JPH11330191A - Device and method for vertical transfer, and device and method for manufacturing substrate with thin film - Google Patents
Device and method for vertical transfer, and device and method for manufacturing substrate with thin filmInfo
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- JPH11330191A JPH11330191A JP12487498A JP12487498A JPH11330191A JP H11330191 A JPH11330191 A JP H11330191A JP 12487498 A JP12487498 A JP 12487498A JP 12487498 A JP12487498 A JP 12487498A JP H11330191 A JPH11330191 A JP H11330191A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス板、樹脂
板、シリコンウェハ等の平面基板上に、反射防止、光学
フィルタリング等の機能を付加する各種薄膜を真空蒸
着、スパッタ等の手段により形成して、機能薄膜付き基
板を製造する技術に関する。より詳しくは、基板への薄
膜形成前後で多数の基板を加熱、および昇降自在に搬送
する垂直搬送装置および垂直搬送方法並びに薄膜付き基
板の製造装置および製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming various thin films having functions such as anti-reflection and optical filtering on a flat substrate such as a glass plate, a resin plate and a silicon wafer by means of vacuum deposition, sputtering and the like. And a technology for manufacturing a substrate with a functional thin film. More specifically, the present invention relates to a vertical transfer device and a vertical transfer method for heating and vertically moving a large number of substrates before and after a thin film is formed on a substrate, and a manufacturing apparatus and a manufacturing method for a substrate with a thin film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】基板上にある種の機能を持つ薄膜を成形
する装置としては、たとえば、特公昭６０−９１０３号
公報等に示されているスパッタ装置がある。本スパッタ
装置は、半導体ウエハや通信用デバイスなどに素子薄膜
を真空中において連続的に形成、製造するものであり、
真空および高温雰囲気にされた密閉箱体の内部に、処理
すべき基板の取入れ室、第１の収納室、スパッタエッジ
室、スパッタ室、冷却室、第２の収納室、および取出し
室が区画形成され、区画された前記各室間を、基板を載
置するカセットが水平搬送手段により搬送される。取入
れ室、第１の収納室、第２の収納室では、基板を載置す
るカセットが上下方向に多数棚状に収納し得るように多
段構成のカセット収納棚を有しており、より小さな床面
積でより多くの基板を収納、処理できるよう工夫がなさ
れている。またカセットエレベータが前記カセット収納
棚の一段分に相当するピッチずつ間歇的に上昇あるいは
下降して、カセットを前記水平搬送手段から受けとった
り、水平搬送手段に送り込むような構成が採用されてい
る。2. Description of the Related Art As an apparatus for forming a thin film having a certain function on a substrate, there is, for example, a sputtering apparatus disclosed in Japanese Patent Publication No. 60-9103. This sputtering apparatus is to continuously form and manufacture element thin films on semiconductor wafers and communication devices in vacuum.
Inside the closed box made into a vacuum and high-temperature atmosphere, an intake chamber, a first storage chamber, a sputter edge chamber, a sputter chamber, a cooling chamber, a second storage chamber, and an extraction chamber for a substrate to be processed are formed. Then, a cassette on which a substrate is placed is transported between the partitioned chambers by a horizontal transport unit. Each of the loading chamber, the first storage chamber, and the second storage chamber has a multi-stage cassette storage shelf so that a large number of cassettes for mounting substrates can be stored in the vertical direction. A device has been devised so that more substrates can be stored and processed in a larger area. Further, a configuration is employed in which the cassette elevator is intermittently raised or lowered by a pitch corresponding to one stage of the cassette storage shelf to receive the cassette from the horizontal transport means or to send the cassette to the horizontal transport means.
【０００３】上記の従来技術においては、基板加熱手段
の給電方法について記載されていないが、このような昇
降する多段構成のカセット収納棚における基板加熱ヒー
タへの給電方法は、コイルケーブルによるものと、ケー
ブルベアによる給電方法が一般的に採用されている。[0003] In the above prior art, a method of supplying power to the substrate heating means is not described, but a method of supplying power to the substrate heating heater in such a cassette storage shelf having a multi-stage structure that moves up and down includes a method using a coil cable and a method using a coil cable. A power feeding method using a cable bear is generally employed.
【０００４】前者は図６に示すように、チャンバー１１
外部より導入された給電ケーブル２５の端子を固定する
給電ケーブル端子盤２７を収納室内の天井に設置し、ま
た基板を加熱するヒータ１３のケーブル端子を固定する
ヒータケーブル端子盤２８をカセット収納棚４６の天板
上部に設け、その間をコイルケーブル４７で中継する給
電方法である。このコイルケーブルによる給電方法は、
簡便であると共にカセット収納棚が上昇あるいは下降時
に、ケーブルのねじれ、折れによる断線ことがないた
め、間欠的に上昇あるいは下降する搬送には向いてい
る。しかし、ヒータに高容量の給電が必要になる場合
は、太径のコイルケーブルが必要になるが、コイルケー
ブルが太径になるにつれ、螺旋径も大きくなり広い設置
スペースが必要となる。またカセット収納棚の段数が増
えるにつれ、コイルケーブルの本数も増やす必要があ
り、さらにカセット収納棚の昇降距離が長くなるとコイ
ルケーブルも長くなるため、さらに広い設置スペースを
必要とする。よってチャンバーのサイズが大きくなり、
高真空装置としては不利であるともに、清掃のための作
業スペース等を圧迫しメンテナンス性を著しく悪化させ
る。In the former, as shown in FIG.
A power supply cable terminal board 27 for fixing the terminal of the power supply cable 25 introduced from the outside is installed on the ceiling in the storage room, and a heater cable terminal board 28 for fixing the cable terminal of the heater 13 for heating the substrate is provided on the cassette storage shelf 46. This is a power supply method provided above the top plate and relaying the coil cable 47 between them. The power supply method using this coil cable
Since it is simple and there is no disconnection due to twisting or bending of the cable when the cassette storage shelf is raised or lowered, it is suitable for intermittently rising or falling conveyance. However, when a high-capacity power supply is required for the heater, a large-diameter coil cable is required. However, as the coil cable has a large diameter, the helical diameter increases and a large installation space is required. Further, as the number of cassette storage shelves increases, the number of coil cables also needs to be increased. Further, as the elevating distance of the cassette storage shelves increases, the length of coil cables also increases, so that a larger installation space is required. Therefore, the size of the chamber increases,
It is disadvantageous as a high vacuum device, and also squeezes a work space or the like for cleaning, which significantly deteriorates maintainability.
