基準パターン
Claims (7)
- 【請求項１】 第１のステージを制御するデータに基づ
いて前記第１のステージとは異なる位置に配置された第
２のステージを制御するステージ制御方法において、 前記第１のステージの座標系と前記第２のステージの座
標系との対応関係を記憶する工程と、 前記対応関係に基づいて前記第１のステージを制御する
データを補正し、該補正データにしたがって前記第２の
ステージを制御する工程とからなることを特徴とするス
テージ制御方法。 - 【請求項２】 前記第１のステージは選択的に使用可能
な複数の装置に備えられ、 前記第１のステージの各座標系と前記第２のステージの
座標系との各対応関係を記憶する工程と、 選択された装置が備える前記第１のステージに関する対
応関係に基づいて前記選択された装置が備える前記第１
のステージを制御するデータを補正し、該補正データに
したがって前記第２のステージを制御することを特徴と
する請求項１記載のステージ制御方法。 - 【請求項３】 前記第１のステージの座標系と前記第２
のステージの座標系とが一致するように前記データを補
正することを特徴とする請求項１または２記載のステー
ジ制御方法。 - 【請求項４】 第１のステージを制御するデータに基づ
いて前記第１のステージとは異なる位置に配置され、基
板を載置した第２のステージを制御して前記基板を処理
する基板処理装置において、 前記第１のステージの座標系と前記基板処理装置の前記
第２のステージの座標系との対応関係を記憶する対応関
係記憶部と、 前記対応関係に基づいて前記第１のステージを制御する
データを補正し、該補正データにしたがって前記第２の
ステージを制御するステージ制御部とを有することを特
徴とする基板処理装置。 - 【請求項５】 前記第１のステージは選択的に使用可能
な複数の装置に備えられ、 前記対応関係記憶部は前記第１のステージの各座標系と
前記第２のステージの座標系との各対応関係を記憶し、 前記ステージ制御部は前記選択された装置が備える前記
第１のステージに関する対応関係に基づいて前記選択さ
れた装置が備える前記第１のステージを制御するデータ
を補正し、該補正データにしたがって前記第２のステー
ジを制御することを特徴とする請求項４記載の基板処理
装置。 - 【請求項６】 前記第１のステージの座標系と前記第２
のステージの座標系とが一致するように前記データを補
正することを特徴とする請求項４または５記載の基板処
理装置。 - 【請求項７】 前記装置は基板の欠陥を検査する欠陥検
査装置であり、 前記ステージ制御部は前記欠陥検査装置からの欠陥結果
にもとづいて前記欠陥を詳細に検査するために前記基板
を載置した前記第２のステージを制御することを特徴と
する請求項５または６記載の基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10153914A JPH11330206A (ja) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | ステージ位置制御方法及び該方法を用いた基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10153914A JPH11330206A (ja) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | ステージ位置制御方法及び該方法を用いた基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11330206A true JPH11330206A (ja) | 1999-11-30 |
Family
ID=15572870
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10153914A Withdrawn JPH11330206A (ja) | 1998-05-19 | 1998-05-19 | ステージ位置制御方法及び該方法を用いた基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11330206A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009135443A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-06-18 | Asml Netherlands Bv | 基板の搬送方法、搬送システムおよびリソグラフィ投影装置 |
| US8149387B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-04-03 | Asml Netherlands B.V. | Method of placing a substrate, method of transferring a substrate, support system and lithographic projection apparatus |
| US8154709B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-04-10 | Asml Netherlands B.V. | Method of placing a substrate, method of transferring a substrate, support system and lithographic projection apparatus |
-
1998
- 1998-05-19 JP JP10153914A patent/JPH11330206A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009135443A (ja) * | 2007-10-10 | 2009-06-18 | Asml Netherlands Bv | 基板の搬送方法、搬送システムおよびリソグラフィ投影装置 |
| US8064045B2 (en) | 2007-10-10 | 2011-11-22 | Asml Netherlands B.V. | Method of transferring a substrate, transfer system and lithographic projection apparatus |
| US8149387B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-04-03 | Asml Netherlands B.V. | Method of placing a substrate, method of transferring a substrate, support system and lithographic projection apparatus |
| US8154709B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-04-10 | Asml Netherlands B.V. | Method of placing a substrate, method of transferring a substrate, support system and lithographic projection apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050802 |