【０００５】後者は、図７に示すように、給電ケーブル
端子盤２７をチャンバー１１内の側面に、ヒータケーブ
ル端子盤２８を昇降するカセット収納棚４６の上面に設
置し、その間に中継ケーブル２９を収納したケーブルベ
アを垂直にスライド可能なように配置している。このケ
ーブルベアによる給電方式は、カセット収納棚が上昇あ
るいは下降する際、ケーブルのねじれ、折れ曲げなしに
整然と保護・案内することが出来るため、間欠的に上昇
あるいは下降する搬送には向いている。しかし、ケーブ
ルベアは一般的に軽量化のためプラスチック製のチェー
ンと蓋で構成されているが、カセット収納棚の昇降時、
ケーブルベアはリンク連結部でＵ字型に屈曲しながら垂
直にスライドするため、リンクと連結ピンの摺動部は摩
耗し易い。特に高真空・高温の雰囲気下では著しく摩耗
して摩耗粉が飛散し易いために、これを防止する飛散防
止手段がさらに必要となり、装置が複雑化するととも
に、清掃のための作業スペース等を圧迫し、メインテナ
ンス性を著しく悪化させる。よしんばこのような複雑な
飛散防止対策を施したとしても、摺動部が摩耗して、装
置の寿命を短くするばかりでなく、摩耗粉等の飛散防止
手段の隙間から発塵物が飛散して基板に付着し、基板を
汚すという問題があった。In the latter case, as shown in FIG. 7, a power supply cable terminal board 27 is installed on a side surface inside the chamber 11, and a heater cable terminal board 28 is installed on an upper surface of a cassette storage shelf 46 which moves up and down. The stored cable carrier is slidably arranged vertically. The power feeding system using the cable bearer is suitable for intermittently rising or falling conveyance because the cable storage shelf can orderly protect and guide the cables without twisting or bending when the cassette storage shelf goes up or down. However, the cable carrier is generally composed of a plastic chain and a lid for weight reduction.
Since the cable carrier slides vertically while bending in a U-shape at the link connecting portion, the sliding portion between the link and the connecting pin is easily worn. Especially in a high vacuum and high temperature atmosphere, wear is remarkably abraded and the abrasion powder is liable to be scattered. In addition, the maintainability is significantly deteriorated. Even if such complicated scattering prevention measures are taken, the sliding parts will not only wear out and shorten the life of the device, but also dust particles will scatter from the gaps of the scattering prevention means such as abrasion powder. There has been a problem that it adheres to the substrate and soils the substrate.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、真空
および加熱雰囲気で構成される収納室において、昇降・
搬送するカセット収納棚に収納された多数の基板を加熱
するヒータへ給電するにあたって、ケーブルが断線する
ことなく長期にわたって安定した運転が可能であるとと
もに、ケーブルガイド手段からの発塵物の飛散による基
板の汚れを防止可能で、且つケーブルガイド手段が設置
スペースが狭く、メンテナンス性が良い、垂直搬送装置
および垂直搬送方法並びに該基板の製造装置および製造
方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to raise and lower a storage chamber in a vacuum and heating atmosphere.
When supplying power to the heater that heats a large number of substrates stored in the cassette storage shelf to be transported, stable operation is possible for a long time without breaking the cable, and the substrate is dispersed by scattering of dust from the cable guide means. It is an object of the present invention to provide a vertical transfer device and a vertical transfer method, and a manufacturing apparatus and a manufacturing method of the substrate, which can prevent contamination of the substrate, have a small installation space for the cable guide means, and have good maintainability.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は以下の構成を採用する。In order to achieve the above object, the present invention employs the following constitution.
【０００８】すなわち、請求項１の垂直搬送装置は、チ
ャンバー内に、基板と、ケーブルをＵ字状に案内するケ
ーブルガイドユニットと該基板の加熱手段と、該基板と
該基板の加熱手段を任意の位置に昇降する搬送手段を有
する垂直搬送装置において、前記基板の加熱手段への給
電を行う中継ケーブルを、基板の昇降方向に移動して案
内するケーブルガイドユニットと、該ケーブルガイドユ
ニットを懸下状態で昇降する吊り上げユニット設けたこ
とを特徴とする この場合、前記チャンバー内の圧力を任意に設定できる
圧力設定手段を備えることが好ましく、前記圧力設定手
段は大気圧以下に設定することができる。That is, in the vertical transfer device according to the first aspect, a substrate, a cable guide unit for guiding a cable in a U-shape, a heating means for the substrate, and a heating means for the substrate and the substrate are optionally provided in the chamber. And a cable guide unit that moves and guides a relay cable that supplies power to the substrate heating means in the vertical direction of the substrate, and suspends the cable guide unit. In this case, it is preferable that a lifting unit that rises and falls in a state is provided. In this case, it is preferable that a pressure setting unit that can arbitrarily set the pressure in the chamber be provided, and the pressure setting unit can be set to an atmospheric pressure or less.
【０００９】また、前記吊り上げユニットは、前記ケー
ブルガイドユニットを、前記基板と基板の加熱手段の昇
降搬送方向と昇降ストロークの１／２の長さだけ移動可
能な搬送手段を有していることが好ましく、さらに前記
ケーブルガイドユニットを、前記チャンバー内壁面に沿
って案内可能にする案内手段を有することが好ましい。[0009] The lifting unit may include a transport unit capable of moving the cable guide unit by a length of a half of a vertical movement direction and a vertical stroke of the substrate and the substrate heating unit. Preferably, furthermore, it is preferable to have a guide means for guiding the cable guide unit along the inner wall surface of the chamber.
【００１０】請求項６の垂直搬送方法は、チャンバー内
で、基板と、該基板の加熱手段を任意の位置に昇降する
垂直搬送方法において、基板の加熱手段に給電する中継
ケーブルを、懸下状態で昇降するケーブルガイドユニッ
トを基板の昇降する方向に移動させて案内可能にするこ
とを特徴とする。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a vertical transfer method for vertically moving a substrate heating means to an arbitrary position in a chamber, wherein a relay cable for supplying power to the substrate heating means is suspended. The cable guide unit which moves up and down in the direction is moved in the direction in which the board moves up and down so that the board can be guided.
【００１１】この場合、前記チャンバー内の圧力を任意
に可変設定でき、さらにこの圧力を大気圧以下にするこ
とが好ましい。In this case, the pressure in the chamber can be arbitrarily set variably, and it is preferable that the pressure be equal to or lower than the atmospheric pressure.
【００１２】また、前記中継ケーブルを前記ケーブルガ
イドユニットを構成するガイドロール下方に対して、Ｕ
字形態に弛ました状態で配置し、前記ガイドローラを前
記基板と基板の加熱手段の昇降搬送方向に昇降ストロー
クの１／２の長さだけ移動させることによって、中継ケ
ーブルを緊張させることなく案内可能にすることが好ま
しく、さらに前記基板と基板加熱手段の昇降時、前記中
継ケーブルの一方を、前記チャンバー内壁面に沿って案
内可能にすることが好ましい。In addition, the relay cable is connected to a lower part of a guide roll constituting the cable guide unit by U
It is possible to guide the relay cable without tension by moving the guide roller by half the elevating stroke in the elevating and lowering conveying direction of the substrate and the substrate heating means. It is preferable that one of the relay cables can be guided along the inner wall surface of the chamber when the substrate and the substrate heating means are moved up and down.
【００１３】請求項１１の薄膜付き基板の製造装置は、
その基板の搬送装置として、上記いずれかの垂直搬送装
置を有するものである。An apparatus for manufacturing a substrate with a thin film according to claim 11 is
As the substrate transfer device, any one of the vertical transfer devices described above is provided.
【００１４】請求項１２の薄膜付き基板の製造方法は、
その製造工程中の基板の搬送方法において、上記いずれ
かの垂直搬送方法を用いるものである。According to a twelfth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a substrate with a thin film.
In the method of transporting the substrate during the manufacturing process, any one of the above-described vertical transport methods is used.
【００１５】請求項１および６の垂直搬送装置および方
法によれば、真空、高温雰囲気のチャンバー内でも、基
板加熱・給電手段による発塵物の飛散による基板汚れの
防止と、ケーブルガイドユニットの可動部分の動作不良
等の不都合によるケーブルの断線を排除可能となるの
で、多数の基板を長期にわたって安定かつクリーンな状
態で加熱でき、生産性並びに品質向上を図ることができ
る。According to the vertical transfer device and method of the present invention, even in a chamber in a vacuum or high-temperature atmosphere, prevention of substrate contamination due to scattering of dust by the substrate heating / power supply means and movement of the cable guide unit. Since disconnection of the cable due to inconvenience such as malfunction of a portion can be eliminated, a large number of substrates can be heated in a stable and clean state for a long time, and productivity and quality can be improved.
【００１６】請求項１１および１２の薄膜付き基板の製
造装置および製造方法によれば、薄膜付き基板の生産性
と品質を飛躍的に向上させることができる。According to the apparatus and method for manufacturing a substrate with a thin film according to the eleventh and twelfth aspects, the productivity and quality of the substrate with a thin film can be drastically improved.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、本発明の垂直搬送装置の一
態様につき、図を用いながら説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the vertical transport device of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１８】図１は本発明の垂直搬送装置が適用できる
薄膜つき基板の製造装置の一実施態様を示す正面図であ
り、図２は図１の平面図である。FIG. 1 is a front view showing an embodiment of an apparatus for manufacturing a substrate with a thin film to which the vertical transfer apparatus of the present invention can be applied, and FIG. 2 is a plan view of FIG.
【００１９】また、図３は本発明にかかる予熱室、加熱
室、第１ストッカー室からなるチャンバーの一例を示す
正面図であり、図４は本発明にかかる垂直搬送装置の一
例を示す側面図であり、図５は本発明にかかる垂直搬送
装置を構成するケーブルガイドユニットと中継ケーブル
の位置関係を示す側面図である。FIG. 3 is a front view showing an example of a chamber including a preheating chamber, a heating chamber, and a first stocker chamber according to the present invention, and FIG. 4 is a side view showing an example of a vertical transfer device according to the present invention. FIG. 5 is a side view showing the positional relationship between the cable guide unit and the relay cable constituting the vertical transport device according to the present invention.
【００２０】この実施態様では、図１に示すように、基
板Ａが載置されたカセット２（図３参照）が、入り口部
コンベア１により真空および高温雰囲気の予熱室４に搬
送される。予熱室４は、加熱室５、第１ストッカ室６、
第２ストッカ室８、出口バッファ室９と同じ内部構成を
有しており、図３に示すように、複数の基板Ａを載置し
たカセット２を多数上下方向に棚状に多段収納できる基
板・ヒータ保持ユニット１２と、カセット２を次の工程
に水平方向に搬送する水平搬送ローラ１５を有してい
る。さらに室内の圧力は、ゲートバルブ３で大気との遮
断を行えば、図示していない真空ポンプ、ブロアー、コ
ンプレッサー等の圧力制御手段によって自在に圧力設定
できる。In this embodiment, as shown in FIG. 1, a cassette 2 on which a substrate A is placed (see FIG. 3) is conveyed by an entrance conveyor 1 to a preheating chamber 4 in a vacuum and high-temperature atmosphere. The preheating chamber 4 includes a heating chamber 5, a first stocker chamber 6,
As shown in FIG. 3, the second stocker chamber 8 and the outlet buffer chamber 9 have the same internal configuration. As shown in FIG. It has a heater holding unit 12 and a horizontal transport roller 15 for transporting the cassette 2 horizontally in the next step. Further, the pressure in the room can be freely set by a pressure control means such as a vacuum pump, a blower, or a compressor (not shown) if the gate valve 3 shuts off the atmosphere.
【００２１】基板・ヒータ保持ユニット１２内部には、
カセット端部を支持して一定ピッチでカッセト２を棚状
に収納可能とするカセット収納棚４６と、前記カセット
２の枚数に対応してカセット２に近接してヒーター１３
が、上下方向にそれぞれ設けられており、基板を収納し
た状態で所定の温度に加熱することが可能である。Inside the substrate / heater holding unit 12,
A cassette storage shelf 46 for supporting cassette ends and storing cassettes 2 at a constant pitch in a shelf shape, and a heater 13 close to cassette 2 corresponding to the number of cassettes 2
Are provided in the vertical direction, respectively, and can be heated to a predetermined temperature in a state where the substrate is stored.
【００２２】さらに基板・ヒータ保持ユニット１２は、
その上部で吊り上げユニット１６と係合して、吊り上げ
ユニット１６に懸下される状態になっている。Further, the substrate / heater holding unit 12
The upper part is engaged with the lifting unit 16 and is suspended by the lifting unit 16.
【００２３】吊り上げユニット１６は基板・ヒータ保持
ユニット１２との係合部、荷重支持部、駆動部よりな
り、本実施態様における吊り上げユニット１６は吊り上
げ部材１８、４本の吊りベルト１９、吊り上げ部材１８
と吊りベルト１９の一端を固定するベルト取付け金具２
３、プーリー２１で構成されている。ここで吊りベルト
１９のもう一端はプーリ２１と係合し、さらにこのプー
リ２１は図４に示す駆動モータ４３を駆動してプーリ２
２を回転させれば、吊りベルト１９の巻取り、巻き戻し
が行え、これによって吊りベルト１９に連結している基
板・ヒータ保持ユニット１２の昇降が可能となる。また
モータの動作を制御して、基板・ヒータ保持ユニット１
２に収納されているカセット２の上下方向ピッチに相当
する長さ分だけ、基板・ヒータ保持ユニット１２を間歇
的に昇降させることもできる。この一定ピッチ分の上下
方向移動と水平搬送ローラ１５の動作を組み合わせるこ
とによって、カセット２の基板保持ユニットへの収納、
取り出しが自在にできることになる。The lifting unit 16 comprises an engaging portion with the substrate / heater holding unit 12, a load supporting portion, and a driving portion. In this embodiment, the lifting unit 16 includes a lifting member 18, four lifting belts 19, and a lifting member 18.
Mounting bracket 2 for fixing one end of the suspension belt 19
3. It is composed of a pulley 21. Here, the other end of the suspension belt 19 is engaged with the pulley 21, and the pulley 21 drives the drive motor 43 shown in FIG.
By rotating 2, the suspension belt 19 can be wound up and rewinded, and thereby the substrate / heater holding unit 12 connected to the suspension belt 19 can be moved up and down. In addition, the operation of the motor is controlled, and the substrate / heater holding unit 1 is controlled.
The substrate / heater holding unit 12 can be intermittently moved up and down by a length corresponding to the vertical pitch of the cassette 2 stored in the cassette 2. By combining the vertical movement of this fixed pitch with the operation of the horizontal transport roller 15, the cassette 2 can be stored in the substrate holding unit,
It can be taken out freely.
【００２４】本発明にかかる基板加熱ヒータの給電装置
は図３に示すように、給電ケーブル２５をチャンバー１
１外部よりチャンバー内に導入して、給電ケーブル２５
の端子を固定する給電ケーブル端子盤２７と、該給電ケ
ーブル端子盤２７と各段の支持棚１４に取り付けられて
いるヒータケーブル２６を固定するヒータケーブル端子
盤２８とを中継する中継ケーブル２９が設けられてお
り、該中継ケーブル２９はチャンバー１１の側面と基板
・ヒータ保持ユニット１２間に、基板・ヒータ保持ユニ
ット１２が昇降する際、緊張することがない長さでＵ字
形態になるように設けられている。さらに給電ケーブル
端子盤２７のもう一方の中継ケーブル２９はチャンバー
１１の側面にケーブル押さえ金具３０で固定し、もう一
方のヒータケーブル端子盤２８の中継ケーブル２９は、
基板・ヒータ保持ユニット１２の上面端部に設けたガイ
ド軸３１ａと３１ｂに係合させた後、基板・ヒータ保持
ユニットの上面に押さえ軸３２で固定されている。As shown in FIG. 3, the power supply device for a substrate heater according to the present invention includes a power supply cable 25 connected to the chamber 1.
1 Introduce into the chamber from outside
And a relay cable 29 for relaying the power supply cable terminal board 27 and a heater cable terminal board 28 for fixing the heater cable 26 attached to the support shelf 14 of each stage. The relay cable 29 is provided between the side surface of the chamber 11 and the substrate / heater holding unit 12 so as not to be strained when the substrate / heater holding unit 12 is moved up and down so as to form a U-shape. Have been. Further, the other relay cable 29 of the power supply cable terminal board 27 is fixed to the side surface of the chamber 11 with the cable holding metal fitting 30, and the relay cable 29 of the other heater cable terminal board 28 is
After engaging with guide shafts 31 a and 31 b provided at the upper surface end of the substrate / heater holding unit 12, it is fixed to the upper surface of the substrate / heater holding unit by a holding shaft 32.
【００２５】ここで中継ケーブル２９の絶縁体の材質は
絶縁性、柔軟性、耐屈曲性があるものならいかなるもの
でも良いが、耐高温性、耐真空性、クリーン性が必要な
本実施態様例ではフッ素樹脂製の絶縁体が好ましい。さ
らに高真空のチャンバーはサイズが小さい方が有利であ
るので、中継ケーブル２９はＵ字形の曲げＲが小さくな
るケーブルを用いることが好ましい。具体的には、ケー
ブルの導体には細線化したものか、網組した導体を用い
ることが好ましい。また、ケーブルの形状は個々の曲げ
Ｒにバラツキが生じないように相互に結束するのが好ま
しいが、フラットケーブルを用いるのがより好ましい。The insulating material of the relay cable 29 may be any material as long as it has insulation, flexibility and bending resistance. However, in this embodiment, high temperature resistance, vacuum resistance and cleanness are required. In this case, an insulator made of fluororesin is preferable. Further, since it is more advantageous for the high vacuum chamber to have a smaller size, it is preferable to use a U-shaped cable having a smaller bending radius R as the relay cable 29. Specifically, it is preferable to use a thinned or braided conductor for the conductor of the cable. Further, the shape of the cable is preferably tied to each other so that the individual bends R do not vary, but it is more preferable to use a flat cable.
【００２６】前記中継ケーブル２９のＵ字部の内側に
は、基板・ヒータ保持ユニット１２の昇降時、中継ケー
ブル２９を、基板の昇降方向移動して案内するケーブル
ガイドユニット３３を有している。この実施態様におけ
るケーブルガイドユニット３３は図４に示すように、ケ
ーブルガイドローラ３４、吊り上げプーリ３８、連結軸
３９、取付け金具４０で構成される。さらにケーブルガ
イドユニット３３は昇降方向に案内する手段であるリニ
アガイドユニット３５のガイド軸受と係合し、さらに吊
り上げプーリ３８は吊り上げユニット１７に懸下される
状態になっている。A cable guide unit 33 is provided inside the U-shaped portion of the relay cable 29 to guide the relay cable 29 by moving the substrate / heater holding unit 12 up and down in the vertical direction of the substrate. As shown in FIG. 4, the cable guide unit 33 in this embodiment includes a cable guide roller 34, a lifting pulley 38, a connecting shaft 39, and a mounting bracket 40. Further, the cable guide unit 33 is engaged with a guide bearing of a linear guide unit 35 which is a means for guiding in the elevating direction, and the lifting pulley 38 is suspended by the lifting unit 17.
【００２７】ここでリニアガイドユニット３５はケーブ
ルガイドユニット３３をチャンバー１１の壁面に沿って
上下方向に横揺れなく、安定して昇降させるための上下
安定ガイドであり、リニアガイド軸４１、ガイド軸受３
７より構成されている。The linear guide unit 35 is a vertically stable guide for stably moving the cable guide unit 33 up and down along the wall surface of the chamber 11 without swaying up and down. The linear guide shaft 41 and the guide bearing 3
7.
【００２８】吊り上げユニット１７は荷重の支持部、駆
動部よりなり、本実施態様における吊り上げユニット１
７は二本の吊りベルト２０、吊りベルトの一端をチャン
バーに固定するベルト取付け金具２４（図５参照）、吊
りベルト２０を案内するガイドローラ４２、プーリ２２
で構成される。The lifting unit 17 comprises a load supporting portion and a driving portion.
Reference numeral 7 denotes two suspension belts 20, a belt attachment 24 for fixing one end of the suspension belt to the chamber (see FIG. 5), a guide roller 42 for guiding the suspension belt 20, and a pulley 22.
It consists of.
【００２９】吊りベルト２０はケーブルガイドユニット
３３の吊り上げプーリ３８に巻き付け、吊りベルト２０
のもう一端をガイドローラ４２に介してプーリ２２と係
合し、さらにこのプーリ２２は駆動モータ４３を駆動し
てプーリ２２を回転させれば、吊りベルト２０の巻き取
り巻き戻しを行え、これによって、吊りベルト２０に連
結しているケーブルガイドユニット３３の昇降が可能と
なる。The suspension belt 20 is wound around a lifting pulley 38 of the cable guide unit 33,
The other end is engaged with a pulley 22 via a guide roller 42. Further, the pulley 22 drives a drive motor 43 to rotate the pulley 22, so that the suspension belt 20 can be taken up and rewound. The cable guide unit 33 connected to the suspension belt 20 can be moved up and down.
【００３０】さらにプーリ２２の直径を吊基板・ヒータ
保持ユニット１２の吊り上げユニット１６のプーリ２１
と同径にし、且つ回転方向及び回転数を同じにすること
により、ケーブルガイドユニット３３は基板・ヒータ保
持ユニット１２の昇降搬送方向と同方向に昇降ストロー
クの１／２だけ移動可能にする。より好ましくは本実施
態様における吊り上げユニット１７のプーリ２２は基板
ヒータ保持ユニット１２のプーリ２１と同軸にするが良
い。この構造により、機構の簡略と小スペース化が実現
出来る。Further, the diameter of the pulley 22 is adjusted by the pulley 21 of the lifting unit 16 of the suspension substrate / heater holding unit 12.
The cable guide unit 33 can be moved in the same direction as the lifting and lowering transport direction of the substrate / heater holding unit 12 by half of the lifting and lowering stroke by making the diameter the same as the rotation direction and the rotation speed. More preferably, the pulley 22 of the lifting unit 17 in this embodiment is coaxial with the pulley 21 of the substrate heater holding unit 12. With this structure, the mechanism can be simplified and the space can be reduced.
【００３１】また、前記ケーブルガイドローラ３４は長
尺にすることにより、より多くの中継ケーブル２９をガ
イドすることが可能になる。Further, by making the cable guide roller 34 long, it is possible to guide more relay cables 29.
【００３２】図５はケーブルガイドユニット３３、中継
ケーブル２９、チャンバー１１の位置関係を詳細に示し
た側面断面図である。ここでケーブルガイドローラ３４
の直径Ｄは中継ケーブル２９の垂れ下がりＵ字形の曲が
りＲに対して、Ｄ＜２Ｒであれば良いが、安定して中継
ケーブル２９ガイドするためにはＲ＜Ｄ＜２Ｒの範囲に
するのがより好ましい。FIG. 5 is a side sectional view showing the positional relationship among the cable guide unit 33, the relay cable 29 and the chamber 11 in detail. Here, the cable guide roller 34
May be D <2R with respect to the hanging U-shaped bend R of the relay cable 29. However, in order to guide the relay cable 29 stably, it is more preferable that the diameter D be in the range of R <D <2R. preferable.
【００３３】さらに中継ケーブル２９はケーブガイドロ
ーラ３４によって緊張させないため、ケーブルガイドロ
ーラ３４の下面に接触させないように設ける。隙間Ｈは
１０〜５０ｍｍが好ましい。また、ケーブルガイドロー
ラ３４とチャンバー側の中継ケーブル２９の隙間Ｓはで
きる限り狭い方が良いが、１０〜３０ｍｍになるように
ケーブルガイドローラ３４の配置を調整するのが好まし
い。隙間ＨとＳが大きすぎると基板・ヒータ保持ユニッ
ト１２が昇降する際、ケーブルガイドローラ３４下方の
中継ケーブル２９が横揺れし、基板・ヒータ保持ユニッ
ト１２に接触し、ねじれ、折れによる断線が生じる可能
性がある。さらにチャンバー１１と中継ケーブル間に、
チャンバーの熱を遮断する断熱板４５を設け、中継ケー
ブル２９を保護することが好ましい。Further, since the relay cable 29 is not tensioned by the cable guide roller 34, it is provided so as not to contact the lower surface of the cable guide roller 34. The gap H is preferably 10 to 50 mm. Further, the gap S between the cable guide roller 34 and the relay cable 29 on the chamber side is preferably as narrow as possible, but it is preferable to adjust the arrangement of the cable guide roller 34 so as to be 10 to 30 mm. If the gaps H and S are too large, when the board / heater holding unit 12 moves up and down, the relay cable 29 below the cable guide roller 34 sways, comes into contact with the board / heater holding unit 12, and is broken by twisting or breaking. there is a possibility. Furthermore, between the chamber 11 and the relay cable,
It is preferable to provide a heat insulating plate 45 for shutting off the heat of the chamber to protect the relay cable 29.
【００３４】前記中継ケーブルの案内ガイド機構の実施
態様によれば、中継ケーブル２９を緊張させることがな
いため、断線することがなく、長期にわたって安定した
運転が可能で有るとともに、ケーブルの案内機構から発
塵物の飛散による基板の汚染という問題は生じない。According to the embodiment of the relay cable guide and guide mechanism, since the relay cable 29 is not tensioned, the wire is not broken and stable operation can be performed for a long time. There is no problem of contamination of the substrate due to scattering of dust.
【００３５】ここでリニアガイドユニット３５として
は、ボール軸受、リニア軸受等の直線案内機能を持つも
のならばいかなるものでもよい。また、前記のリニアガ
イドユニット３５がなくても基板保持ユニット１２の昇
降は可能であるが、高速や横揺れなく昇降させる必要が
ある時に、リニアガイドユニット３５を使用することが
好ましい。Here, as the linear guide unit 35, any device having a linear guide function such as a ball bearing and a linear bearing may be used. The substrate holding unit 12 can be moved up and down without the linear guide unit 35, but it is preferable to use the linear guide unit 35 when it is necessary to move the substrate holding unit 12 up and down at a high speed or without rolling.
【００３６】さらに上記の吊りベルト２０は、基板保持
ユニット１２を吊り上げる強度があるものならいかなる
ものでもよいが、ワイヤーロープ、チエーン、各種ベル
ト等がよく、耐高温、耐高真空、クリーン性が必要な本
実施態様例では金属製特にステンレス製スチールベルト
が好ましい。Further, the above-mentioned suspension belt 20 may be any as long as it has a strength for lifting the substrate holding unit 12, but a wire rope, a chain, various belts and the like are preferable, and high temperature resistance, high vacuum resistance, and cleanness are required. In this embodiment, a metal belt, particularly a stainless steel belt, is preferable.
【００３７】次に本発明の垂直搬送装置を適用した図１
の薄膜付き基板の製造装置による薄膜基板製造方法につ
いて説明する。Next, FIG. 1 to which the vertical transport device of the present invention is applied.
A method of manufacturing a thin film substrate by the apparatus for manufacturing a substrate with a thin film described above will be described.
【００３８】まず、基板が載置されたカセット２（図３
参照）が、入り口部コンベア１から水平搬送ローラ１５
に受け渡されて、真空および加熱雰囲気で構成される予
熱室４内に搬送される。予熱室４は、次の加熱室５にお
いて加圧と減圧させて基板に付着した水分を蒸発させる
ためにあらかじめ基板を予熱するゾーンであり、ゲート
バルブ３で室内と大気と遮断して真空圧に設定できるよ
うになっている。First, the cassette 2 on which the substrates are placed (FIG. 3)
) From the entrance conveyor 1 to the horizontal transport roller 15
And transferred into a preheating chamber 4 composed of a vacuum and a heating atmosphere. The preheating chamber 4 is a zone for preheating the substrate in order to evaporate the moisture attached to the substrate by pressurizing and depressurizing the substrate in the next heating chamber 5. It can be set.
【００３９】一方、水平搬送ローラ１５上のカセット２
は予熱室４内の中央付近で停止する。ついで基板・ヒー
タ保持ユニット１２が上下方向のカセット収納ピッチに
相当する長さだけ上昇し、基板・ヒータ保持ユニット１
２内にカセット収納ピッチに対応して設けられたカセッ
ト収納棚４６でカセット２をすくい上げ、収納動作が完
了する。続いて次のカセット２が入口コンベア１から供
給されるので、同じ動作を次々と繰り返して、多数個の
カセットを基板・ヒータ保持ユニット１２内に棚状に多
段収納する。収納枚数は、例えば１成膜単位が１６枚な
ら、通常は１６個のカセットが収納可能となるよう構成
する。On the other hand, the cassette 2 on the horizontal transport roller 15
Stops near the center of the preheating chamber 4. Then, the substrate / heater holding unit 12 is raised by a length corresponding to the cassette housing pitch in the vertical direction, and
The cassette 2 is scooped up by the cassette storage shelf 46 provided corresponding to the cassette storage pitch in the cassette 2, and the storing operation is completed. Subsequently, since the next cassette 2 is supplied from the entrance conveyor 1, the same operation is repeated one after another, and a large number of cassettes are stored in the substrate / heater holding unit 12 in a multistage manner in a shelf shape. For example, if the number of stored sheets is 16 in one film-forming unit, normally, 16 cassettes can be stored.
【００４０】基板・ヒータ保持ユニット１２からのカセ
ット２取り出しは次の手順にて行われる。まず搬送ロー
ラ１５を停止させ、次いで基板・ヒータ保持ユニット１
２をカセット収納ピッチ分だけ下降させる。この動作に
よってカセット収納棚４６に支持されていたカセット２
は水平搬送ローラ１５に載せ替えられ、水平搬送ローラ
を駆動してカセット２を次の工程に送り出す。以下この
動作を繰り返せば次々にカセットの取り出し、送り出し
ができるようになる。The removal of the cassette 2 from the substrate / heater holding unit 12 is performed in the following procedure. First, the transport roller 15 is stopped, and then the substrate / heater holding unit 1 is stopped.
2 is lowered by the cassette storage pitch. By this operation, the cassette 2 supported on the cassette storage shelf 46
Is mounted on the horizontal transport roller 15, and drives the horizontal transport roller to send the cassette 2 to the next step. Hereinafter, if this operation is repeated, the cassette can be successively taken out and sent out.
【００４１】さて、予熱室４で一定時間予熱された基板
Ａはカセット２に載置した状態で、上記の動作によって
加熱室５へ移動、棚状に収納される。加熱室５内で基板
に付着した水分の蒸発が完了したら、同様の方法で基板
はカセット２に載置した状態で第１ストッカー室６に搬
送、棚状にストックされる。The substrate A, which has been preheated in the preheating chamber 4 for a predetermined time, is moved to the heating chamber 5 by the above-described operation while being placed in the cassette 2, and is stored in a shelf shape. After the evaporation of the moisture adhered to the substrate in the heating chamber 5 is completed, the substrate is transported to the first stocker chamber 6 while being placed on the cassette 2 and stocked in a shelf shape by the same method.
【００４２】ここで予熱室４、加熱室５、第１ストッカ
ー室６の基板加熱温度は、好ましくは各室毎に６０℃以
上、１００℃以上、１５０℃以上に設定するのが良い。
また各室の真空圧力は負荷時で２．５×１０-2〜１×１
０-2Ｐａに設定するのが好ましい。Here, the substrate heating temperatures of the preheating chamber 4, the heating chamber 5, and the first stocker chamber 6 are preferably set to 60 ° C. or higher, 100 ° C. or higher, 150 ° C. or higher for each chamber.
The vacuum pressure in each chamber is 2.5 × 10 -2 to 1 × 1 when loaded.
It is preferably set to 0 -2 Pa.
【００４３】次に、第１ストッカー室６に収納されたカ
セットを上記の方法で１個ずつ水平搬送ローラ１５に載
せ替え、水平搬送ローラによりカセット２を蒸着室７ま
で移動させて、成膜粒子束Ｂに基板を暴露させることに
より基板表面に薄膜を形成した後、カセット２を次々に
第２ストッカー室８、出口バッファ室９に搬入、棚状に
収納して、最終的に出口部コンベア１０で基板を載置し
たカセット２を取出す。Next, the cassettes housed in the first stocker chamber 6 are replaced one by one on the horizontal transport roller 15 by the above-described method, and the cassette 2 is moved to the vapor deposition chamber 7 by the horizontal transport roller to form the film forming particles. After the thin film is formed on the substrate surface by exposing the substrate to the bundle B, the cassettes 2 are successively loaded into the second stocker room 8 and the outlet buffer room 9 and stored in a shelf, and finally the outlet conveyor 10 Takes out the cassette 2 on which the substrate is placed.
【００４４】さらに多層膜を成形するときは、前記の工
程で表面に薄膜形成を完了した基板を載置したカセット
を第２ストッカー室８へ移動、棚状に収納した後に、カ
セットを再び取り出して、水平搬送ローラにより蒸着室
の方に逆向きに移動させて、再度基板上に成膜を実行さ
せる。再成膜を完了した基板を載置したカセット２は第
１ストッカー室６へ搬送、棚状に収納される。この再成
膜プロセスは、所望の回数繰返すことも可能である。Further, when forming a multilayer film, the cassette on which the substrate on which the thin film has been formed on the surface in the above-described process is mounted is moved to the second stocker chamber 8 and stored in a shelf shape. The film is again formed on the substrate by moving it in the opposite direction to the vapor deposition chamber by the horizontal transport roller. The cassette 2 on which the substrate on which the film formation has been completed is placed is transported to the first stocker chamber 6 and stored in a shelf shape. This re-deposition process can be repeated a desired number of times.
【００４５】本発明での成膜対象基板としては、ガラス
基板やプラスチック平板あるいはプラスチックシート、
各種半導体、光ディスク、ＬＣＤ、カラーフィルターな
どの枚葉物が好ましい。これらの成膜対象基板に薄膜を
形成した後に光学フィルターや表示装置の反射防止材と
して使用する場合は、成膜対象基板は透明または半透明
のものが好ましく用いられる。このような対象基板へ薄
膜形成する成膜プロセスとしては、真空蒸着、イオンア
シスト蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングお
よびアブレーションなどが好ましく用いられる。In the present invention, a glass substrate, a plastic flat plate or a plastic sheet,
Single wafers such as various semiconductors, optical disks, LCDs, and color filters are preferred. When a thin film is formed on such a substrate to be formed and then used as an antireflection material for an optical filter or a display device, a transparent or translucent substrate is preferably used. As a film forming process for forming a thin film on such a target substrate, vacuum deposition, ion-assisted deposition, ion plating, sputtering, ablation, and the like are preferably used.
【００４６】また、本発明の垂直搬送装置は、基板に薄
膜を蒸着する装置に限らず、真空および高温雰囲気下で
基板を垂直搬送する装置であればいかなるものでも適用
可能である。The vertical transfer device of the present invention is not limited to a device for depositing a thin film on a substrate, but may be any device that vertically transfers a substrate in a vacuum and high-temperature atmosphere.
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明は、上記の構成とすることによ
り、以下の優れた効果を奏する。すなわち、請求項１〜
３および６〜８の垂直搬送装置および搬送方法によれ
ば、ケーブルガイドロールを吊り上げユニットで、基板
加熱ヒータの中継ケーブルを案内させるようにしたの
で、従来方式のようにケーブルガイド手段の屈曲による
摺動部の摩耗発塵がなく、高真空下でも摩耗粉等の発塵
物の基板への付着を極めて少なくすることができる。さ
らに装置が簡便で設置スペースも小さいため、収納室を
コンパクトにすることが可能となり、高真空室の場合は
特に有利である。According to the present invention, the following excellent effects can be obtained by the above configuration. That is, claims 1 to
According to the vertical transfer devices and the transfer methods 3 and 6 to 8, the cable guide rolls are guided by the lifting unit so as to guide the relay cable of the substrate heating heater. There is no abrasion and dust generation in the moving part, and the adhesion of dust particles such as abrasion powder to the substrate can be extremely reduced even under a high vacuum. Further, since the apparatus is simple and the installation space is small, it is possible to make the storage room compact, which is particularly advantageous in the case of a high vacuum chamber.
【００４８】請求項４、５および９、１０の垂直搬送装
置および搬送方法によれば、中継ケーブルをケーブルガ
イドロール対してＵ字形態に弛ませた状態で、ケーブル
ガイドローラを基板・ヒータ保持ユニットの昇降搬送方
向と順方向に昇降ストロークの１／２移動させ、さらに
中継ケーブルの一方をケーブルガイドローラでチャンバ
ーの壁面に沿って案内するようにしたことで、中継ケー
ブルを緊張させることがなく、垂直方向に案内可能に
し、ねじれ、折れによる断線を未然に防止出来るので、
高温下でも常温と同じ状態で長期にわたって安定した垂
直搬送が可能となる。According to the vertical conveying device and the conveying method of the fourth, fifth, ninth and tenth aspects, the cable guide roller is held in the substrate / heater holding unit while the relay cable is slackened in a U-shape with respect to the cable guide roll. By moving the half of the up-and-down stroke in the forward direction and the up-and-down transfer direction, and guiding one of the relay cables along the wall surface of the chamber with the cable guide roller, the relay cable is not tensioned. As it can be guided in the vertical direction and can prevent disconnection due to twisting and bending,
Even at a high temperature, stable vertical conveyance can be performed for a long time in the same state as at a normal temperature.
【００４９】請求項１１、１２の薄膜付き基板の製造装
置および製造方法によれば、より高い品質の薄膜付き基
板を高い生産性で製造することが可能となる。According to the apparatus and method for manufacturing a substrate with a thin film according to the eleventh and twelfth aspects, it is possible to manufacture a substrate with a thin film of higher quality with high productivity.
【図１】本発明の垂直搬送装置が適用できる薄膜つき基
板の製造装置の一実施態様を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing an embodiment of an apparatus for manufacturing a substrate with a thin film to which a vertical transfer apparatus according to the present invention can be applied.
【図２】図１の上面図である。FIG. 2 is a top view of FIG.
【図３】本発明にかかる予熱室、加熱室、第１ストッカ
ー室からなるチャンバーの一例を示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing an example of a chamber including a preheating chamber, a heating chamber, and a first stocker chamber according to the present invention.
【図４】本発明にかかる垂直搬送装置の一例を示す側面
図である。FIG. 4 is a side view showing an example of the vertical transport device according to the present invention.
【図５】本発明にかかる垂直搬送装置を構成するケーブ
ルガイドユニットと中継ケーブルの位置関係を詳細に示
す側面断面図であるFIG. 5 is a side sectional view showing in detail a positional relationship between a cable guide unit and a relay cable constituting the vertical transport device according to the present invention.
【図６】従来の実施態様におけるコイルケーブル給電方
式の一例を示す正面図である。FIG. 6 is a front view showing an example of a coil cable power supply system according to a conventional embodiment.
【図７】従来の実施態様におけるケーブルベア給電方式
の一例を示す正面図である。FIG. 7 is a front view showing an example of a cable bear power feeding system according to a conventional embodiment.
１：入り口部コンベア ２：カセット ３：ゲートバルブ ４：予熱室 ５：加熱室 ６：第１ストッカー室 ７：蒸着室 ８：第２ストッカー室 ９：出口バッファ室 １０：出口部コンベア １１：チャンバー １２：基板・ヒータ保持ユニット １３：ヒーター １５：水平搬送ローラ １６：吊り上げユニット １７：吊り上げユニット １８：吊り上げ部材 １９：吊りベルト ２０：吊りベルト ２１：プーリ ２２：プーリ ２３：ベルト取付け金具 ２４：ベルト取付け金具 ２５：給電ケーブル ２６：ヒータケーブル ２７：給電ケーブル端子盤 ２８：ヒータケーブル端子盤 ２９：中継ケーブル ３０：ケーブル押さえ金具 ３１ａ：ガイド軸 ３１ｂ：ガイド軸 ３２：押さえ軸 ３３：ケーブルガイドユニット ３４：ケーブルガイドロール ３５：リニアガイドユニット ３６：リニアガイド軸受け ３７：ガイド軸受け ３８：吊り上げプーリ ３９：連結軸 ４０：取付け金具 ４１：リニアガイド軸 ４２：ガイドローラ ４３：駆動モータ ４４：駆動軸 ４５：断熱板 ４６：カセット収納棚 ４７：コイルケーブル ４８：ケーブルベア Ａ：基板 Ｂ：成膜粒子束 1: Inlet conveyor 2: Cassette 3: Gate valve 4: Preheating chamber 5: Heating chamber 6: First stocker room 7: Vaporization room 8: Second stocker room 9: Exit buffer room 10: Outlet conveyor 11: Chamber 12 : Heat holding unit 13: Heater 15: Horizontal transport roller 16: Lifting unit 17: Lifting unit 18: Lifting member 19: Hanging belt 20: Hanging belt 21: Pulley 22: Pulley 23: Belt mounting bracket 24: Belt mounting bracket 25: Power supply cable 26: Heater cable 27: Power supply cable terminal board 28: Heater cable terminal board 29: Relay cable 30: Cable holding bracket 31a: Guide shaft 31b: Guide shaft 32: Holding shaft 33: Cable guide unit 34: Cable guide Roll 35: Linear Guy Drive unit 36: Linear guide bearing 37: Guide bearing 38: Lifting pulley 39: Connecting shaft 40: Mounting bracket 41: Linear guide shaft 42: Guide roller 43: Drive motor 44: Drive shaft 45: Heat insulating plate 46: Cassette storage shelf 47 ： Coil cable 48 ： Cable bear A ： Substrate B ： Film particle bundle
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｂ６５Ｇ 49/00 Ｂ６５Ｇ 49/00 Ａ ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI // B65G 49/00 B65G 49/00 A
Claims (12)
状に案内するケーブルガイドユニットと、該基板の加熱
手段と、該基板と該基板の加熱手段を任意の位置に昇降
する搬送手段を有する垂直搬送装置において、前記基板
の加熱手段へ給電を行う中継ケーブルを基板の昇降方向
に移動して案内するケーブルガイドユニットと、該ケー
ブルガイドユニットを懸下状態で昇降する吊り上げユニ
ットを設けたことを特徴とする垂直搬送装置。A chamber includes a substrate, a cable guide unit for guiding a cable in a U-shape, heating means for the substrate, and transport means for moving the heating means for the substrate and the substrate to an arbitrary position. A vertical transfer device having a cable guide unit that moves and guides a relay cable for supplying power to the substrate heating means in a vertical direction of the substrate, and a lifting unit that raises and lowers the cable guide unit in a suspended state. A vertical transport device characterized by the above-mentioned.
る圧力設定手段を備えたことを特徴とする請求項１に記
載の垂直搬送装置。2. The vertical transfer device according to claim 1, further comprising pressure setting means for arbitrarily setting the pressure in the chamber.
手段を有していることを特徴とする請求項２に記載の垂
直搬送装置。3. The vertical transport apparatus according to claim 2, wherein said pressure setting means has means for setting the pressure to a value equal to or lower than the atmospheric pressure.
イドユニットを、前記基板と基板の加熱手段の昇降搬送
方向に昇降ストロークの１／２の長さ移動可能な搬送手
段を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれ
かに記載の垂直搬送装置4. The lifting unit according to claim 1, wherein said cable guide unit has a transfer means capable of moving the substrate and said substrate heating means by half the elevating stroke in the elevating and lowering conveying direction. The vertical transport device according to any one of claims 1 to 3,
記チャンバー内壁面に沿って案内可能にする案内手段を
有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載
の垂直搬送装置。5. The vertical transport device according to claim 1, further comprising a guide means for guiding the cable guide unit along the inner wall surface of the chamber.
段を任意の位置に昇降する垂直搬送方法において、基板
の加熱手段に給電する中継ケーブルを懸下状態で昇降す
るケーブルガイドユニットを基板の昇降方向に移動させ
て、案内可能にすることを特徴とする垂直搬送方法。6. A vertical transport method for raising and lowering a substrate and a substrate heating means to an arbitrary position in a chamber, wherein a cable guide unit for lifting and lowering a relay cable for supplying power to the substrate heating means in a suspended state is provided. A vertical transport method, wherein the vertical transport method is movable in a vertical direction to enable guidance.
ことを特徴とする請求項６に記載の垂直搬送方法。7. The vertical transfer method according to claim 6, wherein the pressure in the chamber is arbitrarily set.
にすることを特徴とする請求項７に記載の垂直搬送方
法。8. The vertical transfer method according to claim 7, wherein a set pressure in the chamber is set to an atmospheric pressure or less.
ニットを構成するガイドロール下方に、Ｕ字形態に弛ま
した状態で配置し、前記ガイドローラを前記基板と基板
の加熱手段の昇降搬送方向に昇降ストロークの１／２の
長さ移動させることによって、前記中継ケーブルを緊張
させることなく案内可能にすることを特徴とする請求項
６〜８のいずれかにに記載の垂直搬送方法。9. The relay cable is arranged below the guide rolls constituting the cable guide unit in a slack state in a U-shape, and the guide roller is moved up and down in a direction of elevating and lowering the substrate and the substrate heating means. The vertical transport method according to any one of claims 6 to 8, wherein the relay cable can be guided without tension by moving the relay cable by half the length of the vertical cable.
に、前記中継ケーブルの一方を、前記チャンバー内壁面
に沿って案内可能にすることを特徴とする請求項６〜９
のいずれかに記載の垂直搬送方法。10. The apparatus according to claim 6, wherein one of said relay cables can be guided along the inner wall surface of said chamber when said substrate and said substrate heating means are raised and lowered.
The vertical transport method according to any one of the above.
送装置を備えることを特徴とする薄膜付き基板の製造装
置。11. An apparatus for manufacturing a substrate with a thin film, comprising the vertical transfer device according to claim 1.
搬送方法を用いて蒸着基板を製造することを特徴とする
薄膜付き基板の製造方法。12. A method for manufacturing a substrate with a thin film, comprising manufacturing a vapor-deposited substrate by using the vertical transport method according to claim 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12487498A JPH11330191A (en) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | Device and method for vertical transfer, and device and method for manufacturing substrate with thin film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12487498A JPH11330191A (en) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | Device and method for vertical transfer, and device and method for manufacturing substrate with thin film |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11330191A true JPH11330191A (en) | 1999-11-30 |
Family
ID=14896242
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12487498A Pending JPH11330191A (en) | 1998-05-07 | 1998-05-07 | Device and method for vertical transfer, and device and method for manufacturing substrate with thin film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11330191A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101600243B1 (en) * | 2015-09-16 | 2016-03-08 | 주식회사 일신에프에이 | Vertical foldable foup buffer apparatus |
-
1998
- 1998-05-07 JP JP12487498A patent/JPH11330191A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101600243B1 (en) * | 2015-09-16 | 2016-03-08 | 주식회사 일신에프에이 | Vertical foldable foup buffer apparatus |
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